DE1964817A1 - Electrophotographic light-sensitive plate - contg glassy slenium layer - Google Patents
Electrophotographic light-sensitive plate - contg glassy slenium layerInfo
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Abstract
Description
Elektrophotographische lichtempfindliche Platte Die Erfindung bezieht sich auf eine elektrophotographische lichtempfindliche Platte, und insbesondere betrifft die Erfindung eine wiederholt verwendbare lichtempfindliche Platte. Electrophotographic Photosensitive Plate The invention relates to on an electrophotographic photosensitive plate, and in particular the invention relates to a reusable photosensitive plate.
Im spezielleren bezieht sich die Erfindung auf eine elektrophotographische lichtempfindliche Platte, die biegsam und farbigtransparent ist.More particularly, the invention relates to an electrophotographic light-sensitive plate that is flexible and color-transparent.
Auf dem Gebiet der Elektrophotographie war es bisher üblich ein elektrostatisches latentes Bild auf einem elektrisch leitenden Körper zu bilden, der eine photoleitfahige isolierende Schicht trägt. Dieses Ziel wurde erreicht, indem ein Metallkörper mit einer Schicht aus glasigem Selen oder ein Papierblatt mit einer Schicht aus einer farbsensibilisierten Dispersion aus Zinkoxyd und Bindemittel benutzt wurde: Der Metallkörper mit einer darauf befindlichen sehr dicken Schicht aus glasigem Selen ist wiederholt verwendbar, ist aber nicht nachgiebig. Je dünner die Schicht aus glasigem Selen ist, desto nachgiebiger ist sie, aber auch desto geringer ist ihre Licht empfindlichkeit. Das Papierblatt ist nachgiebig, ist aber kaum mehr als tausendmal wiederzuverwenden, was auf den Ermüdungseffekt von Zinkoxyd und den chemischen Abbau des Farbsensibilisators durch helles Licht zurückzuführen ist (vgl.In the field of electrophotography, it has hitherto been an electrostatic one to form latent image on an electrically conductive body, which is a photoconductive insulating layer. This goal was achieved by using a metal body a layer of glassy selenium or a sheet of paper with a layer of a color-sensitized dispersion of zinc oxide and binder was used: The Metal body with a very thick layer of vitreous selenium on top can be used repeatedly, but is not resilient. The thinner the layer out Glassy selenium, the more pliable it is, but also the less it is Light sensitivity. The sheet of paper is resilient, but is barely reused more than a thousand times, reflecting the fatigue effect of zinc oxide and due to the chemical degradation of the color sensitizer by bright light is (cf.
Journal of Photographic Science, Vol.10, Seite 57, 1962).Journal of Photographic Science, Vol.10, page 57, 1962).
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine elektrophotographische lichtempfindliche Platte zur Verfügung zu stellen, die durch eine Kombination einer Schicht aus organischem photoleitfähigem isolierendem Material und einer dünnen Schicht aus glasigem Selen gekennzeichnet ist.The present invention has for its object an electrophotographic to provide photosensitive plate made by a combination of a Layer of organic photoconductive insulating material and a thin one Layer of glassy selenium is marked.
Nach einer anderen Aufgabe der Erfindung soll eine elektrophotographische lichtempfindliche Platte geschaffen werden, die nachgiebig und wiederholt verwendbar ist.Another object of the invention is to provide an electrophotographic photosensitive plate can be created that is resilient and reusable is.
Der Erfindung liegt ferner die Aufgabe zugrunde, eine elektrophotographische lichtempfindlizhe Platte zu entwickeln, die nachgiebig, wiederholt verwendbar und lichtdurchlässig ist.The invention is also based on the object of an electrophotographic Develop a photosensitive plate that is compliant, reusable and usable is translucent.
Diese und andere Aufgaben d erfindung und deren Lösung sind aus der nachfolgenden spezielleren Beschreibung in Verbindung mit den dazugehörigen Zeichnungen ersichtlich. In den Zeichnungen ist Figur 1 eine Querschnittsansicht einer elektrophotographischen lichtempfindlichen Platte nach der Erfindung und Figur 2 eine Querschnitteansicht einer anderen Ausführungsform einer elektrophotographischen licht empfindlichen Platte nach der Erfindung.These and other tasks d invention and their solution are from the the following more specific description in conjunction with the associated drawings evident. In the drawings, Figure 1 is a cross-sectional view of an electrophotographic photosensitive plate according to the invention and Figure 2 is a cross-sectional view another embodiment of an electrophotographic photosensitive Plate according to the invention.
Das Wesentliche der Erfindung liegt in einer elektrophotographischen lichtempfindlichen Platte, die von unten nach oben eine elektrisch leitende Trägerplatte, eine glasige Selenschicht, die im wesentlichen dünner als 3 Mikron ist und eine Schicht aus einem organischen photoleitfähigen Material enthält, das in einem sichtbaren Strahlenbereich von 40 bis 750 Millimikron praktisch nicht-lichtempfindlich ist.The essence of the invention resides in an electrophotographic light-sensitive plate, which from bottom to top is an electrically conductive carrier plate, a vitreous selenium layer substantially thinner than 3 microns; and one Contains layer of an organic photoconductive material that is visible in a Radiation range from 40 to 750 millimicrons is practically non-photosensitive.
In der Figur 1 enthält eine elektrophotographische lichtempfindliche Platte nach der Erfindung von unten nach oben eine elektrisch leitende Platte 1, eine glasige Selenschicht 2 mit einer Dicke, die im wesentlichen von 0,05 bis 3 Mikron reicht, und eine Schicht 3 aus einem organischen photoleit fähigen isolierenden Material, das in einem sichtbaren Strahlenbereich von 400 bis 750 Nillimikron praktisch nicht-lichtempfindlich ist.In Figure 1 contains an electrophotographic photosensitive Plate according to the invention from bottom to top an electrically conductive plate 1, a vitreous selenium layer 2 having a thickness substantially from 0.05 to 3 Micron ranges, and a layer 3 of an organic photoconductive capable insulating Material that is useful in a visible radiation range of 400 to 750 nillimicrons is not photosensitive.
