DE19808163C1 - Schleusensystem für die Überführungskammer einer Vakuumbeschichtungsanlage - Google Patents
Schleusensystem für die Überführungskammer einer VakuumbeschichtungsanlageInfo
- Publication number
- DE19808163C1 DE19808163C1 DE1998108163 DE19808163A DE19808163C1 DE 19808163 C1 DE19808163 C1 DE 19808163C1 DE 1998108163 DE1998108163 DE 1998108163 DE 19808163 A DE19808163 A DE 19808163A DE 19808163 C1 DE19808163 C1 DE 19808163C1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- buffer sections
- chamber
- substrate
- vacuum
- lock
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
- C23C14/566—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases using a load-lock chamber
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Schleusensystem für die Überfüh
rungskammer einer Vakuumbeschichtungsanlage für den Transport
ebener, großflächiger Substrate bzw. Substratlose zwischen
einer unstetig arbeitenden in der Regel mittels Ventil abge
grenzten Schleusenkammer und einer kontinuierlich arbeitenden
Prozeßkammer mit geringerem Arbeitsdruck. Dieses Schleusen
system besteht aus Behälter, Transportsystem, angeschlossenem
Vakuumerzeuger sowie das Kammervolumen in Puffersektionen
unterteilenden Einbauten.
Hierdurch werden bei einer Vakuumbeschichtungsanlage Einzel
substrate bzw. Substratlose über das abgestufte, durch Ventile
getrennte Schleusensystem von Atmosphäre beginnend dem Prozeß
bereich der Vakuumbeschichtungsanlage zugeführt und
anschließend wieder ausgeschleust.
Im einzelnen beschreibt die Erfindung ein optimiertes Schleu
sensystem für Beschichtungsanlagen mit Taktzeiten < 75 s für
großflächige, ebene Substrate bzw. Substratlose, vorzugsweise
in den Abmessungen 6,00 m × 3,21 m.
Es ist beispielsweise aus der US 3 925 182 bekannt, daß der
dem Beschichtungsteil der Vakuumanlage beidseitig angeglieder
te Schleusenbereich meist aus Vorschleuse, Hauptschleuse und
Überführungskammer besteht. In der eingangsseitigen Vorschleu
se wird nach Einschleusen des Substrates und Schließen der
Ventile von Atmosphäre beginnend mittels Drehschieber- oder
ähnlichen und/oder Wälzkolbenpumpen gepumpt. Üblicherweise
werden bei Anlagen mit Taktzeiten < 75 s u. a. gasgekühlte
Wälzkolbenpumpen eingesetzt. Der geförderte hohe Gasstrom
verlangt in der Regel eine durch ein Ventil zyklisch absperr
bare Bypassleitung für die ausgangsseitig folgende Drehschie
berpumpe.
Bei Erreichen des Druckes Pv in der Vorschleuse wird das Ven
til zur Hauptschleuse geöffnet, auf Grund des Druckausgleiches
zwischen diesen beiden Kammern stellt sich ein Überführungs
druck Püi ein; das Substrat wird in die Hauptschleuse über
führt.
Die Hauptschleuse wird in der Regel kontinuierlich mittels
mehrstufigen Wälzkolbenpumpen und vorgeschalteter Drehschie
berpumpe evakuiert. Nach Erreichen des Druckes pH in der
Hauptschleuse wird das Ventil zur Überführungskammer geöffnet
und das Substrat zur Überführungskammer überführt. Dabei
stellt sich der Überführungsdruck pÜ2 < pH ein.
Die EP 0 018 690 A1 beschreibt ein Schleusensystem zur Druck
anpassung zwischen Überführungs- und Beschichtungskammer.
Die Überführungskammer hat im wesentlichen zwei Funktionen zu
erfüllen:
- - Transformation der diskontinuierlichen zur kontinuierli chen Substratbewegung (eingangsseitig) und umgekehrt (aus gangsseitig)
- - Herstellen eines Gradienten zwischen dem Druck pB im Be schichtungsteil und dem Überführungsdruck pÜ2 bzw. dem eingangsseitigen Druck in der Überführungskammer.
