DE1934083A1

DE1934083A1 - Verfahren und Vorrichtung zum Justieren der Muster einer fotografischen Maske auf der Oberflaeche eines Plaettchens an Hand der rueckseitigen Muster dieses Plaettchens

Info

Publication number: DE1934083A1
Application number: DE19691934083
Authority: DE
Inventors: Kobayashi Dipl-Ing Masaaki
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1968-07-05
Filing date: 1969-07-04
Publication date: 1970-01-29
Also published as: NL6910276A; GB1234117A; DE1934083B2

Description

(Beanspruchte Priorität?
5.. Juli 1968 Japan 46928/68)

Die Erfindung betrifft ein,Verfahren und eine Vorrichtung zum Justieren der Muster eines Blattes von einem Element wie einer fotografischen Maske auf der Oberfläche eines Plattchens wie eines Halbleiterplittchens an Hand von rückseitigen Mustern dieses Plättchene·

Bei der Herstelluag einer Halbleiteranordnung wie 'einer SiIiziumhalbleit»anordnung wird nach dem Justieren einer fotografischen Maak· auf dem mit einer fotoempfindlichen Jteulsion bedeckten Halbleiter dieser durch die fotografische Maske ultravioletten Strahlen ausgesetzt, sodann die Emulsion entwickelt

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und die unbelichtete Emulsion mit einem Lösungsmittel abgewaschen. Sodann wird das Plättchen einem Ätzprozeß unterzogen. Der Fotowiderstand schützt die Oberfläche des Plattchens vor dem Ätzen.. Bei diesem Vorgang müssen die notwendigen abgedeckten Bereiche die richtige Lage auf dem Plättchen haben. Das Aufsetzen der fotografischen Maske auf das Plättchen muß deshalb exakt so durchgeführt werden, daß die Muster der fotografischen ^ Maske genau auf den erforderlichen Bereichen des Plättchens liegen. Im allgemeinen wird die Justierung der fotografischen Maske auf einem Plättchen in der Weise durchgeführt, daß die Muster der Maske Basismustern überlagert werden, die auf einer Oberfläche des Plättchens aufgebracht sind. Soferne jedoch die Basismuster auf der rückseitigen Fläche des Plättchens liegen, ist es sehr schwierig, die Justierung genau vorzunehmen, da das Plättchen im allgemeinen für sichtbare Lichtstrahlen undurchlässig

ist.. _r·.. - ■ -. . ■ - -.-■■■ ■ - ■■■■■· ;■ -. -_-..-..-■ . .-. ■ ■,-■■■

ψ Es ist bisher nur eine praktische Technik zur Durchführung ,der erwähnten Justierung bekannt. Diese besteht darin, daß -Infra— · rot strahl en von der Bückseite des Plättchens auf-dieses pro 3,1-> ziert und die Muster durch ein Infrarot-Mikroskop beobachtet ; . werden. Bei diesem praktischen. Verfahren ist eine Vorrichtung . nötig, die die infraroten Strahlen -in sichtbare Lichtstrahlen umsetzt. Demzufolge wird die Ausrüstung als Ganzes verhältnismäßig groß, Ferner ist im allgemeinen das Auflösungsvermögeni -_._:;-> eines Infrarot-Mikroskops zur Durchführung der erwähnten Justierung nicht genau genug. Es ist bei dem bekannten Verfahren

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unmöglich, die Mikroskoplinse gleichzeitig auf Muster zu 'fokusieren, die in gegenseitigem Abstand angeordnet sind. Ferner ist dieses Verfahren nicht bei der Herstellung eines Halbleiterplättchens anwendbar, bei dem ein lichtundurchlässiges Material mit einer Substanz wie einem Metallfilm bedeckt ist, welche Infrarotstrahlen nicht durchläßt.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einem Verfahren und einer Vorrichtung der einleitend genannten Art die Nachteile des bekannten Verfahrens zu eliminieren. Es wird ein praktisches und kompaktes Gerät angestrebt, das sehr leicht bedienbar und genau ist.

Die Aufgabe ist erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die fotografische Maske zwischen zwei einander gegenüberliegenden Objektivlinsen auf das mit den Basismustern versehene Plättchen gebracht wird, daß durch die Objektivlinsen den Mustern entsprechende Bilder gesondert abgenommen werden, daß die Bilder in einem ähnlich vergrößerten Zustand kombiniert werden und die relative Lage der Bilder durch mechanisches Verschieben der relativen Lage der fotografischen Maske gegenüber dem Plättchen derart justiert wird, daß bei Beobachtung des kombinierten Bildes dieses zu einem im wesentlichen exakt überlagerten Bild wird.

