DE19817869A1

DE19817869A1 - Verfahren zur Herstellung von Implantatkomponenten aus porösem Glas

Info

Publication number: DE19817869A1
Application number: DE19817869A
Authority: DE
Inventors: Gunter Carl; Herbert Buerger
Original assignee: Schuller GmbH
Current assignee: Vitrabio GmbH
Priority date: 1998-04-22
Filing date: 1998-04-22
Publication date: 1999-10-28

Abstract

Es werden Verfahren zur Herstellung einer Implantatkomponente aus porösem Glas, insbesondere für dentale Komposite, angegeben, wobei eine poröse Grundglasfritte mit mindestens einer oxydischen Komponente eingeschmolzen oder eine poröse Grundglasfritte mit mindestens einer oxydischen Komponente beschichtet wird.

Description

Die Erfindung betrifft Verfahren zur Herstellung von Implantatkomponenten aus porösem Glas. Dieses kann be vorzugt als anorganischer Füller im Kompositen Verwen dung finden.

Poröse Gläser werden in vielfältiger Weise und auf un terschiedlichsten technologischen Anwendungsgebieten verwendet. Zur Anpassung der Eigenschaften poröser Glä ser an anwendungstechnische Zielsetzungen ist häufig eine Modifizierung bzw. die Herstellung derivatisierter oder funktionaler Formen notwendig. Ihr Einsatz als an organische Implantatkomponente gestaltet sich durch ih re geringe Röntgenopazität schwierig.

Es ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, Ver fahren zur Erhöhung der Röntgenopazität von porösem Glas anzugeben.

Diese Aufgabe wird bei einem der eingangs genannten Verfahren dadurch gelöst, daß einer Grundglasfritte mindestens eine oxydische Komponente zugesetzt wird.

Die Silanolgruppen auf der Oberfläche der porösen Glä ser sind einer umfangreichen Oberflächenchemie zugäng lich. Diese Eigenschaft kommt ihrer Modifizierung sehr zu gute. Durch die Verbindung mit oxydischen Komponen ten, die einen hohen Massenschwächungskoeffizienten für Röntgenstrahlung aufweisen, wird die Röntgenopazität erhöht.

Es hat sich als vorteilhaft erwiesen, daß die oxydische Komponente aus der Gruppe von ZrO₂, SnO₂ und La₂O₃ und CeO₂ gewählt wird. Diese oxydischen Komponenten haben den Vorteil, daß sie keine toxische Wirkung zeigen, keinen oder nur einen geringen Einfluß auf die Herstel lungstechnologie ausüben, sich in der unlöslichen Phase anreichern und keine bzw. nur eine geringe färbende Wirkung zeigen. Die Massenschwächungskoeffizienten für CuKα-Strahlung der einzelnen oxydischen Komponenten sind in der nachfolgenden Tabelle zusammengestellt.

Erfindungsgemäß ist vorgesehen, daß die oxydische Kom ponente einzeln oder als Mischung zugesetzt wird.

In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, daß die oxydische Komponente in einer Menge bis ca. 20 Ma-% (Masseprozent) der Grundglasfritte, insbesonde re in einer Menge bis ca. 10 Ma-% (Masseprozent) der Grundglasfritte zugesetzt wird. Die Grundglasfritte weist eine Körnung von 100 bis 200 µm auf. Die aus die sen Mischungsverhältnissen resultierenden Gläser zeigen eine gute Homogenität. Exemplarisch wurde in einer Schmelzreihe 95 g Grundglasfritte mit 5 g einer der oxydischen Komponenten versetzt. Zur besseren Ver gleichbarkeit wurde auch eine Schmelze ohne Zusatz durchgeführt. Die Schmelzen wurden in einem 100 ml/Pt- Tiegel in einem Superkanthalofen durchgeführt. Zur Ver ringerung der Verdampfungsverluste wurde der Tiegel mit einem Keramikdeckel abgedeckt. Die gut homogenisierte Grundglasfritte mit Zusatzkomponenten wurde zunächst zwei Stunden bei 1550°C geschmolzen, in Wasser gefrit tet, getrocknet und zerkleinert. Diese Fritte wurde nochmals zwei Stunden bei 1550°C geschmolzen und die Schmelze dann in eine Stahlform gegossen und ab 500°C im Kühlofen auf Raumtemperatur abgekühlt. Die so erhal tenen Gläser zeigten visuell eine gute Homogenität. Die Gläser, bei denen die oxydischen Komponenten ZrO₂ und SnO₂ verwendet wurden, wiesen bei ihrer visuellen Beur teilung keinerlei Trübungsverhalten auf.

