DE19518598A1 - Method for evaluating spectral lines emitted from inductively coupled plasma - Google Patents

Method for evaluating spectral lines emitted from inductively coupled plasma

Info

Publication number
DE19518598A1
DE19518598A1 DE1995118598 DE19518598A DE19518598A1 DE 19518598 A1 DE19518598 A1 DE 19518598A1 DE 1995118598 DE1995118598 DE 1995118598 DE 19518598 A DE19518598 A DE 19518598A DE 19518598 A1 DE19518598 A1 DE 19518598A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
plasma
axis
arrangement according
incidence
spectral lines
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE1995118598
Other languages
German (de)
Inventor
Winfried Dipl Phys Quillfeldt
Thomas Dipl Ing Mehner
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Analytik Jena AG
Original Assignee
Carl Zeiss Jena GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss Jena GmbH filed Critical Carl Zeiss Jena GmbH
Priority to DE1995118598 priority Critical patent/DE19518598A1/en
Publication of DE19518598A1 publication Critical patent/DE19518598A1/en
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/0006—Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature
    • H05H1/0012—Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature using electromagnetic or particle radiation, e.g. interferometry
    • H05H1/0037—Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature using electromagnetic or particle radiation, e.g. interferometry by spectrometry
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
    • G01N21/73—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited using plasma burners or torches

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)

Abstract

The method involves at least one spectrometer with which its optical direction of incidence (a2,a3) encloses an angle alpha to the plasma axis (a1), with 0< alpha <45 deg . To control the signal/noise ratio of the spectral lines under investigation the position of the point of intersection of the optical direction of incidence with the plasma axis is varied.

Description

Zur Auswertung der in einem induktiv gekoppelten Plasma (ICP) bei Zuführung einer Probe entstehenden spektralen Verteilung ist es bekannt, der Plasmaflamme eine spektrometrische Anordnung zuzuordnen, die die von der Anregungsquelle emittierte Strahlung in separate Wellenlängen aufspaltet, wobei die Intensität ausgewählter Wellenlängen bestimmt wird. Es sind zwei Arten der Zuordnung der Plasmaflamme zu den dispergierenden optischen Systemen bei verschiedenen ICP- Spektrometern bekannt:For the evaluation of the in an inductively coupled plasma (ICP) spectral distribution arising when a sample is supplied it is known that the plasma flame is spectrometric Assign the arrangement to that of the excitation source emitted radiation splits into separate wavelengths, whereby the intensity of selected wavelengths is determined. There are two ways of assigning the plasma flame to the dispersing optical systems in various ICP Spectrometers known:

  • a) Die Spektrometerachse und die durch die Ausbreitungsrichtung der Argongasströme aus ihren Zuführungsrohren definierte Plasmaachse stehen im rechten Winkel zueinander (side- on-Beobachtung).
    (G.L. MOORE; Introduction to ICP- AES; Elsevier Amsterdam - Oxford - New York - Tokio 1989, S. 112, 115), wobei die Abnahme des Spektrallichtes auch über Lichtleiter erfolgen kann, die senkrecht zur Plasmaachse stehen (SPECTROFLAME, Fa. SPECTRO)    a) The spectrometer axis and the plasma axis defined by the direction of propagation of the argon gas streams from their feed pipes are at right angles to one another (side-on observation).
    (GL MOORE; Introduction to ICP-AES; Elsevier Amsterdam - Oxford - New York - Tokyo 1989, pp. 112, 115), whereby the spectral light can also be taken off via light guides that are perpendicular to the plasma axis (SPECTROFLAME, SPECTRO )
  • b) Die Spektrometerachse stellt die verlängerte Plasmaachse dar (end-on-Beobachtung).
    (G.L. MOORE; Introduction to ICP- AES; Elsevier Amsterdam - Oxford - New York - Tokio 1989, S. 128)    b) The spectrometer axis represents the extended plasma axis (end-on observation).
    (GL MOORE; Introduction to ICP- AES; Elsevier Amsterdam - Oxford - New York - Tokyo 1989, p. 128)

Der Vorteil der Abbildungsart a) ist die einfache und betriebssichere Anordnung der Komponenten für die Plasmaerzeugung und das dispergierende optische System (DOS) Nachteilig ist es, daß neben der Strahlung der interessierenden chemischen Elemente eine intensitätsstarke Strahlung des Plasmatoroids mit erfaßt wird.The advantage of type a) is the simple and reliable arrangement of the components for the Plasma generation and the dispersing optical system (DOS) The disadvantage is that in addition to the radiation of interest chemical elements an intense radiation of the Plasmatoroids is detected with.

