DE19650680B4 - Elektronenmikroskop mit Positronenzusatz - Google Patents

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Abstract

Elektronenmikroskop mit einer Elektronenquelle (25, 26, 27), einer Positronenquelle (2, 3, 4) und einem Magnetprisma (20) zur Überlagerung eines von der Elektronenquelle ausgehenden Elektronenstrahls und eines von der Positronenquelle ausgehenden Positronenstrahl miteinander, sowie einer mindestens eine Magnetlinse aufweisenden Abbildungsoptik (31, 32, 34) und mit mindestens einem Doppelablenksystem (30) zur Strahljustierung vor Eintritt des Positronen- oder Elektronenstrahls in die Abbildungsoptik (31, 32, 34), dadurch gekennzeichnet, dass verbleibende mechanische Justierfehler der Positronenquelle (2, 3, 4) und der Elektronenquelle (25, 26, 27) zueinander dadurch korrigiert sind, dass das Doppelablenksystem (30) bei Positronenbetrieb und bei Elektronenbetrieb unterschiedlich und so erregt wird, dass der Elektronenstrahl und der Positronenstrahl vor Eintritt in die Abbildungsoptik (31, 32, 34) identisch verlaufen.

Description

  • Aus der EP 0 205 092 B1 ist ein Positronen-Elektronenmikroskop bekannt, bei dem mittels eines Ablenkmagneten der von einer Positronenquelle emittierte Positronenstrahl und der von einer Elektronenquelle emittierte Elektronenstrahl einander überlagert werden. Nach der Überlagerung erfolgt die Einkopplung in den Strahlengang des Elektronenmikroskops mit magnetischen Kondensor- und Objektivlinsen. Sämtliche nachgesehalteten Abbildungselemente sollen bei Elektronen- und bei Positronenbetrieb identisch erregt sein. Das für Positronen und Elektronen unterschiedliche Ablenkverhalten in den Magnetlinsen soll erst durch das dem Objektiv nachgeschaltete Ablenksystem korrigiert werden, indem bei Positronenbetrieb das Ablenksystem invertiert zum Elektronenbetrieb angesteuert wird.
  • Bei einer eventuellen Fehljustierung zwischen der Positronenquelle und der Elektronenquelle, d.h. wenn die Quellenbilder beider Quellen vor dem Eintritt in den Kondensor nicht exakt übereinanderliegen, trifft bei diesem System der Positronenstrahl nicht auf das zuvor elektronenmikroskopisch ausgewählte Objektdetail. Die Rekombinationsuntersuchung mittels des Positronenstrahls erfolgt dann an einem falschen Ort. Das System erfordert daher eine sehr kritische mechanische Justierung von Elektronenquelle und Positronenquelle zueinander, die in der praktischen Anwendung einen erheblichen Aufwand bedeutet.
  • In einer Figur zu einer Ausführungsform sind zusätzliche Spulen im Strahlverlauf zwischen dem Ablenkmagneten und der Kondensorlinse dargestellt, wobei jedoch keinerlei Angaben zu der Funktion oder der Ansteuerung dieser zusätzlichen Spulen enthalten sind.
  • Ziel der vorliegenden Erfindung ist ein kombiniertes Positronen-Elektronenmikroskop, also ein Elektronenmikroskop mit einem Positronenzusatz, bei dem die mechanische Justierung von Elektronenquelle und Positronenquelle relativ zueinander weniger kritisch ist. Dieses Ziel wird erfindungsgemäß durch ein Positronen-Elektronenmikroskop mit den Merkmalen des Anspruches 1 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Merkmalen der abhängigen Ansprüche.
  • Das erfindungsgemäße Positronen-Elektronenmikroskop weist demnach eine Elektronenquelle, eine Positronenquelle und ein Magnetprisma zur (einander) Überlagerung eines von der Elektronenquelle ausgehenden Elektronenstrahls und eines von der Positronenquelle ausgehenden Positronenstrahls auf. Weiterhin weist das Mikroskop eine elektronenoptische Abbildungsoptik mit ein oder mehreren Magnetlinsen zur Fokussierung des Elektronenstrahles und/oder des Positronenstrahles auf. Die Magnetlinse oder die Magnetlinsen zur Fokussierung des Strahles auf die Probe sind dabei bei Positronenbetrieb und bei Elektronenbetrieb identisch erregt. Zusätzlich weist das erfindungsgemäße Positronen-Elektronenmikroskop mindestens ein Ablenksystem zur Strahljustierung vor Eintritt des Positronen- oder Elektronenstrahls in die fokussierende Abbildungsoptik auf, wobei bei Positronenbetrieb und bei Elektronenbetrieb dieses Ablenksystem unterschiedlich erregt ist. Das Ablenksystem kann dabei durch Luftspulen realisiert sein, die in Strahlrichtung hinter dem Magnetprisma angeordnet sind.
