DE2063255A1 - Electrophotographic plate - Google Patents
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Description
Anmelderin:Applicant:
Amtliches Aktenzeichen:Official file number:
Böblingen, den 10. Dezember 19 70 kd-baBoeblingen, December 10, 19 70 kd-ba
International Business Machines Corporation, Armonk, N.Y. 10504International Business Machines Corporation, Armonk, N.Y. 10504
NeuanmeldungNew registration
Aktenzeichen der Anmelderin: Docket SA 969 049Applicant's file number: Docket SA 969 049
Die Erfindung betrifft eine elektrophotographische, in einem Reflexkopierverfahren verwendbare Platte.The invention relates to an electrophotographic, in a reflex copying process usable plate.
Ein elektrophotographisches Reflexkopierverfahren, in dem dichroitische Photoleiter verwendet werden, ist Gegenstand der älteren deutschen Patentanmeldung P 17 97 306.7. In diesem Verfahren wird das zu kopierende Dokument mit einem vorher gleichmäßig elektrostatisch aufgeladenen, photoleitfähigen Element in Berührung gebracht. Das photoleitfähige Element enthält einen dichroitischen Photoleiter, der eine Vorzugsachse maximaler Absorption für linear polarisiertes Licht besitzt. Es findet maximale Absorption statt, wenn der elektrische Vektor des polarisierten Lichtes parallel zu dieser Achse verläuft und minimale Absorption oder maximale Durchlässigkeit, wenn der elektrische Vektor rechtwinklig zu dieser Achse verläuft.A reflective electrophotographic printing process in which dichroic Photoconductors are used, is the subject of the earlier German patent application P 17 97 306.7. In this procedure, brought the document to be copied with a previously uniformly electrostatically charged, photoconductive element in contact. The photoconductive element contains a dichroic one Photoconductor that has a preferred axis of maximum absorption for linearly polarized light. It finds maximum absorption instead when the electrical vector of polarized light runs parallel to this axis and has minimal absorption or maximal Permeability when the electrical vector is perpendicular to this axis.
Wenn das Dokument in Berührung mit dem photoleitfähigen Element von der Rückseite des Elementes her mit polarisiertem Licht, dessen Vektor rechtwinklig zur Vorzugsachse maximaler Absorption verläuft, belichtet wird, wird das polarisierte Licht von dem EIe-When the document comes into contact with the photoconductive element from the back of the element with polarized light, its Vector runs at right angles to the easy axis of maximum absorption, is exposed, the polarized light from the EIe-
103826/1625103826/1625
ment größtenteils durchgelassen. Das in den dunklen Bildbereichen des Dokuments auftreffende Licht wird im wesentlichen absorbiert, während das in den hellen Bildbereichen auftreffende Licht depolarisiert und auf das photoleitfähige Element zurückgeworfen wird. Das reflektierte Licht enthält jetzt Anteile, deren Vektor parallel zur Vorzugsachse maximaler Absorption verläuft, so daß dieses Licht jetzt von dem photoleitfähigen Element absorbiert und in diesen Bereichen die Ladung des Photoleiters abgebaut wird. Es wird also auf dem photoleitfähigen Element ein elektrostatisches Ladungsmuster gebildet, das dem Muster auf dem Dokument entspricht.mostly let through. The light incident in the dark image areas of the document is essentially absorbed, while the light hitting the bright areas of the image is depolarized and reflected back onto the photoconductive element. The reflected light now contains components whose vector runs parallel to the easy axis of maximum absorption, so that this Light is now absorbed by the photoconductive element and the charge on the photoconductor is reduced in these areas. It Thus, an electrostatic charge pattern is formed on the photoconductive element which corresponds to the pattern on the document.
Für dieses Verfahren wurde bisher eine elektrophotographisehe Platte, bestehend ausFor this process, an electrophotographic plate has hitherto been used, consisting of
(a) einem halbtransparenten leitenden Träger, beispielsweise aus Cellulosetriacetat mit einer metallisierten Oberfläche, oder aus Polycarbonat oder aus NESA-Glas(A) a semitransparent conductive support, for example made of cellulose triacetate with a metallized surface, or made of polycarbonate or NESA glass
(b) einem dichroitischen Photoleiter(b) a dichroic photoconductor
(c) einer photoleitfähigen Schicht, die beispielsweise aus Polyvinylcarbazol bestehen kann,(c) a photoconductive layer made, for example, of polyvinyl carbazole can exist
verwendet.used.