Es ist von Bedeutung, daß das organische photoleitfähige isolierende Material in einem sichtbaren Strahlenbereich von etwa 400 bis 750 Millimikron praktisch lichtempfindlich wird, wenn es mit einem zur Verfügung stehenden und geeigneten Sensibilisierungsmittel zusammentrifft. Eine solche elektrophotographische lichtempfindliche Platte nach der Erfindung hat eine höhere Lichtempfindlichkeit in einem sichtbaren Strahlenbereich von etwa 400 bis 750 Nillimikron als eine elektrophotographische lichtempfindliche Platte, die eine Schicht aus organischem photoleitfähigem isolierendem Material enthält, das durch einen wirksamen Sensibilisator sensibilisiert worden ist, und zwar mit und ohne Verwendung einer glasigen Selenschicht. Die Verwendung eines Sensibilisators in dem organischen photoleitfähigen Material beeinträchtigt die chemische Beständigkeit des entstandenen organischen photoleitfähigen isolierenden Materials bei Bestrahlung durch Licht in dem sichtbaren Strahlenbereich und verhindert, daß das erhaltene organische photoleitfähige isolierende Material wiederholt erneut benutzt werden kann.It is important that the organic photoconductive insulating Material in a visible radiation range of approximately 400 to 750 millimicrons is practical becomes photosensitive when it is available with an appropriate one Sensitizer coincides. Such an electrophotographic photosensitive Plate according to the invention has a higher photosensitivity in a visible one Radiation range from about 400 to 750 nillimicrons as an electrophotographic photosensitive plate that has a layer of organic photoconductive insulating Contains material that has been sensitized by an effective sensitizer with and without the use of a vitreous selenium layer. The usage of a sensitizer in the organic photoconductive material the chemical resistance of the resulting organic photoconductive insulating Material when exposed to light in the visible radiation range and prevents that the obtained organic photoconductive insulating material is repeated again can be used.
Als elektrisch leitende Platte 1 in der Figur 1 kann irgendeine zur Verfügung stehende und genügend leitfähige Platte, wie zum Beispiel eine etallplatte oder Papier, verwendet werden.As the electrically conductive plate 1 in Figure 1, any for Available and sufficiently conductive plate, such as a metal plate or paper.
Es ist vorteilhaft, wenn die Schicht 3 aus organischem photoleitfähigem isolierendem Material in der figur 1 etwa 1 bis 26 Mikron (beide Werte einschließlich) dick ist.It is advantageous if the layer 3 is made of organic photoconductive insulating material in figure 1 about 1 to 26 microns (both values inclusive) is thick.
Bei einer üblichen elektrophotographischen licht empfindlichen Platte, bei der nur eine glasige Selenschicht verwendet wird, die auf einen Metallträger aufgezogen ist, hat eine Schicht aus glasigem Selen, die dünner als 10 Mikron ist, ein geringeres Oberflächenpotential und ist in der Praxis nicht als elektrophotographisches lichtempfindliches Material zur Erzeugung eines befriedigenden Bildes geeignet. Im Gegensatz zu der früheren Lehre ist eine elektrophotographische lichtempfindliche Platte nach der Erfindung in befriedigender Weise in einem sichtbaren Strahlenbereich lichtempfindlich und ist fähig, latente Bilder mit hohem Potential und mit starkem Kontrast hervorzubringen.For a common electrophotographic photosensitive plate, in which only a glassy selenium layer is used, which is on a metal carrier has a layer of glassy selenium thinner than 10 microns, a lower surface potential and is in practice not considered electrophotographic photosensitive material suitable for producing a satisfactory image. In contrast to the earlier teaching, an electrophotographic is photosensitive Plate according to the invention in a satisfactory manner in a visible ray range sensitive to light and is capable of producing latent images with high potential and with strong Bringing out contrast.
Auch wenn die glasige Selenschicht dünner als 0,1 Mikron ist, kann eine elektrophotographische lichtempfindliche Platte nach der Erfindung ein sichtbares Bild von hoher Qualität hervorbringen.Even if the glassy selenium layer is thinner than 0.1 micron, it can an electrophotographic photosensitive plate according to the invention is a visible one Produce high quality image.
In dem Journal of Photographic Science, Vol.7, Seite 26 (1959), ist berichtet worden, daß eine glasige Selenschicht mit einer Dicke weniger als 2,5 Mikron auf einer klaren Glasträgerplatte dem Aussehen nach farbig-durchsichtig ist: Bei einer Dicke von etwa 0,2 Mikron oder weniger hat die Schicht eine gelbliche Farbe, bei etwa 0,4 Mikron ist die Farbe hellorange, bei etwa 0,7 Mikron ist sie schwach rot und wird in fortschreitendem Maße tiefer, wenn die Schichtdicke zunimmt, bis die Parbe bei einer Dicke von etwa 2,5 Mikron ein tiefes Rubinrot annimmt.In the Journal of Photographic Science, Vol.7, page 26 (1959) is it has been reported that a vitreous selenium layer with a thickness less than 2.5 Micron on a clear glass carrier plate is colored-transparent in appearance: At a thickness of about 0.2 microns or less, the layer has a yellowish tinge Color, at around 0.4 microns the color is light orange, at around 0.7 microns it is pale red and becomes progressively deeper as the layer thickness increases, until the parbe turns a deep ruby red at a thickness of about 2.5 microns.
Eine weitere Erhöhung der Dicke vermindert merklich die Lichtdurchlässigkeit, bis sie sehr gering wird.A further increase in thickness noticeably reduces the light transmission, until it becomes very small.
Die hier betrachtete Dicke einer glasigen Selenschicht wird nach einem Lichtinterferenzverfahren gemessen. Die Theorie und die Apparatur für d-ieses Verfahren werden in den japanischen Patentschriften 398 189 und 196 260 beschrieben. Eine Apparatur, ein sogenanntes Flikrointerferometer, das auf diesem Verfahren beruht, ist unter dem Handelsnamen yODE MI I von Olympus Optical Co., Ltd., Tokio, Japan, im Handel erhältlich. Während der Vakuumaufdampfung von Selen auf die oben erwähnte elektrisch leitende Platte wird eine transparent (liasSllatte in einer Vakuumkammer angeordnet und mit einer glasigen Selenschicht mit der gleichen Dicke wie die der glasigen Selenschicht, die über der elektrisch leitenden Platte angeordnet ist, versehen.The thickness of a vitreous selenium layer considered here is based on a Light interference method measured. The theory and apparatus for this process are described in Japanese Patent Nos. 398 189 and 196 260. One Apparatus, a so-called microinterferometer, which is based on this method, is available under the trade name yODE MI I from Olympus Optical Co., Ltd., Tokyo, Japan, available in the stores. During the vacuum deposition of selenium on the above mentioned Electrically conductive plate becomes a transparent (liasSlatte in a Vacuum chamber arranged and covered with a vitreous selenium layer of the same thickness as that of the vitreous selenium layer, which is arranged over the electrically conductive plate, Mistake.
Die Dicke der glasigen Selenschicht auf der transparenten Glasplatte wird mit Hilfe der genannten Apparatur gemessen und wird als Dicke einer glasigen Selenschicht genommen, die als Schicht auf die elektrisch leitende Platte aufgetragen ist.The thickness of the vitreous selenium layer on the transparent glass plate is measured with the aid of the apparatus mentioned and is considered to be a glassy thickness Selenium layer taken, which is applied as a layer to the electrically conductive plate is.
