DE1943206A1

DE1943206A1 - Verfahren und Einrichtung zur Bestimmung des Auftreffpunktes des Elektronenstrahles bei Elektronenstrahl-Schweissmaschinen

Info

Publication number: DE1943206A1
Application number: DE19691943206
Authority: DE
Inventors: auf Nichtnennung M Antrag
Original assignee: Welding Research Inc
Current assignee: Welding Research Inc
Priority date: 1968-12-18
Filing date: 1969-08-25
Publication date: 1971-01-14
Also published as: GB1245856A; JPS508697B1; DE1943206C2; US3609288A; FR2026385A1

Description

EESEARCH IW.

4915 West 67th Street 69 185 d

CHICAGO 38 (Illinois 60 638)
U.S.A.

Verfahren und Einrichtung zur Bestimmung des Auftreffpunktes des Elektronenstrahles bei Elektronenstrahl-Schweißmaschinen

Die Erfindung bezieht sich auf Verfahren und Einrichtungen zur Bestimmung des Auftreffpunktes des Elektronenstrahles bei Elektronenstrahl- erzeugungs-, insbesondere- sehweißmaschinen in Bezug auf die Lage der Fuge zwischen miteinander zu verschweißenden Werkstücken oder Werkstückteilen.

Bei dem bekannten Elektronenstrahlschweißen ist es von größter Bedeutung, den Elektronenstrahl genau zu positionieren und längs der fuge zwischen den zu verschweißenden Werkstücken oder Teilen zu bewegen. Dabei soll die Erfindung eine Verbesserung eines Verfahrens erreichen, das bereite durch die USA-Patentschrift 3 112 391 bekannt geworden ist. ; Gemäß dem angezogenen Stand ging man so vor, daß der Elek- ; tronenstrahl zunächst während einer sehr kurzen Zeitspanne auf das Werkstück gerichtet und dann die Lage des Auftreff- \ Punktes beobaohtet würde, woraufhin das Werkstück so bewegt wird, daß die Fuge mit dem Auftreffpunkt des Strahls zur Deckung kommt; es wurde auch bereite eine optieohe Einrichtung verwendet, die mit einem Fadenkreuz arbeitet, um die Werkstücklege zu korrigieren. Bei dem genannten optischen Verfahren wird der Elektronenstrahl für einen kurzen Augen- , blick eingeschaltet, der Auftreffpunkt wird duroh die Optik j beobaohtet und es wird das Fadenkreuz des Systeme zur Deckung ₍ mit dem Auf tref fpunlct gebracht | anschließend wird da β We rketüok eo bewegt, deJ die herzustellende Schweißstelle unmittelbar unter des Fadenkreuz liegt.

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Dieses Verfahren der Korrektur durch Beobachtung und manuelle Tätigkeit/nicht nur ungenau und zeitraubend, sondern auch deshalb nicht zufriedenstellend, weil sich die optischen Teile, die in der Elektronensirrahl-Schweißkammer vorgesehen werden müssen, bald mit einem Metallbelag beschlagen, der beim Elektronenstrahlschweißen unvermeidlich erzeugt wird. Um diese Schwierigkeiten zu vermeiden, müssen, die reflektierenden flächen während des Schweißens durch Schilde abgedeckt werden, um zu verhindern, daß das Metall si oh auf hochpolierten, glatten Flächen niederschlägt. Bei Teilen mit niedriger Reflexion wird es außerdem schwierig, wegen der durch das niedrige Lichtniveaus bedingten, schlechten Beleuchtungsverhältnisse die Teile durch eine Optik genügend genau beobachten zu können.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, "die Schwierigkeiten zu beseitigen und das Verfahren der eingangs erwähnten Art so zu verbessern, daß eine genaue Positionierung des Elektronenstrahles möglich ist, ohne dass die aufgeführten Nachteile optischer Einrichtungen und/oder des Nachstellens mittels Handkorrektur in Kauf nehmen zu müssen. Dabei soll vor allem erreicht werden, den Elektronenstrahl so zu steuern, daß er der Schweißfuge genau folgt.