Weitere Merkmale der Erfindung sind der folgenden Beschreibung an Hand der Zeichnung zu entnehmen. Es zeigen:

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Fig. 1 zum Teil im Schnitt die Seitenansicht einer erfindungs-' gemäßen Ausführungsform einer Vorrichtung zur Durchführung eines Justi erverfahrens für die Muster einer fotografischen Maske auf der Oberfläche eines Plättchens,

Fig. 2 zum Teil im Schnitt eine Seitenteilansicht der in Fig. dargestellten Vorrichtung,

Fig. 3 eine Vorderteilansicht der in Fig. 2 dargestellten Vorrichtung,

Fig. 4- ein Prinzipbild, das den wesentlichen Aufbau einer modifizierten Vorrichtung gemäß dieser Erfindung darstellt.

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Zur Erläuterung des Aufbaus und der charakteristischen Merkmale dieser Erfindung wird zunächst der Mechanismus und die Arbeitsweise des in Fig. 1 dargestellten Apparates beschrieben. Der in Pig. 1 dargestellte erfindungsgemäße Apparat enthält zwei einander gegenüberliegende Objektivlinsen, die eine gemeinsame Achse besitzen, Reflektorspiegel zum Reflektieren der Bilder der betreffenden Objektivlinsen, Spiegel zum Vereinigen der Bilder der Objektivlinsen, eine Okularlinse zum Vergrößern des vereinigten Bildes der Spiegel, zwei Lichtquellen zum Beleuchten der betreffenden Objekte der Objektivlinsen und Mittel zum gegenseitigen Verstellen der Lage der übereinanderliegenden Objekte, so daß die Bilder in einer vorgegebenen Position genau aufeinanderliegen. Ein auf der Bückseite mit Mustern versehenes Blättchen und eine mit entsprechenden Mustern versehene fotografische Maske werden mit einem Zwischenraum so übereinander angeordnet, daß die Objekte in einer Zwischenlage' zwischen den Linsen r>yft Mustern dieser durch die betreffenden Linsen beobachteten Objekte befestigt sind. Durch die Objektlinsen werden diese Muster getrennt aufgenommen und bei fast gleicher Größe kombiniert, so daß durch die Okularlinse ein vereinigtes Bild beobachtet wird. Die relative Lage der Muster läßt sich durch Justiermittel verstellen. Die übereinanderliegenden Positxonen der Objekte werden fixiert, wenn beobachtet wird, daß die Muster in der gewünschten Position überlagert sind.

In Fig. 1 ist eine Vorrichtung zum Justieren der relativen Lage der fotografischen Maske gegenüber einem Plättchen in einem

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Zwischenraum zwischen zwei einander gegenüberliegenden Objektivlinsen 3A und 3B angeordnet. Ein Plättchen 1 ist auf einem Transparentglas 9 befestigt, das durch einen in der Justiervorrichtung 8 angeordneten ersten Halter getragen wird. Eine fotografische Maske 2 wird von einem zweiten Halter getragen, der beweglich derart an der Justiervorrichtung befestigt ist, daß er oberhalb des ersten Halters liegt. Das Plättchen ist auf der

k oberen Seite mit einer fotoempfindlichen Emulsion bedeckt. Die Belichtung eines Musters auf der fotografischen Maske 2 wird mittels einer Lichtquelle 7> die in einem Haltearm für die Objektivlinse 3A angeordnet ist, sowie durch ein transparentes Reflexionsglas 10 bewirkt. Die Beleuchtung des Musters der unteren Oberfläche des Plättchens 1 wird durch eine an der Stelle'"' 11 im Haltearm der Objektivlinse 3B angeordnete Lichtquelle und" einen Reflexionsspiegel 12 bewirkt. Die Haltearme der Objektiv- * linsen 3A und 3B sind - wie in Fig. 1 dargestellt - mit L'-förmigen Hohlrohren versehen. Die Hohlrohre treffen sich an ihr eh "

' oberen Enden. In der folgenden Beschreibung wird auf den Ausdruck "Hohlrohr" im Hinblick auf die Elemente der optischen Mittel des Apparates, die in diesen Hohlrohren angeordnet sind, verzichtet, da deren Position aus J¹Ig, 1 klar ersichtvLich lsi;. Ein Bild der Muster der fotografischen Maske 2 wird durch einen Reflexionsspiegel 13 reflektiert und passiert eine Sammellinse 14 und einen halbdurchlässigen Spiegel 5· Es wird erneut durch * einen Reflexionsspiegel 15 reflektiert und zu dem balbaürchlässigen Spiegel 5 projiziert. Andererseits wird ein Bild der unteren Muster des Plättchens 1 durch die Reflexionsspiegel 12