Der Einfluß der oxydischen Komponente auf das Entmi schungsverhalten der erschmolzenen Gläser konnte nach einer Wärmebehandlung überprüft werden. Dabei wurden ca. 2 mm starke Glasscheiben jeweils 20 Stunden bei 550°C, 600°C und 650°C thermisch behandelt. Die Ergeb nisse sind in Tabelle 2 zusammengefaßt. Um ein homoge nes Glas zu erhalten, mußte im Gegensatz zu der Schmel ze mit 5 Ma-% ZrO₂-Zusatz das Glas mit 10 Ma-%-Zusatz bei 1600°C geschmolzen werden.

Tabelle 2

Mittels raster- und transmissionelektronenmikroskopi schen Untersuchungen wurden noch weitere Erkenntnisse über die Mikro- und Entmischungsstruktur der Ausgangs gläser und der thermisch behandelten Gläser erhalten. Eine dem Ausgangsglas ähnliche Mikrostruktur zeigt ein mit 10 Ma-% La₂O₃ modifiziertes Glas, das einer Wärme behandlung bei 600°C über 20 Stunden unterzogen wurde. Durch den Zusatz einer oxydischen Komponente wird die Röntgenabsorption des Ausgangsglases deutlich erhöht. Die Untersuchungen wurden mit folgendem Versuchsaufbau durchgeführt: Hierzu wurde eine mit einer 2 mm Bohrung versehene Messingscheibe als Probenträger im Diffrakto meter verwendet. Hinter die Öffnung mit einem Durchmes ser von 2 mm wurde jeweils eine 1 mm starke Glasscheibe angeordnet. In Transmission wurde mittels Detektorscan in dem angegebenen Winkelbereich unter Verwendung von CuKα-Strahlung die Intensität des Primärstrahls regi striert. Ausgewertet wurde einerseits die maximale Peakintensität und andererseits die Peakfläche. Die Er gebnisse sind in Tabelle 3 zusammengefaßt.

Tabelle 3

Röntgenabsorptionsmessungen

Aus Tabelle 3 ergibt sich, daß die Röntgenabsorption mit steigendem Mässenschwächungskoeffizient der zuge setzten Komponente zunimmt. Eine Verdreifachung der Röntgenabsorption gegenüber dem Ausgangsglas wird durch den Zusatz von 10 Ma-% La₂O₃ erreicht. Die unterschied liche Löslichkeit der verschiedenen Ionen der oxydi schen Komponenten läßt eine unterschiedliche Verteilung dieser Ionen auf die Mikrophasen erkennen. La³⁺- und Ce⁴⁺-Ionen werden bevorzugt in der silikatischen Phase eingebaut. Dies konnte mit folgendem Auslaugungsversuch festgestellt werden: 1,5 g der 20 Stunden bei 600°C wärmebehandelten Gläser in pulverisierter Form wurden 5 Stunden bei Raumtemperatur in 150 ml 10%-iger HCL be handelt. Die Lösung abdekantiert und die in Lösung ge gangene Ionen mittels ICP-OES-Spektrometrie analysiert. Die Ergebnisse sind in Tabelle 4 zusammengefaßt.

Tabelle 4

Analysenergebnisse [ppm] nach Auslaugung der wärmebehandelten Gläser

Tabelle 5 zeigt die Gehalte der Ionen im Glas und in der Lösung und die sich daraus ergebende prozentuale Auslaugung.

Tabelle 5

Ergebnisse der Auslaugversuche

Ein weiterer Versuch zur Untersuchung der Verteilung der Ionen der oxydischen Komponente auf die Mikrophasen wurde wie folgt durchgeführt: Jeweils 1,5 g der wärme behandelten Gläser wurden in pulverisierter Form eine Stunde bei Raumtemperatur in 150 ml 10%-iger HCL im Ul traschallbad behandelt. Die Lösung wurde abdekantiert und die in Lösung gegangenen Ionen mittels ICP-OES- Spektrometrie analysiert. Diese Ergebnisse der Analyse sind in Tabelle 6 zusammengestellt. Sie bestätigen die bereits getroffene Feststellung, daß die Löslichkeit der unterschiedlichen Ionen verschieden ist, was auf eine unterschiedliche Verteilung dieser Ionen auf die Mikrophasen schließen läßt.