  • Beim erfindungsgemäßen System wird demzufolge dem unterschiedlichen Abbildungsverhalten von Positronen und Elektronen in der fokussierenden Abbildungsoptik bereits vor Eintritt in diese Abbildungsoptik Rechnung getragen. Eventuell verbleibende Fehler nach der mechanischen und der elektronen- bzw. positronenoptischen Justierung durch das Ablenksystem werden dadurch entsprechend dem Verkleinerungsverhältnis der fokussierenden Abbildungsoptik entsprechend verkleinert. Für diese elektronen- bzw. positronenoptischen Strahljustierung vor Eintritt in die fokussierende Abbildungsoptik können beispielsweise die bei den meisten Rasterelektronenmikroskopen ohnehin vorhandenen Justierspulen (Alignment Coils oder Ablenksystem) ausgenutzt werden. Für die Implementierung der Erfindung ist es deshalb nur erforderlich, entsprechende unterschiedliche Datensätze für die Erregung der Justierspulen bei Elektronenbetrieb und bei Positronenbetrieb abzuspeichern.
  • Soweit die fokussierende Abbildungsoptik zwei- oder mehrstufig ausgelegt ist, ist es weiterhin vorteilhaft, auch die Erregung der üblicherweise zwischen den Abbildungsstufen vorhandenen Stigmatorspulen bei Positronen- und Elektronenbetrieb jeweils unterschiedlich zu erregen. Allerdings ist darauf zu achten, daß ausschließlich die Erregung eisenfreier Elemente, d.h. die Erregung von Luftspulen oder elektrostatischen Elementen, geändert wird, damit Probleme aufgrund der bei eisenhaltigen Elementen zwangsweise vorhandenen Remanenz ausgeschlossen werden.
  • Vorzugsweise sind sowohl auf der Seite der Elektronenquelle als auch auf der Seite der Positronenquelle vor dem jeweiligen Eintritt in das Magnetprisma jeweils eine weitere Magnetlinse vorgesehen, durch die der Positronenstrahl und der Elektronenstrahl in die Bildebene des Magnetprismas fokussiert werden. Zur weiteren Justierung der Strahlengänge sollten desweiteren auf der Seite der Positronenquelle und der Elektronenquelle je ein weiteres Doppelablenksystem unmittelbar hinter der jeweiligen Quelle vorgesehen sein. Zur Feinabstimmung zwischen dem Strahlverlauf des Positronenstrahls und dem des Elektronenstrahls sollte ein weiteres einfaches Ablenksystem unmittelbar vor Eintritt eines der Strahlengänge in das Magnetprisma, vorzugsweise auf der Seite der Positronenquelle, vorgesehen sein.
  • Soweit das erfindungsgemäße Positronen-Elektronenmikroskop als Rastergerät ausgebildet ist und demzufolge eine Ablenkeinrichtung zum Abrastern der Probe aufweist, sollte diese Ablenkeinrichtung bei Positronenbetrieb stets so erregt sein, daß der Positronenstrahl stets auf einen fest vorgegebenen Ort, vorzugsweise auf der optischen Achse der Abbildungsoptik, fokussiert ist. Diese Maßnahme erfordert zwar, daß das mittels Positronenbestrahlung näher zu untersuchende Objektdetail zuvor in eine Position gebracht werden muß, in der der Positronenstrahl auf dieses Objektdetail fokussiert ist. Bei einem motorischen Probenhalter mit einer entsprechenden Motorsteuerung stellt dieses jedoch keinen großen Nachteil dar, wenn die Motorsteuerung beim Umschalten vom Elektronenbetrieb auf Positronenbetrieb automatisch die erforderliche Verschiebung der Probe bewirkt. Hierzu braucht beispielsweise nur das interessierende Objektdetail im Elektronenbild auf einem Monitor markiert zu werden und beim Umschalten auf Positronenbetrieb erfolgt dann automatisch die Bewegung der Probe entsprechend der Koordinaten des markierten Objektdetails und der bekannten Position des Positronenfokus.