Wird entsprechend b) das Plasma in gerader Linie auf ein DOS gerichtet, dann wird ein höheres Nachweisvermögen als bei den beiden ersten Arten erreicht, aber es bestehen auch Nachteile:
Die heißen Plasmagase sind direkt auf die Abbildungsoptik des Spektrometers gerichtet und können diese thermisch beeinflussen. If, according to b), the plasma is directed in a straight line onto a DOS, a higher detection capacity is achieved than with the first two types, but there are also disadvantages:
The hot plasma gases are aimed directly at the imaging optics of the spectrometer and can influence this thermally.

Es ist nur ein DOS ankoppelbar, wenn nicht mit optischen Mitteln ( Strahlteiler) unter Hinnahme von Verlusten mehrere Systeme versorgt werden.Only a DOS can be connected, if not with an optical one Averaging (beam splitter) taking losses into account Systems are supplied.

Es tritt Selbstabsorption auf, da die in einer heißen Zone emittierte Strahlung auf dem Weg zum DOS eine relativ kalte Zone durchläuft, in der die gleichen Atome wie in der heißen Anregungszone sind.Self absorption occurs because it is in a hot zone emitted radiation on the way to DOS a relatively cold one Passes through in the same atoms as in the hot one Are excitation zone.

Diese kalte Zone wird noch dadurch verstärkt, daß einmal zum Schutz der Abbildungsoptik und zum anderen um die Transmission für Wellenlängen unter 190 nm zu ermöglichen ein Gasstrom gegen das Plasma geblasen wird. Die Selbstabsorption begrenzt den möglichen analysierbaren Konzentrationsbereich nach oben.This cold zone is reinforced by the fact that once to Protection of the imaging optics and secondly about the transmission allow gas flow for wavelengths below 190 nm is blown against the plasma. The self absorption limits the possible analyzable concentration range upwards.

Aufgabe der Erfindung ist es nunmehr, eine Anordnung zu finden, die alle obengenannten Nachteile umgeht oder mindestens reduziert und trotzdem ein gegenüber a) erhöhtes Nachweisvermögen ermöglicht.The object of the invention is now to an arrangement find that circumvents all of the above disadvantages or at least reduced and still a higher than a) Evidence enabled.

Die Aufgabe wird durch eine Anordnung gemäß dem ersten Anspruch sowie ein Verfahren gemäß Anspruch 9 gelöst. Bevorzugte Weiterbildungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.The object is achieved by an arrangement according to the first claim and a method according to claim 9 solved. Preferred developments are the subject of the dependent Expectations.

Erfindungsgemäß werden die Nachteile der bekannten Lösungen dadurch umgangen, daß die Abbildung nicht exakt in Richtung der Achse des Plasmas erfolgt, sondern unter einem kleinen Winkel von vorzugsweise etwa 6 bis 20°.According to the invention, the disadvantages of the known solutions circumvented by the fact that the illustration is not exactly in the direction of Axis of the plasma takes place, but at a small angle preferably about 6 to 20 °.

Bei kleinem Öffnungswinkel der Abbildungsoptik ist gewährleistet, daß nur ein unmerklich kleiner Anteil an Untergrundstrahlung aus dem Toroid des Plasmas erfaßt wird. Diese schräge Abbildung gestattet es darüber hinaus , mehrere DOS über jeweils eine eigene Abbildungsoptik an ein Plasma anzukoppeln.With a small opening angle of the imaging optics ensures that only an imperceptibly small proportion of Background radiation from the toroid of the plasma is detected. This oblique figure also allows for several DOS each has its own imaging optics on a plasma to couple.