Tabelle 6

Analysenergebnisse [ppm] der Auslaugversuche der zweiten Meßreihe

Die mit einem Zusatz von 10 Ma-% einer oxydischen Kom ponente hergestellten Gläser zeigen eine gesteigerte Röntgenopazität, ohne daß die Gläser eine nachteilige Verfärbung aufweisen. Des weiteren verfügen diese Glä ser über eine den Ausgangsgläsern, die ohne Zusatzkom ponenten hergestellt wurden, ähnliche Mikrostruktur.

Es hat sich darüber hinaus als besonders vorteilhaft erwiesen, daß bis ca. 20 Ma-% La₂O₃ zugesetzt wird. Ex emplarisch für diese Gläser werden die Eigenschaften der Gläser, die mit einem Zusatz von 10 Ma-% La₂O₃ zur Grundglasfritte gewonnen wurden, wiedergegeben. Diese Gläser zeichnen sich durch eine beträchtliche Steige rung der Röntgenopazität aus, weisen keinerlei Verfär bungen auf und zeigen eine nahezu unveränderte Mi krostruktur. Des weiteren ist der beim Auslaugungspro zeß in Lösung gehende Anteil an La₂O₃ verhältnismäßig gering, so daß die die Röntgenopazität erhöhende Wir kung weitestgehend erhalten bleibt.

Die Porenverteilung wird durch eine Modifikation des Wärmebehandlungsverfahrens verändert. Die Ergebnisse sind in Tabelle 7 zusammengestellt.

Tabelle 7

Ergebnisse von Porositätsmessungen an Glä sern mit einem Zusatz von 10 Ma-% La₂O₃

Ein wesentlicher Verfahrensabschnitt ist es, daß die Grundglasfritte und die oxydische Komponente zusammen eingeschmolzen werden.

Das erfindungsgemäße Verfahren stellt sich im wesentli chen wie folgt dar:
Zu einer Fritte eines Grundglases wird eine einzelne bzw. mehrere oxydische Komponenten, insbesondere La₂O₃ als Lanthanoxyd (La₂O₃) in einer der oben beschriebenen Menge zugesetzt. Die Mischung wird homogenisiert und bei ca. 1.550°C eingeschmolzen. Anschließend wird die Schmelze gefrittet und eventuell zur besseren Homogeni sierung noch einmal eingeschmolzen. Die Fritte wird dann getrocknet und aufgemahlen und das aufgemahlene Glas wird thermisch behandelt, dann ausgelaugt. Nach dem Auslaugungsprozeß wird festgestellt, daß ca. 70% des eingesetzten La₂O₃ im Glas verblieben ist. Somit steht fest, daß die die Röntgenopazität erhöhende Wir kung weitestgehend erhalten bleibt.

Die eingangs gestellte Aufgabe läßt sich auch alterna tiv dadurch lösen, daß das poröse Glas mit einer oder einem Gemisch oxydischer Komponenten beschichtet wird. Die schwache Röntgenopazität des porösen Glases wird durch eine Beschichtung mit oxydischen Materialien, die einen hohen Massenschwächungskoeffizienten für Röntgen strahlen aufweisen, erhöht. Das poröse Glas, das als anorganischer Füller in der Implantatkomponente Verwen dung findet hat vorzugsweise folgende morphologische Struktur:

Korngröße:
Durchmesser < 20 µm; 50 bis 250 µm
Porenvolumen 900 bis 1.200 mm³/g
Porengröße 80 bis 140 nm
spezifische Oberfläche 20-60 m²/g

Wird die Implantatkomponente für dentale Komposite ver wendet, ist das poröse Glas als anorganischer Füller in eine organische Polymermatrix oder einem anorganischen- organischen Hybridpolymer eingebettet. In dieser Zusam mensetzung ist es UV-härtbar und schrumpft bei der Aus härtung nicht oder nur minimal.

Es hat sich als vorteilhaft erwiesen, daß die oxydische Komponente aus Alkoxyden, Chloriden und Nitraten der Elemente Zr, Ti, Ce, Y, Sn, La, Ta, In gebildet wird. Die Alkoxyde, Chloride und Nitrate der jeweiligen Ele mente können einzeln oder in Kombination verwendet wer den. Die oxydischen Komponenten sind durch Hydrolyse, Kondensation und Pyrolyse aus den Alkoxyden, Chloriden und Nitraten der oben angegebenen Elemente gebildet.