  • Bei einem weiterhin vorteilhaften Ausführungsbeispiel weist der Positronenfokus in der Probenebene einen Fokusdurchmesser entsprechend der Dimension des Elektronenfokus beim Elektronenbetrieb auf, der vorzugsweise 1 μm oder weniger beträgt. Eine Positronenquelle, die entsprechend gut fokussierbar ist, und gleichzeitig eine hinreichend hohe Strahlintensität aufweist, kann durch einen Positronenemitter mit einem nachgeschalteten Reflexionsmoderator aufgebaut sein. Ein solcher Reflexionsmoderator kann aus einem Blech aus einem Material mit negativer Austrittsarbeit für Positronen mit einem kleinen Loch durch das Blech bestehen, wobei der Lochdurchmesser unter 0,4 mm, vorzugsweise sogar unter 0,2 mm beträgt. Dieser Lochdurchmesser stellt dann die effektive Querschnittsfläche der Positronenquelle dar. Für eine optimale Positionierung des Positronenemitters hinter dem Loch des Reflexionsmoderators ist der Positronenemitter weiterhin vorzugsweise auf einer Justiereinrichtung aufgenommen, mittels der der Positronenemitter in drei zueinander senkrechten Raumrichtungen relativ zum Reflexionsmoderator justierbar ist.
  • Das Magnetprisma zur Überlagerung von Elektronenstrahl und Positronenstrahl hat abbildende Eigenschaften, d.h. es bildet mindestens drei Quellebenen ineinander ab.
  • Nachfolgend werden Einzelheiten der Erfindung anhand des in den Figuren dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert. Im einzelnen zeigen:
  • 1a die Prinzipsskizze eines erfindungsgemäßen Positronen-Elektronenmikroskops im Schnitt;
  • 1b den Strahlverlauf innerhalb des Magnetprismas bei einem Rasterelektronenmikroskop gemäß 1a;
  • 2a eine vergrößerte Darstellung eines vorteilhaften Ausführungsbeispiels für eine Positronenquelle;
  • 2b eine weiterhin vergrößerte Darstellung der Positronenquelle aus 2a; und
  • 3 die Darstellung eines Monitorbildes zur Erläuterung der Repositionierung beim Umschalten vom Elektronenbetrieb zum Positronenbetrieb.
  • Der Aufbau einer Positronenquelle wird zunächst anhand der 2a und 2b erläutert. Die Positronenquelle besteht aus einem Träger (1), auf den durch Aufdampfen durch eine kleine Blendenöffnung radioaktives Material (2) als Positronenemitter aufgebracht ist. Das radioaktive Material (2) ist ein e+-Strahler, beispielsweise 22Na. Es handelt sich dabei um ein hochreines, trägerfreies Nuklid mit einer spezifischen e+-Aktivität von ca. 1014 Bq pro Gramm.
  • Weiterhin umfaßt die Quelle einen Reflexionsmoderator (3), der aus einem Wolframblech mit einem kleinen zylindrischen oder konischen Loch (4) ausgebildet ist. Das Loch (4) weist dabei auf der dem radioaktiven Material (2) zugewandten Seite einen Durchmesser von weniger als 0,4 mm, vorzugsweise 0,2 mm auf. Löcher mit derart kleinen Durchmessern sind durch konventionelles Bohren erreichbar. Ein Loch (4) mit einer konischen Ausbildung, dessen Durchmesser in Richtung auf den Positronenemitter abnimmt, ist bevorzugt, damit ein elektrostatisches Absaugfeld besser in das Loch eindringen kann.