Die Überführungskammer wird meist in durch Leitblenden ge
trennte und mit Hochvakuumpumpen ausgerüstete zwei bis drei
Bereiche unterteilt. In den jeweiligen Bereichen werden nur
unwesentliche Druckabstufungen erzielt.
Aus der DE 43 03 462 C2 ist eine Mehrkammer-Vakuumbeschich
tungsanlage für Flachglas mit verstellbarer Querschnittsöff
nung zwischen den Beschichtungskammern bekannt, indem entweder
das Schleusenoberteil oder das Schleusenunterteil samt Trans
portsystem zur Anpassung der Schlitzöffnung und zur Verhin
derung des Gastransfers zwischen den Kammern verstellt wird.
Die beispielsweise in der DE 43 03 462 dargestellten üblicher
weise verwendeten Leitblenden sind auf der Substratunterseite
zwischen dem Substrattransportsystem angeordnete, zum Substrat
parallele und in geringem Abstand zur Substratunterkante be
findliche flächenförmige Gebilde mit Dichtung zum Behälterbo
den und auf der Substratoberseite quaderförmige, überlicher
weise nach oben offene durchbiegungssteife Gebilde mit ebener
Unterseite mit minimalem Abstand zur Substratoberkante.
Ziel der Druckabstufung über die Vor-, Hauptschleuse und Über
führungskammer ist ein vom Zykluszustand unabhängiger kon
stanter Druck pB im Prozeßbereich der Anlage. Durch den
Schleusungsvorgang des Substrates zwischen beiden Kammern
steigt der Druck pT1 sprunghaft an. Durch die Geometrie der
folgenden Leitblende und dem Druckgefälle pT1 - pT2 bedingt,
ergibt sich ein Gasstrom durch die Leitblende, der sich in
einer z. T. zeitlich verzögerten und in der Intensität abge
schwächten Druckerhöhung Δ pT2 äußert. Diese Druckerhöhung ist
neben dem Gasstrom durch die Leitblende von der an dieser
Sektion installierten Saugleistung und dem Volumen der Sektion
abhängig.
Die Dimensionierung der Saugleistung an den Sektionen muß
häufig anhand der kurzzeitig auftretenden Maximalwerte von
ΔpT2... ΔpTn vorgenommen werden; für die kumulativ während
der Taktzeit anfallende Gaslast in den Sektionen ist die Saug
leistung überdimensioniert. Die Dimensionierung der in Vor-
und Hauptschleusen installierten Saugleistung richtet sich
nach den maximal tolerierbaren Überführungsdrücken pÜ1 und pÜ2.
Niedrige Überführungsdrücke pÜ1 und pÜ2 zwingen zu kosteninten
siven Pumpenkombinationen u. a. der gasgekühlten Wälzkolbenpum
pe an der Hauptschleuse.
Ziel der Entwicklung muß eine Steigerung der Überführungs
drücke pÜ1 und PÜ2 sein, um den Einfluß auf die Schwankungen des
Arbeitsdruckes in den Prozeßkammern < 10% zu gewährleisten.
Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, den Überführungs
bereich zwischen Schleusenkammer und Prozeßkammer so zu ge
stalten, daß eine hohe Druckentkopplung möglich wird und damit
die prozeßbedingten periodischen Druckschwankungen sich nicht
auf das Vakuum im Prozeßkammerbereich auswirken. Die spezielle
Ausgestaltung des Überführungsbereiches soll einen Druck im
Bereich der sich anschließenden Schleusenkammern zwischen 5 ×
10-2 mbar und 1 × 10-3 mbar zulassen und dabei nur zu unbedeu
tenden Druckveränderungen (< 10%) an die jeweils sich an
schließenden Sektionen des Beschichtungsbereiches führen.
Darüber hinaus soll durch die konstruktive Lösung des Überfüh
rungsbereiches eine weitgehende Druckentkopplung des Prozeß
bereiches von den Schleusenkammern bewirkt werden, um damit
die sonst üblicherweise durch variierende Substratanordnungen
und Substratgrößen sowie variierende Substratlücken des zu
transportierenden Gutes zustande kommenden Druck- bzw. Vakuum
veränderungen zu unterdrücken.
