DE19616187A1 - Vorrichtung zum Anregen elektrischer Entladungen mittels getakteter Spannungsspitzen - Google Patents
Vorrichtung zum Anregen elektrischer Entladungen mittels getakteter SpannungsspitzenInfo
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Description
Die Anregung elektrischer Entladungen in Gasen erfolgt nach Stand der Technik
häufig mit hochfrequenter Wechselspannung. Für viele plasmachemische oder plas
maphysikalische Prozesse ist es erforderlich, bereits bei mäßiger mittlerer Leistung
hohe Spitzenleistungen zu erreichen. Ein bekanntes Verfahren ist die Austastung
niederfrequenter Pulsgruppen aus einer hochfrequenten Grundschwingung mittels
zu regelmäßigen Zeitpunkten geschalteten Halbleiterelementen, das im folgenden
getaktete Anregung genannt wird. Gegenstand dieser Erfindung ist das Prinzip,
umgekehrt durch Zuschalten einer höchstfrequenten Komponente zu einer nieder
frequenten Grundschwingung eine kurzzeitige Leistungsüberhöhung zu erreichen.
Plasmagestützte Prozesse kommen bei der Deposition von Schichtsystemen in der
Halbleiterherstellung oder Werkstückveredelung, bei der Teilereinigung und bei
plasmachemischen Umsetzungen in der Gasphase zum Einsatz. Besonders die
Nachbehandlung von Abgasen aus Verbrennungsmotoren, mit dem Ziel Stickoxide
oder Kohlenwasserstoffe zu vermindern, ist ein Anwendungsfall, wo beste energe
tische Wirkungsgrade erforderlich sind. Aber auch für die Oberflächenbehandlung
ist eine Verminderung des Energieeinsatzes nötig; hier weniger aufgrund der elek
trischen Anschlußleistung der Generatoren, als vielmehr um die Wärmebelastung
der Bauteile im tolerierbaren Bereich zu halten.
Zur Beschichtung kommen vor allem Niederdruckplasmen vom Typ der Glimm
entladung zum Einsatz. Hier werden im Druckbereich von 1-100 Pa diffuse Gas
entladungen von 50-1000 mm Ausdehnung erzeugt. Bei Zufuhr reaktiver Gase
werden diese im Entladungsbereich zersetzt und an Oberflächen in der Umgebung,
die zu Werkstücken aber auch zu Rezipientenwänden gehören können, findet die
Schichtdeposition statt.
Abtragen durch Plasmen wird vorwiegend mit edelgas-, sauerstoff- oder halogen
haltigen Gasen von 0.01-1 Pa Druck durchgeführt. Bei Verwendung von Edelga
sen findet ein Herausschlagen von Atomen aus der zu behandelnden Oberfläche
durch Einschlag schneller positiver Ionen statt. Reaktivgase können diesen Prozeß
verstärken oder die Selektivität erhöhen, indem zusätzlich chemische Energie zur
Verfügung gestellt wird.
Bogenentladungen in einem weiten Druckbereich von Niederdruck bis hin zum
Atmosphärendruck eignen sich zur Erzeugung lokalisierter Plasmen von wenigen
Millimetern Ausdehnung. Durch diese heißen Bereiche kann entweder für die Um
setzung von Gasen das zu behandelnde Gas geströmt werden oder es wird mittels
eines Arbeitsgasstrahls die Energie aus dem Bogen zu der Behandlungszone trans
portiert.
Im atmosphärischen Druckbereich kommen vor allem Barrierenentladungen oder
Koronaentladungen zum Einsatz, die es erlauben, trotz der hohen Stoßfrequenz
zwischen Elektronen und schweren Teilchen eine nichtthermische Energievertei
lung einzustellen. Im Fall der Barrierenentladung wird durch ein Selbstabschalten
der Entladung die Energie nur während eines kurzen Zeitfensters von 5-50 ns einge
bracht, während die Koronaentladung mittels spitzer oder kantiger Elektroden ein
stark inhomogenes elektrisches Feld erzeugt. In beiden Fällen wird den Elektronen
nur kurz Energie zugeführt, so daß nur wenige Stöße stattfinden können.