  • Für eine feine Positionierung des radioaktiven Materials (2) relativ zu dem Loch (4) des Moderators (3) sind, wie in der
  • 2a dargestellt, zwei Justiereinrichtungen vorgesehen. Der Träger (1) für das radioaktive Material (2) ist dafür auf einer üblichen Spiegelhalterung (5) aufgenommen, und die Spiegelhalterung (5) mittels einer Linearführung (7) relativ zu einem gerätefesten Träger (8) justierbar. Die Linearführung (7) kann einfach als eine mit einem Innengewinde im gerätefesten Rahmen (8) kämmende Gewindespindel ausgebildet sein. Durch Drehen dieser Gewindespindel (7) erfolgt eine Linearverschiebung des Spiegelhalters (5) in Achsrichtung der Gewindespindel. Die Gewindespindel (7) wiederum ist drehbar in der Trägerplatte (5b) der Spiegelhalterung (5) gelagert. Mittels zweier Stellschrauben, von denen in der 2a nur eine Stellschraube 6 dargestellt ist, ist die zweite Platte (5a) der Spiegelhalterung (5), an der der Träger (1) mit dem radioaktiven Material (2) aufgenommen ist, in zwei zur Achse der Gewindespindel (7) senkrechten Richtungen justierbar. In analoger Weise ist der Moderator (3) ebenfalls in drei zueinander senkrechten Raumrichtungen fein justierbar am Geräterahmen (8) aufgenommen. Der Reflexionsmoderator (3) ist dazu über einen Träger (9) an einer zweiten Spiegelhalterung (10) und diese zweite Spiegelhalterung (10) über eine Gewindespindel (11) aufgenommen. Durch Drehen der Gewindespindel (11) erfolgt eine Linearverschiebung der Spiegelhalterung (10) parallel zur Achse der zweiten Gewindespindel (11) und durch Verstellen der beiden Stellschrauben des Spiegelhalters (10), von denen in der 2a wiederum nur eine einzige Stellschraube (12) dargestellt ist, erfolgt eine Justierung des Reflexionsmoderators (3) in den beiden zur Achse der Gewindespindel (11) senkrechten Raumrichtungen.
  • In der 1a ist ein erfindungsgemäßes Rasterelektronenmikroskop mit einer Positronenquelle gemäß der 2a und 2b dargestellt. Nach Austritt aus dem Moderator (3) der Positronenquelle werden die Positronen mittels einer Absaugelektrode (21), die gegenüber dem Moderator auf einem negativen Potential liegt, abgesaugt und mittels einer Beschleunigungselektrode (22) auf die gewünschte Sollenergie beschleunigt. Der Positronenemitter (2) und der Moderator liegen dabei auf positiver Hochspannung. Mittels eines durch Luftspulen realisierten Doppelablenksystems (23), einer nachfolgenden Kondensorlinse (43), einem weiteren einfachen Ablenkaystem (48) und einem, dem weiteren Ablenksystem (48) nachfolgenden Magnetprisma (20) wird der Positronenstrahl um 90° abgelenkt und gleichzeitig in die Eingangsquellebene (24) der nachfolgenden Abbildungsoptik abgebildet. Das Ablenksystem (48) dient dabei zur Feinjustierung des Positronenstrahls, während das Doppelablenksystem (23) zur Grobjustierung des Positronenstrahls dient.
  • Für die übliche Elektronenmikroskopie ist außerdem eine Elektronenquelle in Form einer Glühkathode (25) mit Wehneltelektrode (26) und Beschleunigungselektrode (27) auf der der Positronenquelle gegenüberliegenden Seite des Prismas (20) angeordnet. Anstelle einer Glühkathode (25) kann auch eine LaB6-Kathode, eine thermische Feldemissionsquelle oder eine sonstige, "kalte" Feldemissionsquelle vorgesehen sein. Der aus der Kathode (25) emittierte Elektronenstrahl wird mittels eines weiteren Doppelablenksystems (28), einer diesem Doppelablenksystem (28) nachgeschalteten weiteren Kondensorlinse (29) und des Magnetprismas (20) ebenfalls in die Eingangsquellebene (24) abgebildet.