Das ist besonders wichtig, wenn eines dieser DOS für den Vakuum-UV-Bereich oder den nahen IR-Bereich verwendet werden soll, da für die letzteren Systeme spezielle Bauelemente erforderlich sind, die in anderen Spektralbereichen nachteilig sein können. This is especially important if one of these DOS is for the Vacuum UV range or the near IR range used should be, since special for the latter systems Components are required that are in other spectral ranges can be disadvantageous.  

Von der im Anregungskanal emittierten Spektrallinienstrahlung wird ein größerer Anteil als bei side-on erfaßt und gleichzeitig der spektrale Untergrund mit geringerem Rauschen registriert.From the spectral line radiation emitted in the excitation channel a larger proportion is recorded than with side-on and at the same time the spectral background with less noise registered.

Dadurch verbessert sich das Signal-Rausch-Verhältnis um einen Faktor 5 bis 10.This improves the signal-to-noise ratio a factor of 5 to 10.

Die erfindungsgemäße Anordnung gewährleistet weiterhin, daß der Abbildungsstrahlengang nicht durch die kalte Spitze des Plasmas geht, sondern daß sich zwischen dem Anregungskanal und der Abbildungsoptik eine Plasmaschicht befindet. Damit wird bewirkt, daß die intensive Spektrallinienstrahlung keinen Bereich mit wesentlich kälteren Atomen der Analysensubstanz durchläuft, wodurch die Selbstabsorption reduziert und damit ein größerer Dynamikbereich erzielt wird.The arrangement according to the invention further ensures that the Image beam path not through the cold tip of the plasma goes, but that between the excitation channel and the Imaging optics a plasma layer is located. So that will causes the intense spectral line radiation none Area with significantly colder atoms of the analyte passes through, which reduces self-absorption and thus a larger dynamic range is achieved.

Der oben beschriebene Spülgasstrom für die Abbildungsoptik ist auch bei der schrägen Abbildung unter dem o. g. Winkel erforderlich. Er trifft aber nicht auf die Atome der Analysensubstanz ,sondern auf den Mantel des Plasmas, der wie ein Schutzschild den Anregungskanal umgibt.The purge gas flow described above for the imaging optics is also in the oblique illustration below the above angle required. But it does not hit the atoms of the Analytical substance, but on the mantle of the plasma, which like a protective shield surrounds the excitation channel.

Erstmals kann ein ICP-Spektrometer realisiert werden, das in allen Spektralbereichen maximales Nachweisvermögen und optimalen Dynamikbereich gewährleistet.For the first time, an ICP spectrometer can be realized, which in maximum detection capacity in all spectral ranges and optimal dynamic range guaranteed.

Die Erfindung wird nachstehend anhand der schematischen Darstellungen näher erläutert.The invention is described below with reference to the schematic Illustrations explained in more detail.

Es zeigen beispielhaft:The following are examples:

Fig. 1 Eine erfindungsgemäße Anordnung mit zwei DOS Fig. 1 An arrangement according to the invention with two DOS

Fig. 2 Eine detailliertere Darstellung der Plasmaumgebung Fig. 2 shows a more detailed representation of the plasma environment

Fig. 1 zeigt die Anordnung zweier nicht näher ausgeführter dispergierender optischer Systeme (DOS) 1 und 2 mit Eintrittsspalten 10 an einem Plasma 4. Fig. 1 does not show the arrangement of two nearer executed dispersing optical systems (DOS) 1 and 2 with entry columns 10 to a plasma. 4

Ein System 1 kann beispielsweise in einer Paschen-Runge- Anordnung ausgeführt sein und ist für den Vakuum-UV- Spektralbereich von 163 nm bis 196 nm optimiert und das andere System 2 kann ein Echellespektrometer für den UV-VIS- Bereich von 193 bis 852 nm sein.For example, a system 1 can be designed in a Paschen-Runge arrangement and is optimized for the vacuum UV spectral range from 163 nm to 196 nm and the other system 2 can be an Echelle spectrometer for the UV-VIS range from 193 to 852 nm his.