Plasmachemische und plasmaphysikalische Prozesse werden durch schnelle, im
Plasma gebildete, Teilchen ausgelöst. Dies sind negativ geladene Elektronen und
positiv geladene Ionen, die durch Ionisierung im elektrischen Feld gebildet und
zwischen den Stößen mit anderen Gasteilchen beschleunigt werden. Dadurch er
geben sich jeweils besondere Energieverteilungsfunktionen, denen gemeinsam ist,
daß relativ viele Teilchen eine niedrige kinetische Energie besitzen und nur wenige
Teilchen oberhalb der Mindestenergie vorliegen, die für den erwünschten Prozeß
erforderlich ist. Damit läuft der Prozeß vergleichsweise langsam ab; die nieder
energetischen Teilchen tragen jedoch in erheblichem Maße zum elektrischen Lei
stungsbedarf und zu den thermischen Verlusten in der Entladung bei.
Eine Verminderung der eingebrachten Leistung verlangsamt den Plasmaprozeß
noch weiter, während eine Leistungserhöhung zu einer Verstärkung von uner
wünschten Aufheizeffekten führt. Es ist bekannt, durch Austastung von Puls
gruppen aus der hochfrequenten Anregungsspannung die im zeitlichen Mittel ein
gebrachte Leistung zu vermindern, ohne die momentane Leistung, die für die En
ergieverteilung ausschlaggebend ist, zu verändern. Dabei wird ausgenutzt, daß
die Aufheizung von Gas und Oberflächen ein vergleichsweise langsam ablaufender
Vorgang ist, während die Einstellung der Energieverteilung auf deutlich kürzerer
Zeitskala abläuft. Werden jedoch Plasmaprozesse mit schnellen Flächenraten oder
hohen Gasdurchsätzen erwartet, so ist es erforderlich, die durch die Pausen in der
Anregung entstandene Verminderung der mittleren Leistung durch eine Erhöhung
der momentanen Leistung zu kompensieren. Die damit verbundene Spannungs
erhöhung erreicht jedoch Grenzen der Generator und Übertragungstechnik oder
führt zur Ausbildung von Instabilitäten in der Entladung.
Wird nun jedoch der Anregungsspannung ein kurzzeitiger Leistungspuls überlagert,
so kann die eingebrachte Leistung weiter erhöht und die Verteilungsfunktion zu
höheren Teilchenenergien hin verschoben werden.
Vor der Zündung einer Gasentladung stellen die Elektroden eines Plasmasystems
vornehmlich eine kapazitive Last dar, die - induktiv über einen Transformator
mit einem Taktgeber gekoppelt - als Schwingkreis mit hoher Güte, d. h. mit ver
schwindenden elektrischen Verlusten, betrieben werden kann. Die elektrische Span
nung zwischen den Elektroden kann dabei erhebliche Werte erreichen, wobei bis
zu Amplituden knapp unter der Zündspannung kein nennenswerter Energiever
brauch stattfindet. Bei einer geringfügigen weiteren Spannungserhöhung zündet
die Gasentladung und nimmt etwas Leistung aus dem Schwingkreis auf, bis die
anliegende Spannung wieder unter die Löschspannung, die in der Regel niedri
ger als die Zündspannung ist, abfällt. Um eine Zündung der Gasentladung im
ganzen Volumen zu erreichen, muß jedoch erheblich Leistung zugeführt werden,
indem die Spannungsamplitude deutlich über die Zündspannung erhöht wird. Bei
sinusförmigen Spannungen heißt dies, daß während eines signifikanten Anteils der
Periodendauer die momentane Spannung über der Zündspannung liegt und sich
im Elektrodensystem ein gezündetes Plasma befindet. Dies verändert jedoch die
Kapazität der Elektroden und damit die Resonanzfrequenz des Schwingkreises;
aufgrund der Fehlanpassung kommt es zu elektrischen Verlusten, die sich zur im
Plasma umgesetzten Leistung addieren und den Wirkungsgrad der elektrischen
Anregung bestimmen.
Die Literatur kennt verschiedene Generatortypen, die diesem Verhalten von Gas
entladungen durch nicht sinusförmige Spannungen zu begegnen suchen.
Eine besonders effektive Methode zur Erzeugung hoher Spannungen wird in [1]
beschrieben. Unter Verwendung von Grundschaltungen, die aus der Schaltnetzteil
technik bekannt sind, wird gleichgerichtete und geglättete Netzspannung erneut,
diesmal aber hochfrequent, zerhackt und hochtransformiert. Bei phasenrichtiger
Ansteuerung der primärseitigen Schalttransistoren wird aufgrund des Frequenzgan
ges des oder der Transformatoren eine annähernd sinusförmige Spannung mit sehr
hohem Wirkungsgrad von deutlich über 90% erzielt. In [2] wird dieses Anregungs
prinzip weitergebildet, indem die Schaltzeitpunkte der Transistoren so verändert
werden, daß sich nicht sinusförmige (auch anharmonisch genannte) Spannungsfor
men ergeben. Zwar kann damit, insbesondere bei Niederdruckentladungen, eine
vorteilhafte Beeinflussung des Plasmas erreicht werden, jedoch sinkt der elektrische
Wirkungsgrad der Anregung deutlich ab.
