DE1950872C - Elektronenstrahlerzeugungssystem - Google Patents
ElektronenstrahlerzeugungssystemInfo
- Publication number
- DE1950872C DE1950872C DE1950872C DE 1950872 C DE1950872 C DE 1950872C DE 1950872 C DE1950872 C DE 1950872C
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- anode
- cathode
- magnetic field
- electrodes
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 22
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 18
- 230000003334 potential Effects 0.000 claims description 5
- 230000001902 propagating Effects 0.000 claims description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 19
- 238000009828 non-uniform distribution Methods 0.000 description 6
- 210000004279 Orbit Anatomy 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 241000530268 Lycaena heteronea Species 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
Description
2/· H[I) = pJH(y)-dy
-2· (--) H2O)-I
4 Elektronenstrahlerzeugungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet
daß die Kathode und der Basisteil der V-förmigen Elektrode in bezug auf die Axialnchtung
schräg sind.
35
EO) -=
in welchen y die eine Achse eines kartesischen Koordinatensystems, das so aufgespannt ist, daß
die x-Achse in Richtung der Fortpflanzungsrichtung des Elektronenstrahlenbündels weist und
die y-Achse senkrecht auf der Längsrichtung der Elektroden steht, / der Abstand der stabilen,
geradlinigen Elektronenstrahlbahn von der Kathode, e die Ladung eines Elektrons, «1 die Masse
eines Elektrons, P eine Konstante, H die magnetische Feldstärke und E die elektrische Feldstärke
ist.
2. Elektronenstrahlerzeugungssystem nach Anspruch 1 in einem Röhrenkolben, dadurch gekennzeichnet,
daß die V-förmige Elektrode aus einem nichtmagnetischen Material besteht und daß die Einrichtung zur Erzeugung des Magnetfeldes
ein Magnetpaar ist, das an Stellen vorgesehen ist, die symmetrisch in bezug auf eine
vertikale Fläche, die in axialer Richtung von der Röhrenachse zu der Kathode gebildet ist, und
asymmetrisch in bezug auf die Röhrenachse an dem Röhrenkolben sind, so daß die ungleichartigen
Pole der Magnete einander gegenüberliegen.
3. Elektronenstrahlerzeugungssystem nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
Kathode direkt geheizt ist, in Richtung der Röhrenachse dünn und lang ist und daß ihr Basismetall
ein Nickelband ist.
Die Erfindung betrifft ein Elektronenstrahlerzeugunessystem
mit"gekreuzten elektrischen und magnetischen Feldern, bestehend aus einer länglichen Anode,
einer ebenfalls länglichen Kathode, die der Anode parallel gegenüberliegt, und einer weiteren der Anode
gegenüberliegenden Elektrode, die auf einem Potential liegt da"s zwischen den Potentialen der Anode
und der Kathode liegt, und die Kathode flankien einer Einrichtung zur Erzeugung eines räumlich
inhomogenen Magnetfeldes H(y) im Bereich zwischen den genannten Elektroden, dessen Feldlinien die
Fortp"flanzungsrichtung des sich geradlinig ausbreitenden Elektronenstrahlenbündels rechtwinklig kreuzen
wobei die an den Elektroden liegenden elektrischen Potentiale bei einer gegebenen Magnetfeldstärke
so gewählt sind, daß sich das Elektronenstrahlenbündel in dem Raum zwischen der Anode und den
beiden anderen Elektroden parallel zur Längsausdehnung der Anode ausbreitet.
Ein solches bekanntes Elektronenstrahlerzeugungssystem
(britische Patentschrift 1 115 468) wird unter Bezugnahme auf F i g. 1 beschrieben. 1 bezeichnet
eine plattenförmige Anode. 2 bezeichnet eine Elektrode, die der Anode gegenüberliegend vorgesehen
ist und 3 bezeichnet eine Kathode, die in nahezu derselben Ebene wie die Elektrode vorgesehen ist.