Es hat sich als günstig erwiesen, daß die Beschichtung nach einem Sol-Gel-Verfahren oder einem anderen analo gen naßchemischen Verfahren erfolgt. Verfahren wie ein faches Überschichten, nachträgliche Hydrolyse, Rück flußdestillation, Ultraschallbehandlung und nachträgli ches Waschen haben sich dabei auch als vorteilhaft er wiesen. Bei der eigentlichen Beschichtungsreaktion stellen die Silanolgruppen der Porenoberfläche des po rösen Glases reaktive Zentren dar, an die die Schichtstrukturen von Verbindungen der Elemente Titan, Lanthan, Zinn oder Cer angeknüpft werden können. Die chemische Anbindung der Oxyde an das amorphe oxydische Netzwerk erfolgt über -OH-Gruppen, deren Dichte ca. 7 OH-Gruppen pro nm² beträgt.

Des weiteren hat es sich als günstig erwiesen, daß die Beschichtung in einem flüssigen Medium, vorzugsweise H₂O oder Ethanol durchgeführt wird. Die Alkoxyde und wasserfreien Chloride können in ethanolischer Lösung auf das Ausgangsmaterial gegeben werden, die Hydrate der Chloride und Nitrate in Form ihrer alkoholischen oder wässrigen Lösungen.

Vorteilhafterweise beträgt die Menge der oxydischen Komponente ca. 2 bis 35 Ma-%. Diese Menge entspricht 4 bis 20 OH-Gruppenäquivalenten. Eine zu hohe Konzentra tion der Beschichtungslösung würde zu einer starken Verstopfung der Porenhälse führen. In Abhängigkeit von der Zusammensetzung und der Konzentration der Beschich tungslösung kann der Masseprozentgehalt des röntgenab sorbierenden anorganischen Bestandteils des Füllungsma terials variiert werden. Die Beschichtung wird so durchgeführt, daß die morphologische Struktur des Aus gangsmaterials, des anorganischen Füllers, weitestge hend beibehalten wird und das Volumen der Poren maximal bis zu einem Drittel mit einem anorganischen, röntgen absorbierenden Oxyd an den Porenwandungen beschichtet wird.

Besonders gute Ergebnisse werden erzielt, wenn das po röse Glas mit einer oder mehreren Lanthanverbindungen beschichtet wird. Mit Lanthanverbindungen, insbesondere mit Lanthanoxyd beschichtete poröse Gläser, lieferten beste Röntgenopazitätswerte.

Die Reaktion der Beschichtungsmaterialien mit den -OH- Gruppen kann unter verschiedenen Bedingungen ausgeführt werden: Dabei hat es sich als günstig erwiesen, daß die Beschichtungsreaktion bei Raumtemperatur und unter Rüh ren durchgeführt wird, wobei das Rühren während 1 bis 4 Stunden gute Ergebnisse liefert.

In einer weiteren Ausführungsform sieht die Erfindung vor, daß die Beschichtungsreaktion bei Kochtemperatur durchgeführt wird. Auch hier liefert eine Kochzeit von 1 bis 4 Stunden der Suspension am Rückfluß gute Ergeb nisse.

Darüber hinaus ist auch denkbar, daß die Beschichtungs reaktion durch Behandlung der Suspensionen im Ultra schallbad für 2 bis 15 Minuten durchgeführt wird.

Zum Zwecke einer innigen Benetzung ist vorgesehen, daß die Beschichtung in einer evakuierten Apparatur durch geführt werden.

Erfindungsgemäß ist weiterhin vorgesehen, daß das wei tere Verfahren durch mindestens einen der folgenden Verfahrensschritte gekennzeichnet ist:
Filtration und/oder Zentrifugation der Suspension; Dekantieren der Mutterlauge;
Waschen der beschichteten und feuchten Pulvermateriali en mit H₂O und/oder Ethanol;
Trocknen des feuchten Pulvers bei 120°C, 24 Stunden lang;
Calzinieren bei 600°C, 24 Stunden lang.

Das Endprodukt wird nach Calzinieren bei 600°C, 24 Stunden, erhalten.

