DE19703338C2 - Verfahren zur Vorwärmung von Werkstücken bei der Vakuumbeschichtung - Google Patents
Verfahren zur Vorwärmung von Werkstücken bei der VakuumbeschichtungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Vorwärmen von Werk
stücken bei der Vakuumbeschichtung, bei dem das Werkstück in
das Vakuum eingebracht und anschließend mittels Elektronen
strahlen auf Beschichtungstemperatur vorgewärmt wird.
Ein Vorwärmen von Werkstücken bei der Elektronenstrahl
beschichtung ist erforderlich, um eine haftfeste Beschichtung
zu erreichen. Hierbei werden die Werkstücke auf Temperaturen
von ca. 800°C bis 1000°C aufgeheizt.
Aus Schiller, S.; Heisig, U. "Bedampfungstechnik" limitierter
Nachdruck der 1. Auflage 1977, Verlag Technik GmbH, Berlin
1995, Seiten 93 ff. ist es bekannt, dieses Vorwärmen mittels
Strahlungsheizer, die als Infrarotstrahler ausgebildet sind,
vorzunehmen. Diese Heizer sind zumeist als Graphitheizstäbe
ausgeführt, wobei auch Strahlungsheizer aus Metall eingesetzt
werden.
Durch die Infrarotstrahlung, die diese Heizstäbe aussendet,
wird das Werkstück, das von den Strahlungsheizern umgeben ist,
auf die erforderliche Bearbeitungstemperatur vorgewärmt.
Bei der Bearbeitung großer Teile, die eine unterschiedliche
Masseverteilung aufweisen, d. h. deren Wärmekapazität partiell
unterschiedlich ist, zeigt es sich bei diesem Vorwärmverfah
ren, daß sich die Teile des Werkstückes, die ein kleines Ober
flächen-/Masseverhältnis aufweisen, langsamer erwärmen, als
Teile mit, bezüglich ihrer Oberfläche, geringerer Masse.
Außerdem folgt das zeitliche Aufheizverhalten einer Exponenti
alfunktion, wobei am Anfang des Heizens ein schneller Tempera
turanstieg auftritt, während kurz vor und bis zum Erreichen
der Vorwärmtemperatur nur ein langsamer Temperaturanstieg
auftritt.
Dieses unterschiedliche lokale und temporäre Aufwärmverhalten
führt zu Materialspannungen, die so groß sein können, daß sich
irreversible Werkstoffveränderungen ergeben.
Zur Anpassung von Erwärmungsprozessen an großformatige Körper
sind aus Schiller, S.; Heisig, U. "Bedampfungstechnik" li
mitierter Nachdruck der 1. Auflage 1977, Verlag Technik GmbH,
Berlin 1995, Seite 95, Strahlungszonenheizer bekannt. Ein
Einsatz derartiger Strahlungszonenheizer für die Erwärmung von
großen Werkstücken mit unterschiedlicher Masseverteilung ist
allerdings mit einem erheblichen Aufwand und dem Verfahrens
nachteil verbunden, daß die lokale und temporäre Termperatur
verteilung nicht immer mit der erforderlichen Gleichmäßigkeit
eingestellt werden kann.
Aus Schiller, S.; Heisig, U.; Panzer, S "Elektronenstrahl
techhnologie" limitierter Nachdruck der 1. Auflage 1977, Ver
lag Technik GmbH, Berlin 1995, Seite 192f. und 343f. ist es
auch bekannt, mittels Elektronenstrahlen im Vakuum Werkstücke
aufzuheizen. Dieses Verfahren wird beispielsweise bei der
kontinuierlichen Beschichtung von Metallbändern angewandt.
Dabei wird ein Elektronenstrahl über die Breite des Metall
bandes quer zur Bewegung des Metallbandes abgelenkt. Durch die
Längsbewegung des Bandes selbst wird die gesamte Oberfläche
des Metallbandes bestrahlt und dabei gleichmäßig auf Beschich
tungstemperatur vorgeheizt.
Ein ähnliches Verfahren zur thermischen Deformation von längs
erstreckten Substraten wird in der japanischen Patentanmeldung
02-61063 A angegeben.
Die Anwendung dieser Elektronenstrahlerwärmung von Werkstücken
ist jedoch auf solche beschränkt, die - wie Metallbänder - ein
konstantes Oberflächen-/Masseverhältnis aller partiellen Werk
stückabschnitte aufweisen.