Die so erhaltene Dicke steht in einem guten Einklang mit den Angaben in der Veröffentlichung im Journal of Photographic Science, Vol. 7, Seite 26 (1959).The thickness thus obtained is in good agreement with the information published in the Journal of Photographic Science, Vol. 7, page 26 (1959).
Die hier angeführte Dicke der organischen photoleitfähigen isolierenden Schicht wird unter Benutzung eines üblichen mechanischen Dickenmeßgeräts, wie zum Beispiel eines Schraubenmikrometers und eines Pedermikrometers, gemessen.The thickness of the organic photoconductive insulating material listed here Layer is measured using a conventional mechanical thickness gauge such as the Example of a screw micrometer and a pedermicrometer measured.
Es ist ebenfalls bekannt gewesen, daß eine glasartige Selen schicht eine natürliche Photo leitfähigkeit in dem sichtbaren Strahlenbereich hat, der lichtempfindliche Bereich Jedoch leicht durch Änderung der Dicke und der Temperatur des Trägers während des Aufdampfens und der Art der eingearbeiteten Zusätze, wie zum Beispiel Tellur und Arsen, variiert werden kann.It has also been known that a vitreous selenium layer has a natural photoconductivity in the visible radiation range, the light-sensitive However, easily by changing the thickness and temperature of the wearer during the range of vapor deposition and the type of additives incorporated, such as tellurium and arsenic, can be varied.
Die elektrophotographische lichtempfindliche Platte nach der Erfindung besitzt eine spektrale Empfindlichkeitsverteilung, die am meisten der spektralen Empfindlichkeitsverteilung der glasigen Selenschicht ähnlich ist.The electrophotographic photosensitive plate of the invention has a spectral sensitivity distribution that is most of the spectral Sensitivity distribution of the vitreous selenium layer is similar.
Bei der elektrophotographischen lichtempfindlichen Platte nach der Erfindung führt eine Verwendung einer glasigen Selen schicht dicker als 3 Mikron zu einem reproduzierten Bild, das nicht vollständig befriedigend ist. Außerdem ist eine glasige Selenschicht dicker als 3 Mikron spröde und schwer zu einer biegsamen elektrophotographischen licht empfindlichen Platte auszubilden. Eine Kombination von einer glasigen Selenschicht mit einer Dicke von 3 Mikron oder weniger und einer nachgiebigen organischen photoleitfähigen isolierenden Schicht macht es möglich, eine nachgiebige elektrophotographische lichteumpeindliche Platte nach der Erfindung herzustellen, wenn diese kombinierten Schichten auf eine nachgiebige leitfähige Platte, wie zum Beispiel auf eine Aluminiumfolie und einen metallisierten Polymerisatfilm, aufgebracht werden.In the electrophotographic photosensitive plate according to Invention leads to the use of a glassy selenium layer thicker than 3 microns to a reproduced image that is not entirely satisfactory. Also is a glassy selenium layer thicker than 3 microns is brittle and difficult to bend to form electrophotographic photosensitive plate. A combination of a vitreous selenium layer 3 microns or less thick and one compliant organic photoconductive insulating layer makes it possible a compliant electrophotographic light pump indigenous plate to produce according to the invention, when these combined layers on a flexible conductive plate, such as on an aluminum foil and a metallized Polymer film, are applied.
Eine farbig-durchsichtige elektrophotographische lichtempfindliche Platte kann durch Verwendung einer Kombination von einer glasigen Selenschicht dünner als 1 Mikron und einer praktisch transparenten Schicht aus organischem photoleitfähigem isolierendem Material, das in dem sichtbaren Strahlenbereich praktisch nicht-lichtempfindlich ist, nach der Erfindung erhalten werden, wenn die Kombination auf eine praktisch transparente leitfähige Platte aufgebracht wird.A color-transparent electrophotographic photosensitive Plate can be thinner by using a combination of a glassy selenium layer than 1 micron and a practically transparent layer of organic photoconductive insulating material that is practically non-photosensitive in the visible radiation range is to be obtained according to the invention when the combination is practical transparent conductive plate is applied.
In der Figur 2 bezeichnet die Ziffer 4 eine praktisch transparente leitfähige Schicht, die auf einem transparenten isolierenden Träger 5, wie ztun Beispiel einem Film aus Celluloseacetats Polystyrol, P::lyäthyl erzund Polyäthylenterephthalat, liegt. Eine glasige Sele@@@@ 2 geich der von Figur 1 wira zwischen der praktisch transparenten leitfähigen Schicht 4 und einer praktisch transparenten Schicht 6 aus einem organischen photoleitfähigen isolierenden Material angeordnet. Die praktisch transparente leitfähige Schicht 4 kann durch Verwendung einer dünnen Schicht aus leitfähigem Material, wie zum Beispiel Gold, Silber, Nickel, Chrom, Titan und Zinn, erhalten werden.In FIG. 2, the number 4 denotes a practically transparent one conductive layer on a transparent insulating support 5, such as ztun Example of a film made of cellulose acetate polystyrene, P :: ethyl ore and polyethylene terephthalate, lies. A glassy Sele @@@@ 2 similar to that of Figure 1 is between the practical transparent conductive layer 4 and a practically transparent layer 6 made of an organic photoconductive insulating material. The practical transparent conductive layer 4 can be made by using a thin layer conductive material, such as gold, silver, nickel, chromium, titanium and tin, can be obtained.
Es ist möglich, irgendein organisches photoleitfähiges isolierendes Material zu verwenden, das in dem sichtbaren Strahlenbereich praktisch nicht-lichtempfindlich ist. Zum Beispiel können die folgenden Substanzen verwendet werden: Po lyac enaphthyl en Poly-N-vinylcarbazol 1,3-Dibrom-poly-N-vinylcarbazol Poly-9-(4-pentenyl)-carbazol Poly-9- ( 5-hexyl )-carbazol 3-Aminocarbazol in Phenolharz.It is possible to use any organic photoconductive insulating Use material that is practically non-photosensitive in the visible radiation range is. For example, the following substances can be used: Polyac enaphthyl en Poly-N-vinylcarbazole 1,3-dibromo-poly-N-vinylcarbazole Poly-9- (4-pentenyl) -carbazole Poly-9- (5-hexyl) -carbazole 3-aminocarbazole in phenolic resin.
Es ist bekannt, daß diese Substanzen praktisch transparent sind und daß sie für brauchbare elektrophotographische lichtempfindliche Platten geeignet sind, wenn sie mit wenigstens einem wirksamen Sensibilisator, wie zum Beispiel Lewis-Säuren und Farbstoffen, homogen vereinigt werden.It is known that these substances are practically transparent and that they are suitable for useful electrophotographic photosensitive plates when combined with at least one effective sensitizer, such as Lewis acids and dyes, are combined homogeneously.
