DE19710685A1 - Nanokristalline Partikel enthaltendes Material und Verfahren zur Herstellung - Google Patents
Nanokristalline Partikel enthaltendes Material und Verfahren zur HerstellungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein nanokristalline Partikel
enthaltendes Material für optische und elektronische
Komponenten sowie ein Verfahren zur Herstellung eines
derartigen Materials.
Materialien auf der Basis niederdimensionaler Struk
turen werden derzeit bereits häufig in kommerziellen
Bauelementen eingesetzt. Insbesondere bei optischen
Bauelementen konnte ein Vielzahl neuer Anwendungsge
biete erschlossen werden. Beispielhaft seien Halblei
terlaser genannt. Elektrisch gepumpte, zweidimensio
nale chalkogenidische Halbleiterschichten (Quanten
filme) beispielsweise zeigen eine hohe Quanteneffi
zienz bis zu 30%.
In letzter Zeit werden zunehmend auch Materialien mit
nulldimensionalen Strukturen (Quantenpunkte, nanokri
stallinen Partikel) aufgrund der vorausgesagten guten
optischen Eigenschaften interessant. Derartige Struk
turen eignen sich u. a. für optisch gepumpte, planare
Laser. Die theoretisch vorausgesagte Abnahme der
Schwellstromdichte durch Erhöhung des Quantendimen
sionseffektes wird bei der Mehrzahl derartiger Mate
rialien jedoch nicht gefunden. Die Ursache hierfür
liegt in störenden nichtstrahlenden Prozessen und
Sättigungseffekten des optischen Gewinns. Zusätzliche
Rekombinationszentren, z. B. Störstellen oder Grenz
flächendeffekte, führen dazu, daß die Quanteneffi
zienz optisch gepumpter nulldimensionaler Strukturen
bei Raumtemperatur sehr gering ist und meist über
haupt nur bei tiefen Temperaturen unterhalb von 77 K
beobachtet werden kann.
Bei der Herstellung von Quantenpunktstrukturen ent
haltenden Materialien werden unterschiedliche Ansätze
verfolgt. So werden beispielsweise Sol-Gel-Verfahren
zur Herstellung verwendet. Bei diesen Verfahren wer
den Kristallite im Nanometer-Maßstab generiert und
zur Stabilisierung in eine vernetzte Matrix einge
bracht.
So ist es beispielsweise bekannt, CdS-Nanokristalli
te, welche durch einen Sol-Gel-Prozeß hergestellt
wurden, in eine porenfreie anorganische Glasmatrix
einzubetten (z. B. Room temperature optical gain in
sol-gel derived CdS quantum dots, Appl. Phys. Lett.
69 (21), 3224-3226) . Aus der DE 41 33 621 ist be
kannt, in Solen stabilisierte nanokristalline Parti
kel in eine vernetzte Polymermatrix einzubringen.
Derartige Materialien und Herstellungsverfahren wei
sen jedoch eine Reihe von Nachteilen auf. So begren
zen Grenzflächendefekte zwischen den nanokristallinen
Partikeln und der Glas- bzw. Polymermatrix die opti
sche Qualität sowie die Quanteneffizienz dieser Kom
posit-Materialien beträchtlich. Neben den schlechten
optischen Eigenschaften müssen auch umständliche und
aufwendige Herstellungsverfahren in Kauf genommen
werden. So erfordert beispielsweise die Einbettung
von nanokristallinen Partikeln in Glasmatritzen eine
Vielzahl von Prozeßschritten, wie Oxidation, Sulfi
dierung und Verdichtung. Diese Schritte laufen bei
ungünstigen hohen Temperaturen ab und sind außerdem
mit langen Prozeßzeiten verbunden. Auch die Einbet
tung nanokristalliner Partikel in eine Polymermatrix
ist mit erheblichem verfahrenstechnischem Aufwand
verbunden.
Ein weiterer Nachteil beider Verfahren ist die Tatsa
che, daß der Volumenanteil an nanokristallinen Parti
keln mit typischerweise 10-2-10-5 Vol.-% außerordent
lich gering ist. Diese Tatsache schränkt die Bauele
menttauglichkeit derart hergestellter Materialien
stark ein.