Erfindungsgemäß besteht die lösung dieser Aufgabe darin, daß der Elektronenstrahl auf die zu erzeugende Schweißfuge ausgerichtet und quer zu diesem Längeverlauf oszilliert wird, woraufhin die sekundären Elektronen, die durch das Auf treffen des Strahles auf das Werkstück entstehen, gesammelt und über einen Widerstand gesohiekt werden, wobei die so mufgebaute Spannung an einen der Ablenkplattensätze eines Kathodenstrahloazillographen angelegt wird, daß eodann eine Spannung an einen zweiten Ablenkplattenaatz des Kathodenstrahl-

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oezillographen angelegt wird, die von der Einrichtung abgeleitet iet, die zur Brseugung de« Ilektronenstrahl· dient, und dmß die resultierenden Schwingungen i» Oszillographen

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mindestens dargestellt, gegebenenfalls,etwa durch Abtastung des Oszillogrammes durch Mchtzellen mit angeschlossener Steuerung, in Bewegungsteuerungskräfte umgesetzt werden.

Auf diese erfindungsgemäße Weise kann der Auftreffpunkt des Elektronenstrahles in Bezug auf die "Fuge genau "bestimmt werden. Außerdem ist es hierdurch mindestens möglich, die lage des Elektronenstrahls gegenüber der Fuge der miteinander zu verschweißenden Werkstücke oder Werkstückteile mittels eines Oszillographen, etwa eines Kathodenstrahloszillographen, darzustellen. .

Darüber hinaus kann erfindungsgemäß der Weg des Elektronenstrahls gegenüber der Schweißfuge registriert werden, während sich der Strahl über die Fuge bewegt.

Weitere Vorteile und Einzelheiten des erfindungsgesiäß vorgeschlagenen Verfahrens sowie einer Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens ergeben sich aus dar Beschreibung eines zeichnerisch dargestellten Ausführungsbeispiels.

Die Zeichnung zeigt in

I"ig. 1 ein Schaltschema mit der Darstellung der elektronischen Verbindungen zwischen den Elementen der benutzten Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens; es geben die

Fig. 2 a, 2 b und 2 c verschieden artig ausgebildete

Schwingungskurvenformen von Oszillogrammen unter Darstellung abweichender Lagen des Elektronenschweiß Strahls gegenüber der Schweißfuge wieder. Es veranschaulicht

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flg. 3 weitere Oszillogramme in größerem Maßstab

mit unterschiedlichen Lagen des Elektronenschweißstrahles gegenüber der Sehweißfuge; schließlich geben die

Pig. $ und 4 b Stromlaufbilder von Einrichtungen , schematisch wieder, die zur automatischen

Anzeige der Ruhelage des Strahls Verwendung finden.

|) Fig. 1 zeigt den allgemeinen Aufbau einer Einrichtung, die zur Durchführung des neuen Verfahrens dienen soll. Das Elektronenstrahlerzeugungsgerät ist schematisch veranschaulicht und zeigt einen Elektronenemitter 2, eine Kathode 3, eine Anode 4 mit einer Mittelöffnung zum Strahldurchgang sowie elektromagnetische Fokussierungsspulen 5 und Ablenkspulen 5. Ferner ist eine Fang-, Aufnahme- und Sammelelektrode 7 für sekundäre Elektronen veranschaulicht und über Isolatoren 8 an der werkstückseitig gelegenen Abschlußfläche des Elektronenstrahlerzeugungsgerätes angeordnet. Die von.dem Emitter 2 emittierten Elektronen werden mittels der erwähnten Kathoden und Anoden fokussiert, wobei sie die

. Spule 5 vollständig durchlmufen, um gebündelt zu werden, so * daß sie anschließend auf die Oberfläche der Werkstückteile 9 auftreffen. Ablenkspulen 6 finden Verwendung, um den Elektronenstrahl entweder in Längsrichtung und/oder quer zu der Fuge 37 zwischen den Werkstückteilen 9 und quer zu der späteren Schweißnaht abzulenken. Indem geeignete Ströme durch die Ablenkspulen 6 geschickt werden, ist zu erreichen, daß der erzeugte Elektronenstrahl in ständiger Oszillatiihnsbewegung die Fuge 37 überstreicht, wobei entweder Sinusformen oder mittels gradliniger Ablenkung Dreiecksfomnen auftretender Schwingungsformen erzielt werden. Die Einrichtung kann auch Sätze im rechten Winkel zueinander angeordneter Ablenkspulen aufweisen, so daß unter Verwendung entsprechender Ströme sinus- oder cosinusförmig verlaufende Sohwingbewegungen verwirklicht werden. Eine Hochspannungsquelle liefert