Beide Systeme sind unter einem Winkel α von hier etwa 10° gegen die Achse a1 des Plasmas 4 angeordnet. Der Winkel α kann für beide Systeme auch unterschiedlich sein. Die Schnittpunkte der Achsen a2, a3 der beiden DOS mit der des Plasmas 4 liegen an einer für die Spektrallinienpalette des jeweiligen Systems günstigen Stelle innerhalb des Plasmas 4 und können gegebenenfalls auch zusammenfallen.Both systems are arranged at an angle α from here about 10 ° to the axis a1 of the plasma 4 . The angle α can also be different for both systems. The points of intersection of the axes a2, a3 of the two DOS with that of the plasma 4 lie at a point within the plasma 4 which is favorable for the spectral line range of the respective system and can also coincide if necessary.

Zur Spülung des VUV-Strahlengangs wird ein mit Inertgas ( Argon, Stickstoff ) durchspültes Rohr 3 soweit wie möglich an das Plasma 4 herangeführt, wobei der Spülgasstrom auf den Mantel des Plasmas trifft.To purge the VUV beam path, a tube 3 flushed with inert gas (argon, nitrogen) is brought as far as possible to the plasma 4 , the flushing gas stream hitting the jacket of the plasma.

Fig. 2 zeigt einen Plasmabrenner 8 umgeben von einer die Hochfrequenzleistung einkoppelnden Induktorspule 9 und das erzeugte Plasma 4. Fig. 2 shows a plasma torch 8 surrounded by a high frequency power coupled-inductor 9 and the plasma generated. 4

Die beiden optischen Achsen a2, a3 der Abbildungsoptiken der DOS 1 und 2 liegen innerhalb des Plasmas und schneiden sich mit der Plasmaachse a1 in den Schnittpunkten 6 und 7. Dabei liegt der Schnittpunkt 6 so, daß die Spektrallinien, die mit dem DOS 1 empfangen werden, in einem oder mehreren analytisch relevanten Parametern wie Nachweisvermögen, Reproduzierbarkeit, Richtigkeit oder Dynamikbereich in der Mehrheit optimal sind, während der Schnittpunkt 7 für die Abbildungsoptik des DOS 2 bezüglich der mit ihm empfangenen Spektrallinien optimiert ist.The two optical axes a2, a3 of the imaging optics of DOS 1 and 2 lie within the plasma and intersect with the plasma axis a1 at the intersections 6 and 7 . The intersection 6 is such that the spectral lines that are received with the DOS 1 are optimal in one or more analytically relevant parameters such as detection capability, reproducibility, accuracy or dynamic range, while the intersection 7 for the imaging optics of the DOS 2 is optimized with regard to the spectral lines received with it.

Erfindungsgemäß kann die Lage des jeweiligen Schnittpunktes der optischen Achse eines DOS der Plasmaachse verändert werden, bis für die mit diesem DOS untersuchte Elementegruppe ein maximales Nachweisvermögen erzielt wird, d. h. der Mittelwert des Verhältnisses der gemessenen Intensität zum Signalrauschen der Einzelelemente ein Maximum annimmt.According to the invention, the location of the respective intersection the optical axis of a DOS, the plasma axis can be changed, to for the element group examined with this DOS maximum evidence is achieved, d. H. the mean the ratio of the measured intensity to the signal noise of the individual elements takes a maximum.

Claims (10)

