DE1962469C3

DE1962469C3 - Method for creating a pattern on the surface of Sendzimir rolls of cold rolling mills

Info

Publication number: DE1962469C3
Application number: DE19691962469
Authority: DE
Inventors: Erik Gustav Holmberg; Per Eric Kiellarson
Original assignee: NYBY BRUK NYBYBRUK (SCHWEDEN) AB
Current assignee: NYBY BRUK NYBYBRUK (SCHWEDEN) AB
Priority date: 1968-12-12
Filing date: 1969-12-12
Publication date: 1979-01-25
Also published as: DE1962469B2; AT311144B; FR2025996A1; SE358344B; DE1962469A1; GB1282126A

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erzeugen eines Musters auf der Oberfläche von Sendzimirwalzen von Kaltwalzwerken, wobei die Partien auf der Walzenoberfläche, die dem Muster entsprechen, bis zu einer bestimmten Tiefe entfernt werden.The invention relates to a method for generating a pattern on the surface of Sendzimir rolls of cold rolling mills, with the parts on the roll surface that correspond to the pattern up to can be removed to a certain depth.

Bei Sendzimirwalzen von Kaltwalzwerken war es bisher üblich, das Muster auf mechanischem Wege in die Oberfläche der aus gehärtetem Stahl oder Edelstahl bestehenden Sendzimirwalze einzugravieren. Dieses sogenannte Molettenverfahren ist sehr teuer und ist auf Walzen mit einem Durchmesser von mehr als 500 mm begrenzt.In the case of Sendzimir rolls in cold rolling mills, it has been customary to date the pattern in Engraving the surface of the hardened steel or stainless steel Sendzimir roller. This so-called molette process is very expensive and is carried out on rolls with a diameter of more limited than 500 mm.

Das Einätzen von Mustern in gekrümmten Oberflächen von legiertem oder gehärtetem Stahl, aus dem die Sendzimirwalzen bestehen, bereitete bisher erhebliche Schwierigkeiten. Es sind zwar bereits Verfahren bekannt, um Oberflächen von leicht ätzbaren Metallen, wie Kupfer, elektrolytisch zu ätzen, wobei die nicht zu ätzenden Stellen mit einer Schutzschicht abgedeckt werden und die zu ätzenden Stellen des Metalls freiliegen.The etching of patterns in curved surfaces of alloyed or hardened steel from which the Sendzimir rolls exist, caused considerable difficulties so far. There are already procedures known to electrolytically etch surfaces of easily etchable metals, such as copper, whereby the areas that are not to be etched are covered with a protective layer and the areas of the Exposed metal.

ι ο Aus dem Buch » Galvanotechnik« (früher Pf anhauser) 1949/1950, S. 1473 ist die elektrolytische Herstellung von Walzen aus Kupfer- oder verkupferten Stahlzylindern für Kattundruck bekannt. Dabei wird das Muster in die Kupferschicht eingeätzt. Für die Verwendung der Walzen beim Kattundruck ist jedoch nur die Qualität der nicht geätzten Bereiche von Bedeutung, da nur diese beim Druckvorgang eine Rolle spielen. Die Beschaffenheit der ausgeätzten Bereiche, insbesondere deren Oberflächenrauhigkeit,ist für den Druckvorgang ohne Bedeutung.ι ο From the book »Galvanotechnik« (formerly Pf anhauser) 1949/1950, p. 1473 is the electrolytic production of rollers made of copper or copper Steel cylinders known for calico printing. The pattern is etched into the copper layer. For the When using the rollers for calico printing, only the quality of the non-etched areas is important, because only these play a role in the printing process. The nature of the etched areas, in particular their surface roughness is of no importance for the printing process.