Der zwischen dieser plattenförmigen Anode und der plattenförmigen Elektrode, die einander in einer solchen
Elektrodenanordnung gegenüberstehen, gebildete Raum, kann als Äquivalent zu einem Teil eines
ringförmigen Raumes der Bewegung der Elektronen in einem Betatron betrachtet werden, dessen Radius
unendlich vergrößert worden ist. Hi?r kann die 2-für-1-Regel
des Betatrons üblicherweise ausgedrückt werden als
Jmy)-ydy = HO) ■
Wenn das Koordinatensystem des Raumes, der zwischen diesen Elektroden gebildet ist, so bestimmt
wird, wie dies in F i g. 1 zu sehen ist, und ein ungleichförmig verteiltes Magnetfeld H(y) auf das Koordinatensystem
in einer Richtung vertikal zur Zeichnung gegeben wird, so daß die Stärke des magnetischen
Feldes der Gleichung (1) als Funktion des Abstandes y von der Kathode 3 zur Anode 1 genügen kann, wird
deshalb eine lineare stabile Bahn 4 für die Elektronen an der Stelle von y = I wie im Falle des Betatrons
gebildet. Hierbei werden durch Auswahl der Stärke des elektrischen Feldes E, das in einer Richtung
gebildet ist, die das magnetische Feld bei einem Wert kreuzt, der die kritische Spannung für Elektronen
ergibt, die sich an der Stelle von y = / zu dieser Stelle bewegen, die Elektronen 5, die von allen
Teilen der Kathode 3 ausgesandt werden, alle auf der stabilen Bahn 4 konvergiert, indem die Tiefpunkte
einer Zykloide gezogen werden, und dann in axialer Richtung als einzelner Strahl abgenommen.
Bei diesem Elektronenstrahlerzeugungssvstem ist es schwierig, dem Elektronenstrahl eine Fokussierung in
seitlicher Richtung zu geben. Bezugnehmend auf Fig- 1 können beim Eintreten der von der Kathode
3 ausgesandten Elektronen in eine lineare stabile Bahn 4 diese Elektronen in einer Richtung orthogonal
zu der Fläche der Kathode, d. h. in .\-Richtung. fokussiert werden, jedoch kann eine Fokussierwirkung
n'cht bezüglich der seitlichen Richtung der
Kathode gegeben werden, und folglich wird der Querschnitt des Elektronenstrahls bandförmig oder oval.
Auch wenn Elekironenstrahlen einer solchen Ausbildung wirksam bei bestimmten Arten von Gegenständen
verwendet werden können, sind diese nicht für Elektronenröhren geeignet, die feine Strahlen
erfordern, wie Kathodenstrahlröhren.
i)..r Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein
Eieiiionenstrahlerzeugungssysiem zu schaffen, das
eine !line Fokussierung des Elektronenstrahls ergibt, und /war auch bei ungleichförmiger Verteilung des
elegischen Feldes. Zur Lösung dieser Aufgabe sieht
die Lriindung vor, daß die weitere Elektrode5V-förmig
nach der Anode hin geöffnet ist, wobei der V-förmige Querschnitt senkrecht auf der Fortpflanzungsrichtung
des Hektronenstrahlenbündels steht, und daß das elektrische Feld E(y) und das Magnetfeld H(y) an der
Stelle y = I folgende Gleichungen erfüllen:
2/ H(I) = pJH{y)-dy
35
in welchen y die eine Achse eines kartesischen Koordinatensystems,
das so aufgespannt ist, daß die x-Achse in Richtung der Fortpflanzungsrichtung des Elektronenstrahlenbündels
weist und die y-Achse senkrecht auf der Längsrichtung der Elektroden steht,
/ der Abstand der stabilen, geradlinigen Elektronenstrahlbahn von der Kathode, e die Ladung eines
Elektrons, m die Masse eines Elektrons, P eine Konstante, H die magnetische Feldstärke und E die
elektrische Feldstärke ist.
Durch diese Ausbildung werden ein elektrisches Feld mit ungleichförmiger Verteilung und ein magnetisches
Feld mit ungleichförmiger Verteilung, die einander kreuzen, auf den Raum der Bewegung der
Elektronen, der von der Anode und der V-förmigen Elektrode eingeschlossen ist, gegeben, und die Elektronen
von der Kathode laufen über eine einzige stabile Bahn, die durch dieses gekreuzte Feld bestimmt
ist, und werden als fein fokussierter Strahl abgenommen. Deshalb kann das Elektronenstrahlerzeugungssystem
gemäß der Erfindung sehr wirksam in Kathodenstrahlröhren verwendet werden.
Es ist zwar auch eine Elektronenanordnung mit einer trogförmigen Ausbuchtung bekannt (deutsche
Auslegeschrift 1 100 188), die dazu dient, eine Diffusion
der Elektronen zu verhindern, die von der Kathode ausgesandl werden. Bei dieser bekannten
Anordnung wird weder eine ungleichförmige Verteilung des elektrischen Feldes über die gesamte
Länge der Iilektronenstrahlvorrichtung noch eine Fokussierung in horizontaler Richtung erreicht.
