DE19500077C1 - Millimeterwellen-Meßverfahren - Google Patents
Millimeterwellen-MeßverfahrenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Millimeterwellen-Meßverfahren nach
dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Aus H.-G. Unger, Elektromagnetische Theorie für die Hochfrequenztechnik,
Hüthig 1981, ist bekannt, daß mit Gütemessungen
(Gl. 3.75 und Gl. 3.77, Bd. 1) und Resonanzfrequenzmessungen
(Gl. 9.17 Bd. 2) an Hohlraumresonatoren die Oberflächenimpedanz
ZOb=ROb+jXOb bestimmt werden kann. Weiterhin ist aus H.-G.
Unger bekannt, daß in einem Hohlraumresonator, unabhängig von
der speziellen Form, unendlich viele Schwingungsmoden möglich
sind (Bd. 2, Seite 269).
Wie Th. Kuhlemann und J.H. Hinken in "Computer-Controlled System
for Surface Resistance Measurements of HTc Superconducting
Films, IEEE Transactions of Instrumentation and Measurement,
Vol. 40, Nr. 3, Juni 1991, Stn. 539 bis 543" ausführen,
ist dies auch bei hochtemperatur-supraleitenden Filmen möglich.
Des weiteren sind aus den Druckschriften DE 42 04 369 C2 und WO
94/04935 A1 Verfahren zur Qualitätsbestimmung von hochtemperatur-
supraleitenden Filmen bekannt.
Bei den bekannten Meßverfahren werden allerdings nur die Mittelwerte
Ob und Ob erfaßt, welche durch
gegeben sind. Diese Meßdaten sind nur dann brauchbar, wenn
Ob≈Ob() und Ob≈Ob() an jeder Stelle ist.
Ist die Oberflächenimpedanz jedoch ortsabhängig, lassen sich
durch Messungen an verschiedenen Stellen auf der Oberfläche
allenfalls die Mittelwertfunktion Ob() und Ob(-) bestimmen.
Dies ist in der Praxis sehr nachteilig, da flächenmäßig
kleine, aber signifikante Oberflächenstörungen nicht detektiert
werden. Bei sehr teuren Oberflächen, wie beispielsweise
bei hochtemperatur-supraleitenden Filmen, kommt dieser Tatsache
eine besondere Bedeutung zu. Da solche Filme aus mehreren
Elementen bestehen, wie Yttrium, Barium, Kupfer und Sauerstoff,
können innerhalb großflächiger Beschichtungen Bereiche
mit erhöhten Verlusten auftreten. Werden nur die Mittelwertsfunktionen
Ob() und Ob() für die Qualitätssicherung herangezogen,
werden solche Bereiche nicht erkannt oder aber diese
Stellen müssen großflächig ausgemustert werden. Bei einer
Freigabe solcher fehlerhaften Halbzeuge zur Herstellung von
Komponenten, beispielsweise Mikrowellenfiltern, verursachen
diese nicht erkannten Beispiele erst später Komponenten-Fehlfunktionen,
was erhebliche zusätzliche Kosten verursacht.
Werden andererseits mit nicht akzeptabler Qualität erkannt
müssen Bereiche in deren Umgebung großflächig ausgemustert
werden. Damit wird wertvolles taugliches Material verschwendet;
es ergibt sich eine erhöhte Umweltbelastung und ein wesentlicher
Mehrkostenaufwand.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, ein Millimeterwellen-Meßverfahren
zu schaffen, das es gestattet, die Oberflächenimpedanz
für die Oberflächenwiderstandsverteilung ROb(ω) der zu
vermessenden Oberfläche aufgestellt werden, wobei ) der
Flächenteil der zu vermessenden Oberfläche ist, welcher beim
Resonator m an der Position - dem elektromagnetischen Feld
ausgesetzt ist, ) das tangentiale magnetische Feld,
ω, die Resonanzkreisfrequenz, W die gesamte im Resonator m
gespeicherte Energie der Mode nm des Resonators m an der Position
ist, ) der Oberflächenwiderstand der Resonatorresistfläche
) des Resonators m an der Position ist
und P sonstige, nicht durch Oberflächenwiderstände verursachte
Verluste, wie Abstrahlungs- oder dielektrische Verluste,
der Mode nm des Resonators m an der Position sind und
mit den an jeder Position meßtechnisch bestimmten Resonanzkreisfrequenzen
ω die
für die Oberflächenreaktanzverteilung XOb(ω) der zu vermessenden
Oberfläche aufgestellt werden, wobei ω₀ die Resonanzkreisfrequenz der Mode nm des Resonators m mit ideal leitender
Berandung und ) die Oberflächenreaktanz der
Resonatorrestfläche ist und die gesuchte Oberflächenwiderstandsverteilung
ROb(ω) sowie die gesuchte
Oberflächenreaktanzverteilung XOb(ω) durch Auflösung der
ZOb()=ROb()+j(X)Ob() räumlich exakt zu bestimmen.