Nach der DE-AS 1132405 werden zum lokalisierten Ätzen der Oberfläche von Werkstücken, insbesondere von Kalbkitcrkristal'cn, z. B. von Silizium, als Schutzschicht lichtempfindliche Schichten aus Fotolacken verwendet, die in Säuren unlöslich sind. Sie werden zunächst gleichmäßig auf die Werkstückoberfläche aufgetragen und belichtet. Die belichteten und entwickelten Schichtbereiche werden durch eine chemische Umsetzung wasserunlöslich. Bei der anschließenden Spülung mit Wasser werden die nicht belichteten Schichtbereiche herausgelöst und die zu ätzenden Oberflächenbereiche freigelegt. Bei der nachfolgenden elektrolytischen Ätzung werden nur die freigelegten Werkstückbereiche angegriffen.According to DE-AS 1132405, for localized etching of the surface of workpieces, in particular of calf kitcrystals, e.g. B. of silicon, light-sensitive layers of photoresists as a protective layer which are insoluble in acids. They are initially evenly applied to the workpiece surface applied and exposed. The exposed and developed layer areas are chemically Dictionary water insoluble. During the subsequent rinsing with water, the are not exposed Layer areas detached and exposed the surface areas to be etched. In the subsequent electrolytic etching, only the exposed workpiece areas are attacked.

Aus der DE-AS 1207 181 ist es bekannt, als säurebeständiges Abdeckmittel bei der Herstellung von geätzten Mustern auf Metallfolien Harze, z. B. Alkydharze oder Maleinharz zu verwenden. Insbesondere handelt es sich hier um die Herstellung von gedrucktenFrom DE-AS 1207 181 it is known as acid-resistant Covering agents in the production of etched patterns on metal foils. Resins, e.g. B. alkyd resins or use maleic resin. In particular, it concerns the production of printed

Schaltungen nach einem Ätzverfahren, wobei auf ein mit Kupferfolie kaschiertes Trägermaterial ein entsprechendes Leitungsrnuster mittels einer säurebeständigen Farbe aufgedruckt und die freien Teile in entsprechenden Ätzbädern weggeätzt werden.Circuits according to an etching process, with a corresponding Line pattern is printed with an acid-proof paint and the free parts in appropriate etching baths are etched away.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein reproduzierbares und billiges Verfahren zu schaffen, um auf der Oberfläche von Sendzimirwalzen ein Muster zu erzeugen, wobei die Partien der Walzenoberfläche, die dem Muster entsprechen, bis zu einer bestimmten Tiefe entferrit werden und wobei auch unter der Einwirkung von sauren Elektrolytlösungen die hochglanzpolierte Oberfläche der Sendzimirwalzen erhalten bleibt und Rißbildungen in der gehärteten Walzenoberfläche vermieden werden.The object of the invention is to create a reproducible and inexpensive method for on the surface of Sendzimir rollers to generate a pattern, with the parts of the roller surface that form the pattern correspond to be removed to a certain depth and also under the action The highly polished surface of the Sendzimir rollers is preserved by acidic electrolyte solutions and Crack formation in the hardened roll surface can be avoided.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß auf die Oberfläche der Sendzimirwalze eine Ätzschutzschicht aus einem Lack aufgebracht wird, der gegen einen elektrochemischen Angriff beständig ist, daß nach der Trocknung des Lacks in diesem die Partien, die dem Muster entsprechen, durch mechanische, schneidende Bearbeitung oder auf fotochemischem Weg entfernt werden, und daß die von der Schutzschicht befreiten und ungeschützten Teile der Walzenoberfläche in einem einzigen Arbeitsgang elektrolytisch in einer Schwefelsäure und Phosphorsäure sowie 2 bis 20% eines Chromats oder Bichromats als Oxidationsmittel und nicht mehr als 5 bis 30% Wasser enthaltenden Elektrolytlösung mit einer Ab-This object is achieved in that on the surface of the Sendzimir roller Etch protection layer is applied from a lacquer that is resistant to electrochemical attack is that after the lacquer has dried, the parts that correspond to the pattern are mechanically cutting machining or photochemically removed, and that of the Protective layer freed and unprotected parts of the roll surface in a single operation electrolytically in a sulfuric acid and phosphoric acid as well as 2 to 20% of a chromate or bichromate as an oxidizing agent and electrolyte solution containing no more than 5 to 30% water with a waste

lösegeschwindigkeit von 0,1 bis 10 μιη/Μίη, geätzt werden, wonach die Reste der Schutzschicht entfernt werden.dissolving speed from 0.1 to 10 μm / Μίη, etched after which the remains of the protective layer are removed.