Die Erfindung wird beispielhaft an Hand der Zeichnung erläutert.
fI g. 1 zeigt eine schematische Darstellung eines
bekannten Elektronenstrahlerzeugungssystems mit ungleichförmig gekreuzten Fe'dern;
F i g. 2 ist eine Darstellung zur Erläuterung der Elektronenfokussierwirkung, dio auf dem Prinzip der
Vierpolelektroden basiert;
Fig. 3 ist eine Darstellung, die den Zustand der Potentialverteilung und die magnetische Feidverteilung
zeigt;
F i g. 4 ist eine perspektivische Ansicht einer Ausfuhrungsform des Elektronenstrahlerzeugungssystems;
F i £ 5 ist ein Schnitt längs der Linie V-V der
Fig. 4, der auch die Magneten zur Erzeugung des ungleichförmigen Magnetfeldes zeigt;
F i g. 6 ist eine Seitenansicht einer anderen Ausftihrurtgsform
der Elektronenschleuder mit ungleichförmigen gekreuzten Feldern.
Bei der Elektronenschleuder mit ungleichförmigen gekreuzten Feldern der dritten oben beschriebenen
bekannten Art ist es, um eine lineare stabile Bahn zu erhalten, notwendig, ein magnetisches Feld mit
ungleichförmiger Verteilung zu erzeugen, das der 2-für-l-Regel eines Betatrons, wie dies durch die
Gleichung (1) ausgedrückt ist, in dem Raum der Bewegung der Elektronen genügt, und auch ein elektrisches
Feld zu erzeugen, das eine Spannung mit einem Wert ergibt, der im wesentlichen gleich der
kritischen Spannung an der Stelle der stabilen Bahn ist, die durch die Verteilung des magnetischen Feldes
vorbestimmt ist. Hier kann die Verteilung des elektrischen Feldes zum Erzeugen der stabilen Bahn entweder
gleichförmig oder ungleichförmig sein. Dies ergibt sich aus der folgenden Erläuterung. Die F i g. 1
zeigt, daß, wie oben beschrieben, dieser bekannte Elektronenaufbau eine Anode 1, an die ein positives
Potential gelegt worden ist, eine einzige Elektrode 2, die der Anode gegenüber vorgesehen ist, und eine
Kathode 3 enthält, die in derselben Ebene wie die einzige Elektrode vorgesehen ist. Unter der Annahme,
daß ein zweidimensionaler Raum der Bewegung von Elektronen vorhanden ist, der eine y-Richtung, die
vertikal zu der Kathode ist, und eine x-Richtung, die parallel zu der Kathode ist, und daß ein magnetisches
Feld H(y) orthogonal zur Zeichenfläche und in v-Richtung ungleichförmig verteilt und ein elektrisches
Feld E(y) orthogonal kreuzend das magnetische Feld und in y-Richtung ungleichförmig verteilt
diesem Raum zugeführt werden, kann die Gleichung der Bewegung der Elektronen, die von dieser
Kathode 3 ausgesandt werden, üblicherweise wie folgt ausgedrückt werden:
dl2'
d2y
"d
"d
Ti -
m dt
m Eiy) ~ m dT
worin e die Ladung der Elektronen, m die Masse der
Elektronen und t die Zeit ist. Andererseits kann die Potentialverteilung V(y) und die Magnetfeldverteilung
H(v) in diesem Raum der Bewegung der Elektronen im allgemeinen wie folgt ausgedrückt werden:
V(y) = Eoy'
(4)
E(y) = —- = -P Eoy'
H(y) = - —~- y + h .