  • Die Strahlführung sowohl des Positronenstrahls als auch des Elektronenstrahls im Bereich des Prismas (20) ist in der 1b dargestellt. Sowohl die elektronenseitige Kondensorlinse (29) als auch die positronenseitige Kondensorlinse (43) sind so erregt, daß der Crossover der Elektronenquelle in die eine Eingangsquellebene (46) und der Crossover der Positronenquelle in die andere Eingangsquellebene (45) des Magnetprismas (20) abgebildet wird. Das Magnetprisma (20) bildet dann beide Eingangsquellebenen (45, 46) in dieselbe Aungangsquellebene mit einem Abbildungsmaßstab von ca. 0,5 ab, die mit der Eingangsquellebene (24) des nachfolgenden elektronenoptischen Abbildungssystems zusammenfällt. Für diesen Fall ist es vorteilhaft, daß in der Nähe der positronenseitigen Eingangsquellebene (45) des Magnetprismas (20) das weitere einfache Ablenksystem (48) für die Justierung des Positronenstrahls vorgesehen ist.
  • Alternativ können die elektronenseitige und die positronenseitige Kondensorlinsen (29, 43) auch beide so erregt sein, daß der Crossover der Positronenquelle in die eine Bildebene (44a) des Magnetprismas (20) und der Crossover der Elektronenquelle in die andere Bildebene (44b) des Magnetprismas (20) abgebildet wird. In diesem Fall muß die Eingangsquellebene (24) des nachgeschalteten Abbildungssystems mit den beiden Bildebenen (44a, 44b) des Magnetprismas (20) zusammenfallen.
  • In beiden Fällen hat das Magnetprisma (20) abbildende Eigenschaften, d.h. das Magnetprisma bildet drei Quellebenen (45, 46, 24) aufeinander ab; ein entsprechendes Magnetprisma ist beispielsweise vom Elektronenmikroskop EM 902 der Firma Carl Zeiss, Germany, bekannt und braucht deshalb an dieser Stelle nicht detaillierter beschrieben zu werden.
  • Die nachfolgende, für Positronen und für Elektronen gleichermaßen genutzte Abbildungsoptik (1a) hat einen konventionellen Aufbau und enthält ein der Eingangsquellebene (24) nachgeschaltetes Doppelablenksystem (30) für die Strahljustierung, einen zweistufigen Kondensor mit Magnetlinsen (31, 32), austrittsseitig des Kondensors (31, 32) angeordnete Stigmatorspulen und ein Objektiv (34) zur Fokussierung des Teilchenstrahls auf ein Objekt (37) auf einem Objekthalter (38). Die Kondensorlinsen (31, 32) und die Objektivlinse (34) sind starke Magnetlinsen und weisen demzufolge Polschuhe aus magnetischem Weicheisen auf. Die Spulen des zur Justierung dienenden Doppelablenksystems (30) und die Spule (33) für den Stigmator sind dagegen als Luftspulen ausgebildet. In das Objektiv (34) integriert ist weiterhin ein Doppelablenksystem (35, 36), durch das in konventioneller Weise das Objekt (37) mittels des Elektronenstrahls abgerastert werden kann.
  • Zwischen dem Doppelablenksystem (35, 36) und dem Probenhalter (38) sind noch zwei Detektoren (39, 49) vorgesehen, von denen der eine zur Detektion von Rückstreuelektronen und der andere zur Detektion von aus der Probe (37) austretenden Sekundärelektronen dient. Weitere Detektionssysteme, wie z.B. Röntgenmikroanalysesysteme (EDX etc.) oder Kathodolumineszenz-Detektoren, können ebenfalls vorgesehen sein. Auf der optischen Achse des Elektronenmikroskops unterhalb des Probenhalters (38) ist noch ein Gammadetektor (47) zum Nachweis der durch Rekombination eines Positrons beim Positronenbetrieb mit einem Elektron der Probe (37) emittierten Gammastrahlung angeordnet.
  • Aufgrund der Verwendung einer Positronenquelle mit dem kleinen emittierenden Fleckdurchmesser von weniger als 0,4 mm und der Energieunschärfe von 0,0075 Elektronenvolt entspricht der Phasenraum der emittierten Positronen in etwa dem Phasenraum der von der Elektronenquelle (25) emittierten Elektronen gleicher Energie. Deshalb sind die Abbildungseigenschaften des Rasterelektronenmikroskops mit der beschriebenen Positronenquelle für Positronen und Elektronen nahezu identisch.
