Vakuumapparatur mit einer Schleuse für eine Einrichtung zur Bearbeitung
von Bauteilen in kontinuierlicher Folge Die Erfindung betrifft eine Vakuumapparatur
mit Druckstufenanordnung, die aus Einzelkammern besteht2 von denen jeweils einander
benachbarte,durch mit Spaltdichtungen versehene Burchführungsbffnungen miteinander
verbunden sind 7 vorgesehen zur Hindurchführung von Material, das im Innern einer
Vakuumkammer der Vakuuinapparatur zu bearbeiten ist0 Bekannt ist es, Vakuumapparaturen
mit zwei räumlich voneinander getrennten iruckstufenanordnungen auszurüsten2 eine
für die Zuführung und eine für die Abführung des in einer zur A;para-tur gehörigen
Vakuumkammer zu bearbeitenden Materials0 Druckstufenanordlungen für kontinuierlichen
Betrieb bei einer derartigen Apparatur bestehen aus Einzelkammern mit DurchführungsöSfnungen,
die so bemessen sind2 daß das zu- bzw. das abzuführende Material den Öffnungsquerschnitt
praktisch vollständig ausfüllt und nur gering fügige Spalte rundherum fre ißto Die
Spalte sind so klein7 daß das durch sie hindurch in die Kammern noch eintretende
Gas, zOBO Luft, durch entsprenhend stark dimensionierte Pumpen laufend entfernt
werden kann0 Nicht in allen Pällen ist eine wie beschriebene bekannte ApParatur
als optimal anzusehen. Insbesondere in den Fällen, in denen der maximal zulässige
Raumbedarf und/oder der technischeAufwand stark beschnitten ist, wird nach einer
ailgepaßteren Lösung gesucht. Vacuum apparatus with a lock for a device for processing
of components in a continuous sequence The invention relates to a vacuum apparatus
with pressure stage arrangement, which consists of individual chambers2 of which each other
Adjacent lead-through openings provided with gap seals with one another
are connected 7 provided for the passage of material that is inside a
To process the vacuum chamber of the vacuum apparatus is0 It is known to use vacuum apparatus
to be equipped with two spatially separated rear stage arrangements2 one
for the supply and one for the discharge of the one belonging to the A; par-ture
Vacuum chamber to be processed material0 pressure stage arrangements for continuous
Operation with such an apparatus consists of individual chambers with feed-through openings,
which are dimensioned2 so that the material to be fed in or the material to be discharged corresponds to the cross-section of the opening
practically completely filled and only marginal gaps free all around
Gaps are so small7 that that which can still enter the chambers through them
Gas, zOBO air, is continuously removed by appropriately sized pumps
0 Not in all cases is a known apparatus as described
to be regarded as optimal. Especially in those cases where the maximum permissible
The space requirement and / or the technical effort is greatly reduced, after a
Looking for a more suitable solution.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine raumsparende weniger
aufwendige und auch betriebssichere Vakuumapparatur zur Bearbeitung kontinuierlich
zu- und abzuführenden Materials2 insbesondere einzelner Bauteile der Elektronik,
anzugeben, Diese Aufgabe wird durch eine wie erwähnte Vakuumapparatur gelöst, die
erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet ist, daß nur eine Druckstufenanordnung in
der Vakuumapparatur vorgesehen ist2 die so ausgestaltet ist, daß durch diese Druckstufenanordnung
hindurch sowohl das in die Vakuumkarnmer hereinzubringende als auch das aus der
Vakuumkammer herauszubringende Material in kontinuierlicher Folge hindurchführbar
ist.The object of the present invention is to provide a space-saving less
complex and reliable vacuum apparatus for processing continuously
material to be supplied and withdrawn2, in particular individual electronic components,
specify, This object is achieved by a vacuum apparatus as mentioned, which
according to the invention is characterized in that only one pressure stage arrangement in
the vacuum apparatus is provided2 which is designed so that through this pressure stage arrangement
through both that to be brought into the vacuum chamber and that from the
Material to be brought out of the vacuum chamber can be passed through in a continuous sequence
is.