Hierin sind En und P Konstante, die das elektrische
Feld bestimmen, während b und c Konstante sind, welche die Magnetfeldverteilung bestimmen, und d
der Abstand zwischen der Kathode 3 und der Anode i ist. Die Beziehung zwischen der Potentialverteilung
und der magnetischen Feldverteilung, die durch die Gleichungen (4) und (6) ausgedrückt sind, ist im
Diagramm der F i g. 3 gezeigt, wobei die vertikale Achse das Potential V und die Stärke des Magnetfeldes
H angibt und die horizontale Achse den Abstand y von der Kathode 3 in Richtung der Anode 1
angibt. V(y) ist die Potenlialverteilungskurve, und B(y) ist die Magnetfeldverteilungskurve. In diesem
Diagramm ist 0 die Stellung der Kathode 3, el ist die Stellung der Anode 1, b ist die Stärke des Magnetfeldes
an der Stelle der Kathode, O ist die Stärke des Magnetfeldes an der Stelle der Anode und Vd ist das
Anodenpotential. Andererseits muß, damit eine stabile Bahn in dem Raum der Bewegung der Elektronen
existieren kann, die Bedingung für die Beschleunigung, um an der Stelle Null zu werden, wo die Geschwindigkeit
der von der Kathode 3 zu der Anode 1 in y-Richtung ausgesandten Elektronen Null wird, erfüllt
werden, d. h. die Bedingung ^p- = 0 muß an der
Stelle von y = I erfüllt werden, wo £■ = 0. Deshalb
können, wenn diese Bedingung an die Stelle des Vorhandenseins einer stabilen Bahn und die Gleichungen
(5) und (6) an die Stelle der Gleichungen (2) und (3) gesetzt werden, folgende Gleichungen erhalten
werden, welche die Beziehung zwischen dem Magnetfeld und dem elektrischen Feld zeigen:
21 B(I) =
E(I) =
■dy
2 -H2ID-I
m
Die Gleichung (7) ist im wesentlichen der vorstehend erwähnten Gleichung (1) äquivalent, welche
die 2-für-l -Regel des Betatrons darstellt, und eine stabile Bahn wird an der Stelle y = I gebildet, wenn
eine Magnetfeldverteilung H(y) gegeben ist, welche die Beziehung dieser Gleichung erfüllt. Wenn ein
elektrisches Feld, das die Gleichung (8) erfüllt, für die Stelle von y = I gegeben ist, treten die Elektronen
5 von der Kathode 3 alle in die stabile Bahn. Es ist somit eine Tatsache, daß eine stabile Bahn
erhalten werden kann, auch wenn die Verteilung des elektrischen Feldes ungleichförmig ist.
Unter Berücksichtigung dieser Tatsache ist das vorliegende Elektronenstrahlerzeugungssystem durch
die Ausnutzung eines elektrischen Feldes mit ungleichförmiger Verteilung als elektrisches Feld zur Erzeugung
einer stabilen Bahn und durch die Anwendung eines besonderen Elektrodenaufbaus charakterisiert,
der auf dem Prinzip von Vierpolelektroden zu dem Zwecke beruht, die Elektronen in seitlicher Richtung
durch dieses elektrische Feld zu fokussieren. Der Vierpolelektrodenaufbau,
wie er in F i g. 2 zu sehen ist, enthält zwei Pole 6 und 7 mit positivem Potential
und zwei Pole 8 und 9 mit negativem Potential, die an den Scheiteln eines Quadrates vorgesehen sind,
wobei die Elektroden gleichen Potentials sich gegen- ■ seitig gegenüberliegen. Bei einer solchen Elektrodenanordnung
bekommen die Polentialverteilung, wie sie durch die Linie 10 gezeigt ist, und die Potentiale
ίο auf den Linien 11 und 12, die von Zwischenstellungen
zwischen den Polen positiven Potentials und den Polen negativen Potentials zu dem Mittelteil 0 laufen, das
Potential Null. Wenn deshalb ein Elektronenstrahl 13 an diesem Mittelteil 0 in einer Richtung angelegt
wird, die orthogonal zur Zcichenebcnc ist, wird dieser Elektronenstrahl 13 in einer Form fokussiert, die von
den Seiten der Pole 8 und 9 negativen Potentials durch das elektrische Feld gequetscht wird, wie dies
durch die schrägen Linien 14 gezeigt ist. Ein Merkmal des Abs. liegt darin, daß ein Bereich von l/4
einschließlich eines Pols mit positivem Potential von der Vierpolelektrodenanordnung abgenommen
wird und daß dieser den obenerwähnten Elektronenschlcudern mit gekreuzten Feldern der dritten ArI
zugeführt wird.