Eine besonders freizügige Regelung des Spannungsverlaufs wird möglich, wenn auf
die Übertragung mittels eines Transformators verzichtet wird und leistungsfähige
Gleichspannungsquellen über Schaltelemente niederinduktiv direkt mit der Last
verbunden werden [3]. Neben Rechteckspannungen beliebiger Polarität, Frequenz,
Einschaltdauer und Tastverhältnisses werden auch Gruppen schneller Spannungs
peaks zu sehr phantasievollen Pulsmustern zusammengefaßt. Während sich bei
geschickter Auswahl dieser Muster durchaus Verbesserungen für die jeweilige Gas
entladung ergeben, ist der beschriebene Generatortyp aufgrund der fehlenden Rück
speisemöglichkeit von Blindströmen leider energetisch ineffektiv.
Von Untersuchungen an Barrierenentladungen zur Schadstoffminderung in Abga
sen (4, 5] ist jedoch bekannt, daß derartige Rechteckspannungen in der Entla
dung selbst bessere Wirkungsgrade ermöglichen. Versuche, annähernd rechteckige
Spannungen mit schnellen Anstiegen zu erzeugen, indem spezielle Pulstransforma
toren kurzzeitig angesteuert werden, zeigen bisher jedoch nur unbefriedigende Wir
kungsgrade [6, 7]. Die Anregungsspannungen zeigen zudem unkontrollierte Über
schwinger nach den Anstiegen, die unter Verlusten weggedämpft werden müssen
oder, insbesondere bei kapazitiv angeregten Gasentladungen, zu unerwünschten
Rückzündungen führen können.
Eine spezielle Form der Pulsgruppenmodulation wird erreicht, wenn zwei kon
tinuierliche Sinusspannungen deutlich unterschiedlicher Frequenz, beispielsweise
10 kHz und 27 MHz, überlagert werden [8]. Entsprechend einer Schwebung erhält
die Amplitude der einen hochfrequenten Sinusspannung eine ebenfalls sinusförmige
Einhüllende, wodurch der zeitliche Verlauf der Leistungsdichte im Plasma in vor
teilhafter Weise moduliert werden kann.
Ein sehr ähnliches, jedoch deutlich weitergehen des Prinzip der Überlagerung si
nusförmiger Spannungen wird in [9] beschrieben. Hier werden jedoch Frequenzen
ähnlicher Größenordnung benutzt, die geradzahlige Harmonische einer Grundfre
quenz sind und die sich entsprechend der Fouriersynthese periodisch zu großen
Strom- oder Spannungspulsen konstruktiv überlagern. Jede der mit unterschiedli
cher Frequenz betriebenen Stufen dieses Generators speichert über längere Zeit in
einem Schwingkreis etwa die gleiche Energie, die dann von allen Stufen gleichzeitig
an die Last abgegeben wird. In Anwendungsfällen, wo ein gigantischer freistehender
Spannungspuls von bis zu 100 kV Amplitude nicht erforderlich ist, verbietet sich
jedoch der hohe Schaltungsaufwand zum phasenrichtigen Betreiben von fünf oder
mehr einzelnen Stufen, die jeweils dem in [1] beschriebenen Prinzip entsprechen.
[1] J. KLEIN: Hochspannungsgenerator für elektrische, kapazitive Anteile ent
haltende Lasten, insbesondere für Laser. Patentanmeldung DE 41 12 161,
13. April 1991.
[2] W. NEFF, K. POCHNER, J. KLEIN, R. LEBERT, P. LOOSEN: Verfah
ren zur Anregung von Gasentladungen. Patentanmeldung DE 43 07 768,
11. März 1993.
[3] G. MARK, ET AL. Produktinformation, Magtron GmbH, Ottersweier, 1995.
[4] S. BRÖER, T. HAMMER, M. RÖMHELD: Abstract zu Behandlung von
Dieselabgasen durch dielektrisch behinderte Entladungen; Verh. DPG
(VI) 31(1996) 741.