Insbesondere ist bei weinigstens einigen Einzelkammern zur Verbindung
jeweils zweier Kammern miteinander nur eine Durchführungsöffnung vorgesehen, die
vorzugsweise noch durch einen Mittelsteg geteilt ist. Die Durchführungsöffnungen
weisen in der Transportrichtung bevorzugt eine derartige Länge auf, die größer ist
als die Länge eines der hindurchzuführenden Teilstücke des Materials Gemäßeiner
Weiterbildung der Erfindung sind in einer oder mehreren der Einzelkammern der Anordnung
Einrichtungen zum Vorheizen des in die Vakuumkammer einzubringenden.Materials vorgesehen.
Diese Einrichtungen zum Vorheizen können inssesondere darin bestehen, daß der Weg
des Materials durch die Einzelkammern in die Vakuumkammer hinein und wieder hinaus,
so nahe beieinander verläuft, daß ein starker Wärmeaustausch zwischen dem aus der
Kammer herauszuführenden, infolge der dortigen Bearbeitung noch heißen Material
und dem gerade hereinzuführenden noch kalten Material beim Durchlauf durch die Anordnung
erzielt wird.In particular, there is at least a few individual chambers for connection
in each case two chambers with each other only one feed-through opening is provided
is preferably also divided by a central web. The lead-through openings
preferably have such a length in the transport direction that is greater
as the length of one of the sections of the material to be passed through according to a
Further developments of the invention are in one or more of the individual chambers of the arrangement
Means are provided for preheating the material to be introduced into the vacuum chamber.
These devices for preheating can be insses special that the way
of the material through the individual chambers into and out of the vacuum chamber,
so close together that a strong heat exchange between the
Chamber to be led out, due to the processing there still hot material
and the still cold material to be fed in as it passes through the arrangement
is achieved.
Besonders bevorzugt ist eine Ausbildung der erfindungsgemäßen Vakuumapparatur,
bei der in der der Außenatmosphäre nächsten Einzelkammer ein gegenüber der Außenatmosphäre
geringer Überdruck vorgesehen ist5 Durch diese Maßnahme wird der Eintritt von Staubteilchen
in die Vakuumapparatur unterbunden, wodurch die Gefahr des Zerkratzens der Oberfläche
des zu behandelnden Materials beim Durchtritt durch die engen Durchführungsöffnungen
erheblich herabgesetzt wirdO Weitere Einzelheiten der Erfindung gehen aus der Figur
und de Beschreibung eines in schematischer Darstellung angegebenen, bevorzugten
Ausführungsbeispiels der Erfindung hervor, Mit 1 ist die Vakuumkammer und mit 2
die Druckstufenanordnung der Vakuumapparatur bezeichnet. In der Kammer 1 befinden
sich die jeweils erforderlichen Vorrichtungen für den dort durchzuführenden Arbeitsprozeß,
sowie die Mittel, die für den innerhalb von 1 notwendigen Transport des zu bearbeitenden
Materials erforderlich sind Q Durch einen Fumpstutzen 3 kann das Gas aus der Vakuumkammer
abgesaugt werden 112 12 und 13 sind Einzelkammern der Drucksufenanordnung 2 Jede
ist für sich mit je einer Absaugleitung 6 ausgestattetO Zwischen jeweils einander
benachbarten Einzelkammern und dem daran anschließenden Außenraum, sowie dem Innenraum
der Vakuum-Kammer 1 sind jeweils Durchführungsöffnungen 4 vorgesehen, die erfindungsgemäß
auf das durch sie hindurchzuführende Material im Querschnitt und auch in ihrer Länge
abgestimmt bemessen sind, so daß zwischen dem hindurchgeführten Material und der
Innenwand der Öffnung sehr enge und lange Spaltdichtungen entstehen Die Durchführungsöffnungen
haben, wie die Figur zeigt, kanalförmige Gestalt. Der Mittelsteg ist mit 5 bezeichnet0
Das hindurchzuführende Material braucht noch nicht das
eigentliche2
zu bearbeitende Werkstück zu sein, sondern "Material" kann gemäß einer Weiterbildung
der Erfindung auch ein Körper sein2 der lediglich zur Aufnahme eines solchen Werkstückes
vorgesehen ist. Auf diese Weise ist es möglich, unabhängig von der jeweiligen Größe
einer jeweils zu bearbeitenden Type von Werkstücken ein und dieselbe Anordnung mit
danach vorgegebenen Öffnungen 4 zu verwenden, Insbesondere sind in den Einzelkaern,
angepaßt an die Durchführungsöffnungen, der Übersichtlichkeit halber in der Pigur
nicht dargestellte Führungsschienen zur Aufnahme des Materials vorgesehen0 Vorzugsweise
sind diese Führungsschienen so angelegt2 daß sie das herauszuführende Material ganz