Gegenstand der.vorliegenden Patentanmeldung ist eine elektrophotographische, in einem Reflexkopierverfahren verwendbare Platte, bestehend aus:The subject of the present patent application is an electrophotographic, Plate that can be used in a reflex copying process, consisting of:
(a) einem halbtransparenten leitenden Träger(a) a semi-transparent conductive support
(b) einem dichroitischen Photoleiter(b) a dichroic photoconductor
(c) einer photoleitfähigen Schicht, die dadurch gekennzeichnet ist, das zwischen dem halbtransparenten, leitenden Träger (a) und dem diclxroi ti sehen Photoleiter (b) eine Polyamidschicht ange-(c) a photoconductive layer which is characterized in that that between the semi-transparent, conductive support (a) and the diclxroi ti see photoconductor (b) a polyamide layer
Dooket SA 969 049 10 9 8 2 6/1625Dooket SA 969 049 10 9 8 2 6/1625
ordnet ist.is arranged.
Mit der erfindungsgemäßen elektrophotographischen Platte, in der eine Substratschicht zwischen dem dichroitischen Photoleiter und dem halbtransparenten leitenden Träger vorhanden ist, werden bes-With the electrophotographic plate of the present invention in which there is a substrate layer between the dichroic photoconductor and the semitransparent conductive support,
sere Ergebnisse erhalten. Es hat sich gezeigt, daß dieses nur der Fall ist, wenn die Substratschicht aus Polyamid besteht. Vorzugsweise die Beständigkeit der elektrophotographischen Platte gegen Feuchtigkeit wird verbessert.Get better results. It has been shown that this is only the case when the substrate layer consists of polyamide. Preferably the resistance of the electrophotographic plate to Moisture is improved.
An das Substratmaterial werden eine Reihe von Anforderungen gestellt. Es wird gute Haftung zwischen dem Substratmaterial und dem Material des Trägers einerseits und dem Photoleiter andererseits verlangt. Das Substratmaterial soll jedoch nicht klebrig sein, sondern gleichzeitig so hart, daß der dichroitische Photoleiter durch Reiben orientiert werden kann. Es soll weiterhin sichtbares Licht nicht absorbieren und in organischen Lösungsmitteln, wie Benzol, Chloroform, Toluol oder Tetrahydrofuran unlöslich sein.A number of requirements are placed on the substrate material. There is good adhesion between the substrate material and the material of the carrier on the one hand and the photoconductor on the other hand demands. However, the substrate material should not be sticky, but at the same time so hard that the dichroic photoconductor can be oriented by rubbing. It should still not absorb visible light and in organic solvents, such as benzene, chloroform, toluene or tetrahydrofuran can be insoluble.
Das Substratmaterial soll hinreichend leitfähig sein, damit ein Abbau der elektrostatischen Ladungen möglich ist, ohne daß das Restpotential vergrößert wird. Es wurden zahlreiche Materialien f getestet und nur Polyamid genügte allen Anforderungen. Der Wi-The substrate material should be sufficiently conductive so that the electrostatic charges can be reduced without this Residual potential is increased. Numerous materials were tested and only polyamide met all requirements. The wi-
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derstand des Polyamids soll kleiner als 10 Ohm · cm und für optimale Ergebnisse kleiner als 10 Ohm * cm sein. Die Polyamidschicht ist vorzugsweise weniger als 2 Mikron dick. Für Polyamidmaterialien mit niedrigem Widerstand kann sie jedoch bis zu 5 Mikron dick sein.the level of the polyamide should be less than 10 ohm · cm and for optimal Results will be less than 10 ohms * cm. The polyamide layer is preferably less than 2 microns thick. For polyamide materials however, with low resistance it can be up to 5 microns thick.