Überraschenderweise hat sich gezeigt, daß erst durch die Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens auch die Herstellung von Sendzimirwalzen zu einem Preis möglich ist, der nur etwa 2% des Preises des mechanischen Gravierverfahrens beträgt. Dabei ist das Aufbringen von Mustern auf Sendzimirwalzen aus gehärtetem SpezialStahl durch elektrolytisches Ätzen möglich, was insbesondere für die Abmessungen des Musters gilt, welche die Tiefe oder das Relief des Musters ausmachen. Das erfindungsgemäße Verfahren gestattet es, diese Abmessungsverhältnisse immer wieder zu reproduzieren, d. h. das Aufbringen des Muters zu steuern. Dies ist um so überraschender, als bei Sendzimirwalzen für Kaltwalzwerke nicht nur die erhabenen Teile des Musters der Walzenoberfläche hochglanzpoliert sein müssen, sondern auch die bis zu einer bestimmten Tiefe entfernten Teile der Walzenoberfläche. Da sowohl die erhabenen wie auch die tiefer gelegenen Teile der Walzenoberfläche von Sendzimirwalzen beim Einwalzen eines Musters in eine Blechoberfläche mit dem zum Fließen gebrachten Material des Bleches in Berührung kommen und sich dabei die Oberflächenstruktur der erhabenen wie der tiefer gelegenen Partien der Walzenoberfläche der Sendzimirwalze auf dem Blech wiederfindet. Es is'. daher von größter Bedeutung, daß auch die tiefer ge ■ legenen Partien der Walzenoberfläche bei Sendzimirwalzen hochglanzpoliert sind. Überraschenderweise hat sich nun gezeigt, daß bei Verwendung der erfindun£sgemäßen Ek ktrolytlösungen die hochglanzpolierte Überfläche der SendzimirwaJren erhalten bleibt und der elektrochemische Angriff in der Weise erfolgt, daß Rißbildungen in der gehärteten Walzenoberf lache der Sendzimirwalze vermieden weruen.Surprisingly, it has been shown that only by using the method according to the invention is it possible to manufacture Sendzimir rollers at a price which is only about 2% of the price of the mechanical engraving method. The application of patterns to Sendzimir rollers made of hardened special steel by electrolytic etching is possible, which applies in particular to the dimensions of the pattern, which make up the depth or the relief of the pattern. The method according to the invention makes it possible to reproduce these dimensional relationships again and again, ie to control the application of the nut. This is all the more surprising since, in the case of Sendzimir rolls for cold rolling mills, not only the raised parts of the pattern of the roll surface have to be polished to a high gloss, but also the parts of the roll surface that are removed to a certain depth. Since both the raised and the deeper parts of the roll surface of Sendzimir rolls come into contact with the material of the sheet that has been made to flow when a pattern is rolled into a sheet metal surface and the surface structure of the raised as well as the deeper parts of the roll surface of the Sendzimir roll on the Tin finds again. It is'. It is therefore of the utmost importance that the deeper parts of the roll surface of Sendzimir rolls are polished to a high gloss. Surprisingly, it has now been shown that when using the acrylic solutions according to the invention, the highly polished surface of the Sendzimir rolls is retained and the electrochemical attack takes place in such a way that cracks in the hardened roll surface of the Sendzimir roll are avoided.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann vorteilhaft zum Herstellen von Sendzimirwalzen für Kaltwalzwerke mit kleinen Durchmessern von weniger als 500 mm, vorzugsweise von etwa 40 mm angewendet werden. Solche kleine Walzen sind verhältnismäßig billig und benötigen wenig Rauf η; nach Abnützung des Musters kann ein neues Muster ohne großen Zeitverlust wieder eingeätzt werden. Es spielt dabei keine große Rolle, ob es sich um einfache oder komplizierte Muster handelt. Auch ist es möglich, ohne große Kostenbelastung ein umfangreiches Musterprogramm zu erstellen. The method according to the invention can be advantageous for producing Sendzimir rolls for cold rolling mills with small diameters of less than 500 mm, preferably of about 40 mm can be used. Such small rollers are relatively cheap and require little Rauf η; after the pattern has worn off a new pattern can be etched in again without losing a lot of time. It doesn't matter a great deal Matter whether the patterns are simple or complicated. It is also possible without any major cost burden to create a comprehensive sample program.