  • Wichtig für den Betrieb des Elektronenmikroskops ist weiterhin, daß der Positronenstrahl bei Positronenbetrieb und der Elektronenstrahl bei Elektronenbetrieb beide vor Eintritt in den Kondensor des Elektronenmikroskops in denselben Punkt in der Eingangsquellebene (24) abgebildet werden. Dieses erfolgt bei bereits justierter Elektronenquelle durch Justierung des Moderators (3) und des radioaktiven Elementes (2) mittels der beiden Positioniersysteme der Positronenquelle. Eventuelle Fehljustierungen zwischen Elektronenstrahl und Positronenstrahl werden dadurch je nach Einstellung des Kondensorzooms um einen Faktor von 5 mal bis 1000 mal im Zoom verkleinert.
  • Beim Umschalten zwischen Positronenbetrieb und Elektronenbetrieb werden lediglich die Erregungen der Luftspulen für die Strahljustierung (30), den Stigmator (33) und des Doppelablenksystemes (35, 36) verändert. Die Erregung der Kondensorlinsen (31, 32) und des Objektivs (34) bleibt dagegen unverändert. Die Änderung der Erregungen der Luftspulen erfolgt dabei so, daß den für Elektronen und Positronen entgegenge setzten Ablenkeigenschaften in den Magnetlinsen Rechnung getragen wird.
  • Der Untersuchungsablauf bei einem solchen kombinierten Positronen-Elektronenmikroskop erfolgt üblicherweise derart, daß zunächst das Objekt (37) mittels des Elektronenstrahls abgerastert und das Bild der Sekundärelektronen oder Rückstreuelektronen beobachtet wird. Nachfolgend werden ausgewählte Objektdetails mittels des Positronenstrahls näher untersucht. Unabhängig davon, an welcher Position innerhalb des Elektronenbildes sich das betreffende Objektdetail befindet, wird der Positronenstrahl stets auf denselben Punkt fokussiert, d.h. beim Positronenbetrieb ist das Doppelablenksystem (35, 36) stets so erregt, daß eine räumlich feststehende Positronensonde in Form des fokussierten Positronenstrahls realisiert wird. Statt den Positronenstrahl auf das interessierende Objektdetail auszurichten, wird vielmehr das interessierende Objektdetail in den Fokus des Positronenstrahls gebracht. Die Abmessungen (Durchmesser) des mittels Positronen untersuchten Bereiches des Objektes liegen, je nach Beschaffenheit des Objektes (37), zwischen 0,1 μm und 1 μm; diese je nach Objekt unterschiedlichen Bereichsgrößen ergeben sich aus den vom Objekt abhängigen Größen des Diffusionsbereiches für die Positronen, bis diese sich mit einem Elektron annullieren. Die Verschiebung der Probe kann entweder manuell oder automatisch erfolgen. Bei manueller Verschiebung wird, wie in der 3 angedeutet, die Position der Positronensonde in dem bei Elektronenbetrieb erzeugten Bild (40) durch eine Markierung (41) gekennzeichnet. Mittels des Antriebes des Probenhalters kann dann das interessierende Objektdetail (42) in die Position der Markierung (41) gebracht werden und nachfolgend auf Positronenbetrieb umgestellt werden. Letzteres geschieht dadurch, daß mittels nicht dargestellter Shutter der Elektronenstrahl zwischen der Emissionskathode (25) und dem Prisma (20) unterbrochen und ein nicht dargestellter Shutter zwischen der Positronenquelle und dem Magnetprisma (20) geöffnet wird. Bei einer automatischen Nachführung des interessierenden Objektdetails (42) ist die Position der Positronensonde relativ zum dargestellten Bild abgespeichert und das interessierende Objektdetail (42) braucht lediglich im Bild, beispielsweise mit einem Cursor, markiert zu werden. Die Antriebssteuerung des Probenhalters (8) verfährt dann den Probenhalter (38) derart, daß das markierte Objektdetail (42) in die abgespeicherte Position der Positronensonde (41) gebracht wird.
  • Bei dem anhand der Figuren beschriebenen Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Elektronen-Positronenmikroskops ist das Magnetprisma (20) als "dreiseitiges" Prisma realisiert. Selbstverständlich können stattdessen auch andere Magnetprismen eingesetzt werden, die gleichzeitig die Bedingung der Strahlzusammenführung und Fokussierung erfüllen, beispielsweise in Form eines vierseitigen Prismas, das vier Quellebenen ineinander abbildet; die der Austrittsseite gegenüberliegende Prismenseite bleibt dann ungenutzt. Außerdem können zur Reduzierung von Abbildungsfehlern bei der Crossover-Übertragung durch das Magnetprisma auch die Ein- und Austrittskanten des Magnetprismas durch Polschuhe mit gekrümmten Rändern gekrümmt sein.