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ein Potential, um die durch, den Emitter 2 abgestrahlten Elektronen zu "beschleunigen, die durch Ausnehmungen jeweils in der Mitte der beschriebenen Bauelemente des Elektronenstrahlerzeugungsgerätes geführt werden; eine Vorspannungsquelle 11 steuert dabei die Intensität des Stromes, der dem Werkstück zugeleitet wird. Durch Veränderung des negativen Potentials der Kathode 3 gegenüber dem Emitter 2 kann der das Werkstück erreichende Elektrönenstrom während des Abtastens der Fuge auf eine beliebige Höhe eingestellt werden. Nachdem der Elektronenstrahl auf das Werkstück aufgetroffen ist', durchdringt er das Werkstück und kehrt zu der positiven Klemme 38 der Hochspannungsstromquelle zurück. Die negative Klemme der Hochspannungsstromquelle ist mit der Emitterelektrode 2 verbunden« Wenn die Hochspannungselektronen in dem Strahl 10 auf die Werkstückoberfläche auftref&n, emittiert die Werkstückoberfläche ihrerseits Sekundärelektronen, die von der Elektrode 7 aufgenommen werden. Die Erzeugung der Sekundärelektronen ist maximal, wenn der Strahl auf die Werkstückoberfläche auftrifft j sie wird ein Minimun, wenn der Strahl fokussiert und auf die Kanten der Fuge 37, die an die beiden Werkstücke 9 angrenzen, zentriert bzw. konzentriert ist.

Eine zusätzliche Verwendung des erfindungsgemäß vorgeschlagenen Verfahrens besteht in der Bestimmung der minimalen Größe des Elektronenstrahls, der auf die Werkstückfläche auftritt, d.h. in der Festlegung optimaler Fakussierungsbedingungen und in einer Vorrichtung zum Ausrichten des Strahle über die gesamte Breite, Länge und !Tiefe der herzustellenden Schweißverbindung.

Der durch die Elektrode 7 aufgenommene sekundäre Elektronenetrom passiert den Widerstand 15 und kehrt zur Masse oder Erde 36 zurück} dabei entsteht an den Klemmen 40 und 41 des Widerstandes 13 ein Spannungeabfall. Dieser Spannungsabfall ist proportional dem von der Elektrode 7 aufgenommenen

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Sekundärelektronenstrom. Die Spannungsdifferenz kann den Klemmen 34, 35 eines Oszillographen 14 zugeführt oder auch an die Ablenkklemmen 16 und 17 vertikaler Ablenkung des Oszilloskops 15 angelegt werden. Eine, ständige Aufzeichnung, die den Veränderungen des den Widerstand 15 durchlaufenden Stromes entspricht und die den Veränderungen der sekundären Emission proportional ist, und zwar in Abhängigkeit davon, ob der Elektronenstrahl auf die feste Oberfläche des Metalls auf trifft oder zwischen die Werk-

^ stückplatten gelangt, wird hergestellt, wenn die BSgistriertrommel mit dem Aufzeichnungsmaterial für das Oszillogramm des Oszillographen bewegt wird. Wenn der Strahl quer zur Fuge oszilliert, indem ein Strom geeigneter Frequenz durch die Ablenkspulen 6 geschickt wird, erfolgt eine Aufzeichnugg, die den Lagen des Elektronenstrahles gegenüber der Schweißfuge in Abhängigkeit von der Zeit entspricht, wie dies in Fig. 3 im Fenster des Oszillographen 14 veranschaulicht ist. Die Ablenkspulen 6 können ihren Strom von den Klemmen 28 und 29 eines Verstärkers 24 über einen Widerstand 27 beziehen. Die Eingangsklemmen 25 und 26 des Verstärkers 24 werden über Ausgangsklemmen 22 und 23 eines Signal- oder Schwingungsgenerators 21 mit Strom versorgt. Dabei kann dieser Signalge-

* nerator Ströme erzeugen, welche sinusförmig, rechteckig oder dreieckförmig periodisch über einen weit ausgedehnten Freqenzbereich modulierbar sind. Durch Einstellung von Frequenzen und Schwingungsformen am Ausgang des Signalgenerators und durch Anlegen einer Verstärkung der so erzeugten Signale an die Ablenkspulen 6 kann der Elektronenstrom 10 in vorbestimmter Weise quer zum längeverlauf der Fuge 37 geführt werden. Der mittels der Ablenkspulen erzeugte Strom durchläuft zunächst den Widerstand 27, so daß ein Spannungsabfall entsteht, der an die Klemmen 18 und 19 des Oszilloskops15 angelegt wird, die zu Horizontalablenkungen führen.'Es zeigt also das Oszllloskop 15 eine Sohwingungsform entsprechend den Änderungen der sekundären Emission