Eine bevorzugte Ausführungsform wird nun unter Bezugnahme auf die F i g. 4 und 5 beschrieben,
wobei die letztere ein Schnitt längs der Linie V-V der F i g. 4 zeigt. 15 'St eine Anode, 16 und 17 sind einzelne
Elektroden und 18 ist eine Kathode. Hier ist die Anode 15 äquivalent einem Pol positiven Potentials
der Vierpolelektrode wie oben beschrieben. Wie es sich besser aus F i g. 4 ergibt, sind die einzelnen
Elektroden 16 und 17 an Stellen vorgesehen, die den Linien 11 und 12 des Nullpotentials der Vierpolelektroden
entsprechen, und sind in einer Form vorgesehen, die nach oben V-förmig der Anode 15 gegenüberliegend
geöffnet ist. Es ist zweckmäßig, daß der Winkel der öffnung der einzelnen Elektroden 16
und 17 etwa 90° beträgt, jedoch ist es nicht notwendig, diesen Winkel genau zu regulieren. In diesem Falle
wird der Raum der Bewegung der Elektronen von der Anode 15 und den einzelnen Elektroden 16 und 17
eingeschlossen, und deshalb ist es, um diesem Raum ein ungleichförmiges Magnetfeld zu geben, worauf
unten Bezug genommen wird, notwendig, daß die einzelnen Elektroden 16 und 17 aus nichtmagnetischem
Material hergestellt werden, z. B. Kupfer oder rostfreiem Stahl. Die Kathode 18 ist direkt
geheizt und enthält ein dünnes und langes Nickelband als Basismetall und ein Elektronenaussendematerial,
das auf der Fläche des Bandes angebracht ist und das durch den Basisteil der V-förmigen einzelnen
Elektroden 16 und 17 gehalten wird. Selbstverständlieh sind eine geeignete Stützeinrichtung für den
Röhrenkolben 22 und eine geeignete Spannungszuführungseinrichtung, die zur Außenseite der Röhre
geführt und in der Zeichnung nicht dargestellt ist, für diese Elektrode vorgesehen. Insbesondere ist es
erwünscht, ein Ende der Kathode 18 mit einer Feder zu halten, so daß eine Wirkung durch thermische
Expansion kompensiert werden kann.
Unter der Annahme, daß ein positives Potential auf die Anode 15 gegeben wird und daß ein geringes
negatives Potential oder das Potential Null auf die einzelnen Elektroden 16 und 17 bsi einem Elektrodenaufbau,
wie er oben beschrieben ist, gegeben wird, wird ein elektrisches Feld mit ungleichförmiger
Verteilung gleichartig dem im Bereich von ι/Λ der
Vierpolelektroden in dem Raum der Bewegung der Elektronen, der von den Elektroden eingeschlossen ist,
in einer Beziehung mit der Gleichung (4) gebildet. Diese Potentialverteilung ist durch die Äquipotentiallinie
19 in Fig. 5 gezeigt. Von der Kathode 18 ausgesandte Elektronen 5 gehen zu der Anode 15,
während sie in seitlicher Richtung innerhalb des ungleichförmigen elektrischen Feldes wie bei dem
Prinzip der Vierpolelektroden fokussiert werden. Wenn aber ein Magnetfeld ungleichförmiger Verteilung,
das der Gleichung (7) genügt, in einer Richtung gegeben wird, welche dieses elektrische Feld
kreuzt, konvergieren Elektronen 5 auf einer stabilen Bahn und werden auch in seitlicher Richtung fein
fokussiert. Dieses ungleichförmige Magnetfeld kann gebildet werden, indem z. B. ein Magnetpaar 20 und
21 vorgesehen ist, bei dem jeder Magnet cine Po!- fläche hat, die längs der Röhrenwand an Stellen
gebogen ist, die symmetrisch in bezug auf eine vertikale Fläche, die in axialer Richtung von der Röhrenachse
des Kolbens 22 zur Kathode gebildet ist, und asymmetrisch mit Bezug auf die Röhrenachse sind,
und zwar in solcher Weise, daß die ungleichartigen Pole der Magnete einander gegenüberliegen, wie dies
F i g. 5 zeigt. Der Zustand des Magnetfeldes, das durch diese Magneten in dem Raum der Bewegung
in den Elektronen erzeugt wird, ist durch die Linie der Magnetkiaft 23 gezeigt. In dem in der Zeichnung
dargestellten Beispiel ist das Magnetfeld als eine Verteilung gegeben, die an der Seite der Kathode 18
stark ist und die allmählich abnimmt, wenn die Anode 15 erreicht ist. Selbstverständlich kann das Magnetfeld
auch in einer Verteilung vorhanden sein, die ansteigt, wenn sie sich der Anode annähen, soweit
die Gleichungen (7) und (8) erfüllt sind.