Ausgehend von den genannten Nachteilen des Standes
der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde,
ein nanokristalline Partikel enthaltendes Material zu
schaffen, welches sich durch eine hohe Reinheit aus
zeichnet und eine hohe Quanteneffizienz sogar bei
Raumtemperatur sowie einen optischen Gewinn aufweist.
Weiterhin liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde,
ein Verfahren zur Herstellung derartiger Materialien
zur Verfügung zu stellen, welches eine einfache,
schnelle und kostengünstige Herstellung erlaubt.
Diese Aufgabe wird durch ein nanokristalline Partikel
enthaltendes Material gemäß dem Hauptanspruch der
Erfindung und betreffend ein Verfahren zur Herstel
lung und die Verwendung eines derartigen Materials
durch die Ansprüche 14 sowie 18 und 19 gelöst. Die
jeweiligen Unteransprüche beinhalten bevorzugte Aus
gestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung.
Mit einem nanokristalline Partikel enthaltenden Mate
rial, bei welchem die aus einem stabilisierende Li
ganden enthaltenden Sol abgeschiedenen nanokristal
linen Partikel als matrixfreier Films angeordnet
sind, können bis zu 10 µm dicke Filme hoher Schicht
qualität und optischer Güte realisiert werden.
So beträgt beispielsweise die Quantenausbeute der
Fluoreszenz erfindungsgemäßer matrixfreier CdSe-Filme
bei tiefen Temperaturen für die bandkantennahe Emis
sion 3-5% und für die gesamte spektrale Effizienz
15%. Bei Raumtemperatur beträgt die gesamte Effizienz
immer noch 1-3% und ist damit um einen Faktor 10 grö
ßer als bei herkömmlichen nanokristallinen II/VI-Par
tikeln, welche in eine Glas- oder eine Polymermatrix
eingebettet sind.
Bei dem erfindungsgemäßen Material konnte das Auftre
ten von optischem Gewinn bei intensivem optischen
Pumpen demonstriert werden. Die durch das Fehlen ei
ner externen Matrix bedingte hohe Reinheit führt zu
sehr geringen nichtstrahlenden Verlusten. Damit sind
die Voraussetzungen für geringe Schwellstromdichten
und hohe optische Nichtlinearitäten dritter Ordnung
erfüllt. Aufgrund dieser Eigenschaften sind die vor
gestellten Materialien hervorragend geeignet für den
Einsatz in optischen Komponenten, beispielsweise für
die Lasertechnik oder nichtlineare Photonik.
Ein wichtiger Aspekt der Erfindung ist die matrix
freie Stabilisierung der nanokristallinen Partikel in
Form eines Films. Darunter ist zu verstehen, daß die
einzelnen Kristallite nur untereinander verknüpft
sind und - im Gegensatz zum Stand der Technik - keine
Partikelstabilisierung über ein externes Glas- oder
Polymernetzwerk erfolgt. Erstaunlicherweise können
auch ohne derartige externe Netzwerke allein durch
Brücken zwischen den nanokristallinen Partikeln auf
naßchemischem Wege bis zu 10 µm dicke Filme reali
siert werden. Derartige Schichtdicken sind ausrei
chend für viele Bauelementanwendungen. Insbesondere
kann dabei von der hohen optischen Qualität der Filme
aufgrund fehlender externer Matrizen profitiert wer
den kann.
Die matrixfreie Stabilisierung der nanokristallinen
Partikel erfolgt durch an die nanokristallinen Parti
kel gebundene Liganden, welche untereinander vernetz
bar sind. Derartige Liganden sind bevorzugt über eine
Elektronendonator-Gruppe an die nanokristallinen Par
tikel gebunden und weisen eine weitere, organische
oder anorganische vernetzbare Gruppe auf. Die Ligan
den können vorteilhafterweise neben der Filmstabili
sierung auch zusätzlich eine Stabilisierung des die
nanokristalline Partikel enthaltenden Sols bewirken.