Die Elektronenstrahlvorwärmung von Werkstücken, mit einem
differierenden Oberflächen-/Masseverhältnis von partiellen
Werkstückabschnitten führt zu einem unterschiedlichen Auf
heizen der partiellen Werkstückabschnitte. Durch den hohen
Energieeintrag, den ein Elektronenstrahl mit sich bringt,
entstehen in noch stärkerem Maße Temperaturunterschiede in
nerhalb des Werkstückes und damit irreversible Strukturver
änderungen, als dies bei dem Einsatz von Strahlenheizern ein
tritt.
Aus der europäischen Patentanmeldung 0 336 672 A2 ist ein Verfah
ren zur In-Situ-Oberflächenveränderung von abgeschiedenen
Halbleiterschichten mittels Laser bekannt, der scannend die
Oberfläche der Schicht überstreicht, wobei die Identität
und/oder die Bestrahlungszeit in Abhängigkeit der Stoichiome
trie oder Geometrie der Oberfläche gesteuert wird.
In der britischen Patentanmeldung 2 099 219 wird ein Verfahren
zur Nachbehandlung von Halbleiteroberflächen beschrieben, bei
dem mittels eines scannend geführten Elektronenstrahls eine
Halbleiteroberfläche erwärmt und dabei die Oberflächenstruktur
nach einer Dopierung wieder hergestellt wird.
In ähnlicher Art und Weise wird in der japanischen Patentan
meldung 02-66166 A ein Verfahren zur Glättung einer Oberflächen
schicht mittels einer Elektronenstrahlheizung angegeben.
Soweit diese Lösungen für eine Werkstückerwärmung genutzt
werden können, sind sie jedoch auch nur für solche Werkstücke
einsetzbar, die ein konstantes Oberflächen-/Massenverhältnis
aller partiellen Werkstückabschnitte aufweisen.
Die Aufgabe der Erfindung besteht nunmehr darin, ein Vorwärmen
von Werkstücken bei der Vakuumbeschichtung unter Verhinderung
irreversibler Strukturveränderungen des Werkstoffes und unter
Vermeidung thermisch induzierter Spannungen im Werkstück zu
erreichen.
Gemäß der Erfindung wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß an
dem Werkstück Teilstücke ermittelt werden, die der Bedingung
genügen, daß ihr Oberflächen-/Masseverhältnis, welches das
Verhältnis einer angenommenen geschlossenen Oberfläche des
Teilstückes zu der von der Oberfläche eingeschlossenen Masse
bezeichnet, zu dem Oberflächen-/Masseverhältnis zumindest
eines benachbarten Teilstückes verschieden ist. Zur Erwärmung
des Werkstückes wird mindestens ein Elektronenstrahl über je
ein einem Teilstück entsprechenden Ablenkmuster derart abge
lenkt, daß in der Höhe des Teilstückes eine Bestrahlungsfläche
erzeugt wird, die der Projektion des Teilstückes auf eine
gedachte Projektionsfläche, die senkrecht zur mittleren
Strahlrichtung des Elektronenstrahles liegt, annähernd ent
spricht. Damit wird das Teilstück auf der einer Elektronen
strahlenquelle zugewandten Seite des Werkstückes mit dem der
art abgelenkten Strahl über eine Bestrahlungszeit hinweg be
strahlt. Dabei wird mit der Bestrahlungszeit und der Lei
stungsverteilung ein Energieeintrag in das Teilstück gewählt,
der zu keiner irreversiblen Strukturveränderung oder thermisch
induzierter Spannung führt.
In einer Ausgestaltung des Verfahrens ist vorgesehen, daß zu
unterschiedlichen Positionen des Werkstückes je eine Ablenkmu
sterkombination, bestehend aus den den Teilstücken entspre
chenden Ablenkmustern, für die nachfolgende Bearbeitung ande
rer gleichförmiger Werkstücke in jeweils derselben Position
gespeichert wird.
Durch dieses Abspeichern wird es möglich, daß baugleiche Werk
stücke durch den Elektronenstrahl die gleiche Erwärmung erfah
ren und die Ermittlung der Ablenkmuster nur einmal am Anfang
der Bearbeitung einer Vielzahl von Werkstücken vorgenommen
werden muß.