Der säurefeste Lack kann Neopren oder einen gummiartigen Kunststoff aus vernetzbarem, sulfochloriertem Polyäthylen enthalten. Die Kombinationslacke können Filmbildner enthalten, z. B. trocknende öle, Alkydharze, Polyvinylacetat, Polyacrylester, Polymethacrylester, Polyvinyläther, Nitrozellulose und Kunstharz. Ferner kann der Lack Pigmente aufweisen. Besonders geeignet ist ein Kombinationslack aus 60% einer Mischung von Cellulose und Alkydharz, Rest Pigment und Lösungsmittel.The acid-resistant paint can be neoprene or a rubber-like plastic made of crosslinkable, sulfochlorinated Contains polyethylene. The combination lacquers can contain film formers, e.g. B. drying oils, alkyd resins, polyvinyl acetate, polyacrylic esters, polymethacrylic esters, polyvinyl ethers, nitrocellulose and synthetic resin. The lacquer can also contain pigments. A combination paint made of 60% a mixture of cellulose and alkyd resin is particularly suitable, Remainder pigment and solvent.

Der säurefeste Lack kann auf die Walzenoberf lache aufgespritzt oder mit einem Spachtel aufgetragen werden. Besonders geeignet ist das sogenannte Manschettenverfahren, bei dem die Herstellung von Lackschichten mit gleichförmiger Dicke gelingt, was dadurch erreicht wird, daß ein konischer Körper längs des zylindrischen Walzenkörpers und konzentrisch hierzu entlang einer Mantellinie geführt wird.The acid-resistant lacquer can be sprayed onto the roller surface or applied with a spatula will. The so-called cuff method is particularly suitable, in which the production of varnish layers with a uniform thickness succeeds, which is what what is achieved is that a conical body along the cylindrical roller body and concentrically this is done along a surface line.

Die zu ätzenden Oberflächenstellen der Sendzimirwalze können dadurch freigelegt werden, daß man zur Herstellung einfacher und unregelmäßiger Muster den säurefesten Lack örtlich und mit Unterbrechungen aufträgt, so daß einzelne Stellen der Oberfläche nicht vom Lack bedeckt werden. Es ist auch möglich, zunächst eine geschlossene Lackschicht herzustellen und diese anschließend entsprechend dem gewünschten Muster wieder stellenweise zu entfernen. Am einfachsten kann dies dadurch geschehen, daß man das Mu-ο liter in den Lack einschneidet oder mechanisch eingraviert. Dabei darf die Walzenoberfläche nicht verletzt werden. Diese mechanischen Methoden eignen sich insbesondere für Muster mit rechteckigen oder quadratischen Formen. Zum Eingravieren kompliziertej:er Muster in den Lack können elektronisch gesteuerte Graviermaschinen verwendet werden. The areas of the surface of the Sendzimir roller to be etched can be exposed by using the Production of simple and irregular patterns locally and intermittently with the acid-proof paint applies so that individual areas of the surface are not covered by the paint. It is also possible initially to produce a closed layer of lacquer and then according to the desired To remove the pattern again in places. The easiest this can be done by cutting the mu-ο liter into the paint or mechanically engraving it. The roller surface must not be damaged in the process. These mechanical methods are suitable especially for patterns with rectangular or square shapes. Complicated to engrave Electronically controlled engraving machines can be used to create patterns in the paint.

Das Muster kann auch dadurch in die Lackschicht eingearbeitet werden, daß man diese an den zu ätzenden Stellen mit organischen Lösungsmitteln herauslöst. Als Lösungsmittel eignen sich insbesondere aliphatische und aromatische Kohlenwasserstoffe, Äther, Alkohole, Ketone und Ester. Besonders geeignet sind Azeton und Lackverdünner.The pattern can also be worked into the lacquer layer by attaching it to the one to be etched Dissolves places with organic solvents. Aliphatic solvents are particularly suitable and aromatic hydrocarbons, ethers, alcohols, ketones and esters. Particularly suitable are acetone and paint thinner.