Hier kann die obenerwähnte Gleichung (8) in die folgende Gleichung (9) umgeschrieben werden, welche
die Anodenspannung Vd ausdrückt:
2 --■p-'
Vd = --^5
Vd = --^5
H(I).
Die Beziehung zwischen / und den Konstanten kann in folgender Weise ausgedrückt werden, indem
an die Stelle der Gleichung (6) die Gleichung (7) gesetzt wird:
2d-b /7-2
b — c ρ — 4
b — c ρ — 4
(10)
Da nun die Stelle I der stabilen Bahn sich innerhalb
des Bereiches (0 < I < d) befindet, kann der Bereich von P in folgender Weise bestimmt werden:
Bei b > c (abfallendes Magnetfeld):
2 > P >
Ac
b + c
> 0.
Bei b < c (ansteigendes Magnetfeld):
2 < P <
Ac
b+c
< 4.
(H)
(12)
Wenn deshalb / als Z = dß ausgedrückt wird, so daß die Stelle der stabilen Bahn gerade an der Mittel-
stelle zwischen der Kathode 18 und der Anode 15 liegen kann, kann die folgende Gleichung aus der
Gleichung (10) erhalten werden:
P =
4 + c/b
3 + c/b
3 + c/b
(13)
Wenn nun rf und / zu d = 5 χ 10 3 mund / = 2,5 χ
ίο 10 3 m ausgewählt werden und des weiteren b und c zu
b = 100 χ 104 wb/m2 und c = 0 wb/m2 gemacht
werden, so daß die magnetische Feldstärke an der Stelle der stabilen Bahn / 50 χ 10~4wb/m2 werden
kann, kann die obige Gleichung (13) ausgedrückt werden wie P - 4/3, da gilt c/b = 0. Wenn deshalb
eine Spannung von 78 V, die aus der Gleichung (9) erhalten wird, an die Anode 15 angelegt wird, und
wenn des weiteren ein Magnetfeld H(y) = —200 χ
10 -(wb/m1), das aus der Gleichung (6) erhalten wird, zwischen der Anode und der Kathode angelegt
wird, werden die Gleichungen (7) und (8) an der Mittelstelle zwischen der Anode und der Kathode
erfüllt, d. h. der Stelle von / = 2,5 χ 10~3m, und
eine stabile Bahn wird an dieser Stelle erzeugt. Wenn in gleicher Weise b gemacht wird zu b — 16,66 χ
10 4 wb/m2 und des weiteren c ausgewählt wird als
c = 83,33 χ 10 4 wb/m2, wird c/b 5, und wenn ein
solches ansteigendes Magnetfeld (ein Magnetfeld, das von der Kathode als Bezug zu der Seite der
Anode ansteigt) angelegt wird, kann P aus der Gleichung (13) ausgedrückt werden als P = 3, und die
Anodenspannung ist 48,85 V, und das magnetische Feld ist H(y)= 133,4 χ 10"2y + 0,1666 χ 10"2(wb/m2),
und eine stabile Bahn kann an der Stelle von I = 2,5 χ
10~3m erhalten werden.
Fig. 6 zeigt eine weitere Ausführungsform des
Elektronenstrahlerzeugungssystems mit gekreuzten Feldern. Bei dieser Ausführungsform ist besonders zu
bemerken, daß die Kathode 18 zusammen mit dem Basisteil der einzelnen Elektroden 16 und 17 in bezug
auf die Röhrenachse schräg ist. Es ist durch Versuche bestätigt worden, daß durch die schräge Kathode die
Stärke des elektrischen Feldes gegenüber Elektronen veranlaßt werden kann, eine Komponente in axialer
Richtung (x-Richtung) aufzuweisen, mit öem Ergebnis, daß die Unterdrückungswirkung für die Elektronen
durch die Raumladung verringert werden kann. Hier ist es erwünscht, den Winkel der Schräge der Kathode
mit Bezug auf die Röhrenachse mit 5 bis 6C auszuwählen. In Fig. 6 und 4 bezeichnen gleiche
Bezugszahlen die gleichen Teile, jedoch ist in F i g. 6 der Teil der V-förmigen einzigen Elektrode, der sicr
an der Vorderseite der Zeichnung befindet, nichi dargestellt. In der F i g. 6 sind das erste Gitter IA
für die Beschleunigung, das auf demselben Potentia wie die Anode 15 liegt, der Magnet 25 für die Vor
fokussierung und das zweite Gitter 26, das die Haupt elektronenlinse bildet, auch dargestellt
Aus der vorstehenden Beschreibung ergibt sich daß die Erfindung gegenüber dem Stand der Tech