In einer weiteren Ausgestaltung ist vorgesehen, daß das Werk
stück relativ zu dem Elektronenstrahl bewegt wird. Dabei wer
den zu mehreren Werkstückstellungen jeweils zugehörige Ablenk
musterkombinationen gespeichert, wobei der Elektronenstrahl
eine Ablenkung entsprechend der Werkstückstellung aus diesen
Ablenkmusterkombinationen erfährt. Dabei kann es sich um einen
oder um mehrere Elektronenstrahlen handeln.
Mit einer Bewegung bestrahlt der Elektronenstrahl das Werk
stück stets entsprechend seiner der Elektronenstrahlenquelle
zugewandten Oberfläche. Durch die Bewegung des Werkstückes
wird erreicht, daß der Energieeintrag in das Werkstück
gleichmäßig von allen Seiten erfolgt und Temperaturdifferenzen
im Werkstück infolge Wärmeleitung verringert werden.
Eine zweckmäßige Form der Bewegung des Werkstückes stellt die
Rotation dar, wobei das Werkstück axial, koaxial oder radial
zur mittleren Elektronenstrahlrichtung rotiert. Insbesondere
ist es zweckmäßig, das Werkstück um eine Achse quer zur mitt
leren Elektronenstrahlrichtung rotieren zu lassen.
In einer Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens ist vor
gesehen, daß der Energieeintrag über die Bestrahlungszeit und
die Leistungsdichte entsprechend einem vorgegebenen Tempera
turgang des Werkstückes, beispielsweise über die Bestrahlungs
zeit und die Leistungsdichte, geändert wird.
Da sich die für die Vorwärmung benötigte Energie bei einer
möglichst linearen Temperaturerhöhung von Temperaturschritt zu
Temperaturschritt verändert, kann mit einem der jeweiligen
Temperatur angepaßten Energieeintrag die Temperaturerhöhung in
allen Teilen gleichmäßig erfolgen.
In einer weiteren Ausführung der Erfindung ist vorgesehen, daß
ein Elektronenstrahl eingesetzt wird, der zeitlich nachein
ander über die einzelnen Ablenkmuster abgelenkt wird.
Mit einer derartigen Ausführung wird eine besonders kostengün
stige Gestaltung des Verfahrens ermöglicht, da nur ein Elek
tronenstrahl bereitgestellt werden muß. Während nämlich die
Bereitstellung mehrerer Elektronenstrahlen, die zweifellos in
verschiedenen Anwendungen zweckmäßig sind, einen sehr hohen
Aufwand erfordern, ist in dieser Ausführung die - im Vergleich
zu mehreren Elektronenstrahlen - kompliziertere Steuerung
weniger aufwendig.
Durch eine Variante, bei der der Elektronenstrahl nacheinander
über Ablenkmuster benachbarter Teilstücke abgelenkt wird, wird
die Zeit zum Durchlaufen der Ablenkmuster verringert, wodurch
kleine Taktzeiten erzielt werden können.
Hierbei ist es besonders vorteilhaft, die Bestrahlungszeiten
von einem Teilstück zu einem benachbarten zu ändern, da damit
der Energieeintrag, der dem jeweiligen Teilstück entspricht,
in einfacher Art und Weise und schnell geändert werden kann.
In einer besonders bevorzugten Ausführung des erfindungsgemä
ßen Verfahrens ist vorgesehen, daß die Bestrahlung der ein
zelnen Teilstücken zeitlich nacheinander mehrfach wiederholt
wird, bis die Solltemperatur erreicht ist. Somit kann der
Energieeintrag auf mehrere Durchläufe verteilt werden. Die
bessere Wärmeverteilung ist dabei eine sehr vorteilhafte Wir
kung.
Sehr häufig ist es erforderlich, daß Teile der Oberfläche
eines Werkstückes nicht beschichtet werden sollen. Dazu wird
üblicherweise dieser Teil mit einer Abdeckung von der Be
schichtung abgeschirmt. Eine solche Abschirmung soll jedoch
die Erwärmung des darunterliegenden Werkstückteiles nicht
behindern, um keine Strukturänderungen hervorzurufen. Hierzu
ist zweckmäßigerweise vorgesehen, daß die Abdeckung den Ener
gieeintrag erfährt und das darunterliegende Werkstückteil
mittels Strahlungsheizung durch die Abdeckung erwärmt wird.