Beim fotochemischen Verfahren wird die Lackschicht mit einer durch Belichtung wasserunlöslich iverdenden, lichtempfindlichen Schicht belegt, die durch ein dem einzuätzenden Muster entsprechendes Negativ hindurch an den nicht zu ätzende:) Stellen belichtet und gegebenenlalls entwickelt und fixiert wird, worauf die nichtbelichteten Teile der lichtempfindlichen Schicht durch Spülen mit Wasser und unter Freilegung der herauszidösenden Teile der Lackschicht weggelöst werden. Für die lichtempfindliche Schicht können alle herkömmlichen wasserlöslichen licht-In the photochemical process, the lacquer layer becomes insoluble in water through exposure to light The iverdenden, light-sensitive layer is covered by a pattern corresponding to the pattern to be etched Negative through the areas that are not to be etched :) exposed and, if necessary, developed and fixed, whereupon the unexposed parts of the photosensitive layer by rinsing with water and exposing the dissolving parts of the paint layer are dissolved away. For the light-sensitive layer all conventional water-soluble light-

J5 empfindlichen Schichten verwendet werden, die durch Belichtung wasserunlöslich werden. Auch sollen die lichtempfindlichen Schichten sich an den belichteten Stellen nicht von dem zur Herauslösung des Lacks verwendeten Lösungsmittel weglösen lassen. Geeig-J5 sensitive layers are used that run through Exposure to water-insoluble. The photosensitive layers should also follow the exposed ones Do not let spots dissolve away from the solvent used to dissolve the paint. Suitable

net sind wasserlösliche kolloidale Fotolacke oder Fotoschichten auf Kunstharz- oder Ewveißbasis, z. B. Fotoschichten mit einer Basis von Gelatine, Fischleim, Eialbumin, Sojaeiweiß, Kohlehydraten, wie Stärke, Dextrin, Gummiarabicum, Celluloseäther, Celluloseester und Polyvinylalkohol. Besonders geeignet ist ein lichtempfindlicher Lack. Die verwendeten lichtempfindlichen Lacke enthalten Zusätze, welche sich beim Belichten fotochemisch umwandeln und dabei mit dem Basismaterial der Fotoschicht reagieren undnet are water-soluble colloidal photoresists or photolayers based on synthetic resin or Ewveiß, z. B. Photo layers with a base of gelatin, isinglass, egg albumin, soy protein, carbohydrates such as starch, Dextrin, gum arabic, cellulose ether, cellulose ester and polyvinyl alcohol. A light-sensitive lacquer is particularly suitable. The photosensitive used Varnishes contain additives which are photochemically converted during exposure and thereby react with the base material of the photo layer and

diese wasserunlöslich machen. Als lichtempfindlicher 2'usatz eignet sich Chromat oder Bichromat, welche sich beim Belichten in Chrom-III-salze umwandeln und dabei das Basismaterial einer Art Gerbreaktion unterwerfen. Der Fotolack soll vorzugsweise alkalischmake these water-insoluble. Being more sensitive to light 2'usatz is suitable chromate or bichromate, which convert to chromium III salts when exposed to light and subject the base material to a kind of tanning reaction. The photoresist should preferably be alkaline

reagieren, was etwa durch einen Zusatz von Ammoniak oder Borax erreicht wird. Zum Auftragen des Fotolackes eignet sich am besten das oben beschriebene Manschettenverfahren. Die Dicke der Fotoschicht soll vorzugsweise etwa 2 bis 5 μπι betragen,react, which is achieved, for example, by adding ammonia or borax. To apply the For photoresist, the cuff process described above is best. The thickness of the photo layer should preferably be about 2 to 5 μπι,

sie wird nach dem Auftragen in der Wärme getrocknet. Zum Ablösen der nichtbelichteten Teile der lichtempfindlichen Schicht eignen sich Wasser oder wäßrige Salzlösungen.
Bei der anschließenden Behandlung der freigeleg-it is dried in the heat after application. Water or aqueous salt solutions are suitable for removing the unexposed parts of the photosensitive layer.
During the subsequent treatment of the exposed

ton Lackstellen durch das Lacklösungsmittel werden die unter dem belichteten Fotolack liegenden Lackpartien nicht angegriffen. Es konnte beobachtet werden, daß sich beim Weglösen des Lackes die RänderThe lacquer areas underneath the exposed photoresist become the lacquer areas caused by the lacquer solvent not attacked. It could be observed that when the lacquer was removed, the edges were removed

der wasserunlöslich gemachten belichteten Fotoschicht über die Kanten der Lackschichtkonturen legen und auf diese Weise die Konturen vor einem Angriff des Lösungsmittels und vor einem Unterspülen schützen. Gemäß einer bevorzugten Ausführung der Erfindung wird die Oberfläche der Ätzschutzschicht vor dem Auftragen der fotomechanischen Schicht aufgerauht.Place the exposed photo layer made water-insoluble over the edges of the lacquer layer contours and in this way the contours before attack by the solvent and before underwashing protection. According to a preferred embodiment of the invention, the surface of the etch protection layer roughened before applying the photomechanical layer.