Gemäß der Erfindung wird diese Aufgabe durch ein Millimeterwellen-
Meßverfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.
Vorteilhafte Weiterbildungen sind Gegenstand der Unteransprüche.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen
unter Bezugnahme auf die anliegenden Zeichnungen
im einzelnen erläutert. Es zeigt
Fig. 1 einen Abschnitt einer zu vermessenden Oberfläche in
einem x′, y′, z′-Koordinatensystem;
Fig. 2 perspektivisch eine schematische Oberflächen-Widerstandsverteilung
in einem x, y, z-Koordinatensystem;
Fig. 3a eine Kurvendarstellung des reziproken Wertes einer mit
60π² multiplizierten Meßgröße Q₀ in Abhängigkeit von
der Position eines Meßresonators;
Fig. 3b eine Kurvendarstellung eines normierten Oberflächenwiderstandsverlaufs
(ROb(x′)) in Abhängigkeit von der
Position x′ auf einer zu vermessenden Oberfläche;
Fig. 4 eine Funktion r(x), zusammen mit rM1(x).
Zunächst werden unbelastete Gütefaktoren Q₀) an jedem Punkt
der zu vermessenden Oberfläche meßtechnisch erfaßt (siehe
Fig. 1). Hierbei sind mit dem Bezugszeichen m ein Resonator und
mit nm ein Schwingungsmode bezeichnet. Es kann eine der bekannten
Methoden, etwa die 3-dB-Methode angewendet werden
(siehe TH. Kuhlemann und J.H. Hinken an dem oben angegebenen
Ort). Mit diesen Meßwerten werden dann Integralgleichungen für
ROb() aufgestellt. Soll auch die Oberflächenreaktanz bestimmt
werden, so werden
zusätzlich die Integralgleichungen für
XOb() aufgestellt. Und im allgemeinen müssen zur eindeutigen
Bestimmung aller Einzelheiten in der ROb() bzw. der XOb()
Funktionen mindestens zwei Resonatoren verwendet werden; dies
wird später anhand eines Ausführungsbeispiels näher erläutert.
Die gesuchte Oberflächen-Widerstandsverteilung bzw. Oberflächen-
Reaktanzverteilung wird durch Lösen der Integralgleichungen
erhalten. Lösungen für Integralgleichungen zu finden, ist
jedoch ein sehr großes Problem. Eine Übersicht ist beispielsweise
in "Stefan Fenyö und Hans W. Stelle, Theorie und Praxis
der linearen Integralgleichungen, Birkhäuser Verlag 1984, Bd. 1
bis 4" zu finden.
Im vorliegenden Fall werden für den Spezialfall, daß die Feldverteilung
und damit auch die tangentiale magnetische Feldstärke
der Resonatoren vom Beobachtungsort unabhängig ist, Integralgleichungen
vom Faltungstyp erhalten. Diese Gleichungsart
läßt sich vorteilhaft durch Fourier- oder Laplacetransformation
lösen, aber nur dann, wenn die notwendigen Umkehrtransformationen
existieren (siehe A.D. Myschkis, Angewandte Mathematik
für Physiker und Ingenieure, Verlag Haare Deutsch, 1981,
Seite 460). Dies ist jedoch normalerweise nicht der Fall. Diese
Schwierigkeit wird erfindungsgemäß durch Verwenden von zwei
oder mehreren verschiedenen Resonatoren behoben.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels
näher erläutert. Die in Fig. 2 skizzierte Oberflächen-
Widerstandsverteilung in der x′-y′-Ebene soll räumlich aufgelöst
vermessen werden. Zur Beschreibung des Prinzips genügt
es, ein nur von der x′-Koordinate abhängiges Oberflächen-Widerstandsprofil
ROb(x′) anzunehmen, da die mathematischen Ausdrücke
dann wesentlich vereinfacht und damit übersichtlicher sind. Gemessen
wird mit zwei einmodigen H011-Rechteckresonatoren. In einem
kartesischen x, y, z-Koordinatensystem hat der erste Resonator
die Begrenzungen -A/2xA/2, 0yY und 0zZ
und der zweite Resonator -B/2xA/2, 0yY und
0zZ. Zur Messung werden die beiden Resonatoren in x′-Richtung
bewegt, wobei die Meßflächen -A/2xA/2, 0yY
z=0 bzw. -B/2xA/2, 0yY und z=0 Teil der
x′-y′-Fläche sind und die Resonatorflächen mit x=+/-A2 bzw.
x=+/-B/2 parallel zur y′-Koordinate gehalten werden.