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in Abhängigkeit von der Zeit, wenn der Elektronenstrahl quer zu der Fuge in und gegen Richtung ihres Längsverlaufes geführt wird. Wenn der durch die Alienkungspulen durchgehende Strom aufhört, was "bei Ruhelage des Elektronenstrahles der Fall ist, "bildet sich im Kathodenstrahl-Oszilloskops ein punktförmiger Fleck ab, der der Ruhelage des Elektronenstrahles gegenüber der Fuge sowohl in der einen als auch in der hierzu senkrechten Richtung entspricht.

Durch Anordnung eines periodisch wirksamen Kurzschlußschalters 30, der die Klemm ei 31 und 32 am Ausgang des Signalgenerators 31 miteinander verbindet, kann der durch die Ablenkspule gehende Strom für eine bestimmte Zeitspanne periodisch zur Ruhe gebracht werden, so daß ein breiter Fleck auf dem Bildschirm des Kathoden-Oszillokops erscheint, der die Ruhelage des Strahls sichtbar macht.Dieser periodisch wirksame Kurzschließer 30 kann veränderlich einstellbar sein, so daß die öffnungs- und die Schließperioden variiert werden können. Während des öffnens oder Uicht-Kurzschließens wird etwa eine Kurve 20 auf dem Bildschirm erscheinen. Während des Schließens oder während der Kurzschlußperioden werden hingegen ausgeprägte Flecke auf dem Bildschirm sichtbar sein. Wegen der Persistenz der Kurvenbilderzeugung wird der markierte Fleck dem kurvenförmig verlaufenden Oszillogramm überlagert sein,/werden die Änderungen in der sekundären Emission sichtbar sein, wenn der Elektronenstrahl seinerseits über die Fuge oszilliert. Wird das -Werkstück gegenüber diesem Elektronenstrahl bewegt, so verschiebt sich auch die Lage des markierten Punktfleckes im oszillogramm. Fällt der bvvlt markierte Punktflecken mit einer Spitze der auf dem Bildschirm dargestellten Schwingungekurve zusammen, so ist . der Strahl während seiner Ruhelage im Verhältnis zur Fuge 37 zentriert; das Werkstück wird anschließend in Längsrichtung der Fuge

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"bewegt, und es wird die Schwingungen οrm auf dem Bildschirm "beobachtet. Wenn der ausgedehnt Punktflecken sich gegen die Spitze der Schwingungskurve verschiebt, "bedeutet das, daß das Werkstück nicht ordnungsgemecht auf die Schweißfuge ausgerichtet ist, da der Elektronenstrahl in Ruhestellung nicht auf die Fuge zentriert bwz. konzentriert wäre. Durch eine auf dem Bildschirm vorgesehene SLibrierung desselben sind die entstehenden Lagedifferenzen zwischen Elektronenstrahl und Fuge meß- und fc korrigierbar.

Fig. 2 zeigt einige in Betracht kommende, charakteristische Sehwingungsformen 43» die in Abhängigkeit verschiedender Ruhelagen des Elektronenstrahls gegenüber der Fuge zwischen den beiden zu verschweißenden Werkstücken auf dem Bildschirm des Elektronenstrahl-Oszilloskops auftreten könnten.

Fig. 2 a zeigt ein Oszillogramm, das erhalten wird, wenn , der Elektronenstrahl geringfügig nach rechts gegen die Fuge vorgeschoben ist. ' .

Fig. 2 b zeigt ein Oszillogramm, das entsteht,,wenn der Strahl auf die Fuge 37 zentriert ist, wobei der breite Punktfleck 42 an der Spitze der Kurve 43 erscheint.

Fig. 2 c eeranschaulicht eine Schwingung, die dann erzeugt würde, wenn der Strahl geringfügig aus der zentrierten Stellung herausgeführt ist und links von der Fuge 37 zwischen den beiden miteinander zu verschweißenden Platten 9 liegt.