[5] S. BRÖER, T. HAMMER, M. ROMHELD: Behandlung von Dieselabgasen
durch dielektrisch behinderte Entladungen. Vortrag, DPG-Frühjahrstagung
Plasmaphysik, Rostock, 19. März 1996.
[6] M. SPAAN, H. F. DÖBELE: Abstract zu Untersuchungen zur Elektronen
energie in einer dielektrisch behinderten Entladung in N₂/O₂-Gemischen;
Verh. DPG (VI) 31(1996) 725.
Verh. DPG (VI) 31(1996) 725.
[7] M. SPAAN, H. F. DÖBELE: Untersuchungen zur Elektronenenergie in ei
ner dielektrisch behinderten Entladung in N₂/O₂-Gemischen. Poster,
DPG-Frühjahrstagung Plasmaphysik, Rostock, 19. März 1996.
[8] A. DEHOFF, W. MATTKE: Schaltungsanordnung für Plasmareaktoren.
Patentanmeldung DD 2 95 061,11. Apr. 1990.
Patentanmeldung DD 2 95 061,11. Apr. 1990.
[9] J. KLEIN: Pulsspannungsquelle. Patentanmeldung DE 43 11 455,1993.
Entscheidende Parameter für die Energieverteilung in Gasentladungen sind die im
Gas herrschende elektrische Feldstärke und die Teilchendichte. Die Gasdichte ist
jedoch durch Druck und Temperatur bestimmt und wird meist durch den An
wendungsfall diktiert. Eine Erhöhung der mittleren kinetischen Energie ist also
nur durch Erhöhung der Feldstärke möglich. Die Feldstärke zum Zeitpunkt der
Zündung ist jedoch ihrerseits durch die Gasart vorgegeben. Da ein zufälliges
Vorhandensein freier Ladungsträger für die Initiierung der Ionisierung erforder
lich ist, ist die Zündung einer Gasentladung ein statistischer Prozeß, mit einer
gewissen zeitlichen Schwankung. Vom Überschreiten der theoretischen Zünd
feldstärke an bleibt also ein kurzer zufallsbestimmter Zeitraum, bis tatsächlich
die Zündung erfolgt. Die Energieverteilung wird jedoch durch die tatsächlich herr
schende Feldstärke bestimmt, so daß eine schnelle Erhöhung der angelegten Span
nung höhere mittlere Teilchenenergien zur Folge hat.
Verfahren, die mit extrem hohen Anregungsfrequenzen die erforderlichen kurzen
Anstiegszeiten der Spannung realisieren, sind technisch aufwendig und mit schlech
tem elektrischen Wirkungsgrad behaftet. Im Sinne der vorliegenden Erfindung wird
daher mit niedriger Frequenz und folglich langsamem Spannungsanstieg das System
bis knapp an die Zündgrenze gebracht. Dies ist mit geringem Schaltungsaufwand
und hohen elektrischen Wirkungsgraden möglich. Kurz vor dem Spannungsma
ximum der Grundfrequenz wird dann ein für schnelle Anstiegszeiten optimierter
Spannungspuls überlagert, der die Gasentladung zum Zünden bringt. Die dabei
auftretenden elektrischen Verluste tragen aufgrund der kurzen Dauer kaum zu einer
Wirkungsgradabnahme bei.
Alternativ kann der kurze Spannungspuls auch bereits in der ansteigenden Flanke
der Grundschwingung überlagert werden, wodurch sich der steilere Anstieg schon
bei niedrigerer momentaner Anregungsspannung auswirkt. Eine Weiterbildung der
Erfindung stellt die Überlagerung einer schnellen bipolaren Pulsspannung zum Zeit
punkt des Nulldurchgangs der Grundschwingung dar. Letzteres kann bei Systemen
mit dielektrischen Elektroden und kapazitiver Anregung erforderlich sein, um be
reits bei der, aufgrund von Oberflächenladungen verfrühten, Rückzündung den
steilen Spannungsanstieg anzubieten.
Ohne die Allgemeinheit der Erfindung für die Verwendung mit anderen Typen von
Gasentladungen zu beschränken wird im folgenden die Funktionsweise anhand einer
Barrierenentladung bei Atmosphärendruck erläutert.