1. Anordnung zur Auswertung der von einem induktiv gekoppelten Plasma (ICP) emittierten Spektrallinien, wobei mindestens ein Spektrometer vorgesehen ist, das bezüglich seiner optischen Einfallsrichtung mit der Plasmaachse einen Winkel α mit 0<α<45 Grad einschließt.1. Arrangement for evaluating the inductively coupled Plasma (ICP) emitted spectral lines, wherein at least one spectrometer is provided that with regard to its optical direction of incidence with the plasma axis includes an angle α with 0 <α <45 degrees. 2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Achse einer auf den Eintrittsspalt des Spektrometers abbildenden Abbildungsoptik mit der Plasmaachse einen Winkel α mit 0<α<45 einschließt.2. Arrangement according to claim 1, characterized in that the optical axis of one on the entrance slit of the spectrometer imaging optics with the plasma axis an angle α with 0 <α <45. 3.3rd Anordnung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, gekennzeichnet durch einen Winkel zur Plasmaachse in einem Bereich von 6-20 Grad.Arrangement according to one of claims 1 or 2, characterized by an angle to the plasma axis in a range of 6-20 Degree. 4. Anordnung nach einem der Ansprüche 1-3, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Spektrometer vorgesehen sind.4. Arrangement according to one of claims 1-3, characterized characterized in that several spectrometers are provided. 5. Anordnung nach einem der Ansprüche 1-4, dadurch gekennzeichnet, daß die Schnittpunkte der optischen Einfallsrichtungen mehrerer Spektrometer mit der Plasmaachse in einem Punkt zusammenfallen. 5. Arrangement according to one of claims 1-4, characterized in that the intersections of the optical directions of incidence of several The spectrometer coincides with the plasma axis at one point.   6. Anordnung nach einem der Ansprüche 1-5, dadurch gekennzeichnet, daß die Schnittpunkte der optischen Einfallsrichtungen mehrerer Spektrometer mit der Plasmaachse zur Anpassung an die jeweils von den einzelnen Spektrometern zu erfassenden Sektrallinien an verschiedenen Stellen auf der Plasmaachse liegen.6. Arrangement according to one of claims 1-5, characterized characterized in that the intersection of the optical Directions of incidence of several spectrometers with the plasma axis to adapt to each of the individual spectrometers capturing spectral lines at different points on the Plasma axis. 7. Anordnung nach einem der Ansprüche 1-6, dadurch gekennzeichnet, daß ein dispergierendes System für den Vakuum-UV-Bereich und eine mit Inertgas gespülte Abbildungsoptik vorgesehen ist, wobei der Spülgasstrom für die Abbildungsoptik unter einem Winkel von 6 bis 20° zur Plasmaachse auf das den Anregungskanal umgebende Plasma des Toroids gerichtet ist.7. Arrangement according to one of claims 1-6, characterized in that a dispersing system for the vacuum UV range and imaging optics flushed with inert gas is provided, wherein the purge gas flow for the imaging optics under one Angle from 6 to 20 ° to the plasma axis on the Excitation channel surrounding plasma of the toroid is directed. 8. Anordnung nach einem der Ansprüche 1-7, dadurch gekennzeichnet,daß Mittel zur Änderung des Schnittpunktes mit der Plasmaachse vorgesehen sind.8. Arrangement according to one of claims 1-7, characterized characterized in that means for changing the intersection with the plasma axis are provided. 9. Verfahren zum Betrieb einer Anordnung zur Auswertung der von einem induktiv gekoppelten Plasma (ICP) emittierten Spektrallinien, die mindestens ein Spektrometer aufweist, das bezüglich seiner optischen Einfallsrichtung mit der Plasmaachse einen Winkel α mit 0<α<45 Grad einschließt, wobei die Lage des Schnittpunktes der optischen Einfallsrichtung mit der Plasmaachse zur Einstellung des Signal /Rauschverhältnisses der untersuchten Spektrallinien verändert wird.9. Method for operating an arrangement for evaluating the an inductively coupled plasma (ICP) Spectral lines, which has at least one spectrometer, the with regard to its optical direction of incidence with the plasma axis encloses an angle α with 0 <α <45 degrees, where the location of the intersection of the optical Direction of incidence with the plasma axis to adjust the Signal / noise ratio of the spectral lines examined is changed.
DE1995118598 1995-05-20 1995-05-20 Method for evaluating spectral lines emitted from inductively coupled plasma Ceased DE19518598A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1995118598 DE19518598A1 (en) 1995-05-20 1995-05-20 Method for evaluating spectral lines emitted from inductively coupled plasma

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1995118598 DE19518598A1 (en) 1995-05-20 1995-05-20 Method for evaluating spectral lines emitted from inductively coupled plasma

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19518598A1 true DE19518598A1 (en) 1996-11-21

Family

ID=7762458

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1995118598 Ceased DE19518598A1 (en) 1995-05-20 1995-05-20 Method for evaluating spectral lines emitted from inductively coupled plasma