Gemäß der Erfindung ist gefunden worden, daß eine vorteilhaftere elektrophotographische lichtempfindliche Platte erhalten werden kann, wenn man ein farbloses Gemisch von Polycarbonatharz und einem photoleitfähigen isolierenden Polymerisat der folgenden chemischen Formel in der X Wasserstoff und/oder Brom ist, verwendet. Eine solche elektrophotographische lichtempfindliche Platte ist hinsichtlich der Biegsamkeit, der Beständigkeit gegenüber mechanischer Abnutzung, der Beständigkeit gegenüber einer Koronaentladungsatmosphäre, der Durchschlagsfestigkeit und der Qualität des reproduzierten Bildes überlegen. Von dem Gesichtspunkt der Beständigkeit gegenüber mechanischer Abnutzung aus wird das beste Ergebnis erhalten, wenn das genannte Gemisch eine Zusammensetzung aufweist, die im wesentlichen zu 10 bis 50 Gew.-aus Polycarbonat und zu 50 bis 90 Gew.-?' aus dem genannten photoleitfähigen isolierenden Polymerisat, das durch die chemische Formel dargestellt ist, besteht.According to the invention, it has been found that a more advantageous electrophotographic photosensitive plate can be obtained by using a colorless mixture of polycarbonate resin and a photoconductive insulating polymer represented by the following chemical formula in which X is hydrogen and / or bromine, is used. Such an electrophotographic photosensitive plate is superior in flexibility, resistance to mechanical wear, resistance to a corona discharge atmosphere, dielectric strength and reproduced image quality. From the point of view of resistance to mechanical wear, the best result is obtained when said mixture has a composition consisting essentially of 10 to 50% by weight of polycarbonate and 50 to 90% by weight of polycarbonate. consists of the aforementioned photoconductive insulating polymer represented by the chemical formula.
Wenn die erwähnten organischen photoleitfähigen isolierenden Materialien nachgiebiger sein sollen, kann man dem photoleitfähigen isolierenden Material etwas Plastifizierungsmittel zufügen. Die bevorzugten Plastifizierungsmittel sind folgende: Chloriertes Diphenyl, Epoxyharz und Dioctylphosphat.When the mentioned organic photoconductive insulating materials To be more compliant, the photoconductive insulating material can be used somewhat Add plasticizer. The preferred plasticizers are as follows: Chlorinated Diphenyl, epoxy resin and dioctyl phosphate.
Gemäß der Erfindung ist gefunden worden, daß eine Kupferjodidschicht, die auf einem isolierenden Träger vorhanden ist, eine stärkere Haftfestigkeit zu der glasigen Selenschicht aufweist.According to the invention it has been found that a copper iodide layer, which is present on an insulating support, increases the adhesive strength the vitreous selenium layer.
Die stärkere Haftfestigkeit zwischen der glasigen Selenschicht und der Kupferjodidschicht führt bei der erhaltenen elektrophotographischen lichtempfindlichen Platte zu einer höheren Biegsamkeit und zu einer größeren Beständigkeit gegenüber mechanischer Abnutzung. Wenn die auf einen transparenten isolierenden Träger aufgebracht-e Kupferjodidschicht genügend dünn ist, so daß sie praktisch transparent ist, kann eine praktisch transparente elektrophotographische lichtempfindliche Platte durch einsatz einer glasigen Selenschicht mit einer Dicke weniger als 1 Mikron und einer praktisch transparenten Schicht aus organischem photoleitfähigem isolierendem Material nach der Erfindung erhalten werden.The stronger adhesive strength between the glassy selenium layer and the copper iodide layer results in the obtained electrophotographic photosensitive Plate to a higher flexibility and to a greater resistance to mechanical wear. If the applied to a transparent insulating support-e Copper iodide layer is sufficiently thin that it is practically transparent, can a substantially transparent electrophotographic photosensitive plate use of a vitreous selenium layer with a thickness of less than 1 micron and one practically transparent layer of organic photoconductive insulating material can be obtained according to the invention.
Die genannte upferjodidschicht kann nach einem Verfahren hergestellt erden, das in der USA-Patentschrift (i)SA-Patentanmeldung er. Nr. 769 680 vom 22. Oktober 1968) beschrieben ist. Es besteht keine Schwierigkeit, ein praktisch transparentes organisches photoleitfähiges isolierendes Material ausfindig zu machen, das die Schicht 3 bildet und eine starke Haftfestigkeit zu der glasigen Selenschicht aufweist.The above-mentioned copper iodide layer can be produced by a method earth that is described in U.S. Patent (i) SA patent application. No. 769 680 from 22. October 1968). There is no difficulty in making a practically transparent to locate organic photoconductive insulating material that contains the Layer 3 forms and has a strong bond strength to the vitreous selenium layer.
Jedes der oben erwähnten organischen photoleitfähigen isolierenden Materialien weist eine befriedigend starke Haftfestigkeit auf der glasigen Selenschicht 2 auf.Any of the above-mentioned organic photoconductive insulating Materials has a satisfactorily strong adhesive strength on the vitreous selenium layer 2 on.
Auf einen zur Verfügung stehenden und geeigneten isolierenden Träger, wie zum Beispiel einen Polyäthylenterephthalatfilm, einen öelluloseacetatfilm oder eine Glasplatte, wird eine Schicht aus leitfähigem Material nach einem einsatzfähigen und geeigneten Verfahren, wie zum Beispiel nach dem Aufdampfverwahren, dem Elektroplattierungsverfahren oder einem Peschichtungsverfahren, aufgetragen. Eine glasige Selenschicht wird zur weiteren ergänzung auf die Schicht aus leitfähigem Material durch ein Vakuumaufdampfverfahren aufgetragen. Eine Schicht aus organischem photoleitfähigem isolierenden Material wird dann auf die glasige Selenschicht mit Hilfe eines einsatzbereiten und geeigneten Verfahrens, wie zum Beispiel durch Beschichten mittels einer Rakel oder nach einem Walzenauftragsverfahren, aufgebracht.On an available and suitable insulating support, such as a polyethylene terephthalate film, an oilulose acetate film, or a glass plate, a layer of conductive material becomes a usable one and suitable methods such as after vapor deposition keeping, the electroplating method or a coating process. A glassy selenium layer becomes further addition to the layer of conductive material by applied a vacuum evaporation process. A layer of organic photoconductive insulating material is then applied to the glassy selenium layer with the help of a ready-to-use and suitable methods, such as by coating with a doctor blade or by a roller application process.