Die Muster werden in einer Schwefelsäure und Phosphorsäure sowie 2 bis 20% eines Chromate oder Bichromate als Oxidationsmittel und nicht mehr als 5 bis 30% Wasser enthaltenden Elektrolytlösung geätzt. Die elektrolytische Ätzung kann bei erhöhten Temperaturen, vorzugsweise bei Temperaturen bis zu 40° C durchgeführt werden. Vorteilhaft wird bei der elektrolytischen Ätzung der Oberfläche von Sendzimirwalzen eine Stromdichte von 10 bis 150 A/dm² vorzugsweise 30 bis 80 A/dm², eine Spannung von 2 bis 20 Volt, vorzugsweise von 4 bis 8 Volt und eine Ablösungsgeschwindigkeit von 0,1 bis 10 μΐη/Μίη., vorzugsweise von 1 bis 5 μπι/Min. gewählt. Die zu ätzende Walze bildet die Anode, die Kathode besteht aus rostfreiem Stahl. Bei der Ätzung können Flsnkenschutzmittel angewendet werden. Diese können gesondert auf die teilweise geätzte Platte aufgetragen werden. Es können auch Flankenschutzmittel, wie z. B. Dioctylsuccinatester dem Ätzbad zugesetzt werden. The patterns are etched in an electrolyte solution containing sulfuric acid and phosphoric acid as well as 2 to 20% of a chromate or bichromate as an oxidizing agent and no more than 5 to 30% water. The electrolytic etching can be carried out at elevated temperatures, preferably at temperatures up to 40.degree. ^{A current density of 10 to 150 A / dm 2,} preferably 30 to 80 A / dm ² , a voltage of 2 to 20 volts, preferably 4 to 8 volts and a peeling rate of 0.1 are advantageous in the electrolytic etching of the surface of Sendzimir rollers to 10 μΐη / Μίη., preferably from 1 to 5 μπι / min. chosen. The roller to be etched forms the anode, the cathode is made of stainless steel. Ink repellants can be used for the etching. These can be applied separately to the partially etched plate. It can also flank protection agents, such as. B. Dioctyl succinate ester can be added to the etching bath.

Im folgenden wird die Erfindung an Hand von Beispielen näher erläutert.The invention is explained in more detail below with the aid of examples.

example 1

Eine Sendzimirwalze aus gehärtetem Stahl und mit einem Durchmesser von etwa 39 mm wird unter Verwendung von Tetrachlorkohlenstoff oder Benzin sorgfältig von Fett oder öl gereinigt. Danach wird eine Schicht von signalrotem Kombinationslack mit Hilfe des Manschettenverfahrens aufgetragen und an der Luft getrocknet. Die Oberfläche der getrockneten Lackschicht wird mit einem Schmirgeltuch aufgerauht. Danach wird ein lichtempfindlicher Lack mit Hilfe des Manschettenverfahrens im Dunkelraum aufgebracht.A sendzimir roller made of hardened steel and with a diameter of about 39 mm is made using carbon tetrachloride or gasoline carefully cleaned of fat or oil. After that, a Layer of signal red combination varnish applied with the help of the cuff method and on the Air dried. The surface of the dried paint layer is roughened with an emery cloth. After that, a photosensitive varnish is made using the cuff method in the dark room upset.

Ein Filmnegativ mit dem gewünschten Muster wird rund um die Walze gelegt, worauf diese mit Hilfe einer Quecksilberlampe belichtet wird. Nach Entfernen des Negativs wird die Walze mit kaltem Wasser gespült, wobei die nicht belichteten Fotolackstellen weggelöst . werden. Danach wird die Walze mit Azeton gespült, wobei die bei der Weglösung des Fotolackes freigelegten Bereiche der Lackschicht herausgelöst werden.· ίο Dabei wird die Walzenoberfläche entsprechend dem gewählten Muster partiell freigelegt.A film negative with the desired pattern is placed around the roller, whereupon this with the help of a Mercury lamp is exposed. After removing the negative, the roller is rinsed with cold water, whereby the unexposed photoresist areas dissolved away. will. Then the roller is rinsed with acetone, whereby the areas of the resist layer exposed when the photoresist is removed are dissolved out. ίο The roller surface is corresponding to the Selected pattern partially exposed.