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE19518598A1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19900308A1 (en) * 1999-01-07 2000-07-13 Spectro Analytical Instr Gmbh Echelle spectrometer with 2D detector has segmented receiver that is smaller than apex radius of camera mirror center of segmented receiver and that radius forms specified angle
DE102006037995A1 (en) * 2006-08-14 2008-02-21 Bundesanstalt für Materialforschung und -Prüfung (BAM) Analysis method for nonmetals in solid samples, involves preparing analysis gases by extraction of analyte from sample by carrier gas hot extraction, where analyte is determined in analysis gas by plasma-emission spectrometer
US11460407B2 (en) 2017-08-04 2022-10-04 Carl Zeiss Jena Gmbh Sample-based gas quality control by means of raman spectroscopy

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19900308A1 (en) * 1999-01-07 2000-07-13 Spectro Analytical Instr Gmbh Echelle spectrometer with 2D detector has segmented receiver that is smaller than apex radius of camera mirror center of segmented receiver and that radius forms specified angle
DE19900308B4 (en) * 1999-01-07 2010-11-25 Spectro Analytical Instruments Gmbh Echelle spectrometer of small size with two-dimensional detector
DE102006037995A1 (en) * 2006-08-14 2008-02-21 Bundesanstalt für Materialforschung und -Prüfung (BAM) Analysis method for nonmetals in solid samples, involves preparing analysis gases by extraction of analyte from sample by carrier gas hot extraction, where analyte is determined in analysis gas by plasma-emission spectrometer
DE102006037995B4 (en) * 2006-08-14 2009-11-12 Bundesanstalt für Materialforschung und -Prüfung (BAM) Solid state sample analysis method and apparatus for carrying out the same
US11460407B2 (en) 2017-08-04 2022-10-04 Carl Zeiss Jena Gmbh Sample-based gas quality control by means of raman spectroscopy

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69532268T2 (en) Spectrometer with selectable beam path of the light coming from an inductively excited plasma source
DE102006036674B4 (en) Apparatus and method for aligning inductively coupled plasma
EP3077793B1 (en) Analysis device (photometer) having a serial light guide
EP1091205A2 (en) Spectrophotometric and nephelometric detecting system
DD225205A1 (en) LASERSPEKTRALFLUOROMETER
DE10297062B4 (en) Atomic Absorption Spectrometer
DE19518598A1 (en) Method for evaluating spectral lines emitted from inductively coupled plasma
DE19957808C2 (en) Method for determining substance concentrations and / or the flow rate in a gas, aerosol or dust and devices for carrying out the method
DE102004031643A1 (en) Non-dispersive infrared gas analyzer
EP0902272A2 (en) Atomic absorption spectrometer
DE3942375A1 (en) DEVICE FOR SIMULTANEOUS DETECTION OF SEVERAL WAVELENGTH RANGES
DE102016108544A1 (en) Measuring device and method for detecting different gases and gas concentrations
DE102022112766A1 (en) Spectrometer system for laser-induced plasma spectral analysis
DE4005878C2 (en)
Busch et al. Multiple entrance slit vidicon spectrometer for simultaneous multielement analysis
DE19531988A1 (en) Remote measurement of U (Pu) in glasses
DE112014007079B4 (en) Optical emission spectrometry instrument with a hinged spectrochemical source
DE102005000840B4 (en) Method and device for elemental analysis by laser emission spectrometry
DE3736673C2 (en)
DE102022112765B4 (en) Detection unit for the spectral analysis of a laser-induced plasma and laser-induced plasma spectrometer
JP2674675B2 (en) X-ray fluorescence analyzer
DE19652513A1 (en) Cuvette for absorption spectroscopy of gases with two optical elements
DE19932069A1 (en) Device for laser-induced emission spectrometry permits the scanning of a sample surface through a laser beam used in a definite manner.
DE4133701C2 (en) Method and device for trace analytical concentration determination of molecules in a carrier gas
DE10203439C2 (en) Device for determining element concentrations in samples using a high-resolution spectrometer

Legal Events

Date Code Title Description
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: ANALYTIK JENA GMBH, 07745 JENA, DE

8110 Request for examination paragraph 44
8131 Rejection