Beispiel 1 Eine geschliffene Aluminiumplatte von der Größe 10 cm x 10 cm wurde in einer Glocke angeordnet, und eine glasige Selenschicht wurde auf der Aluminiumplatte bei einem Druck von 10 5 mm Hg nach einem üblichen Vakuumaufdampfverfahren niedergeschlagen. Die Dicke der glasigen Selenschicht betrug 0,4 Mikron. Die Platte wurde während des Aufdampfens bei einer Temperatur von etwa 400C gehalten. Die mit Selen überzogene Aluminiumplatte wurde mit der nachfolgenden organischen Lösung nach einem üblichen Rakelauftragsverfahren beschichtet und mit warmer Luft von 500C getrocknet.Example 1 A ground aluminum plate measuring 10 cm x 10 cm was placed in a bell jar and a vitreous selenium layer was on top the aluminum plate at a pressure of 10 5 mmHg by a conventional vacuum evaporation method dejected. The thickness of the vitreous selenium layer was 0.4 microns. The plate was kept at a temperature of about 40 ° C. during the vapor deposition. With Selenium coated aluminum plate was made with the following organic solution Coated using a conventional knife application process and with warm air at 500C dried.
Tabelle 1 Gew.-Teile Polyacenaphthylen 100 chloriertes Diphenyl 40 Benzol 600 Die getrocknete bberzugsschicht war transparent und besaß eine Dicke von 4 Mikron. Die entstandene lichtempfindliche Platte, die von unten nach oben drei Schichten enthielt, und zwar die Aluminiumträgerplatte, die glasige Selenschicht und eine organische Deckschicht, wurde an einem dunklen Ort länger als 24 Stunden aufbewahrt. Dann wurde die obere Oberfläche der lichtempfindlichen Platte bei einer Aufladung von etwa 450 statischen Volt durch negative Ionen einer Koronaentladung im Dunkeln sensibilisiert und dann bildgemäß durch das Licht einer Wolframlampe von 26 Lux Sek. belichtet. Dann wurde der übliche elektrophotographische Entwickler, der Sisenträger-und positiv geladene Tonerteilchen enthielt, gleichmäßig auf der licht empfindlichen Platte nach einem üblichen magnetischen Entwicklungsverfahren (magnetic blush development) verteilt. Table 1 Parts by weight of polyacenaphthylene 100 chlorinated diphenyl 40 Benzene 600 The dried coating layer was transparent and had a thickness of 4 microns. The resulting photosensitive plate, the bottom up contained three layers, namely the aluminum base plate, the glassy selenium layer and an organic topcoat, has been left in a dark place for more than 24 hours kept. Then, the top surface of the photosensitive plate at a Charging of about 450 static volts from negative ions of a corona discharge sensitized in the dark and then according to the image by the light of a tungsten lamp exposed from 26 lux sec. Then the usual electrophotographic developer, the sis carrier and positively charged toner particles contained uniformly on the light sensitive plate according to a usual magnetic Development process (magnetic blush development).
Ein starkes Kontrastbild von guter Qualität wurde auf der lichtempfindlichen Platte erzeugt.A high contrast image of good quality was made on the photosensitive Plate generated.
Die lichtempfindliche Platte war wiederholt benutzbar, und die Lichtempfindlichkeit wies nach 3000fachen periodischen Testes einer xerographischen Folge, die aus dem Aufladen, dem bildgemäßen Belichten, dem Entwickeln und dem Reinigungsverfahren bestand, keine Abnahme auf.The photosensitive plate was repeatedly usable and the photosensitivity after 3000 periodic tests of a xerographic sequence derived from the Charging, imaging, developing and cleaning processes insisted, no decrease.
Beispiel 2 Ein 150 Mikron dicker Cellulosediacetatfilm wurde in einer Vakuumkammer angeordnet und mit einer dünnen Kupferschicht unter Anwendung des üblichen Vakuumaufdampfverfahrens überzogen. Die Transparenz der dünnen Kupferschicht betrug für weißes Licht 60 %. Der mit Kupfer überzogene Celluloseacetatfilm wurde dann in eine liege Lösung von Jod in Benzol eingetaucht, um auf diese Weise die dünne Kupferschicht in eine transparente Kupferjodidschicht umzuwandeln. Die Kupferjodidschicht wies eine Transparenz für weißes Licht von 87 tjO und einen elektrischen spezifischen Oberflächenwiderstand von 105 5mt auf. Der mit Kupferjodid beschichtete Cellulosediacetatfilm wurde erneut in einer Vakuumkammer angeordnet und dann mit einer glasigen Selenschicht nach üblichen Vakuumaufdampfverfahren versehen. Die glasige Selenschicht war 0,1 Mikron dick und wies eine Transparenz für weißes Licht von 50 % auf.Example 2 A 150 micron thick cellulose diacetate film was made in a Vacuum chamber arranged and covered with a thin layer of copper using the usual Vacuum evaporation coated. The transparency of the thin copper layer was for white light 60%. The copper-clad cellulose acetate film was then made immersed in a lying solution of iodine in benzene, in order to make the thin in this way Convert the copper layer into a transparent copper iodide layer. The copper iodide layer had a transparency for white light of 87 tjO and an electrical specific Surface resistance of 105 5mt. The cellulose diacetate film coated with copper iodide was again placed in a vacuum chamber and then covered with a vitreous selenium layer provided according to the usual vacuum evaporation process. The vitreous selenium layer was 0.1 Microns thick and had a white light transparency of 50%.
Die folgende organische Lösung wurde auf die glasige Selenschicht nach üblichem Rakelauftragsverfahren aufgetragen und getrocknet.The following organic solution was applied to the glassy selenium layer applied using the usual doctor blade application method and dried.
Tabelle 2 Gew.-Teile Poly-N-vinylcarbazol 100 chloriertes Diphenyl 60 Toluol 800 Die getrocknete Schicht war 5 Mikron dick. Table 2 parts by weight poly-N-vinylcarbazole 100 chlorinated diphenyl 60 Toluene 800 The dried layer was 5 microns thick.
Der entstandene elektrophotographische lichtempfindliche Film aus vier Schichten, der nachgiebig und farbig-transparent war, wurde in einer Atmosphäre negativer Ionen aus einer Koronaentladung im Dunkeln angeordnet, um die Oberfläche der organischen Schicht zu sensibilisieren. Dann wurde bildgemäß mit einer Beleuchtungsstärke von 10 Lux, die 2 Sekunden einwirkte, belichtet. Das erzeugte latente Bild wurde im Dunkeln durch Eintauchen des vierschichtigen Films für 4 Sekunden in einem flüssigen Antwickler, der aus positiv geladenen Graphitteilchen, Kobaltnaphthenat und Trifluortrichloräthan bestand, entwickelt.The resulting electrophotographic photosensitive film was made four layers, which was compliant and colored-transparent, were in one atmosphere Negative ions from a corona discharge in the dark are arranged around the surface to sensitize the organic layer. Then it was imagewise with an illuminance of 10 lux, which was applied for 2 seconds, exposed. The generated latent image became in the dark by immersing the four-layer film in a liquid for 4 seconds Antwickler made from positively charged graphite particles, cobalt naphthenate and trifluorotrichloroethane existed, developed.