Geeignete Liganden sind beispielsweise aus der DE 41 33 621
bekannt, auf deren diesbezügliche Offenbarung
ausdrücklich Bezug genommen wird. Die Liganden werden
dort als bifunktionelle Verbindungen bezeichnet und
dienen ausschließlich der Stabilisierung des Sols,
während das die nanokristalline Partikel enthaltende
Material selbst über ein zusätzlich eingebrachtes Po
lymergerüst stabilisiert wird.
Die bifunktionellen Liganden haben die allgemeine
Formel "X-Spacer-Y" (optional X=Y), wobei X und Y
bevorzugt für Silane, Mercaptane, Amine, Carboxylate,
Rhodanide oder Phosphane stehen und als Spacer bei
spielsweise Alkane, Alkene oder Alkine mit einer Ket
tenlänge von bevorzugt 6 bis 20 Kohlenstoffatomen ver
wendet werden können. Auch elektronenleitende Spacer
können eingesetzt werden, um eine elektronische Lei
tung in dem die nanokristallinen Partikel enthalten
den Material zu gewährleisten. Auf diese Weise läßt
sich das erfindungsgemäße Material auch für elektro
nenleitende Komponenten einsetzen, da das Material
kein externes isolierendes Netzwerk enthält, welches
die elektrische Eigenschaften verschlechtern oder
zunichte machen würde.
Gegebenenfalls kann zur Verbesserung der Filmhaftung
auf einem Glassubstrat ein zusätzlicher Ligand
(OH-Gruppen) vorhanden sein, welcher mit silicatischen
Oberflächen reagiert und Sequenzen wie Partikel-Spa
cer-Metall-O-Si oder Partikel-Spacer-O-Si ermöglicht.
Große Schichtdicken konnten mit Aminopropylsilanen
wie Aminopropyltriethoxysilan realisiert werden. Im
matrixfrei stabilisierten Film sind die nanokristal
linen Partikel dabei über SiO-Cluster untereinander
verbunden. Eine gute Filmhaftung auf Glassubstraten
wird durch die OH-Gruppen erzielt.
Da in dem erfindungsgemäßen Material auf eine externe
Matrix verzichtet wird, sind hohe Anteile nanokri
stalliner Partikel von ungefähr 1 bis 10 Vol.-% rea
lisierbar. Bei herkömmlichen, nanokristalline Parti
kel enthaltenden Materialien mit einer Polymer- oder
Glasmatrix dagegen sind um Größenordnungen weniger
Vol.-% an Partikeln in das Material eingebracht.
Bevorzugt werden Partikel aus binären oder ternären,
transparenten Materialien verwendet, besonders bevor
zugt aus II/VI-Halbleitern. Geeignete II/VI-Halblei
ter können dabei zwei oder mehrere der Komponenten
Cd, Zn, Hg und S, Se, Te enthalten. Gute Ergebnisse
konnten insbesondere mit CdSe-Partikeln erzielt wer
den. Ternäre Materialien haben den Vorteil, daß über
die Wahl der Materialkomposition die Absorptionsbande
verschoben werden kann.
Die Partikel weisen einen Durchmesser von 1 bis 8 nm,
bevorzugt zwischen 2 und 4 nm auf. Mit hochkonzen
trierten Solen sind Schichtdicken von typischerweise
1 µm bis 10 µm erzielbar.
In dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung
eines nanokristalline Partikel enthaltenden Materials
wird zunächst ein Sol hergestellt, das nanokristalli
ne Partikel und stabilisierende Liganden enthält.
Dieses Sol wird nach der Herstellung direkt auf ein
Substrat aufgebracht und anschließend ausgehärtet.