nik vorteilhaft ist, wenn ein Elektronenstrahlerzeu gungssystem mit ungleichförmigen gekreuzten FeI
dem praktisch ausgeführt wird. Insbesondere kam ein fein fokussierter Elektronenstrahl mit großen
Strom erhalten werden, und deshalb wird eine großi Wirkung erreicht, wenn die Erfindung bei Kathoden
strahlröhren angewendet wird.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
209 644/325
Claims (1)
1. Elektronenstrahlerzeugungssystem mit gekreuzten
elektrischen und magnetischen Feldern, bestehend aus einer länglichen Anode, einer ebenfalls
länglichen Kathode, die der Anode parallel gegenüberliegt, und einer weiteren der Anode
gegenüberliegenden Elektrode, die auf einem Potential liegt, das zwischen den Potentialen der
Anode und der Kathode liegt, und die Kathode flankiert, einer Einrichtung zur Erzeugung eines
räumlich inhomogenen Magnetfeldes H(y) im Bereich zwischen den genannten Elektroden, dessen
Feldlinien die Fortpflanzungsrichtung des sich geradlinig ausbreitenden Elektronenstrahlenbündels
rechtwinklig kreuzen, wobei die an den Elektroden liegenden elektrischen Potentiale bei
einer gegebenen Magnetfeldstärke so gewählt sind, daß sich das Elektronenstrahlenbündel in dem
Raum zwischen der Anode und den beiden anderen Elektroden parallel zur Längsausdehnung der
Anode ausbreitet, dadurch gekennzeichnet, daß die weitere Elektrode V-förmig nach
der Anode hin geöffnet ist, wobei der V-förmige Querschnitt senkrecht auf der Fortpflanzungsrichtung
des Elektronenstrahlenbündels steht, und daß das elektrische Feld E(y) und das Magnetfeld
H(y) an der Stelle y = / folgende Gleichungen erfüllen:
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE883938C (de) | Elektronen-Entladungseinrichtung | |
DE3429591A1 (de) | Ionenquelle mit wenigstens zwei ionisationskammern, insbesondere zur bildung von chemisch aktiven ionenstrahlen | |
DE3124599A1 (de) | "verfahren und vorrichtung zum zerstaeuben mit magnetischer verstaerkung sowie zur beschichtung eines substrats" | |
EP0396019A2 (de) | Ionen-Zyklotron-Resonanz-Spektrometer | |
DE1044295B (de) | Ionenquelle | |
EP0542737A1 (de) | Synchrotronstrahlungsquelle | |
DE69421157T2 (de) | Plasmastrahl-Erzeugungsverfahren und Vorrichtung die einen Hochleistungsplasmastrahl erzeugen Kann | |
DD140516A5 (de) | Kathodenstrahlroehre | |
DE3012935C2 (de) | Zerstäubungsvorrichtung mit magnetischer Verstärkung | |
DE3586176T2 (de) | Mikrowellenelektronenkanone. | |
DE3881579T2 (de) | Ionenquelle. | |
DE2556694A1 (de) | Elektronenschleuder | |
DE3424449A1 (de) | Quelle fuer negative ionen | |
DE3414549A1 (de) | Elektronenkanone mit verbessertem aufbau von kathode und abschattungsgitter | |
DE1123775B (de) | Elektrostatische Fokussierungsanordnung zur gebuendelten Fuehrung des Elektronenstrahls einer Lauffeldroehre | |
DE2901554C2 (de) | ||
DE2719725A1 (de) | Einrichtung zur elektronenstrahlerwaermung von materialien | |
EP0036618B1 (de) | Hochstrom-Elektronenquelle | |
DE1906951C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung einer Schar von Elektronenstrahlen | |
DE1950872C (de) | Elektronenstrahlerzeugungssystem | |
DE3105310A1 (de) | Kathodenstrahlroehre | |
DE1950872B2 (de) | Elektronenstrahlerzeugungssystem | |
DE1100188B (de) | Ionenquelle | |
DE1489020A1 (de) | Beschleuniger fuer geladene Teilchen | |
DE1953411B2 (de) | Elektrostatisches Ablenksystem mit zugehöriger Schaltungsanordnung für Kathodenstrahlrohren |