Das reproduzierte Bild war sehr klar, und die Bildauflösung betrug 100 Bildzeilen/mm oder mehr. Das Bild konnte mit einem üblichen Dia-Projektor projiziert werden, um so ein großes Bild zu erhalten.The reproduced image was very clear and the image resolution was poor 100 lines / mm or more. The image could be projected with a standard slide projector to get such a big picture.
Beispiel 3 Elektrophotographische lichtempfindliche Platten wurden hergestellt, indem von unten nach oben eine 0,4 mm dicke Träger platte aus Aluminium, eine dünne glasige Selenschicht und eine transparente organische Schicht mit der folgenden Zusammensetzung zusammengefügt wurden: Tabelle 3 Gew.-Teile Poly-N-vinylcarbazol 100 Polycarbonat 30 Das Verfahren zur Herstellung der obigen elektrophotographischen lichtempfindlichen Platten entsprach im wesentlichen dem des Beispiels 1.Example 3 Electrophotographic photosensitive plates were made produced by placing a 0.4 mm thick aluminum carrier plate from bottom to top, a thin glassy selenium layer and a transparent organic layer with the the following composition were combined: Table 3 parts by weight of poly-N-vinylcarbazole 100 polycarbonate 30 The method for producing the above electrophotographic photosensitive plates essentially corresponded to that of Example 1.
Zwei Arten von elektrophotographischen lichtempfindlichen Platten wurden hergestellt: (1) Die glasige Selenschicht war 0,3 mikron dick und die transparente organische Schicht war 5, 10, 14, 18 und 26 Mikron dick, und (2) die transparente organische Schicht war 10 Mikron dick, und die glasige Selenschicht war 0,15, 0,3, 0,7, 1,0 und 2,0 Mikron dick.Two types of electrophotographic photosensitive plates were made: (1) The vitreous selenium layer was 0.3 microns thick and the transparent one organic layer was 5, 10, 14, 18 and 26 microns thick, and (2) the transparent one organic Layer was 10 microns thick and the vitreous selenium layer was 0.15, 0.3, 0.7, 1.0 and 2.0 microns thick.
Der Abbildungstest ergab, daß alle diese Platten vollkommen befriedigende Bilder reproduzierten.The imaging test showed that all of these plates were perfectly satisfactory Images reproduced.
Beispiel 4 Ein dreischichtiger Film, der von unten nach oben einen 125 Mikron dicken Polyäthylenterephthalatfilm, eine 500 dicke Kupferjodidschicht und eine 0,3 Mikron dicke glasige Selenschicht enthielt, wurde nach dem in dem Beispiel 3 beschriebenen Verfahren hergestellt. Dann wurde die folgende Lösung auf die glasige Selenoberfläche aufgetragen und getrocknet.Example 4 A three-layer film which, from bottom to top, has a 125 micron thick polyethylene terephthalate film, a 500 thick copper iodide layer and a 0.3 micron thick glassy selenium layer was made after that in the example 3 produced method described. Then the following solution was added to the glassy Selenium surface applied and dried.
Tabelle 4 Gew.-Teile Bromiertes N-Vinylcarbazolpolymerisat 100 Polycarbonat 30 Dichloräthan 300 Monochlorbenzol 900 Das bromierte N-Vinylcarbazolpolymerisat wurde nach dem in der USA-Patentschrift 3 421 891 beschriebenen Verfahren hergestellt. Table 4 Parts by weight of brominated N-vinylcarbazole polymer 100 polycarbonate 30 dichloroethane 300 monochlorobenzene 900 The brominated N-vinylcarbazole polymer was prepared by the process described in U.S. Patent 3,421,891.
Das elektrophotographische Abbildungsverfahren, das in dem Beispiel 1 beschrieben ist, wurde dann auf die vierschichtige Probe angewandt. Ein klares Bild wurde bei Belichtung mit Wolframlicht von 40 Bux-Sek. entwickelt. Die Probe konnte im elektrophotographischen Abbildungstest mehr als 20 000 mal wiederholt benutzt werden.The electrophotographic imaging process used in Example 1 was then applied to the four-layer sample. A clear one Image was taken when exposed to tungsten light of 40 Bux-sec. developed. The sample could be repeated more than 20,000 times in the electrophotographic imaging test to be used.
Zum Vergleich der Platten, die innerhalb und außerhalb des erfindungsgemäßen Bereichsßiegen, wurde der obige dreischichtige Film ohne eine Selenschicht dem elektrophotographischen Abbildungsverfahren unterworfen. Das Testergebnis zeigte eindeutig, daß der dreischichtige Film, der außerhalb des erfindungsgemäßen Bereichs lag, praktisch ni cht-li chtenipfindli ch war und eine schlechte Bildqualität aufwies, auch wenn er mit einer starken Belichtung von 60 000 LuxSek. belichtet wurde.To compare the panels that are inside and outside of the invention Area won, the above three-layer film without a selenium layer became the electrophotographic one Subject to imaging processes. The test result clearly showed that the three-layer Film that was outside the range according to the invention was practically non-li chtenipfindli ch and had poor image quality even when using a strong exposure of 60,000 LuxSec. was exposed.
Beispiel 5 Eine glasige Selenschicht von einer Dicke von 0,3 Mikron wurde auf eine polierte Aluminiumträgerplatte von 0,4 mm Dicke nach einem üblichen Aufdampfverfahren aufgetragen. Dann wurde die Lösung von Tabelle 5 auf die glasige Selenschicht aufgetragen und unter Ausbildung einer organischen Deckschicht getrocknet.Example 5 A vitreous selenium layer 0.3 microns thick was placed on a polished aluminum support plate of 0.4 mm thickness according to a conventional Applied by vapor deposition. Then the solution from Table 5 on the glassy Selenium layer applied and dried to form an organic top layer.
Tabelle 5 Gew.-Teile Poly-N-vinylcarbazol 100 Polycarbonat 70 Dichloräthan 300 Monochlorbenzol 900 Die organische Deckschicht war 9 Mikron dick. Table 5 Parts by weight of poly-N-vinylcarbazole 100, polycarbonate 70, dichloroethane 300 Monochlorobenzene 900 The organic topcoat was 9 microns thick.
Die Proben wurden dem gleichen elektrophotographischen Abbildungsverfahren, das in dem Beispiel 1 beschrieben ist, unter worfen. Ein klares Bild wurde durch Belichten mit einem Wolframlicht von 40 Lux.Sek. erhalten.The samples were subjected to the same electrophotographic imaging process, which is described in Example 1, under throws. A clear picture was through Exposure with a tungsten light of 40 lux. Sec. obtain.