Weitere Verfahrensschritte, wie sie bei der Ausbil
dung einer externen Matrix erforderlich wären, können
erfindungsgemäß entfallen.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung eines
nanokristalline Partikel enthaltenden Materials
zeichnet sich dadurch aus, daß es ein Einschritt-Ver
fahren ist. Im Vergleich zu den Verfahren des Standes
der Technik können erfindungsgemäße Materialien daher
einfacher, schneller und kostengünstiger hergestellt
werden. Insbesondere entfallen die verfahrenstech
nisch aufwendigen Schritte zur Einbettung der in dem
Sol kolloidal gelösten nanokristallinen Partikel in
externe Netzwerke.
Erfindungsgemäß geeignete Sole entsprechen in ihrer
Zusammensetzung den aus der DE 41 33 621 bekannten
Solen. Wichtig ist jedoch, daß die erfindungsgemäßen
Sole eine hohe Konzentration an nanokristallinen Par
tikeln - abhängig von der Teilchengröße - zwischen
0,01 M bis 3 M aufweisen, da entsprechende Konzentra
tionen Voraussetzung für erfindungsgemäße Schicht
dicken sind.
Nach der Herstellung des die nanokristallinen Parti
kel mit stabilisierenden Liganden enthaltenden Sols
können weitere bifunktionelle Liganden dem Sol zuge
setzt werden, welche eine Ligandenaustauschreaktion
induzieren. Dies bietet die Möglichkeit, einerseits
die Vernetzung der Partikel zu verbessern und ande
rerseits eine gezielte Kontrolle der Haftung auf un
terschiedlichen Substraten zu gewährleisten. Auch
können auf diese Weise Liganden mit elektronisch lei
tenden Spacern eingebracht werden, um eine gute elek
tronische Verbindung der Partikel zu gewährleisten.
Die Sole werden bevorzugt mit Schleudertechniken auf
Glassubstrate aufgebracht. Andere geeignete Beschich
tungsverfahren sind Rakeln, Tauchbeschichtungen,
Spraying und Elektrophorese. Durch Verdampfung des
Lösungsmittels erfolgt der Übergang des aufgebrachten
Sol zum Gel. Die anschließende Aushärtung des Gels
findet bevorzugt bei Temperaturen zwischen 100°C und
300°C statt.
Erfindungsgemäße nanokristalline Partikel enthaltende
Materialien werden bevorzugt für optische Komponenten
wie beispielsweise als aktives Medium eines optisch
gepumpten Lasers, als Wellenleiter oder als nichtli
neares optischer Bauteil verwendet. Für die Verwen
dung als optischer Singlemode-Wellenleiter sind Min
destschichtdicken von 5 µm erforderlich. Im Rahmen
der Erfindung konnten erstmals matrixfreie, nanokri
stalline Partikel enthaltende Materialien mit derar
tigen Schichtdicken realisiert werden. Eine Verwen
dung der erfindungsgemäßen Materialien für elektroni
sche Komponenten ist bei Verwendung von elektronen
leitenden Spacern gleichfalls möglich.
Weitere Vorzüge und vorteilhafte Aspekte der Erfin
dung ergeben sich aus den nachfolgenden Ausführungs
beispielen und den Figuren.
Es zeigen:
Fig. 1 die Quanteneffizienz erfindungsgemäßer Ma
terialien mit CdSe-Kristalliten; und
Fig. 2 die optische Verstärkung erfindungsgemäßer
Materialien mit CdSe-Kristalliten.
Nachfolgend wird zunächst ein Verfahren zur Herstel
lung erfindungsgemäßer Materialien skizziert.
40 ml 0,1 molarer Cd-Precurser (4 mmol), hergestellt
durch Refluxieren von Cadmiumacetatdihydrat in Etha
nol, wird im Vakuum (0,1 mbar) vollständig eingeengt.
Der weiße Rückstand wird in 5,4 ml 2-Butoxyethanol
und 4,42 g (20 mmol) 3-Aminopropyltriethoxysilan ge
löst und die farblose Lösung nachfolgend 15 Minuten
refluxiert. Nach Abkühlen auf Raumtemperatur werden
langsam und unter starkem Rühren 450 mg (2 mmol)
Bis-(trimethylsilyl)selenid zugetropft. Man erhält
eine intensiv gelb gefärbte, nanokristalline Cadmium
selenidpartikel enthaltende Lösung mit einer
CdSe-Konzentration von 0,2 M.