Abb. 1 zeigt mit durchgezogener Linie den zeitlichen Spannungsverlauf U(t)
einer Wechselspannung mit niederfrequenter Grundschwingung, die für sich alleine
genommen die Entladung nicht zu zünden vermag. Die waagerechten gestrichelten
Linien zeigen für die positive und negative Spannungshalbwelle jeweils die Zünd
spannungen UZ, die mindestens überschritten werden müssen, um eine Gasentla
dung zu erzeugen. Werden nun mit einer Phasenverschiebung von ΔL zusätzlich
hochfrequente Spannungspulse (A, B) angelegt, so kann jeweils für kurze Zeit
eine Entladung zünden. Aus Gründen der besseren Sichtbarkeit sind die gestri
chelt eingezeichneten Spannungspulse länger als nötig dargestellt. Im Falle einer
Barrierenentladung kommt hinzu, daß auch während der kurzen Zeitdauer τ die
Entladung nicht ständig brennt, sondern nur für jeweils wenige Nanosekunden
kurz nach Überschreiten der Zündspannungsgrenze, also beispielsweise zum Zeit
punkt t₁. Ein günstiger Wert für die Frequenz der niederfrequenten Schwingung
liegt zwischen 500 und 5 000 Hertz; die kurzen Spannungspulse sollten etwas länger
als die Dauer des Stromflusses in der Barrierenentladung, d. h. nach derzeitigem
Stand der Technik so kurz wie schaltungstechnisch möglich, sein, aber zumindest
einige Mikrosekunden nicht überschreiten.
Der zeitliche Verlauf der Spannungspulse ist in Abb. 3 wiedergegeben. Die
Spannungspulse können unipolar (Pulsfolge A-A-A-. . .) oder bipolar (A-B-A-B-
. . .) angelegt werden. Darüber hinaus kann die in die Entladung eingebrachte
Leistung durch Austastung einzelner Pulse oder von Pulsgruppen geregelt werden.
Hierbei macht man sich erneut den Umstand zu Nutze, daß die während der ganzen
Zeit weiter anliegende Spannung mit der niederfrequenten Grundschwingung alleine
die Zündspannung nicht überschreitet und damit verlustarm ist.
Eine andere Korrelation der sinusförmigen Grundspannung mit den Spannungspul
sen ergibt sich in Abb. 2 durch Verstellen des Zeitdelays Δt. Der kurze
Puls liegt nunmehr bereits in der ansteigenden Flanke der Spannung an. Hier kann
es vorteilhaft sein, wie eben beschrieben die niederfrequente Spannung unter der
Zündspannung UZ zu halten (angedeutet durch Linie 1), oder darüber (Linie 2).
Die letztere Möglichkeit erlaubt, den Puls, wie dargestellt, gerade zum Zeitpunkt
des Überschreitens der Zündspannung anzulegen, wodurch während der kritischen
Phase des statistischen Zeitdelays bis zur tatsächlichen Zündung die Feldstärke
gesteigert werden kann.
In Abb. 4 und Abb. 5 sind die der Grundschwingung (1) überlager
ten Spannungen (2) ebenfalls sinusförmig und besitzen die drei- bzw. fünffache
Frequenz. Dadurch lassen sich weitgehend rechteckähnliche Ausgangsspannungen
erzeugen. Gegenüber den mit dem Stand der Technik erzeugten, viel schöneren,
Rechtecken hat die Erzeugung im Sinne der Erfindung den Vorteil technischer
Einfachheit. Wichtig ist dabei, daß die Restwelligkeit der Spannung den Entla
dungsverlauf nicht stört, solange die überlagerte hochfrequente Komponente für
sich alleine nicht die Zündspannung UZ überschreitet. Eine erneute und hier un
erwünschte Zündung einer Barrierenentladung wird nämlich nur stattfinden, wenn
nach Verlöschen der vorhergehenden Entladung der Betrag der Spannungsände
rung höher wird, als die (von der Nullinie an gerechnete) Zündspannung. Ohne
Beschränkung sind nach diesem Prinzip auch die Überlagerung höherer ungerad
zahliger Harmonischer (3, 5, 7, 9, . . .) möglich, wenngleich die Unterdrückung der
unerwünschten Rückzündungen zunehmend schwieriger wird.
Schließlich zeigt Abb. 6 einen Ausweg, um nach dem gleichen Prinzip doch
zu höheren Frequenzanteilen zu gelangen. Einzelne, in der zweiten Reihe erneut
separat gezeichnete, bipolare Pulse werden jeweils zum Zeitpunkt des Nulldurch
ganges der Grundschwingung zugeschaltet. Es spielt dabei kaum eine Rolle, ob,
wie in der dritten Reihe dargestellt, der hochfrequente Puls Überschwinger zeigt,
solange die Amplitude des ersten Überschwingers für sich alleine betrachtet nicht
die Zündspannung übersteigt.