Fig. 3b zeigt den Verlauf von ROb(x′) mit x′ als abhängiger Koordinate.
ROb(x′) läßt sich durch Verwendung der rect-Funktion,
die durch
definiert ist, mathematisch darstellen als
oder normiert auf R₀ als
darstellen.
Die Feldkomponenten der Hüll-Rechteckresonatoren sind aus R.-F.
Harrington, Time-Harmonic Elektromagnetic Fields, McGraw
Hill Book Company, 1961, Seite 75 bekannt:
Die Resonatorkreisfrequenz ergibt sich zu
Die beiden Resonatoren haben also die gleiche Resonanzkreisfrequenz.
Nachfolgend wird die Integralgleichung für
ROb(x′) abgeleitet.
Es werden M=2 Resonatoren mit je einer Schwingungsmode verwendet,
d. h. m=1, 2, N₁=1 und N₂=1. Somit ergeben sich genau
zwei Integralgleichungen, von denen im folgenden eine abgeleitet
wird. Die zweite ergibt sich durch Ersetzen von A durch B.
Die beiden Resonatoren sollen aus demselben Material hergestellt
sein. Dann ist R¹Re=R²Re (die Indices m und n sind im
vorliegenden Fall nicht notwendig, und daher weggelassen). Außerdem
sollen keine zusätzlichen Verluste P auftreten.
In der kartesischen x′-y′-Ebene ergibt sich das Flächenelement
zu da′=dx′dy′ und die Integrationsfläche FOb(x) an der
Stelle x ergibt sich zu
Das Betragsquadrat der tangentialen magnetischen Feldstärke in
der Meßfläche ist
Die linke Seite der Integralgleichung ergibt sich zu
Die rechte Seite der Integralgleichung ergibt sich
mit
wobei angenommen wurde, daß der Resonator aus homogenem
Material mit dem Oberflächenwiderstand RRe gefertigt ist. Die
Integration über FRe ergibt:
Damit sind die Integralgleichungen für den ersten Resonator
und für den zweiten Resonator
Mit den Resonatorabmessungen A=20 mm, B=20,75 mm, Y=32 mm
und Z=40 mm ergeben sich Resonanzfrequenzen von 6 GHz. Für
die Werte
a₁′ = 8 mm, a₂′ = 2 mm, a₃′ = 6 mm und a₄′ = 4 mm sowie
x₁′ = 24 mm, x₂′ = 40 mm, x₃′ = 51 mm und x₄′ = 82 mm
x₁′ = 24 mm, x₂′ = 40 mm, x₃′ = 51 mm und x₄′ = 82 mm
und RRe=0,01 Ω (ein realistischer Wert für gut leitendes
Material ergibt sich
Mit dem Oberflächen-Widerstandsverlauf ROb(x′) gemäß Fig. 3b
wird dann die in Fig. 3a angegebene Kurve meßtechnisch ermittelt.
Der einfacheren Darstellbarkeit halber wurde dabei nicht
die Meßgröße Q₀(x), sondern der reziproke Wert multipliziert
mit 60π² aufgetragen.
Aus dem in Fig. 3a wiedergegebenen, meßtechnisch bestimmten
Verlauf ist nun der in Fig. 3b unten wiedergegebene, gesuchte
Oberflächen-Widerstandsverlauf zu ermitteln.
Im vorliegenden Fall und in den meisten anderen, in der Praxis
vorkommenden Fälle kann man die Integralgleichungen - unter
Beachtung einiger Besonderheiten - durch Fouriertransformation
lösen.