Die gelbe CdSe-Lösung wird anschließend 2 Stunden
refluxiert, wobei eine Verfärbung nach Orange ein
tritt. Nachfolgendes Einengen im Vakuum (0,1 mbar)
bei Temperaturen bis zu 170°C liefert ein oranges
hochviskoses CdSe-Sol mit einer CdSe-Konzentration
von 0,5 M.
Die Lösung kann nach Filtration (1,2 µm Filter) di
rekt zur Beschichtung von kommerziell erhältlichen
Glasobjektträgern mittels Spin-On-Technik (1000 U/Min
für 40 Sek.) eingesetzt werden. Die durch das Abdamp
fen des Lösungsmittels entstehenden feuchten, optisch
transparenten und orangen Gel-Schichten werden zwei
Stunden bei 250°C im Vakuum (< 1 mbar) gehärtet und
im Vakuum bis auf Raumtemperatur abgekühlt. Man er
hält optisch transparente, matrixfreie CdSe-Filme
mit Schichtdicken bis zu 10 µm.
In einem weiteren Ausführungsbeispiel könnte nach der
gleichen Vorschrift wie oben vorgegangen und das Cd
gegen Mg/Cd (ternärer Halbleiter) oder Zn ausge
tauscht werden. Auf der Chalkogenseite wären entspre
chend Sulfide und Telluride einzufügen.
Zur Bestimmung der optischen Verstärkung wurden die
matrixfreien CdSe-Proben mit einem intensiven Pump
puls eines Nanosekundenlasers, der mittels einer Zy
linderlinse zu einem Strich fokussiert wurde, zur
Emission angeregt. Mit dieser Methode können räumlich
isotope Strahlungsanteile (spontane Emission) von
räumlich gerichteten Strahlungsanteilen (stimulierte
Emission) getrennt werden. Durch Messung der Intensi
tätsabhängigkeit der gerichteten Emission konnte ein
überlinearer Anstieg und damit das Vorliegen einer
Ladungsträgerinversion nachgewiesen werden. Der opti
sche Gewinn aufgrund eines stimulierten Prozesses ist
in seiner spektralen Abhängigkeit in Fig. 1 darge
stellt. Zu erkennen ist, daß der optische Gewinn bei
2.4 eV ein Maximum besitzt. Diese Energie entspricht
dem Wendepunkt der Absorptionsflanke im optischen
Absorptionsspektrum. Dies entspricht den früheren
spektroskopischen Beobachtungen an Quantenpunktmate
rialien, welche ein Maximum der optischen Nichtlinea
ritäten dritter Ordnung ebenfalls am Wendepunkt der
Absorptionsflanke besitzen.
Zur Bestimmung der Quanteneffizienz erfindungsgemä
ßer Materialien wurden matrixfreien CdSe-Filme in
eine Ulbricht-Kugel eingebaut und die Lumineszenz mit
einem Argonlaser angeregt. Sämtliches emittiertes
Licht wurde in der Kugel gesammelt und auf einen ge
eichten Detektor gelenkt. Es wurde das Emissionsspek
trum und das Verhältnis zwischen absorbierter und
emittierter Strahlung bestimmt. So konnte direkt ein
Maß für nichtstrahlende Verluste gewonnen werden. Das
Ergebnis ist in Fig. 2 dargestellt. Man sieht, daß
mit steigender Temperatur der optische Gewinn sinkt.
Bei 16 K beträgt die spektrale Effizient η 13%, bei
199 K 4% und bei 308 K immer noch 1,5%. Man erkennt
eine breite Durchstimmbarkeit des Lasers, d. h. zwei
strahlende Rekombinationsbereiche: die exzitonische
Rekombination nahe der Absorptionskante und Rekombi
nation aus tiefen Haftstellen bei niedrigeren Ener
gien. Bei tiefen Temperaturen überwiegt die
Trap-Fluoreszenz das Lasing.