dicht an dem in die-Vakuumapparatur hereinzubringende Material vorbeiführen, wodurch
v.OaO der intensive Wärmeaustauscn zum Zwecke der Vorheizung des hereinzubingenden
Materials eintritt, Eine der Erfindung gemäße Vakuumapparatur kann gegenüber einer
bekannten Apparatur, bei der getrennte Druckstufenanordnungen für die Zuführung
und für die Abführung des Materials vorgesehen sind, sehr raumsparend und weniger
aufwendig ausgeführt werden0 Einer besonderen Ausführungsform der Erfindung gemäß
sind die in die Vakuumkammer hereinzuführenden Werkstücke bereits mit den für die
Bearbeitung, z.B. für das Bedampfen erforeichen Masken versehen, Eine der Erfindung
gemäße Vakuumapparatur läßt sich besonders vorteilhaft zur Herstellung von Dünnschichtschaltungen
bzwO Dünnschichtschaltkreisen, sowie für die Herstellung dünner magnetischer Schichten
verwenden Dabei können die auf Plättchen aufzubringenden Leitungsbahnen, Widerstandsschichten
und Kondensatorbelegungen in kontinuierlich
aufeinanderfolgenden
Arbeitsgängen in der Kammer 1 der Vakuumapparatur bei kontinuierlicher Zu- und Abführung
der Plättchen aufgebracht werden 9 Patentansprüche 1 FigurAn embodiment of the vacuum apparatus according to the invention is particularly preferred,
in the single chamber closest to the outside atmosphere, one opposite to the outside atmosphere
slight overpressure is provided5 This measure prevents the entry of dust particles
in the vacuum apparatus, reducing the risk of scratching the surface
of the material to be treated as it passes through the narrow openings
is considerably reduced. Further details of the invention can be seen in the figure
and the description of a preferred one indicated in a schematic representation
Embodiment of the invention, with 1 is the vacuum chamber and with 2
denotes the pressure stage arrangement of the vacuum apparatus. Located in chamber 1
the necessary devices for the work process to be carried out there,
as well as the means necessary for the transport of the to be processed within 1
Materials are required Q The gas can be discharged from the vacuum chamber through a pump nozzle 3
112 12 and 13 are individual chambers of the pressure stage arrangement 2 each
is each equipped with a suction line 6 between each other
adjacent individual chambers and the adjoining outer space, as well as the interior
the vacuum chamber 1 are each provided through openings 4 according to the invention
on the material to be passed through it in cross section and also in length
are dimensioned matched so that between the material passed through and the
Inside wall of the opening very narrow and long gap seals are created
have, as the figure shows, channel-shaped. The middle bar is labeled 50
The material to be fed through does not yet need that
actual2
to be the workpiece to be machined, but "material" can according to a development
According to the invention, it can also be a body only for receiving such a workpiece
is provided. In this way it is possible regardless of the size
each type of work piece to be processed has one and the same arrangement
then the specified openings 4 are to be used, in particular in the individual cores,
adapted to the feed-through openings, for the sake of clarity in the Pigur
Guide rails (not shown) are provided for receiving the material0 Preferably
these guide rails are laid out in such a way that they completely support the material to be fed out
pass close to the material to be brought into the vacuum apparatus, whereby
v.OaO the intensive heat exchange for the purpose of preheating the to be brought in
Material enters, a vacuum apparatus according to the invention can be compared to a
known apparatus, in which separate pressure stage arrangements for the supply
and are provided for the removal of the material, very space-saving and less
costly to be carried out according to a particular embodiment of the invention
are the workpieces to be fed into the vacuum chamber already with those for the
Processing, e.g. providing masks for steaming, one of the invention
A suitable vacuum apparatus can be particularly advantageous for the production of thin-film circuits
or thin-film circuits, as well as for the production of thin magnetic layers
The conductive paths to be applied to the platelets, resistance layers, can be used
and capacitor assignments in continuous
consecutive
Operations in chamber 1 of the vacuum apparatus with continuous supply and discharge
the platelets are applied 9 claims 1 figure