Durch die Variationsmöglichkeit des Energieeintrages in dem
Ablenkmuster über der Abdeckung ist es möglich, den Energie
eintrag auf die Abdeckung höher zu gestalten, um diesen zur
Infrarotstrahlungsquelle werden zu lassen, der das darunter
liegend Werkstückteil mittels einer Strahlungsheizung gezielt
aufheizen kann.
Zur Erhöhung der Produktivität insbesondere bei kleineren
Werkstücken ist vorgesehen, daß mehrere Werkstücke nebenein
ander angeordnet sind und ein Elektronenstrahl zeitlich nach
einander mit Ablenkmustern einander benachbarter Teilstücke
des einen und/oder des anderen Werkstückes abgelenkt wird.
Dabei kann es sehr zweckmäßig sein, daß für einander benach
barte Teilstücke, die zu verschiedenen Werkstücken gehören,
ein gemeinsames Ablenkmuster vorgesehen ist. Für diese Teil
stücke wird ein Wechsel von Ablenkmuster zu Ablenkmuster ver
mieden und damit die Anzahl der Ablenkmuster verringert.
Um die Temperaturgradienten zwischen Teilbereichen weiter zu
verringern, kann es zweckmäßig sein, daß der Aufheizvorgang
unter höherem Druck mittels Zusatzgas stattfindet, um die
Energieverteilungskurve im Elektronenstrahl zu verbreitern.
Der Aufheizvorgang kann auch zum Zwecke einer zielgerichteten
und materialspannungsverhindernden Abkühlung eingesetzt wer
den. Hierzu ist vorgesehen, daß die Bestrahlung des Werkstüc
kes nach einer erfolgten Beschichtung zum Zwecke einer gleich
mäßigen Abkühlung eingesetzt wird, wobei die Teilstücke mit
dem kleineren Oberflächen-/Masseverhältnis eine geringere
Nachwärmung erfahren als die Teile mit dem größeren Ober
flächen-/Masseverhältnis.
Das erfindungsgemäße Verfahren soll nachfolgend anhand eines
Ausführungsbeispieles näher erläutert werden. In den zugehöri
gen Zeichnungen zeigt
Fig. 1 eine perspektivische Darstellung eines Werkstückes mit
den zugehörigen Projektionen von Teilstücken des Werk
stückes in einer ersten Stellung,
Fig. 2 eine perspektivische Darstellung des Werkstückes mit
zugehörigen Projektionen von Teilstücken des Werk
stückes in einer zweiten Stellung,
Fig. 3 eine Ablenkmusterkombination in der ersten Stellung
und
Fig. 4 die Ablenkmusterkombination der zweiten Stellung.
Wie in Fig. 1 dargestellt, soll ein Werkstück 1 in einer nicht
näher dargestellten Vakuumkammer beschichtet werden. Dazu ist
es erforderlich, dieses Werkstück 1 auf eine Beschichtungs
temperatur von 950°C vorzuwärmen.
Dazu werden an dem Werkstück 1 Teilstücke 2 bis 4 ermittelt.
Dabei ist das Oberflächen-/Masseverhältnis des Teilstückes 2
verschieden von dem Oberflächen-/Masseverhältnis des benach
barten Teilstückes 3 und dessen Oberflächen-/Masseverhältnis
ist wiederum verschieden von dem des Teilstückes 4.
Zu jedem Teilstück wird als Bestrahlungsfläche je ein Projek
tionsflächenstück 6 bis 8 ermittelt, die durch Projektion des
Teilstückes 2-4 auf eine gedachte Projektionsfläche 9 ent
steht, die senkrecht zur mittleren Strahlrichtung 10 des Elek
tronenstrahles 5 liegt.
Das Ablenkmusters 11-13 in Fig. 3 entsteht, indem der Elek
tronenstrahl 5 über je eines dieser als Bestrahlungsfläche
dienenden Projektionsflächenstücke 6-8 mäanderförmig geführt
wird.