Claims (19)
1. Nanokristalline Partikel enthaltendes Material
für optische oder elektronische Komponenten,
dadurch gekennzeichnet,
daß die aus einem stabilisierende Liganden ent
haltenden Sol abgeschiedenen Partikel
als matrixfreier Film angeordnet sind.
2. Nanokristalline Partikel enthaltendes Material
nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der matrixfreie Film durch Vernetzung der
nanokristallinen Partikel untereinander über die
Liganden gebildet ist.
3. Nanokristalline Partikel enthaltendes Material
nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet,
daß die Liganden mindestens eine Elektronendona
tor-Gruppe und eine vernetzbare Gruppe aufwei
sen.
4. Nanokristalline Partikel enthaltendes Material
nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet,
daß die Liganden einen Spacer aufweisen.
5. Nanokristalline Partikel enthaltendes Material
nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß der Spacer elektronenleitende Eigenschaften
aufweist.
6. Nanokristalline Partikel enthaltendes Material
nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet,
daß der Ligand ein Aminopropylsilan ist.
7. Nanokristalline Partikel enthaltendes Material
nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet,
daß der Film 1 bis 10 Vol.-% nanokristalline
Partikel enthält.
8. Nanokristalline Partikel enthaltendes Material
nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet,
daß die Partikel aus einem transparenten binären
oder ternären Material bestehen.
9. Nanokristalline Partikel enthaltendes Material
nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet,
daß die Partikel aus einem II/VI-Halbleiter be
stehen.
10. Nanokristalline Partikel enthaltendes Material
nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet,
daß die Partikel aus CdSe bestehen.
11. Nanokristalline Partikel enthaltendes Material
nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet,
daß die Partikel einen Durchmesser zwischen 1 nm
und 8 nm aufweisen.
12. Nanokristalline Partikel enthaltendes Material
nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet,
daß der Film eine Dicke zwischen 1 und 10 µm
aufweist.
13. Nanokristalline Partikel enthaltendes Material
nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet,
daß das Sol eine Konzentration von 0.01 M bis
3 M an nanokristallinen Partikeln aufweist.
14. Verfahren zur Herstellung eines nanokristalline
Partikel enthaltenden Materials nach einem der
Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet,
daß ein nanokristalline Partikel und stabilisie
rende Liganden enthaltendes Sol hergestellt,
direkt auf ein Substrat aufgebracht und
anschließend ausgehärtet wird.
15. Verfahren zur Herstellung eines nanokristalline
Partikel enthaltenden Materials nach Anspruch
14, dadurch gekennzeichnet,
daß im Sol vor dem Aufbringen eine Ligandenaus
tauschreaktion durchgeführt wird.
16. Verfahren zur Herstellung eines nanokristalline
Partikel enthaltenden Materials nach Anspruch 14
oder 15, dadurch gekennzeichnet,
daß das Aufbringen des Sols auf das Substrat
durch Schleudern, Sprayen, Tauchbeschichten,
Rakeln oder durch Elektrophorese erfolgt.
17. Verfahren zur Herstellung eines nanokristalline
Partikel enthaltenden Materials nach einem der
Ansprüche 14 bis 16, dadurch gekennzeichnet,
daß das Aushärten bei Temperaturen zwischen
100°C und 300°C durchgeführt wird.
18. Verwendung eines Materials nach einem der An
sprüche 1 bis 13 als aktives Medium eines op
tisch gepumpten Lasers.
19. Verwendung eines Materials nach einem der An
sprüche 1 bis 13 als nichtlinearer optischer
Wellenleiter.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE1997110685 DE19710685B4 (de) | 1997-03-14 | 1997-03-14 | Nanokristalline Partikel enthaltendes Material, Verfahren zur Herstellung und dessen Verwendung |
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ID=7823431
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DE1997110685 Expired - Fee Related DE19710685B4 (de) | 1997-03-14 | 1997-03-14 | Nanokristalline Partikel enthaltendes Material, Verfahren zur Herstellung und dessen Verwendung |
Country Status (1)
Country | Link |
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