Die Aufgabe wird dadurch gelöst, daß das Kammervolumen des
Überführungsbereiches in mehrere Sektionen derart unterteilt
wird, daß
- - die Puffersektionen jeweils mit Hochvakuumpumpen verbunden sind,
- - das Volumen der einzelnen Puffersektionen so groß wie möglich ausgestaltet wird, wobei das Gesamtvolumen aller Puffersektionen nahezu dem ursprünglichen Kammervolumen entspricht,
- - die einzelnen Puffersektionen bis auf Saugöffnungen in Richtung der Substrattransportebene in sich geschlossene vakuumdichte Konstruktionen sind,
- - die konstruktive Ausgestaltung der Begrenzungswand zur Substrattransportebene zu einem hohen Strömungswiderstand im Transportkanal führt,
- - und der Spalt an der Begrenzungswand zur Substrattrans portebene mindestens den zehnfachen Strömungsleitwert gegenüber dem Spalt für den Substrattransport besitzt.
Eine vorteilhafte Ausgestaltung der Lösung liegt in der Reali
sierung von nahezu gleichgestalteten Puffersektionen innerhalb
der Überführungskammer.
Eine spezielle Ausführung liegt außerdem darin, daß einzelne
Puffersektionen ohne eigene Hochvakuumpumpen mit über die
Nachbarsektionen evakuiert werden. Darüber hinausgehend können
in den einzelnen Puffersektionen Kryopumpen bzw. selektiv
wasserdampfpumpende Kühlflächen installiert sein. Außerdem ist
es vorteilhaft, die Saugöffnung zur Substrattransportebene im
vorderen Drittel der Puffersektion anzuordnen.
An einem Ausführungsbeispiel wird die Erfindung erläutert. In
der zugehörigen Zeichnung ist das Schleusensystem für Be
schichtungsanlagen schematisch dargestellt. In einer Überfüh
rungskammer (1) befinden sich ein Transportsystem (9), beste
hend aus mittels Zahnriemen angetriebenen Rollen. Angrenzend
an die Überführungskammer (1) sind die mittels Ventil (8)
vakuummäßig abtrennbare Schleusenkammer (6) und die Prozeßkam
mer (7) angeordnet.
Die Strömungsleitelemente auf der Substratunterseite (11)
sind durch auf der Oberseite ebene Träger realisiert und zwi
schen den Transportrollen mit geringen Abstand von ca. 5 mm
zur Substratunterseite (11) angeordnet.
Die Strömungsleitelemente auf der Substratoberseite (10)
werden durch nach oben offene, quaderförmige Blockkonstruktio
nen mit zum Substrat (12) parallelen Unterseite und einseiti
ger vertikaler Öffnung gebildet, wobei der Abstand zur Sub
stratoberseite in der Regel ca. 5 mm beträgt und einstellbar
ist. Diese Oberteile sind mittels Kran aus der Überführungs
kammer entnehmbar.
In der Überführungskammer (1) sind drei Strömungsleitelemente,
bestehend aus den Elementen (10) und (11) angeordnet, so daß
drei Puffersektionen (3... 3") gebildet werden, die wiederum
über Turbomolekularpumpen (4) evakuiert werden.