Wie oben angegeben, werden Polyamide mit hinreichend niedrigem Widerstand bevorzugt. Die Leistungsfähigkeit von Polyamidmaterial, das einen hohen Widerstand besitzt, wird verbessert durch Zusatz geringer Mengen (Spuren bis etwa 1 %) von Sensibilisatoren oder Elektronenakzeptoren. Als solche kommen beispielsweise Farbstoffsensibilisatoren und Elektronenakzeptoren wie Chloranil, Tetra-Docke t SA 969 049 109826/1625 As indicated above, polyamides with sufficiently low resistance are preferred. The performance of polyamide material, which has a high resistance, is improved by adding small amounts (traces up to about 1%) of sensitizers or electron acceptors. These include, for example, dye sensitizers and electron acceptors such as chloranil, Tetra- Docke t SA 969 049 109826/1625
cyanäthylen, Tetrabromnaphthalsäureanhydrid und andere, die in den amerikanischen Patentschriften 3 037 861, 3 169 060 und 3 287 aufgeführt sind, in Frage.cyanoethylene, tetrabromonaphthalic anhydride and others used in the U.S. Patents 3,037,861, 3,169,060, and 3,287 are in question.
Die Erfindung wird anhand der nachfolgenden Ausführungsbeispiele näher erläutert.The invention is explained in more detail with reference to the following exemplary embodiments.
| Eine 5%ige Lösung eines thermoplastischen Polyamidharzes, Handelsnamen Emerez 3794 R der Firma Emery Industries, Inc. in n-Propanol wurde auf eine Unterlage aus mit Aluminium metallisiertem Polycarbonat, das eine optische übertragungsdichte von 1,0 besaß, aufgetragen und nach dem Trocknen an der Luft 15 Minuten lang bei 100°c gehärtet. Ein dichroitischer Photoleiter wurde in einer Richtung auf diese Unterlage aufgerieben und dabei in dieser Richtung ausgerichtet. | A 5% solution of a thermoplastic polyamide resin, trade name Emerez 3794 R from Emery Industries, Inc. in n-propanol was placed on a base made of polycarbonate metallized with aluminum, which had an optical transmission density of 1.0 and after air drying, cured at 100 ° C for 15 minutes. A dichroic photoconductor was unidirectional rubbed onto this surface and aligned in this direction.
Als Photoleiter wurde 2,6-Bis-(ρ-Ν,Ν-dimethylaminobenzylidenamino)-benzojJL,2-d:4,5-d']-bisthiazol, welches Gegenstand der älteren deutschen Patentanmeldung P 17 97 29 7.3 ist, verwendet.2,6-bis- (ρ-Ν, Ν-dimethylaminobenzylideneamino) -benzojJL, 2-d: 4,5-d '] - bisthiazole, which is the subject of the earlier German patent application P 17 97 29 7.3 is used.
™ Folgende Fomulierung wurde auf die aus dem Träger, dem Polyamid und dem dichroitischen Photoleiter bestehtende Schichtung in einer Schichtdicke von etwa 7 Mikron aufgetragen:™ The following formulation was based on that of the carrier, the polyamide and the dichroic photoconductor are layered in one Layer thickness of about 7 microns applied:
5,0 g Polyvinylcarbazol gelöst in Benzol zu einer 10%igen Lösung5.0 g of polyvinyl carbazole dissolved in benzene to form a 10% solution
0,001 g 2,4,7-Trinitro-9-fluorenon.0.001 g of 2,4,7-trinitro-9-fluorenone.
Diese Schicht wurde .5 Minuten lang bei 100 °C gehärtet. Die Schicht ließ sich mittels einer Koronaentladung gleichmäßig elektrostatisch aufladen und durch Belichten wieder entladen.This layer was cured at 100 ° C for 5 minutes. The layer could be evenly charged electrostatically by means of a corona discharge and discharged again by exposure.
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Bei einer zwei Stunden dauernden Behandlung der Probe bei 100 °C in 80 % relativer Luftfeuchtigkeit war keine Verschlechterung der elektrophotographischen Eigenschaften feststellbar.When the sample was treated for two hours at 100 ° C. in 80% relative humidity, there was no deterioration in the electrophotographic properties detectable.