Zur besseren Beschichtung der Poreninnenwandungen und der Beseitigung des durch Kapillarkondensation adsor bierten Wassers, das unter anderem zu einer Porenhals verengung bzw. -verstopfung führen kann ist weiterhin vorgesehen, daß die Ausgangsstoffe, die oxydischen Be schichtungskomponenten und das poröse Glas, im Vakuum ausgeheizt werden. Die folgenden Parameter haben sich dabei als optimal erwiesen: Temperatur: 360°C, 4 Stun den, Enddruck ca. 1 Torr.

In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, daß die Beschichtung durch Injektion einer Lösung für die oxydische Komponente auf das poröse Glas im Vakuum, erfolgt. Dadurch wird eine innige und gleichmäßige Benetzung des porösen Glases mit der Be schichtungslösung erreicht.

Zum Zwecke der Zersetzung der an der Porenwandung ad sorbierten und teilweise über Silanolgruppen absorbier ten Beschichtungslösungen werden diese mit H₂O hydroly siert. Kondensation und Pyrolyse führen zur Ausbildung einer oxydischen Schicht auf dem Glaspulver und auf den inneren Oberflächen der Glaspulverporen.

Bei weitestgehender Beibehaltung der morphologischen Struktur kann das poröse Glas beispielsweise in PMMA eingearbeitet werden.

Eine mit dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte Implantatkomponente von 1 mm Stärke zeigt bei einer Transparenz von 20 bis 40% eine Röntgenabsorption, die im Bereich von 0,2 mm bis 1,4 mm Reinstaluminium ent spricht.

Die Erfindung wird im folgenden anhand von vier Ausfüh rungsbeispielen erörtert:

1. 2,0 ml SnCl₄ werden in 50 ml Ethanol gelöst und der klaren Lösung 5 g TRISOPOR unter Rühren hinzugefügt (15 Minuten Rühren, 5 Minuten evakuieren), Zugabe von 5 ml Wasser, 30 Minuten Rühren, Filtrieren, Trocknen, Calzinieren.
2. 2 ml TiCl₄ werden in 50 ml Ethanol gelöst und die klare Lösung mit 10 g TRISOPOR versetzt, 15 Minuten gerührt, 5 Minuten evakuiert, Wasser hinzugefügt, gerührt, getrocknet, filtriert, gewaschen, getrock net, calziniert.
3. 0,88 ml Ti(OC₂H₅)₄ werden in 50 ml Ethanol gelöst und TRISOPOR unter Rühren hinzugefügt, gerührt, evakuiert, am Rückfluß 30 Minuten gekocht, dekan tiert, getrocknet, calziniert.
4. TRISOPOR wird 4 Stunden bei 360°C im Vakuum (Enddruck ca. 1 Torr) behandelt. Eine Lösung von La(NO₃)₃. 6H₂O in Ethanol oder Wasser 8, 12 oder 16 OH-Gruppenäquivalent wird auf das unter Vakuum ste hende Pulver injiziert, intensiv geschüttelt, 24 Stunden stehen gelassen, zentrifugiert, dekantiert, mit 5 ml Ethanol oder Wasser gewaschen, unmittelbar zentrifugiert, dekantiert, getrocknet und calzi niert

TRISOPOR ist ein Name für einen anorganischen Füller.

In einer weiteren alternativen Ausführungsform sieht die Erfindung vor, daß eine poröse Grundglasfritte mit mindestens einer oxydischen Komponenten eingeschmolzen wird und daß die daraus resultierende Grundglasfritte des weiteren mit mindestens einer weiteren oxydischen Komponenten beschichtet wird. Dieses Verfahren stellt eine Kombination der oben beschriebenen alternativen Verfahren dar. Es wird dabei zunächst in einem ersten Schritt einem porösen Glas eine oxydische Komponente zugesetzt, diese Mischung wird homogenisiert und einge schmolzen und wie oben beschrieben weiter behandelt, und darauf das in dem ersten Verfahren gewonnene Glas beschichtet. Durch dieses, etwas aufwendigere Verfah ren; kann eine weitere Steigerung der Röntgenopazität erreicht werden. Weitere Vorteile ergeben sich aus den Unteransprüchen.

Die nach einem der Verfahren hergestellte Implantatkom ponente findet beispielsweise als Füllstoff in einem Dentalkomposit Verwendung. Als favorisierende Zusatz komponente ist Lanthanoxyd anzusehen. Der Dentalkompo sit ist UV-härtbar und schrumpft bei der Aushärtung nicht oder nur minimal.