Um die Fouriertransformation anzuwenden, wird die Integralgleichung,
wie folgt, umgeschrieben:
wobei
für den ersten bzw. zweiten Resonator gilt. Mit diesen Abkürzungen
ergeben sich die beiden Integralgleichungen
oder hA(x)*r(x)=yA(x) bzw. hB(x)*r(x)=yB(x), wenn man
mit *, wie üblich, die Faltungsoperation bezeichnet. Die Anwendung
der Fouriertransformation liefert
Die erste Gleichung läßt sich durch Division nach R(ju) auflösen,
außer für die Nullstellen von HA(ju). Entsprechendes gilt
für die zweite Gleichung. Aus der Theorie der Fouriertransformation
ergibt sich
Die Nullstellen sind also bei
für
m, n = 1, 2, 3 . . ., d. h. R(ju) ergibt sich zu
für
Mit diesen beiden Beziehungen läßt
sich die Fouriertransformierte R(ju) der gesuchten Funktion
r(x) für die u-Werte bestimmen, für die gilt:
Durch die Wahl eines irrationalen Verhältnisses A/B ist es
möglich, den u-Bereich bis in das Unendliche auszudehnen.
In der Praxis wird jedoch immer ein endlicher Bereich ausreichen.
Im vorliegenden Fall (A=20,00 mm, B=20,75 mm) liegt
die erste gemeinsame Nullstelle bei u=83 B=80A. Wird nun
die Umkehrfunktion von R(ju) derart gebildet, daß für den Bereich
0u80A=!U die Funktionswerte verwendet werden, und
werden die Funktionswerte für u<U gleich Null gesetzt, wird
also die Umkehrfunktion gebildet von
dann wird als Ergebnis
erhalten. Durch
dieses Nullsetzen der Funktionswerte für u<U wird ein Fehler
verursacht. Jedoch kann, wie schon erwähnt, die obere Grenze
U immer so gewählt werden, daß der Fehler für die Praxis keine
Rolle spielt. Nachfolgend wird für das vorliegende Beispiel
der Fehler berechnet.
Zunächst wird von
die Fouriertransformation gebildet:
wobei die Abkürzung si(x)=sin(x)/x verwendet wurde. Durch
Multiplikation mit rect (u/U) ergibt sich:
Die Fouriertransformation liefert:
Die auftretende Integral-Sinusfunktion Si(x) ist von "Abramowitz
und Stegun" im "Handbook of Mathematical Functions, Dover
Publications, New York, 1979" tabelliert. Damit läßt sich die
Meßfunktion rM(x) angeben und der Fehler |rM-r(x)| bestimmen.
Sollte sich herausstellen, daß der Fehler für die praktischen
Erfordernisse zu groß ist, müßte der u-Bereich erhöht
werden. Die Funktion rM(x) wird im folgenden für x<3,2 mm
ausgewertet und der Fehler angegeben. Für diesen Bereich genügt
es, die Funktion
rM1(x) = 1 + [Si(x₁′+a₁′/2-x)U - Si(x₁′-a₁′/2-x)U]
auszuwerten, da die Termi höherer Ordnung für diesen Bereich
keinen nennenswerten Beitrag liefern. Nachfolgende Tabelle
zeigt das Ergebnis
In Fig. 4 ist die Funktion r(x) zusammen mit rM1(x) dargestellt.
Man erkennt, daß der gesamte Oberflächenwiderstandsverlauf
mit den beiden verwendeten Resonatoren schon sehr genau
gemessen werden kann, obwohl die Details sehr viel kleiner
als die Resonatormeßflächen sind. Größere Fehler treten nur an
den sprunghaften Änderungen der Meßfunktion auf. Solche unstetigen
Funktionen werden jedoch in der Praxis kaum vorkommen
und die angegebenen Dimensionierungen genügen damit den gestellten
Anforderungen.
Claims (4)
1. Millimeterwellen-Meßverfahren zur ortsaufgelösten Messung der
Oberflächenimpedanz und zur Detektion von Inhomogenitäten in
Oberflächen mit höchster räumlicher Auflösung,
mit M Hohlraum-Resonatoren, wobei Nm Schwingungsmoden nm im
Resonator m mit der Auswertung verwendet sind, so daß
1mM und 1nmNm gilt, welche Hohlraumresonatoren so
über die zu messende Fläche bewegt werden, daß ein Teil des
elektromagnetischen Feldes der Schwingungsmoden mit der zu untersuchenden
Oberfläche in Berührung kommt, dadurch gekennzeichnet,
daß
unbelastete Gütefaktoren Q₀ der Schwingungsmoden nm an
jeder Position der zu vermessenden Oberfläche meßtechnisch
bestimmt werden und mit den Meßwerten
Integralgleichungen bestimmt werden, wobei die Redundanz zur
Genauigkeitsverbesserung oder zur Erlangung der Eindeutigkeit
ausnutzbar ist.
2. Meßverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die M Resonatoren eine starre Form aufweisen, so daß die Flächen
) und ) nicht von der Position auf der zu
vermessenden Oberfläche abhängig sind und auch die Form des
tangentialen magnetischen Feldes nicht von der Position abhängig
ist und mit den meßtechnisch an jeder Position der zu
vermessenden Oberfläche bestimmten unbelasteten Gütefaktoren
Q₁) der Schwingungsmoden nm des Resonators m die
vereinfachten Integralgleichungen
für die Oberflächenwiderstandsverteilung
ROb(ω) der zu
vermessenden Oberfläche aufgestellt werden und mit den an jeder
Position meßtechnisch bestimmten Resonanzkreisfrequenzen
vereinfachten Integralgleichungen
für die Oberflächenreaktanzverteilung XOb(ω) der zu vermessenden
Oberfläche aufgestellt werden und die gesuchte
Oberflächenwiderstandsverteilung ROb(ω) sowie die gesuchte
Oberflächenreaktanzverteilung XOb(ω) durch Auflösung der
Integralgleichungen bestimmt werden, wobei die Redundanz zur
Genauigkeitsverbesserung oder zur Erlangung der Eindeutigkeit
nutzbar ist.
3. Meßverfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
bei einer Oberfläche, welcher nicht in physikalischer Weise
eine Oberflächenimpedanz ZOb(ω) = ROb(ω) + jXOb(ω),
wobei
die imaginäre Einheit ist, zuordenbar ist, die
Messung von Q₀ und ω an jeder Position durchgeführt
wird, wozu Integralgleichungen für ROb(ω) und XOb(ω)
aufgestellt und aufgelöst werden und so Inhomogenitäten in
Oberflächen beliebigen Materials und Oberflächenbeschaffenheit
räumlich exakt bestimmbar sind.
4. Meßverfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
die zu vermessende Oberfläche ein supraleitender oder hochtemperatur-
supraleitender Film ist.
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9041408B2 (en) * | 2013-01-16 | 2015-05-26 | Hrl Laboratories, Llc | Removable surface-wave networks for in-situ material health monitoring |
CN113063989B (zh) * | 2021-03-22 | 2022-05-20 | 西安交通大学 | 片状微波介质材料的多频点介电性能高速测试系统及方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1994004935A1 (en) * | 1992-08-21 | 1994-03-03 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Apparatus for characterizing high temperature superconducting thin film |
DE4204369C2 (de) * | 1992-02-14 | 1994-08-25 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Verfahren zur Qualitätsbestimmung eines einzelnen supraleitenden Filmes und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2619217B1 (fr) * | 1987-08-04 | 1989-11-10 | Aerospatiale | Dispositif de mesure en continu du taux d'impregnation par une substance de fibres conductrices ou non d'electricite. |
US5440238A (en) * | 1991-11-07 | 1995-08-08 | Sandia Corporation | Surface property detection apparatus and method |
US5594351A (en) * | 1995-05-23 | 1997-01-14 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Apparatus for use in determining surface conductivity at microwave frequencies |
-
1995
- 1995-01-04 DE DE19500077A patent/DE19500077C1/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-29 US US08/580,823 patent/US6255831B1/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4204369C2 (de) * | 1992-02-14 | 1994-08-25 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Verfahren zur Qualitätsbestimmung eines einzelnen supraleitenden Filmes und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
WO1994004935A1 (en) * | 1992-08-21 | 1994-03-03 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Apparatus for characterizing high temperature superconducting thin film |
Non-Patent Citations (7)
Title |
---|
FENYÖ, Stefan * |
HARRINGTON, r.-F.: Time-Harmonic Electromagnetic Fields. Mc Graw Hill Book Company, 1961 * |
HINKEN, Johann Heyen: Computer-Controlled System for Superconducting films. In: IEEE Transaction on Instrumentation and Measurement, Bd. 40, Nr. 3, Juni 1991, S. 539-543 * |
KUHLEMANN, Thorsten * |
MYSCHKIS, A. D.: Angewandte Mathematik für Physiker und Ingenieure. Verlag Haare Deutsch, 1981 * |
STELLE, Hans W.: Theorie und Praxis der linearen Integralgeleichungen. Bd. 1-4, Birkhäuser Verlg, 1984 * |
UNGER, H.-g.: Elektromagnetische Theorie für die Hochfrequenztechni. Teil I, Heidelberg: Hüthig, 1981, S. 102-112,269-274 -ISBN 3-7785-0758-3- * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6255831B1 (en) | 2001-07-03 |
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