DE19519161A1 - Piezoelektrische Abtastvorrichtung - Google Patents
Piezoelektrische AbtastvorrichtungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine piezoelektrische Abtastvorrich
tung und insbesondere eine Abtastvorrichtung zum Abtasten
eines Spiegels.
Verfahren zum Abtasten eines optischen Spiegels mittels
piezoelektrischer Betätigungseinrichtungen sind bekannt.
Ein Beispiel einer derartigen Abtastvorrichtung ist in
Fig. 1 gezeigt. Sie umfaßt vier piezoelektrische Platten
elemente 1, die über ein flexibles Gelenk 2 an einem Spie
gel 3 befestigt sind. Jedes Plattenelement 1 umfaßt zwei
piezoelektrische Platten, die so befestigt sind, daß eine an
den Zentrumskontakt angelegte Spannung das Plattenelement
dazu bringt, sich zu verbiegen. Eine Zwei-Achsen-Bewegung
über relativ kleine Abtastwinkel ist möglich.
Im allgemeinen müssen die Plattenelemente um so größer sein,
je größer der erforderliche Abtastwinkel ist, und infolge
dessen müssen die Plattenelemente, um große Winkel abzuta
sten, oft flächenmäßig größer sein als der Spiegel, der
abgetastet wird. Oft ist nicht erwünscht, daß der Platten
elementmechanismus eine größere Fläche als die Spiegelöff
nung bedeckt, und zwar aufgrund von Raumknappheit innerhalb
des optischen Systems und insbesondere dann, wenn mehrere
derartige Abtastvorrichtungen in einem Feld angelegt werden
sollen. Die Erfindung gestattet größere Abtastwinkel inner
halb eines begrenzten Bereiches.
Die Erfindung schafft eine piezoelektrische Abtastvorrich
tung mit einem abzutastenden Bauteil und einem Paar von
piezoelektrischen Plattenelementen, die sich transversal zum
Bauteil erstrecken und an einem Ende auf ein Aufbauelement
wirken, das mit dem Bauteil verbunden ist, wobei die Platten
elemente ausgelegt sind, so zu verbiegen, daß ihre Enden auf
das Aufbauelement zu oder von diesem weg gedrängt werden,
wenn Spannung angelegt ist, und wobei die Positionen entlang
des Aufbauelementes, an welchen die Enden der Plattenelemen
te wirken, versetzt sind, um das Bauteil zu veranlassen,
sich zu drehen, wenn die Enden aufeinander zu oder vonein
ander weg gedrängt werden.
Die transversale Anordnung der piezoelektrischen Plattenele
mente gestattet es, größere Winkelablenkungen des Bauteils
in einer Anordnung zu erzielen, in welcher sich die Platten
elemente nicht über die lateralen Abmessungen der Oberfläche
hinaus erstrecken, wie es beispielsweise im Fall eines Fel
des von Elementen wünschenswert wäre, da in diesem Fall die
Länge der Elemente nicht durch die lateralen Abmessungen der
Oberfläche eingeschränkt sein würde.
Das abzutastende Bauteil kann ein Spiegel sein.
Um dem Bauteil zu erlauben, sich um zwei orthogonale Achsen
drehen zu können, kann ein zweites Paar von Plattenelementen
vorgesehen sein.
Vorteilhafterweise wirken die Enden der Plattenelemente auf
das Aufbauelement über elastische Bauteile, zum Beispiel aus
Silicongummi. Das Aufbauelement kann ein sich von der Rück
seite der Oberfläche aus erstreckender Pfosten sein. Ab
standhalter können zwischen die Enden und die elastischen
Bauteile gesetzt sein, um die Verwendung breiterer Platten
elemente in einer Situation zu gestatten, in der zwei Paare
von Plattenelementen eingesetzt werden.
Jedes Plattenelement besteht wünschenswerterweise aus zwei
Schichten piezoelektrischen Materials, von denen sich eine
ausdehnt und die andere zusammenzieht, wenn Spannung ange
legt wird.