Claims (4)
1. Schleusensystem für die Überführungskammer einer Vaku
umbeschichtungsanlage für den Transport ebener, großflä
chiger Substrate bzw. Substratlose zwischen einer unstetig
arbeitenden in der Regel mittels Ventil abgegrenzten
Schleusenkammer (6) und einer kontinuierlich arbeitenden
Prozeßkammer (7) mit geringerem Arbeitsdruck, bestehend
aus Behälter, Transportsystem, angeschlossenem Vakuumer
zeuger sowie das Kammervolumen in Puffersektionen unter
teilenden Einbauten, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Überführungskammer (1) aus mehre
ren, mit Spalt für den Substrattransport (2... 2") versehe
nen und ansonsten vakuumdicht untereinander abgetrennten
Puffersektionen (3... 3") besteht, die mittels separater
Vakuumerzeuger (4... 4") oder ohne dieselben über die Vaku
umerzeuger (4... 4") der benachbarten Puffersektionen eva
kuierbar sind und in deren dem Substrat zugewandten Be
grenzungswand (10) eine Saugöffnung (5... 5") angeordnet
ist, deren Strömungsleitwert den mindestens zehnfachen
Wert des Strömungsleitwertes des Spaltes für den Substrat
transport (2... 2") beträgt, und dabei die Gestaltung der
Puffersektionen (3... 3") so gewählt ist, daß sie eine
Druckentkopplung des Prozeßbereiches (7) von der Schleu
senkammer (6) bewirkt.
2. Schleusensystem nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Saugöffnungen (5... 5") in
der
dem Substrat zugewandten Begrenzungswand (10) der Puffer
sektionen (3... 3") unsymmetrisch in Substrattransport
richtung angeordnet sind.
3. Schleusensystem nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß in den Puffersektionen
(3... 3") zusätzlich Kryoflächen installiert sind.
4. Schleusensystem nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Anzahl der Puffersektio
nen (3... 3") variabel ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1998108163 DE19808163C1 (de) | 1998-02-27 | 1998-02-27 | Schleusensystem für die Überführungskammer einer Vakuumbeschichtungsanlage |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1998108163 DE19808163C1 (de) | 1998-02-27 | 1998-02-27 | Schleusensystem für die Überführungskammer einer Vakuumbeschichtungsanlage |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19808163C1 true DE19808163C1 (de) | 1999-07-15 |
Family
ID=7859016
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1998108163 Expired - Lifetime DE19808163C1 (de) | 1998-02-27 | 1998-02-27 | Schleusensystem für die Überführungskammer einer Vakuumbeschichtungsanlage |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19808163C1 (de) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000042236A2 (en) * | 1999-01-13 | 2000-07-20 | Tokyo Electron Limited | Processing system and method for chemical vapor deposition |
US6881269B2 (en) * | 2000-08-17 | 2005-04-19 | Novartis Ag | Lens plasma coating system |
EP1582607A1 (de) * | 2004-03-31 | 2005-10-05 | Applied Films GmbH & Co. KG | Schleusenanordnung für eine Vakuumbehandlungsanlage und Verfahren zum Betreiben von dieser |
WO2009004048A1 (de) * | 2007-07-03 | 2009-01-08 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum schleusen überlanger substrate in einer vakuumbeschichtungsanlage |
DE102008008320A1 (de) * | 2008-02-07 | 2009-08-20 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Transporteinrichtung für horizontale Vakuumbeschichtungsanlagen |
DE102009059093A1 (de) | 2009-12-18 | 2011-06-22 | VON ARDENNE Anlagentechnik GmbH, 01324 | Vakuumprozessanlage mit einer Einrichtung zur Druckseparation |
DE102012202715A1 (de) | 2012-02-03 | 2013-08-08 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Vakuumprozessanlage mit einer Einrichtung zur Druckseparation |
DE102013205709A1 (de) * | 2013-03-28 | 2014-10-02 | Von Ardenne Gmbh | Schleusenverfahren und Vakuumsubstratbehandlungsanlage |