Fig. 3 zeigt ein Oszillogramm,daß unter verschiedsnen Bedingungen der Elektronenstrahllage gegenüber der

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Sehweißfuge entstehen würde. Bin Oszillogrammbereich · zwischen A und B würde unter der Auswirkung eines stationären Elektronenstrahls erzeugt, der auf die Fuge zentriert wäre. Hierbei handelt es sich um die Erfüllung einer Bedingung dahin, daß eine minimale Sekundäremission erzeugt wird und daß an den Klemmen des Widerstandes 13 eine maximale Spannung auftritt. Der Bereich zwischen B und C zeigt eine Ausbildung, die ein stationärer Elektronenstrahl ergibt, der die Fuge nicht berührt. Ein zwischen den Punkten C und D auftretender Bereich entsteht bei einem stationären Strahl, der nicht ordnungsgerecht auf die Fuge zentriert ist, und zwar entweder links oder rechts der Fuge liegt. Ein Zwischen D und E liegender Bereich würde dann erscheinen, wenn der Strahl zwar quer zur Fuge 37 bewegt wird, der Strahl aber in der Ruhelage nicht auf die Fuge zentriert wäre. Ein Bereich E bis F würde auf dem Bildschirm entstehen, wenn der Strahl in einer Ruhelage nicht zentriert auf die Fuge ausgerichtet wäre. Ein Bereich F bis G entsteht, wenn der Strahl nicht auf die Fuge 37 zentriert ist. Eine Schwingungsform mit paarweise auftreteiren Spitzen bedeutet, daß eine erste Spitze entsteht, wenn der Strahl über die Fuge von links nach rechts bewegt wird, die zweite Spitze des Paares entsteht, wenn der Strahl von rechts nach links quer über die Fuge bewegt wird. Wenn die beiden Spitzen eines jeden Paares einen kleineren Abstand zeigen, heißt das, daß der

strahl

Elektronen/mehr und mehr gegenüber einer auf die Schweißfuge zentrierten lage abweicht. Der Bereich zwischen G und H bedeutet wieder, daß der Strahl aus der Mittellinie der Fuge heraus verlegt ist. Die Bereiche H und K treten auf, wenn der Elektronenstrahl gut auf die Fuge zentriert ist. Hierbei sind die Spitzen in gleichen Abständen voneinander entfernt. Der Teil zwischen I und J entsteht, wenn der Kurzeohlußechalter 30 den Signalgenerator am Ausgang kurzschließt.

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Die Figur 4 a zeigt eine Schaltung, mit der zwar die Ruhelage des Elektronenstrahles hergestellt und auf einem Bildschirm oder in einem Oszillographen veranschaulicht werden kann, die aber die Anwendung eines periodischen Kurzschlußschalters entbehrlich macht. Hierzu sind die Kristalldioden 42 und 43 gegenüberliegend in Serie zwischen die Klemme 22 des Signalgenerators 21 und die Klemme 25 des Verstärkers 24 geschaltet worden. Strom kann nur fließen, wenn in beiden ^ = Richtungen die Durchschlagsspannung der Zenerdiode auf-"' tritt*Uie durch den Signalgenerator.erzeugte Dreiecksform wird daher zu der in Fig. 4 b veranschaulichten Form moduliert. Der Elektronenstrahl wird geradlinig bewegt, um den Fugenbereich zwischen L bis M und If bis 0 abzutasten, und der Strahl ist in seiner Ruhelage in den Perioden M und U sowie 0 und I. Während der M-und N-sowie 0-und L- Perioden zeigt das Oszilloskop die Ruhelage des Strahls gegenüber der Schwingungsform des sekundären Elektronenstromes an.

Obschon sinusförmige od§r dreieckige Schwingungsformen erwähnt worden sind, welche gemäß dem erfindungsgemäßen 7er- |l fahren zur Anwendung gelangen, können auch andere Formen benutzt werden, um eine andere nützliche Information des Oszilloskope oder des Oszillographen zu erhalten. Beispielsweise könnte eine Kreisbewegung des Elektronenstrahles Verwendung finden, um eine Richtungsänderung des Strahls am Umkehrpunkt zu erzeugen oder es können Diskriminatorschaltkreise oder Servomotoren vorhanden sein, die automatisch die Lage des Werkstückes gegenüber der Ruhelage des Elek-. tronenstrahles ändern, so daß der Strahl auf die Fuge gut . . zentriert bleibt, wenn er die Länge der Fuge bestreicht; das Schweißverfahren gestaltet eich hierdurch sehr wirksam.

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Die Erfindung beschränkt sich nicht auf Einzelheiten der Ausbildung des veranschaulichten Ausführungsbeispieles, vielmehr ist es ohne Abweichung vom Erfindungsgedanken möglich, die verschiedenen Abwandlungen des Grundgedankens anzugeben.