Zum Vergleich der lichtempfindlichen Platten, die innerhalb und außerhalb des erfindungsgemäßen Bereichs liegen, wurde die folgende Lösung von Tabelle 6 auf die glasige Selenschicht mit einer Dicke von 0,3 Mikron, die sich als Schicht auf einer geschliffenen Aluminiumplatte befand, aufgetragen und unter Ausbildung einer organischen Deckschicht getrocknet.To compare the photosensitive plates that are inside and outside of the range according to the invention, the following solution from Table 6 was based on the vitreous selenium layer with a thickness of 0.3 microns, which is a layer on top a sanded aluminum plate, applied and forming a organic top layer dried.
Die trockene Deckschicht war etwa 9 Mikron dick.The dry topcoat was about 9 microns thick.
Tabelle 6 Gew.-Teile Poly-N-vinylcarbazol 100 Polycarbonat 30 2-p-Methoxystyrol-3-phenylbenzopyriliumperchlorat 0,3 Dichloräthan 300 Monochlorbenzol 900 Die Lösung von Tabelle 6, die 2-p4fethoxystyryl-3-phenylbenzopyriliumperchlorat zur Ausbildung einer organischen Deckschicht enthielt, die gegenüber Licht in einem sichtbaren Bereich empfindlich ist, lag außerhalb des erfindungsgemäßen Bereichs. Die Probe wurde dem gleichen elektrophotographischen Abbildungsverfahren, wie es in dem Beispiel 1 beschrieben ist, unterworfen. Das Testergebnis zeigte, daß das reproduzierte Bild verschwommen war und eine geringe Schwärzung sowie einen geringen Kontrast aufwies. Table 6 Parts by weight of poly-N-vinylcarbazole 100, polycarbonate 30, 2-p-methoxystyrene-3-phenylbenzopyrilium perchlorate 0.3 dichloroethane 300 monochlorobenzene 900 The solution of Table 6, the 2-p4fethoxystyryl-3-phenylbenzopyrilium perchlorate contained to form an organic cover layer, which is against light in a visible range is sensitive, was outside the range according to the invention. The sample was subjected to the same electrophotographic imaging process as it is described in Example 1, subjected. The test result showed that that The reproduced image was blurred and had a low density and a low level Contrast exhibited.
Beispiel 6 Poly-9-(4-pentenyl)-carbazol wurde nach der in den Beispielen 1 und 3 der britischen Patentschrift 1 075 626 beschriebenen Verfahrensweise hergestellt. Das bei 1900C geschmolzene Polymerisat wurde unter Bildung eines dünnen Films mit einer Dicke von etwa 10 Mikron (nach dem Trocknen) aufgetragen.Example 6 Poly-9- (4-pentenyl) -carbazole was prepared according to the example 1 and 3 of British Patent 1,075,626. The polymer melted at 1900C was formed with the formation of a thin film applied to a thickness of about 10 microns (after drying).
Dann wurde das mit dem Film überzogene Glas in einer bis zu einem Druck von 10 5 mm Hg evakuierten Vakuumkamnier bei Raumtemperatur angeordnet, um der Reihe nach eine dünne glasige Selenschicht und darauf eine Aluminiumschicht auf zum tragen.Then the glass coated with the film became one to one Pressure of 10 5 mm Hg evacuated vacuum chamber at room temperature placed to one after the other a thin, vitreous selenium layer and then an aluminum layer on to wear.
Die Dicke der aufgezogenen glasigen Selenschicht und der Aluminiumschicht betrug 0,5 Mikron und 10 Mikron. Der Glasträger wurde von der Schicht aus Poly-9-(4-pentenyl)-carbazol entfernt.The thickness of the applied vitreous selenium layer and the aluminum layer was 0.5 microns and 10 microns. The glass slide was made from the layer of poly-9- (4-pentenyl) -carbazole removed.
Die Oberfläche der Schicht aus Poly-9-(4-pentenyl)-carbaeol wurde einer negativen Koronaentladung unter Aufladung mit einer Spannung von 400 Volt im Dunkeln ausgesetzt und dann bildgemäß mit einem Licht aus einer Wolframquelle belichtet.The surface of the layer of poly-9- (4-pentenyl) -carbaeol became a negative corona discharge under charging with a voltage of 400 volts exposed in the dark and then imagewise with a light from a tungsten source exposed.
Die Belichtung betrug 50 Lux.Sekunde. Das erzeugte latente Bild wurde nach üblichen Kaskadenentwicklungsverfahren entwickelt, bei dem der verwendete Entwickler aus positiv geladenen Tonerteilchen und Trägern aus Glasperlen bestand.The exposure was 50 lux. Seconds. The generated latent image became developed according to the usual cascade development process, in which the developer used consisted of positively charged toner particles and carriers of glass beads.
Das reproduzierte Bild war ausgezeichnet, und die elektrophotographische lichtempfindliche Platte war im xerographischen Wiederholungsfolgetest mehr als 2000 mal wiederzuverwenden.The reproduced image was excellent, and so was the electrophotographic photosensitive plate was more than in the repeat xerographic test 2000 times to be used again.
Beispiel 7 3-Aminocarbazol wurde nach den Angaben in der britischen Patentschrift 947 488 hergestellt. Ein Gemisch von 1 Gew.-Teil des hergestellten 3-Aminocarbazols und 1 Gew.-Teil eines Phenolharzes wurde unter Verwendung von Monochlorbenzol als Lösungsmittel zubereitet. Das farblose transparente Gemisch wurde dann auf eine dünne glasige Selenschicht, die eine Aluminiumplatte entsprechend dem Beispiel 1 bedeckte, unter Anwendung eines üblichen Rakelauftragsverfahrens aufgetragen, wobei eine organische Deckschicht gebildet wurde.Example 7 3-aminocarbazole was prepared according to the instructions in British Patent 947,488 produced. A mixture of 1 part by weight of the prepared 3-aminocarbazole and 1 part by weight of a phenolic resin was made using monochlorobenzene prepared as a solvent. The colorless transparent mixture was then on a thin vitreous selenium layer, which an aluminum plate according to example 1 covered, applied using a conventional knife application process, wherein an organic cover layer was formed.
Die erhaltene elektrophotographische lichtempfindliche Platte wurde dem in dem Beispiel 6 beschriebenen elektrophotographischen Abbildungstest unterworfen. Ein klares Bild mit starkem Kontrast wurde durch bildgemäßes Belichten bei einer Belichtung von 30 Lux-Sek. erhalten.The obtained electrophotographic photosensitive plate was subjected to the electrophotographic imaging test described in Example 6. A clear, high-contrast image was obtained by image-wise exposure to a Exposure of 30 lux-sec. obtain.