Claims (11)

  1. Elektronenmikroskop mit einer Elektronenquelle (25, 26, 27), einer Positronenquelle (2, 3, 4) und einem Magnetprisma (20) zur Überlagerung eines von der Elektronenquelle ausgehenden Elektronenstrahls und eines von der Positronenquelle ausgehenden Positronenstrahl miteinander, sowie einer mindestens eine Magnetlinse aufweisenden Abbildungsoptik (31, 32, 34) und mit mindestens einem Doppelablenksystem (30) zur Strahljustierung vor Eintritt des Positronen- oder Elektronenstrahls in die Abbildungsoptik (31, 32, 34), dadurch gekennzeichnet, dass verbleibende mechanische Justierfehler der Positronenquelle (2, 3, 4) und der Elektronenquelle (25, 26, 27) zueinander dadurch korrigiert sind, dass das Doppelablenksystem (30) bei Positronenbetrieb und bei Elektronenbetrieb unterschiedlich und so erregt wird, dass der Elektronenstrahl und der Positronenstrahl vor Eintritt in die Abbildungsoptik (31, 32, 34) identisch verlaufen.
  2. Elektronenmikroskop nach Anspruch 1, wobei bei Umschaltung zwischen Positronenbetrieb und Elektronenbetrieb ausschließlich die Erregung eisenfreier Elemente (30, 33, 35, 36) geändert wird.
  3. Elektronenmikroskop nach Anspruch 1 oder 2, wobei unmittelbar hinter der Elektronenquelle (25) und unmittelbar hinter der Positronenquelle (2, 3, 4) jeweils ein Doppelablenksystem (23, 28) und nachfolgend jeweils eine Magnetlinse (29, 43) zum Fokussieren des Positronenstrahls und des Elektronenstrahls auf die Bildebene des Magnetprismas (20) vorgesehen sind und wobei mindestens entweder im Positronenstrahl oder im Elektronenstrahl, vorzugsweise im Positronenstrahl, dem Magnetprisma (20) ein weiteres Ablenksystem (48) vorgeschaltet ist.
  4. Elektronenmikroskop nach einem der Ansprüche 1-3, wobei für die unterschiedlichen Erregungen unterschiedliche Datensätze im Speicher eines Steuerungsrechners abgespeichert sind.
  5. Elektronenmikroskop nach einem der Ansprüche 1-4, wobei bei Positronenbetrieb ein zum Abrastern einer Probe dienendes Ablenksystem (35, 36) derart angeregt ist, daß der Positronenstrahl stets auf denselben Ort fokussiert ist.
  6. Elektronenmikroskop nach einem der Ansprüche 1-5, wobei eine Motorsteuerung für die Bewegung eines Probenhalters (38) vorgesehen ist und die Motorsteuerung beim Umschalten von Elektronenbetrieb auf Positronenbetrieb eine Verschiebung der Probe (37) bewirkt.
  7. Elektronenmikroskop nach einem der Ansprüche 1-6, wobei der Positronenstrahl auf die Probe (37) mit einem Fokusdurchmesser von 1 μm oder kleiner fokussierbar ist.
  8. Elektronenmikroskop nach einem der Ansprüche 1-7, wobei die Positronenquelle einen Reflexionsmoderator (3, 4) aufweist.
  9. Elektronenmikroskop nach Anspruch 8, wobei die Positronenquelle einen effektiven Querschnittsflächen durchmesser von unter 0,4 mm, vorzugsweise unter 0,2 mm aufweist.
  10. Elektronenmikroskop nach einem der Ansprüche 7-9, wobei der Positronenemitter (2) der Positronenquelle auf einer Justiereinrichtung (5, 6, 7, 8) aufgenommen ist.
  11. Elektronenmikroskop nach einem der Ansprüche 1-10, wobei das Magnetprisma (20) abbildende Eigenschaften aufweist und mindestens drei Quellebenen (45, 46, 24) ineinander abbildet.
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