Claims (13)
1. Verfahren zur Anregung von Gasentladurigen (G), bei dem die
Gasentladung (G) mit einer ersten Wechselspannung (u₁(t))
im Bereich zwischen 500 Hz und 5000 Hz, noch ohne Zündung
der Gasentladung beaufschlagt wird und der ersten
Wechselspannung (u₁(t)) ein Spannungspuls (A,B,A′B′) mit
ihr gegenüber deutlich kürzerer Anstiegszeit überlagert
wird, um die Gasentladung (G) zu zünden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Frequenz der ersten Wechselspannung nahe der
Resonanzfrequenz des von der kapazitiv wirkenden
ungezündeten Gasentladung (G) und der Induktivität eines
Transformators des Taktgebers gebildeten Schwingkreises
liegt.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Spannungspulse (A, B) schnelle
Anstiegszeiten haben, wobei ihre Dauer eine Mikrosekunden
nicht überschreitet.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Spannungspulse (A, B) zum Zeitpunkt
der Zündung der Gasentladung angelegt werden, bevorzugt
pro Halbwelle nur ein einzelner Spannungspuls (A, B) oder
ein einzelner Doppel-Spannungspuls (A′, B′) überlagert
wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die Amplitude der ersten
Wechselspannung (u₁(t)) ohne Überlagerung der
Spannungspulse (A,B) nicht für eine Zündung der
Gasentladung ausreicht.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die Spannungspulse
- (a) als bipolare Pulse (A) in jeder Halbwelle der ersten Wechselspannung mit abwechselnder Polarität überlagert werden; oder
- (b) als unipolare Pulse (A′,B′; A,B) stets die gleiche Polarität aufweisen und nur in einer der Halbwellen der ersten Wechselspannung zugeschaltet werden.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß der Spannungspuls zu einem
Zeitpunkt (α) kurz vor dem Spannungsmaximum der ersten
Wechselspannung (u₁) überlagert wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch
gekennzeichnet, daß der Spannungspuls in der
Anstiegsflanke, insbesondere nahe am Nulldurchgang der
ersten Wechselspannung (u₁(t)) überlagert wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis B, dadurch
gekennzeichnet, daß aus den Spannungspulsen einzelne Pulse
oder Pulsgruppen ausgetastet werden.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß die Spannungspulse (A′, B′) bipolar
sind, wobei sie aus jeweils zeitlich aufeinander folgenden
positivem und negativem Anteil bestehen.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß
die bipolaren Spannungspulse jeweils zum Zeitpunkt des
Nulldurchganges der Wechselspannung angelegt werden.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 oder 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die bipolaren Spannungspulse zu einem
Wellenzug verknüpft werden, der jeweils zum Zeitpunkt
eines Nulldurchgangs der Wechselspannung einen
resultierenden steileren Nulldurchgang der Gesamtspannung
erzeugt.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß
die Wiederholfrequenz des Wellenzuges ein ungeradzahliges
Vielfaches der Frequenz der ersten Wechselspannung
darstellt.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1996116187 DE19616187B4 (de) | 1996-04-23 | 1996-04-23 | Anregen elektrischer Gas-Entladungen mit Spannungspulsen |
PCT/DE1997/000811 WO1997040515A1 (de) | 1996-04-23 | 1997-04-23 | Anregen elektrischer entladungen mit kurzzeit-spannungspulsen |
DE1997117127 DE19717127A1 (de) | 1996-04-23 | 1997-04-23 | Anregen elektrischer Entladungen mit Kurzzeit-Spannungspulsen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1996116187 DE19616187B4 (de) | 1996-04-23 | 1996-04-23 | Anregen elektrischer Gas-Entladungen mit Spannungspulsen |
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---|---|
DE19616187A1 true DE19616187A1 (de) | 1997-11-06 |
DE19616187B4 DE19616187B4 (de) | 2004-03-25 |
Family
ID=7792199
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1996116187 Expired - Fee Related DE19616187B4 (de) | 1996-04-23 | 1996-04-23 | Anregen elektrischer Gas-Entladungen mit Spannungspulsen |
Country Status (2)
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DE102019135497B4 (de) | 2019-12-20 | 2021-11-11 | Nova Plasma Ltd | Piezoelektrischer Plasmagenerator und Verfahren zum Betrieb eines piezoelektrischen Plasmagenerators |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1997040515A1 (de) | 1997-10-30 |
DE19616187B4 (de) | 2004-03-25 |
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