Beispiel 8 3,6-Dibrom-9-vinylcarhazolpolymerisat wurde nach dem in der USA-Patentschrift 3 4f21891 beschriebenen Verfahren hergestellt.Example 8 3,6-dibromo-9-vinylcarhazole polymer was prepared according to the in in U.S. Patent 3,4f21891.
Eine Lösung eines Gemisches von 100 Gew.-Teilen des genannten Polymerisates und 40 Gew.-Teilen Polycarbonat wurde unter Verwendung von 1100 Gew.-Teilen Dichloräthan hergestellt.A solution of a mixture of 100 parts by weight of said polymer and 40 parts by weight of polycarbonate was made using from 1100 Parts by weight of dichloroethane produced.
Die Lösung wurde dann auf eine dünne glasige Selenschicht, die sich auf einer Aluminiumplatte in genau der gleichen Weise, wie sie in dem Beispiel 1 beschrieben ist, befand, unter Anwendung eines üblichen Rakelauftragsverfahrens aufgetragen, um so eine transparente organische Deckschicht auszubilden.The solution was then deposited on a thin glassy layer of selenium on an aluminum plate in exactly the same way as in Example 1 is described, found using a conventional doctor blade application process applied in order to form a transparent organic cover layer.
Die getrocknete organische Deckschicht war 8 Mikron dick.The dried organic topcoat was 8 microns thick.
Die entstandene elektrophotographische lichtempfindliche Platte wurde dem gleichen elektrophotographischen Abbildungstest, der in dem Beispiel 6 beschrieben ist, unterworfen.The resulting electrophotographic photosensitive plate became the same electrophotographic imaging test described in Example 6 is subject.
Ein klares Bild mit hohem Kontrast wurde durch bildgemäßes Belichten bei einer Belichtung von 30 Lux.Sek. erhalten.A clear, high contrast image was obtained by image-wise exposure at an exposure of 30 lux. sec. obtain.
Beispiel 9 Ein Copolymerisat von N-Vinylcarbazol und ethylacrylat wurde nach dem in der USA-Patentschrift 3 122 453 beschriebenen Verfahren hergestellt. Eine Lösung eines Gemisches von 10 Gew.-Teilen des genannten Copolymerisats und 2 Gew.-Teilen von chloriertem Diphenyl wurde unter Verwendung von 100 Gew.-Teilen Methylenchlorid als Lösungsmittel hergestellt. Die Lösung wurde dann auf die Oberfläche einer dünnen glasigen Selenschicht, die sich auf einer Aluminiumplatte in genau der gleichen Weise, wie sie in dem Beispiel 1 beschrieben ist, befand, unter Anwendung eines üblichen Rakelauftragsverfahrens aufgetragen. Die getrocknete organische Deckschicht war 5 Mikron dick.Example 9 A copolymer of N-vinyl carbazole and ethyl acrylate was prepared by the process described in U.S. Patent 3,122,453. A solution of a mixture of 10 parts by weight of said copolymer and 2 parts by weight of chlorinated diphenyl was made using 100 parts by weight Methylene chloride produced as a solvent. The solution was then applied to the surface a thin glassy selenium layer, which is exactly on an aluminum plate the same way as described in Example 1 was used a conventional doctor blade application process. The dried organic top layer was 5 microns thick.
Die erhaltene elektrophotographische lichtempfindliche Platte wurde einem elektrophotographischen Abbildungstest, wie er in dem Beispiel 6 beschrieben ist, unterworfen. Ein klares Bild wurde durch bildgemäßes Belichten bei einer Belichtung von 60 bis 80 Bux-Sek. erhalten.The obtained electrophotographic photosensitive plate was an electrophotographic imaging test as described in Example 6 is subject. A clear image was obtained by image-wise exposure at one exposure from 60 to 80 Bux-sec. obtain.
Beispiel 10 Ein Polymerisat aus 9-Vinylanthracen wurde nach dem in der britischen Patentschrift 1 101 391 (Seite 2, Zeilen 5-10) beschriebenen Verfahren hergestellt. Eine Lösung eines Gemisches von 10 Gew.-Teilen des genannten Polymerisats und 3 Gew.-Teilen von chloriertem Diphenyl wurde unter Verwen dung von 100 Gew.-Teilen Benzol als Lösungsmittel hergestellt. Die Lösung wurde dann auf die Oberfläche einer dünnen glasigen Selenschicht, die sich auf einer Aluminiumplatte in genau der gleichen Weise, wie es in dem Beispiel 1 beschrieben ist, befand, unter Anwendung eines üblichen Rakelauftragsverfahrens aufgetragen. Die getrocknete organische Deckschicht war 3 Mikron dick.Example 10 A polymer of 9-vinylanthracene was prepared according to the in in British Patent 1,101,391 (page 2, lines 5-10) manufactured. A solution of a mixture of 10 parts by weight of said polymer and 3 parts by weight of chlorinated diphenyl was made using 100 parts by weight Benzene produced as a solvent. The solution was then applied to the surface of a thin glassy selenium layer that is on an aluminum plate in exactly the same way Manner as described in Example 1, using a conventional one Squeegee application method applied. The dried organic topcoat was 3 microns thick.
Die entstandene elektrophotographische lichtempfindliche Platte wurde einem elektrophotographischen Abbildungstest, wie er in dem Beispiel 6 beschrieben ist, unterworfen.The resulting electrophotographic photosensitive plate became an electrophotographic imaging test as described in Example 6 is subject.
Ein klares Bild wurde durch bildgemäßes Belichten bei einer Belichtung von 80 Lux-Sek. erhalten.A clear image was obtained by image-wise exposure at one exposure from 80 lux-sec. obtain.
Patentansprüche Claims
Claims (8)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19691964817 DE1964817B2 (en) | 1969-12-15 | 1969-12-15 | ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19691964817 DE1964817B2 (en) | 1969-12-15 | 1969-12-15 | ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1964817A1 true DE1964817A1 (en) | 1971-07-29 |
| DE1964817B2 DE1964817B2 (en) | 1972-11-16 |
Family
ID=5754933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19691964817 Pending DE1964817B2 (en) | 1969-12-15 | 1969-12-15 | ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE1964817B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2336093A1 (en) * | 1973-07-16 | 1975-02-06 | Hoechst Ag | ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2336094C2 (en) * | 1973-07-16 | 1983-03-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Electrophotographic recording material |
-
1969
- 1969-12-15 DE DE19691964817 patent/DE1964817B2/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2336093A1 (en) * | 1973-07-16 | 1975-02-06 | Hoechst Ag | ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE1964817B2 (en) | 1972-11-16 |
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