Eine 4%ige Lösung eines alkohollösliehen Polyamidharzes, Handelsnamen Elvamide 8061 der Firma du Pont in Methanol wurde auf eine Unterlage aus mit Aluminium metallisiertem Polycarbonate das eine optische Übertragungsdichte von 1,0 besaß, aufgetragen und um eine Trübung zu vermeiden, unmittelbar danach bei 100 C gehärtet. Der in Beispiel 1 verwendete dichroitische Photoleiter wurde in einer Richtung auf die Unterlage aus Polyamid aufgerieben.A 4% solution of an alcohol-soluble polyamide resin, tradename Elvamide 8061 from du Pont in methanol was added to a Backing made of polycarbonate metallized with aluminum which had an optical transmission density of 1.0, applied and around to avoid cloudiness, hardened immediately afterwards at 100 ° C. The dichroic photoconductor used in Example 1 became rubbed in one direction onto the polyamide base.
Folgende Formulierung wurde in einer Schichtdicke von etwa 10 Mikron auf die aus Polyamid und dem dichroitischen Photoleiter bestehende Schichtung aufgetragen:The following formulation was applied in a layer thickness of about 10 microns to those made of polyamide and the dichroic photoconductor Layering applied:
55 g einer 10%igen Lösung von Polyvinylcarbazol in Benzol55 g of a 10% solution of polyvinyl carbazole in benzene
5 g Benzol5 g benzene
30 g Chloroform30 g of chloroform
10 g Toluol10 g of toluene
7 g l%ige Lösung von Acryloid A-Il in Benzol7 g 1% solution of Acryloid A-II in benzene
0,01 g 2,4,7-Trinitro-9-fluorenon0.01 g of 2,4,7-trinitro-9-fluorenone
1 Tropfen DC-200-10001 drop of DC-200-1000
Acryloid A-Il ist ein Klebemittel, bestehend aus einem copolymeren Ester der Acrylsäure und der Methacrylsäure der Firma Rohm &Acryloid A-II is an adhesive consisting of a copolymer Esters of acrylic acid and methacrylic acid from Rohm &
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— ο —- ο -
Haas Co. DC-200-1000 ist ein Dimethylsiloxan-Schmiermittel der Firma Dow Corning.Haas Co. DC-200-1000 is a dimethylsiloxane lubricant of the Dow Corning Company.
Die Schicht wurde eine Stunde lang bei 90 °C getrocknet. Mit diesem photoleitfähigen Element wurden in einem Reflexkopierverfahren Kopien mit sehr guter Bildqualität erhalten.The layer was dried at 90 ° C. for one hour. With this photoconductive element, copies with very good image quality were obtained in a reflex copying process.
Wenn anstelle von Methanol Äthanol als Lösungsmittel für das Polyamidharz Elvamide 8061 verwendet wurde, wurden ebenfalls Kopien mit sehr guter Bildqualität erhalten.If instead of methanol, ethanol is used as the solvent for the polyamide resin Elvamide 8061 was used, copies of very good image quality were also obtained.
Beispiel II wurde wiederholt. Es wurde jedoch eine 5%ige. Lösung des Polyamidharzes Elvamide 8061 in n-Propanol verwendet und fol gende Weichmacher zugesetzt, um eine bessere Haftung und eine bessere Ausrichtung des Photoleiters zu erhalten:Example II was repeated. However, it was a 5%. solution of the polyamide resin Elvamide 8061 used in n-propanol and fol Some plasticizers were added to achieve better adhesion and better alignment of the photoconductor:
10 Gew.% bez. auf das Polyamidharz Koliraa 55, 20 Gew.% bez. auf das Polyamidharz Amberol 820.10% by weight based on the polyamide resin Koliraa 55, 20% by weight based on the polyamide resin Amberol 820.
Kolima 55 ist ein Weichmacher der Firma General Aniline & Film Corp.Kolima 55 is a plasticizer from General Aniline & Film Corp.
Amberol 820 ist ein mit Kolophonium modifiziertes Maleinatharz der Firma Rohm & Haas Co.Amberol 820 is a rosin modified maleinate resin from Rohm & Haas Co.
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Claims (2)
cm ist.indicates, ^ aB the resistance of the polyamide layer is less than
cm is.
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