Die Erfindung wird im folgenden beispielhaft anhand der
Zeichnung beschrieben; in dieser zeigt:
Fig. 2a eine Schnittdraufsicht von einer Form einer
piezoelektrischen Abtastvorrichtung,
Fig. 2b eine Seitenansicht der Abtastvorrichtung von
Fig. 2a, und
Fig. 3 eine Seitenansicht von einer weiteren Form
einer piezoelektrischen Abtastvorrichtung.
Nach den Fig. 2a und 2b sind vier piezoelektrische
Plattenelemente 4, 5, 6 und 7 senkrecht zu einem Spiegel 8
ausgerichtet, der auf einem Aufbauelement 9 angebracht ist.
Jedes Plattenelement umfaßt ein Paar von piezoelektrischen
Platten, von denen sich eine ausdehnt und die andere
zusammenzieht, wenn Spannung angelegt wird. Infolgedessen
verbiegt jede Platte bei angelegter Spannung. Dieses
Element 9 ist an jeweiligen Ecken der Plattenelemente 4-7
über elastische Bauteile 10-13 aus Silicongummi befestigt.
Die Plattenelemente 4 und 6 sind in der Seitenansicht von
Fig. 2b gezeigt, wobei der Deutlichkeit halber die Platten
elemente 5 und 7 in diesem Diagramm nicht gezeigt sind. Die
elastischen Bauteile 10 und 12, die an den Plattenelemen
ten 4 bzw. 6 befestigt sind, sind in unterschiedlichen Höhen
mit dem Aufbauelement 9 verbunden. Die Plattenelemente 4-7
sind gleich lang, und so ist die Basis 14, an der sie be
festigt sind, so ausgeführt, daß jedes Plattenelement die
gleiche Basismaterial-Tiefe durchdringt.
Die Plattenelemente 4 und 6 sind so angeordnet, daß bei ange
legter Spannung die auf das Aufbauelement 9 wirkenden Enden
sich entweder auf das Aufbauelement zu oder von diesem weg
biegen, und zwar in Abhängigkeit vom Vorzeichen der Span
nung. Die resultierenden, entgegengesetzten Kräfte errich
ten ein Drehmoment um einen Punkt, der von den Wirkungspunk
ten der Kräfte auf das Aufbauelement gleich weit entfernt
ist. Somit dreht sich der Spiegel 8 um einen Drehpunkt 15
entlang der Achse 16 von Fig. 2a. Wenn Spannung an dem
Paar von Elementen 5 und 7 angelegt ist, biegen sich die auf
das Aufbauelement 9 wirkenden Kräfte auf ähnliche Weise auf
das Aufbauelement zu oder von diesem weg, und zwar gemäß dem
Vorzeichen der angelegten Spannung, und dies bewirkt, daß
sich der Spiegel 8 um eine Achse 17 dreht. Auf diese Weise
kann eine Winkelbewegung des Spiegels 8 um eine der beiden
Achsen oder um beide Achsen in Kombination erzielt werden.
Fig. 3 zeigt eine alternative, Ein-Achsen-Abtastvorrich
tung, und in dieser Ausführungsform sind lediglich zwei
Plattenelemente 18 und 19 vorhanden, die so breit wie der
Spiegel 27 sein können. Jedes Element ist an einem Aufbau
pfosten 20 mittels elastischer Bauteile 21, 22 befestigt,
die an den Enden starrer Abstandhalterbauteile 23, 24
fixiert sind. Das Vorsehen von Abstandhalterbauteilen ge
stattet eine leichte Herstellung der Abtastvorrichtung, da
die anderen Enden der Plattenelemente einfach an den Seiten
der Basis 25 fixiert werden können. In der Abtastvorrich
tung von Fig. 3 veranlaßt das Anlegen einer Spannung an die
Plattenelemente 18 und 19 die am Aufbauelement 20 angebrach
ten Enden, sich entweder auf das Aufbauelement zu oder von
diesem weg zu bewegen, wodurch der Spiegel dazu gebracht
wird, um den Punkt 26 wie zuvor zu kippen, wobei die Bewe
gung des Spiegels lediglich entlang einer Achse stattfindet.