So könnte man beispielsweise, wenn die Ablenkströme nihht ihrerseits in Steuerimpluse für die Werkstücklage umgesetzt werden, die Oszillogramme nach Kurvenverlauf und Punktfleckanlagen mittels Lichtzellen abtasten und in Abhängigkeit von den optischen Meßwerten Steuerströme für die Bewegungseinrichtungen des Werkstückes erzeugen und zur Wirkung bringen.

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Claims

69 185 d

Patent ansp ruche

Verfahren zur Bestimmung des Auftreffpunktes des Elektronenstrahles bei Elektronenstrahlerzeugungsgeräten, insbesondere Elektronenschweißmaschinen in Bezug auf die Lage der Fuge zwischen miteinander zu verschweissenden Werkstückteilen, dadurch gekennz ei e h η e t, daß der Elektronenstrahl auf die zu erzeugende Schweißfuge ausgerichtet und quer zu deren Längsverlauf oszilliert wird, woraufhin die sekundären Elektronen, die durch das Auftreffen des Strahles auf das Werkstück entstehen, aufgefangen und über einen Widerstand geschickt werden, wobei die so erzeugte Spannung an einen der Ablenkplattensätze eines Oszillographen angelegt wird, daß sodann eine Spannung an einen zweiten der Ablenkplattensätze des Oszillographen angelegt wird, die von der Einrichtung abgeleitet ist, die zur Erzeugung des Elektronenstrahles dient, und daß die resultierenden Schwingungen im Oszillographen mindestens dargestellt werden, gegebenenfalls in Bewegungssteuerkräfte umgesetzt werden.
2.) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß ein zur Erzeugung der oszillierenden • Bewegung des Elektronenstrahls« dienender Strom periodisch kurzgeschlossen wird.
3·) Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß die Perioden, in denen der zur Erzeugung der oszillierenden Bewegung des Elektronenstrahles dienende Strom kurzgeschlossen wird, und die Zeitspannen verändert werden, während derer nicht kurzgeschlossen wird.

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4·) Verfahren nach Anspruch. 3, dadurch g e k β β η-zeichnet, daß die einen Widerstand durchlaufende Spannung aufgezeichnet wird, durch den die sekundären Elektronen geleitet werden.
5·) Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Einrichtung (3-6) zur Fokussierung des Elektronenstrahles (10), die eine zusätzliche Einrichtung zur periodischen Ablenkung des Elektronenstrahls auf seinem Bewegungsweg über die Fuge miteinander zu verschweissender Werkstücke oder Werkstückteile entha.lten, wobei eine Einrichtung (7, 13) zum Auffangen der Sekundärelektronen vorgesehen ist, die durch das Auftreffen des Elektronenstrahls auf das Werkstück und seine Teile erzeugt werden, und wobei ein Oszillograph (H) zur Darstellung der Augenblickswerte des Sekundärelektronenstromes und eine Einrichtung zur periodischen Zurückführung des Strahles in seine nicht abgelenkte Ruhelage für eine bestimmte Zeitspanne vorgesehen sind, so daß ein markierter Punktfleck (42) auf dem Bildschirm des Oszillographen erscheint, der die Ruhelage des Strahles definiert.
6.) Einrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Oszillograph als Kathoden-Btrahl-Oszillograph ausgebildet ist, der zwei Ablenkachsen aufweist und bei dem eine Achse periodisch synohron mit der Ablenkung des Strahls ablenkbar ist, während eine zweite Aohse des Oszillographen im Verhältnis zum Augenblickswtrt dos Sekundärelektronenstromes ablenkbar ist*

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7·) Einrichtung nach Anspruch 5, d a d u r c h ge- ' kennzeichnet , daß die Einrichtung zum periodischen Ahlenken des Strahles als Signalgenerator (21) mit Eingangs- und Ausgangsklemmen (22, 23)ausgebildet, daß ein Verstärker (24) zur Versorgung der Ablenkspulen (5, 6) der Elektronenstrahlerzeugungsgeräte (1) vorgesehen, und daß die Einrichtung zur Rückführung des Elektronenstrahls in seine Ruhelage durch ein Paar Zenerdioden gebildet ist, die einander fc gegenüberliegend in Serie mit einer der Ausgangsklemmen und dem Signalgenerator geschaltet sind.

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