Eine derartige Implantatkomponente ist ein stark rönt genabsorbierender, morphologisch strukturierter, amor pher bzw. partiell kristallisierter, anorganischer Fül lungsbestandteil.

Claims

1. Verfahren zur Herstellung einer Implantatkompo nente aus porösem Glas, dadurch gekennzeichnet, daß einer Grundglasfritte mindestens eine oxydi sche Komponente zugesetzt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net, daß die oxydische Komponente aus der Gruppe von ZrO₂, SnO₂, La₂O₃, CeO₂ gewählt wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn zeichnet, daß die oxydische Komponente einzeln oder als Mischung zugesetzt wird.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, da durch gekennzeichnet, daß die oxydische Komponen te in einer Menge bis ca. 20 Ma-% der Grundglas fritte, insbesondere in einer Menge bis ca. 10 Ma-% der Grundglasfritte zugesetzt wird.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, da durch gekennzeichnet, daß bis ca. 20 Ma-% La₂O₃ der Grundglasfritte zugesetzt wird.

6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, da durch gekennzeichnet, daß die Grundglasfritte und die oxydische Komponente zusammen eingeschmolzen werden.

7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, da durch gekennzeichnet, daß das Verfahren im we sentlichen folgende Verfahrensschritte aufweist:

1. Zusatz von einer einzelnen bzw. einem Gemisch oxydischer Komponenten zu einer Grundglasfritte;
2. Homogenisierung der Mischung und Einschmelzen;
3. Fritten der Schmelze;
4. Remelting der Schmelze;
5. Trocknen und Aufmahlen der Fritte;
6. thermische Behandlung und anschließende Auslau gung.

8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net, daß das poröse Glas mit einer oder einem Ge misch oxydischer Komponenten beschichtet wird.

9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeich net, daß die oxydische Komponente aus Alkoxyden, Chloriden und Nitraten der Elemente Zr, Ti, Ce, Y, Sn, La, Ta, In gebildet wird.

10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekenn zeichnet, daß die Beschichtung nach einem Sol- Gel-Verfahren oder einem anderen analogen naßche mischen Verfahren durchgeführt wird.

11. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 10, da durch gekennzeichnet, daß die Beschichtung in ei nem flüssigen Medium, vorzugsweise H₂O oder Etha nol durchgeführt wird.

12. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 11, da durch gekennzeichnet, daß die Menge der oxydi schen Komponente ca. 2 bis 35 Ma-% beträgt.

13. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 12, da durch gekennzeichnet, daß das poröse Glas mit ei ner oder mehreren Lanthanverbindungen beschichtet wird.

14. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 13, da durch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsreak tion bei Raumtemperatur und unter Rühren durchge führt wird.

15. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 13, da durch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsreak tion bei Kochtemperatur durchgeführt wird.

16. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 13, da durch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsreak tion im Ultraschallbad durchgeführt wird.

17. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 16, da durch gekennzeichnet, daß die Beschichtung in ei ner evakuierten Apparatur durchgeführt wird.

18. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 17, da durch gekennzeichnet, daß mindestens einer der folgenden Verfahrensschritte hinzukommt:

1. Filtration und/oder Zentrifugation;
2. Dekantieren der Mutterlauge;
3. Waschen des beschichteten und feuchten Pulver materials mit H₂O und/oder Ethanol;
4. Trocknen des feuchten Pulvers;
5. Calzinieren.

19. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 18, da durch gekennzeichnet, daß die oxydischen Kompo nenten und das poröse Glas vor der Beschichtungs reaktion im Vakuum ausgeheizt werden.

20. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 19, da durch gekennzeichnet, daß die Beschichtung durch Injektion einer Lösung für die oxydische Kompo nente auf das poröse Glas im Vakuum durchgeführt wird.

21. Verfahren zur Herstellung einer Implantatkompo nente aus porösem Glas, dadurch gekennzeichnet, daß eine poröse Grundglasfritte mit mindestens einer oxydischen Komponente nach einem der An sprüche 1 bis 7 eingeschmolzen und die daraus re sultierende Grundglasfritte mit mindestens einer weiteren oxydischen Komponente nach einem der An sprüche 8 bis 20 beschichtet wird.

22. Implantatkomponente, hergestellt nach einem Ver fahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, und/oder 8 bis 21.

23. Verwendung der nach einem der Ansprüche 1 bis 21 hergestellten Implantatkomponente als Füllstoff in einem Dentalkomposit.