Die Verwendung von starren Abstandhalterbauteilen gestattet
die Verwendung eines zusätzlichen Paares von Plattenelemen
ten. Diese können an den anderen zwei Seiten der Basis 25
befestigt werden. Die Verwendung dieser Abstandhalterelemen
te gestattet die Verwendung breiterer Plattenelemente als
bei der Ausführungsform der Fig. 2a, 2b. Der Vorteil
davon ist, daß das Volumen der piezoelektrischen Platten
erhöht wird, wodurch die Steifheit der Plattenelemente und
somit die Betriebsgeschwindigkeit vergrößert wird. Der
Spiegel kann daher schneller abgetastet werden.
Der halbe Abtastwinkel ist gegeben durch die Gleichung
wobei d₃₁ der piezoelektrische Ladungskoeffizient des piezo
elektrischen Materials, V die angelegte Spannung, l die
aktive Länge der Plattenelemente, a die Dicke des piezo
elektrischen Materials und h der halbe Abstand zwischen den
flexiblen Bauteilen ist.
Mit den Werten d₃₁ = 250 × 10-12 m/V, Spannung + 80 V,
l = 15 mm, a = 0,2 mm und h = 1 mm ergibt sich ein erwarte
ter Winkel von ± 5°.
Die Resonanzfrequenz der Abtastvorrichtung ist gegeben
durch:
wobei I das Trägheitsmoment des Spiegels ist und K, die
Kraftkonstante der piezoelektrischen Plattenelemente, gege
ben ist durch die Gleichung:
wobei Y der Elastizitätsmodul des piezoelektrischen Mate
rials und b dessen Breite ist. Bei einem 10 × 10 × 1 mm-
Siliziumspiegel mit einem Trägheitsmoment I = 1 × 10-8 Kgm²,
b = 7 mm und Elastizitätsmodul Y = 7 × 10¹⁰ Nm-2 beträgt die
Resonanzfrequenz 125 Hz.
Die Abtastvorrichtungen erzeugen sowohl etwas lineare verti
kale Bewegung als auch die Abtastbewegung, jedoch kann
berechnet werden, daß dies für die obigen Abtastvorrichtun
gen weniger als 30 Mikron beträgt.
Die beschriebenen Abtastvorrichtungen besitzen somit eine
große Abtastbewegung (± 5° für eine Spannung von 80 V), eine
hohe Resonanzfrequenz (125 Hz), und ihre Antriebsmechanismen
sind vollständig innerhalb des Bereiches der Spiegelöffnung
enthalten. Die Tiefe der Abtastvorrichtungen, einschließ
lich Spiegel und Halterung, könnte so ausgeführt werden, daß
sie weniger als 25 mm beträgt, wodurch sich ein Gesamt
volumen von 3,6 × 10-6 m³ ergibt.
Um ein maximales Drehmoment zu erzeugen, sollte idealerweise
der Teil des Aufbauelementes, auf den die Plattenelemente
wirken, dünn sein. Dies kann erzielt werden, indem entweder
der sich erstreckende, pfostenartige Teil des Aufbauelemen
tes so dünn wie möglich ausgeführt wird oder dieser Teil des
Aufbauelements eingeschnitten wird und die elastischen Bau
teile in die sich ergebenden Räume eingesetzt werden, so daß
die Wirkungspunkte auf dem Aufbauelement der durch die
Plattenelemente erzeugten Kräfte und der Drehpunkt auf einer
Geraden liegen, und zwar senkrecht zur Ebene des Spiegels.
Die beschriebenen Abtastvorrichtungsmechanismen könnten dazu
verwendet werden, andere Einrichtungen als Spiegel abzuta
sten, beispielsweise könnten Laserdioden verwendet werden.