Die so vorbereitete Walze wird daraufhin elektrolytisch geätzt. Die Elektrolytlösung hat folgende Zusammensetzung:
59% H₃PO₄
17% H₂SO₄
4% Na₂CrO₄
20% WasserThe roller prepared in this way is then electrolytically etched. The electrolyte solution has the following composition:
59% H ₃ PO ₄
17% H ₂ SO ₄
4% Na ₂ CrO ₄
20% water

Die elektrolytische Ätzung wird bei einer Temperatur von maximal 40° C, bei einer Stromdichte von 30 A/dm² und bei einer Spannung von 4 Volt durchgeführt. Als Kathode dient rostfreier Stahl. Die Ablösegeschwindigkeit beträgt 0,9 μπι/Νίϊη. Nach beendeter Ätzung wird der Lack mit Azeton abgewaschen. Diese Walzen werden mit Vorteil zum Musterwalzen von Bändern aus rostfreiem Chrom-Nickel- oder Chromstahl verwendet.The electrolytic etching is carried out at a maximum temperature of 40 ° C., at a current density of 30 A / dm ² and at a voltage of 4 volts. Stainless steel is used as the cathode. The speed of detachment is 0.9 μm / Νίϊη. After the etching has ended, the lacquer is washed off with acetone. These rollers are used to advantage for pattern rolling strips made of stainless chrome-nickel or chrome steel.

Example 2

Die Sendzimirwalze wird gemäß Beispiel 1 vorbereitet. Die Elektrolytlösung hat folgende Zusammensetzung: The Sendzimir roll is prepared according to Example 1. The electrolyte solution has the following composition:

62% H₃PO₄
16% H₂SO₄
J5 13% Na₂Cr₂O₇
4% Na₂CrO₄
5% Wasser62% H ₃ PO ₄
16% H ₂ SO ₄
J5 13% Na ₂ Cr ₂ O ₇
4% Na ₂ CrO ₄
5% water

Die Ätzung wird bei einer Temperatur von bis zuThe etching is carried out at a temperature of up to

40° C, einer Stromdichte von 80 A/dm² und einer Spannung von 4 Volt durchgeführt. Die Ablösege-40 ° C, a current density of 80 A / dm ² and a voltage of 4 volts. The replacement

schwindigkeit beträgt 4 μπι/Min. Im übrigen geltenspeed is 4 μπι / min. Otherwise apply

die Angaben des Beispiels 1.the details of example 1.

Claims

Claims;

1. Method of creating a pattern on the surface of Sendzimir rolls of cold rolling mills, the parts of the roll surface that correspond to the pattern up to one certain depth are removed, characterized in that on the surface of the Sendzimir roller an etch protection layer is applied from a lacquer, which is against an electrochemical It is resistant to attack that after the lacquer has dried in this the parts that correspond to the pattern, by mechanical, cutting or photochemical processing Be removed away, and that the stripped of the protective layer and unprotected parts the roll surface electrolytically in a sulfuric acid and in a single operation Phosphoric acid and 2 to 20% of a chromate or bichromate as an oxidizing agent and not Electrolyte solution containing more than 5 to 30% water with a removal rate of 0.1 up to 10 μΐη / min. are etched, after which the remains the protective layer can be removed.

2. The method according to claim 1, characterized in that an electrolyte solution with 59% H ₃ PO ₄ , 17% H ₂ SO ₄ , 4% Na ₂ CrO ₄ and 20% water is used.

3. The method according to claim 1 or 2, characterized in that on the etch protection layer a solvent-resistant, but water-soluble photochemical layer is applied to the using a photographic negative the pattern is exposed that the exposed Layer is developed and fixed and then the unexposed parts of the photochemical layer are removed and the surface with organic solvents to remove those parts of the Etch protection layer that are not covered by the exposed photochemical layer treated will.

4. The method according to one or more of claims 1 to 3, characterized in that the surface of the anti-etch layer by means of roughening before applying the photochemical Layer is treated.

5. Application of the method according to claims 1 to 4 on Sendzimir rollers with a Diameter of less than 500 mm, preferably about 40 mm.