Zur Erwärmung des Werkstückes 1 wird der Elektronenstrahl 5
über je ein einem Teilstück 2-4 entsprechenden Ablenkmuster
11-13 derart abgelenkt, daß die der Elektronenstrahlquelle 14
zugewandten Seiten der Teilstückes 2-4 über eine Bestrahlungs
zeit hinweg bestrahlt werden. Dabei wird mit der Bestrahlungs
zeit und der Leistungsverteilung ein Energieeintrag in das
Teilstück 2-4 gewählt, der zu keiner irreversiblen Struktur
veränderung führt.
Der Elektronenstrahl 5 wird zeitlich nacheinander über die
einzelnen Ablenkmuster 11-13 abgelenkt, so daß alle Teilstücke
2-4 nacheinander eine Erwärmung erfahren.
Die Ablenkmuster 11-13, wie sie in Fig. 3 dargestellt sind,
werden zu der in Fig. 1 dargestellten Stellung des Werkstückes
1 als eine Ablenkmusterkombination 15 gespeichert.
Analog werden zu der in Fig. 2 dargestellten Stellung des
Werkstückes 1 aus Projektionsflächenstücken 6'-8' Ablenkmuster
11' bis 13' gemäß Fig. 4 erstellt und als Ablenkmusterkombina
tion 15' gespeichert. In gleicher Weise werden zu anderen
Stellungen des Werkstückes 1 noch weitere nicht näher dar
gestellte Ablenkmusterkombinationen erstellt und gespeichert.
Das Werkstück 1 rotiert während der Vorwärmung auf einer Rota
tionsachse, die senkrecht zur mittleren Strahlrichtung 10
liegt. Bei dieser Rotation nimmt das Werkstück 1 verschiedene
Stellungen ein, von denen eine in Fig. 1 und eine andere in
Fig. 2 dargestellt sind. Entsprechend der jeweiligen Stellung
wird der Elektronenstrahl 5 über die jeweiligen Ablenkmuster
kombinationen 15, 15' usw. abgelenkt.
Diese Bestrahlung der einzelnen Teilstücke 2-4 wird zeitlich
nacheinander mehrfach wiederholt, bis die Solltemperatur von
950°C erreicht ist. Somit kann der Energieeintrag auf mehrere
Durchläufe verteilt werden. Die bessere Wärmeverteilung ist
dabei eine sehr vorteilhafte Wirkung.
Bei mehreren Durchläufen erhöht sich die Temperatur der ein
zelnen Teilstücke 2-4 des Werkstückes 1. Um zu einer gleich
mäßigen Erwärmung zu gelangen, wird der Energieeintrag über
die Bestrahlungszeit und die Energie des Elektronenstrahles 5
gesteuert.
Mit diesem Verfahrensablauf wird das Werkstück 1 gleichmäßig
und verspannungsfrei erwärmt.
1
Werkstück
2
Teilstück
3
Teilstück
4
Teilstück
5
Elektronenstrahl
6
,
6
'Projektionsflächenstück
7
,
7
'Projektionsflächenstück
8
,
8
'Projektionsflächenstück
9
Projektionsfläche
10
mittlere Strahlrichtung
11
,
11
'Ablenkmuster
12
,
12
'Ablenkmuster
13
,
13
'Ablenkmuster
14
Elektronenstrahlquelle
15
,
15
'Ablenkmusterkombination
Claims (14)
1. Verfahren zum Vorwärmen von Werkstücken bei der Vakuumbe
schichtung, bei dem das Werkstück in das Vakuum eingebracht
und anschließend mittels Elektronenstrahlen auf Beschichtungs
temperatur vorgewärmt wird, dadurch gekenn
zeichnet,
- 1. daß an dem Werkstück (1) Teilstücke (2-4) ermittelt wer den, die der Bedingung genügen, daß ihr Oberflächen-/Mas severhältnis, welches das Verhältnis einer angenommenen geschlossenen Oberfläche des Teilstückes (2-4) zu der von dieser Oberfläche eingeschlossenen Masse bezeichnet, zu dem Oberflächen-/Masseverhältnis zumindest eines benach barten Teilstückes (2-4) verschieden ist,
- 2. daß mindestens ein Elektronenstrahl (5) über je ein einem Teilstück (2-4) entsprechenden Ablenkmuster (11-13; 11'-13') derart abgelenkt wird, daß in der Höhe des Teilstüc kes (2-4) eine Bestrahlungsfläche erzeugt wird, die der Projektion des Teilstückes (2-4) auf eine gedachte Projek tionsfläche (9), die senkrecht zur mittleren Strahlrich tung (10) des Elektronenstrahles (5) liegt, annähernd ent spricht und das Teilstück (2-4) mit dem derart abgelenkten Elektronenstrahl (5) über eine Bestrahlungszeit hinweg bestrahlt wird und
- 3. daß mit der Bestrahlungszeit und der Leistungsverteilung ein Energieeintrag in das Teilstück (2-4) gewählt wird, der zu keiner irreversiblen Strukturveränderung führt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß zu unterschiedlichen Positionen des Werk