Unabhängig davon, ob die Abtastvorrichtung einen Spiegel
oder eine Laserdiode trägt, ist die Erfindung insbesondere
auf ein Feld von Spiegeln (oder Laserdioden etc.) anwendbar,
da der Ablenkmechanismus (die Plattenelemente) sich nicht
über den Vorsprung des Oberflächenbereiches des Spiegels
etc. erstrecken. Ein besonderer Vorteil der Erfindung be
steht darin, daß die transversale Anordnung der Plattenele
mente die Verwendung von Elementen gestattet, welche die
lateralen Abmessungen des Spiegels überschreiten. Weitere
Alternativen können vorgenommen werden, ohne vom Umfang der
Erfindung abzuweichen. Beispielsweise zeigen die
Fig. 2a, 2b und 3 die piezoelektrischen Plattenelemente
senkrecht zur Ebene des Spiegels angebracht, jedoch könnte
jedes Plattenelement schräg angebracht sein.
Zusammengefaßt wird somit eine piezoelektrische Abtastvor
richtung beschrieben, welche ein abzutastendes Bauteil, zum
Beispiel einen Spiegel und ein Paar von piezoelektrischen
Plattenelementen umfaßt, die sich transversal zum Bauteil
erstrecken und an einem Ende auf ein Aufbauelement wirken,
das mit dem Bauteil verbunden ist, wobei die Plattenelemente
ausgelegt sind, so zu verbiegen, daß ihre Enden auf das
Aufbauelement zu oder von diesem weg gedrängt werden, wenn
Spannung angelegt ist, und wobei die Positionen entlang des
Aufbauelements, an welchen die Enden der Plattenelemente
wirken, versetzt sind, um das Bauteil zu veranlassen, sich
zu drehen, wenn die Enden aufeinander zu oder voneinander
weg gedrängt werden. Ein Feld derartiger Abtastvorrichtun
gen kann vorgesehen sein, wodurch größere Abtastwinkel als
bisher gestattet werden, da die transversale Anordnung der
Plattenelemente die Länge von Elementen nicht auf die late
ralen Abmessungen des Spiegels beschränkt.
Claims (8)
1. Piezoelektrische Abtastvorrichtung mit einem abzutasten
den Bauteil und einem Paar von piezoelektrischen Platten
elementen, die sich transversal zum Bauteil erstrecken
und an einem Ende auf ein Aufbauelement wirken, das mit
dem Bauteil verbunden ist, wobei die Plattenelemente
ausgelegt sind, so zu verbiegen, daß ihre Enden auf das
Aufbauelement zu oder von diesem weg gedrängt werden,
wenn Spannung angelegt ist, und wobei die Positionen
entlang des Aufbauelementes, an welchen die Enden der
Plattenelemente wirken, versetzt sind, um das Bauteil zu
veranlassen, sich zu drehen, wenn die Enden aufeinander
zu oder voneinander weg gedrängt werden.
2. Piezoelektrische Abtastvorrichtung nach Anspruch 1,
in der das Bauteil ein Spiegel ist.
3. Abtastvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
in der die Plattenelemente mit dem Aufbauelement mittels
elastischer Bauteile verbunden sind.
4. Abtastvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
in der starre Abstandhalterbauteile zwischen die Platten
elemente und die elastischen Bauteile gesetzt sind.
5. Abtastvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
in der die Plattenelemente jeweils aus zwei Lagen piezo
elektrischen Materials bestehen.
6. Abtastvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
in der die Plattenelemente senkrecht zum abzutastenden
Bauteil angebracht sind.
7. Abtastvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
in der ein weiteres Paar von sich transversal zum Bau
teil erstreckenden Plattenelementen vorgesehen ist.
8. Feld von Abtastvorrichtungen, wobei jede Abtastvorrich
tung nach einem der Ansprüche 1 bis 7 ausgebildet ist
und die abzutastenden Bauteile in einem Feld angeordnet
sind.