DE102013106734A1 (de) * | 2013-06-27 | 2014-12-31 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Evakuierbare Anlagenkammer einer Durchlauf-Substratbehandlungsanlage und Verfahren zum Betrieb der Anlage |
WO2017071677A1 (de) * | 2015-10-26 | 2017-05-04 | Grenzebach Maschinenbau Gmbh | Vorrichtung und verfahren zum beschichten überlanger flächenhafter substrate, insbesondere glasscheiben, in einer vakuum-beschichtungsanlage |
DE102016101197A1 (de) | 2016-01-25 | 2017-07-27 | Hella Kgaa Hueck & Co. | Verfahren zum Oberflächenbeschichten eines Bauteils unter Vakuum und Vakuumbeschichtungsanlage hierzu |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0018690B1 (de) * | 1979-04-30 | 1983-05-11 | S.A. Glaceries de Saint-Roch | Vorrichtung und Verfahren zur Vakuumbeschichtung |
DE4303462C2 (de) * | 1992-03-30 | 1994-03-31 | Leybold Ag | Mehrkammerbeschichtungsanlage |
-
1998
- 1998-02-27 DE DE1998108163 patent/DE19808163C1/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0018690B1 (de) * | 1979-04-30 | 1983-05-11 | S.A. Glaceries de Saint-Roch | Vorrichtung und Verfahren zur Vakuumbeschichtung |
DE4303462C2 (de) * | 1992-03-30 | 1994-03-31 | Leybold Ag | Mehrkammerbeschichtungsanlage |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000042236A2 (en) * | 1999-01-13 | 2000-07-20 | Tokyo Electron Limited | Processing system and method for chemical vapor deposition |
WO2000042236A3 (en) * | 1999-01-13 | 2000-11-23 | Tokyo Electron Ltd | Processing system and method for chemical vapor deposition |
US6881269B2 (en) * | 2000-08-17 | 2005-04-19 | Novartis Ag | Lens plasma coating system |
US7078074B2 (en) * | 2000-08-17 | 2006-07-18 | Novartis Ag | Lens plasma coating system |
EP1582607A1 (de) * | 2004-03-31 | 2005-10-05 | Applied Films GmbH & Co. KG | Schleusenanordnung für eine Vakuumbehandlungsanlage und Verfahren zum Betreiben von dieser |
WO2009004048A1 (de) * | 2007-07-03 | 2009-01-08 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum schleusen überlanger substrate in einer vakuumbeschichtungsanlage |
DE112008001620B4 (de) | 2007-07-03 | 2021-08-26 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Verfahren und Vorrichtung zum Schleusen überlanger Substrate in einer Vakuumbeschichtungsanlage, Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu deren Betrieb |
DE102008008320A1 (de) * | 2008-02-07 | 2009-08-20 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Transporteinrichtung für horizontale Vakuumbeschichtungsanlagen |
DE102008008320B4 (de) * | 2008-02-07 | 2010-05-27 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Transporteinrichtung für horizontale Vakuumbeschichtungsanlagen |
DE102009059093B4 (de) * | 2009-12-18 | 2014-03-27 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Vakuumprozessanlage mit einer Einrichtung zur Druckseparation |
DE102009059093A1 (de) | 2009-12-18 | 2011-06-22 | VON ARDENNE Anlagentechnik GmbH, 01324 | Vakuumprozessanlage mit einer Einrichtung zur Druckseparation |
DE102012202715A1 (de) | 2012-02-03 | 2013-08-08 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Vakuumprozessanlage mit einer Einrichtung zur Druckseparation |
DE102013205709A1 (de) * | 2013-03-28 | 2014-10-02 | Von Ardenne Gmbh | Schleusenverfahren und Vakuumsubstratbehandlungsanlage |
DE102013205709B4 (de) * | 2013-03-28 | 2017-03-09 | Von Ardenne Gmbh | Schleusenverfahren und Vakuumsubstratbehandlungsanlage |
DE102013106734A1 (de) * | 2013-06-27 | 2014-12-31 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Evakuierbare Anlagenkammer einer Durchlauf-Substratbehandlungsanlage und Verfahren zum Betrieb der Anlage |
DE102013106734B4 (de) * | 2013-06-27 | 2017-08-17 | Von Ardenne Gmbh | Evakuierbare Anlagenkammer einer Durchlauf-Substratbehandlungsanlage und Verfahren zum Betrieb der Anlage |
WO2017071677A1 (de) * | 2015-10-26 | 2017-05-04 | Grenzebach Maschinenbau Gmbh | Vorrichtung und verfahren zum beschichten überlanger flächenhafter substrate, insbesondere glasscheiben, in einer vakuum-beschichtungsanlage |