stückes (1) je eine Ablenkmusterkombination (15; 15'), beste
hend aus den den Teilstücken (2-4) entsprechenden Ablenkmu
stern (11-13; 11'-13'), für die nachfolgende Bearbeitung ande
rer gleichförmiger Werkstücke (1) in jeweils derselben Posi
tion gespeichert wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Werkstück (1) relativ zu dem
Elektronenstrahl (5) bewegt wird und daß zu mehreren Werk
stückstellungen jeweils zugehörige Ablenkmusterkombinationen
(15; 15') gespeichert werden, wobei der zumindest eine Elek
tronenstrahl (5) eine Ablenkung entsprechend der Werkstück
stellung aus diesen Ablenkmusterkombinationen (15; 15') er
fährt.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Werkstück (1) axial, koaxial oder
radial zur mittleren Elektronenstrahlrichtung (10) rotiert.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß der Energieeintrag entspre
chend einem vorgegebenen Temperaturgang des Werkstückes (1)
geändert wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß ein Elektronenstrahl (5)
eingesetzt wird, der zeitlich nacheinander über die einzelnen
Ablenkmuster (11-13; 11'-13') abgelenkt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Elektronenstrahl (5) nacheinander
über Ablenkmuster (11-13; 11'-13') benachbarter Teilstücke
abgelenkt wird.
8. Verfahren nach den Ansprüchen 5 bis 7, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Bestrahlungszeiten von einem
Teilstück (2-4) zu einem benachbarten geändert werden.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch
gekennzeichnet, daß die Bestrahlung der einzelnen
Teilstücken (2-4) zeitlich nacheinander mehrfach wiederholt
wird, bis die Solltemperatur erreicht ist.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß nicht zu beschichtende Ober
flächenteile des Werkstückes (1) mittels einer Abdeckung abge
deckt werden, wobei die Abdeckung den Energieeintrag erfährt
und das darunterliegende Werkstückteil mittels Strahlungshei
zung durch die Abdeckung erwärmt wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch
gekennzeichnet, daß mehrere Werkstücke (1) neben
einander angeordnet sind und ein Elektronenstrahl (5) zeitlich
nacheinander mit Ablenkmustern (11-13; 11'-13') einander be
nachbarter Teilstücke (2-4) des einen und/oder des anderen
Werkstückes (1) abgelenkt wird.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekenn
zeichnet, daß für einander benachbarte Teilstücke (2-
4), die zu verschiedenen Werkstücken (1) gehören, ein gemein
sames Ablenkmuster vorgesehen ist.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch
gekennzeichnet, daß der Aufheizvorgang unter
höherem Druck mittels Zusatzgas stattfindet.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch
gekennzeichnet, daß die Bestrahlung des Werk
stückes (1) nach einer erfolgten Beschichtung zum Zwecke einer
gleichmäßigen Abkühlung eingesetzt wird, wobei die Teilstücke
(2-4) mit dem kleineren Oberflächen-/Masseverhältnis eine
geringere Nachwärmung erfahren als die Teile mit dem größeren
Oberflächen-/Masseverhältnis.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19703338A DE19703338C2 (de) | 1996-12-27 | 1997-01-30 | Verfahren zur Vorwärmung von Werkstücken bei der Vakuumbeschichtung |
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DE19703338C2 true DE19703338C2 (de) | 1998-11-12 |
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ID=7816242
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DE19703338A Expired - Fee Related DE19703338C2 (de) | 1996-12-27 | 1997-01-30 | Verfahren zur Vorwärmung von Werkstücken bei der Vakuumbeschichtung |
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- 1997-01-30 DE DE19703338A patent/DE19703338C2/de not_active Expired - Fee Related
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