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GB9410439A GB9410439D0 (en) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | Piezoelectric scanner |
Publications (1)
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FR (1) | FR2720521B1 (de) |
GB (2) | GB9410439D0 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0831351A2 (de) | 1996-09-19 | 1998-03-25 | Carl Zeiss | Kippvorrichtung |
EP0831269A2 (de) | 1996-09-19 | 1998-03-25 | Carl Zeiss | Verfahren zur Lagerung einer Kippvorrichtung und Kippvorrichtung |
DE10243229A1 (de) * | 2002-09-17 | 2004-04-01 | Bundesrepublik Deutschland, vertr. d. d. Bundesministerium für Wirtschaft und Arbeit, dieses vertr. d. d. Präsidenten der Physikalisch-Technischen Bundesanstalt | Optischer Kleinwinkelgenerator |
EP3461787A4 (de) * | 2016-06-28 | 2019-06-19 | Huawei Technologies Co., Ltd. | Mikrospiegeleinheit und herstellungsverfahren, mikrospiegelanordnung und modul zur optischen querverbindung |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2316762A (en) * | 1996-08-24 | 1998-03-04 | Marconi Gec Ltd | Oscillating the mirror of a scanner using piezoelectric elements |
KR100389865B1 (ko) | 2001-03-02 | 2003-07-04 | 삼성전자주식회사 | 마이크로미러 디바이스 및 이를 채용한 프로젝터 |
GB2385196B (en) * | 2002-02-11 | 2005-08-17 | 1 Ltd | Amplified actuator |
DE102008015281A1 (de) * | 2008-03-20 | 2009-10-08 | Eads Deutschland Gmbh | Vorrichtung zur Lenkung von Lichtstrahlen |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1497399A (en) * | 1974-04-26 | 1978-01-12 | Secretary Industry Brit | Angular oscillation devices |
GB1514687A (en) * | 1976-12-16 | 1978-06-21 | Decca Ltd | Vibratile optical boresight |
WO1985005464A1 (en) * | 1984-05-24 | 1985-12-05 | The Commonwealth Of Australia Care Of The Secretar | Focal plane scanning device |
-
1994
- 1994-05-25 GB GB9410439A patent/GB9410439D0/en active Pending
-
1995
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0831351A2 (de) | 1996-09-19 | 1998-03-25 | Carl Zeiss | Kippvorrichtung |
EP0831269A2 (de) | 1996-09-19 | 1998-03-25 | Carl Zeiss | Verfahren zur Lagerung einer Kippvorrichtung und Kippvorrichtung |
US5803609A (en) * | 1996-09-19 | 1998-09-08 | Carl-Zeiss-Stiftung | Process for providing a bearing of a tilting device and tilting device |
EP0831351A3 (de) * | 1996-09-19 | 1998-09-16 | Carl Zeiss | Kippvorrichtung |
US6059250A (en) * | 1996-09-19 | 2000-05-09 | Carl-Zeiss-Stiftung | Tilting device |
DE10243229A1 (de) * | 2002-09-17 | 2004-04-01 | Bundesrepublik Deutschland, vertr. d. d. Bundesministerium für Wirtschaft und Arbeit, dieses vertr. d. d. Präsidenten der Physikalisch-Technischen Bundesanstalt | Optischer Kleinwinkelgenerator |
DE10243229B4 (de) * | 2002-09-17 | 2005-03-03 | Bundesrepublik Deutschland, vertr. d. d. Bundesministerium für Wirtschaft und Arbeit, dieses vertr. d. d. Präsidenten der Physikalisch-Technischen Bundesanstalt | Optischer Kleinwinkelgenerator |
EP3461787A4 (de) * | 2016-06-28 | 2019-06-19 | Huawei Technologies Co., Ltd. | Mikrospiegeleinheit und herstellungsverfahren, mikrospiegelanordnung und modul zur optischen querverbindung |
Also Published As
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GB2289773A (en) | 1995-11-29 |
GB9510536D0 (en) | 1995-08-02 |
GB2289773B (en) | 1997-10-01 |
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FR2720521B1 (fr) | 1996-09-06 |
GB9410439D0 (en) | 1994-07-13 |
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