US10590528B2 (en) | 2015-10-26 | 2020-03-17 | Grenzebach Maschinenbau Gmbh | Device for coating extra-long sheet-type substrates, in particular glass panes, in a vacuum coating system |
DE102016101197A1 (de) | 2016-01-25 | 2017-07-27 | Hella Kgaa Hueck & Co. | Verfahren zum Oberflächenbeschichten eines Bauteils unter Vakuum und Vakuumbeschichtungsanlage hierzu |
WO2017129442A1 (de) | 2016-01-25 | 2017-08-03 | Hella Kgaa Hueck & Co. | Verfahren zum oberflächenbeschichten eines bauteils unter vakuum |
US20210207263A1 (en) * | 2016-01-25 | 2021-07-08 | HELLA GmbH & Co. KGaA | Procedure for coating component surfaces under vacuum and the vacuum coating system used for this purpose |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE19808163C1 (de) | Schleusensystem für die Überführungskammer einer Vakuumbeschichtungsanlage | |
EP0307539B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Substraten | |
EP1582607B2 (de) | Schleusenanordnung für eine Vakuumbehandlungsanlage und Verfahren zum Betreiben von dieser | |
EP1571234B1 (de) | Verfahren für den Betrieb einer Inline-Beschichtungsanlage | |
DE102016107830B4 (de) | Vakuumkammeranordnung und Verfahren zum Betreiben einer Vakuumkammeranordnung | |
DE29520391U1 (de) | Vakuumanlage zur Oberflächenbearbeitung von Werkstücken | |
DE102007058052B4 (de) | Vakuumbeschichtungsanlage | |
DE112008001620B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Schleusen überlanger Substrate in einer Vakuumbeschichtungsanlage, Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu deren Betrieb | |
DE202012102431U1 (de) | Vorrichtung zur Gasseparation in einer Anlage zur Vakuumbehandlung | |
EP2422362A1 (de) | Transporteinrichtung mit einem auslenkbaren dichtrahmen | |
DE10319379A1 (de) | Vorrichtung zum Transportieren eines flachen Substrats in einer Vakuumkammer | |
DE10348639B4 (de) | Schleusensystem für eine Vakuumanlage | |
EP1970467B1 (de) | Flutungskammer für Beschichtungsanlagen | |
DE102013106026A1 (de) | Vakuumanordnung und Verfahren zum Betreiben einer Vakuumanordnung | |
EP2915901A1 (de) | Vorrichtung zur Plasmaprozessierung mit Prozessgaszirkulation in multiplen Plasmen | |
DE102014107636B4 (de) | Vakuumprozessieranlage | |
DE102011015464B4 (de) | Vakuumpumpeinrichtung und -verfahren für staubhaltige Gase | |
EP3256618B1 (de) | Verfahren zum betrieb einer inline-beschichtungsanlage und inline-beschichtungsanlage | |
DE112005001539B4 (de) | Vakuumbearbeitungsvorrichtung und Verfahren zum Austausch einer Vakuumbearbeitungskammer einer solchen Vorrichtung | |
DE102014116697B4 (de) | Kammerdeckel zum Abdichten einer Kammeröffnung in einer Gasseparationskammer und Gasseparationskammer | |
DE102012110287B4 (de) | Substratbehandlungsanlage und Verfahren zur Druckminderung | |
DE102012109830A1 (de) | Schleusenkammer einer Vakuumbehandlungsanlage | |
DE102008026000A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung flächiger Substrate | |
WO2020065425A1 (de) | Prozessmodul und anlage mit wenigstens einem solchen prozessmodul | |
EP2876674A1 (de) | Vorrichtung zur Rückgewinnung von Inertgas aus Schleusenkammern |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8100 | Publication of the examined application without publication of unexamined application | ||
D1 | Grant (no unexamined application published) patent law 81 | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH, 01324 DRESDEN, DE |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: VON ARDENNE GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH, 01324 DRESDEN, DE |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: LIPPERT STACHOW PATENTANWAELTE RECHTSANWAELTE , DE Representative=s name: PATENTANWAELTE LIPPERT, STACHOW & PARTNER, DE |
|
R071 | Expiry of right |