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und 16 reflektiert und passiert eine Sammellinse 17, so daß das Bild bis auf die gleiche Größe wie das Bild der Muster der fotografischen Maske 2 vergrößert auf den halbdurchlässigen Spiegel 5 projiziert wird. Durch den. halbdurchlässigen Spiegel 5 werden die Bilder der zwei verschiedenen Muster kombiniert. Das kombinierte Bild wird mittels eines Reflexionsspiegels 18 reflektiert und dann das vergrößerte Bild durch eine Okularlinse 6 beobachtet. Es ist möglich, durch die Beobachtung des kombinierten Bildes die gegenseitige relative Lage dieser Muster festzustellen. Die gegenseitige relative Lage dieser Muster kann mittels der Justiervorrichtung 8 zum Justieren der relativen Lage der fotografischen Maske 2 gegenüber dem Plättchen 1 korrigiert werden. Wenn durch die erwähnte Justierung der relativen Lage das Bild der fotografischen Maske 2 genau über das Bild der unteren Muster des Plättchens 1 gebracht worden ist; wird - wie im folgenden beschrieben - die Lage der fotografischen Maske 2 fixiert und dann die Maske an das Plättchen 1 angebracht. Sodann werden das Plättchen 1 und die Maske 2 durch Betätigen einer Verschiebeeinrichtung 19 zusammen in die Arbeitsposition einer nicht dargestellten Belichtungsanordnung gebracht, die an dem Mikroskop befestigt ist· Danach wird das Plättchen 1 durch die fotografische Maske 2 belichtet, so daß die gesamte Emulsion mit Ausnahme der erforderlichen Bereiche dem Licht ausgesetzt ist. Im genannten Fall wird die Justiereinrichtung 8 durch die Verschiebeeinrichtung 19 festgehalten, welche durch eine Schwalbenschwanzführung mit dem Basisteil 41 des Apparates so verbunden ist, daß die Verschiebeeinrichtung - wie in Fig. 1

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ersichtlich - senkrecht bewegt werden kann. Der Aufbau der Justiervorrichtung 8 und der Verschiebevorrichtung 19 ist im Detail in den Fig. 2 und 3 dargestellt.

In den Fig. 2 und 3 ist die Justiervorrichtung 8 fest an einem senkrechten Teil 40 der Verschiebeeinrichtung 19 befestigt, das mit dem Basisteil 41 durch eine Schwalbenschwanzfiihruhg verbunden ist. Die Justiervorrichtung 8 enthält einen ersten Halter zum Halten des Plättchens 1 auf dem Transparentglas 9 und einen zweiten Halter zum Halten der fotografischen Maske 2. Der erste Halter enthält ein durch eine Schwalbenschwanzführung mit dem senkrechten Teil 40 verbundenes horizontales Teil J8 sowie ein ringförmiges Halteelement 37» d&s auf aeia horizontalen Teil 38 drehbar befestigt ist. Das Halteelement 3? ist mit einem Hohlraum versehen, der das Einsetzen der Ob^ektivlinse 3B gestattet, und ferner mit einem Absatz 37& frö? die Lagerung des Transparentglases 9· Ferner besitzt die.Justiervorrichtung 8 einen ) horizontalen Flansch 29» der an der Spitze des senkrechten Teils 40 befestigt ist, sowie einen Ring 34-» der schwalbenschwanzförmig mit dem Flansch 29 verbunden ist, und eine Justierschraube 30a, die mit einem vorspringenden Teil des Flansches zusammenwirkt und deren Ende 30b stets mit dem Hing 34 in Verbindung steht, und schließlich ein Federelement 35» cLeus an einem vorstehenden Teil des Flansches 29 in einer gegenüberliegenden symmetrischen Lage des Rings 34, bezogen auf die Justierschraube 30a, befestigt ist· Das Federelement 35 bewirkt durch eine Schraubenf eder^ die in einem Hohlraum 29a des

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Flansches 29 angeordnet ist, stets einen Druck auf den Ring 34. Das zweite Halteelement 33 ist durch eine Schwalbenschwanzführung mit dem Hing 34- so verbunden, daß das Element 33 senkrecht zur Blattebene der Fig. 2 verschiebbar ist. Das Halteelement 33 ist ringförmig ausgebildet und mit einem innen abgesetzten Halteflansch 33a sowie federnden Anpreßteilen 33"b versehen, die die fotografische Maske zeitweise auf dem Halteelement 33 befestigen. Zur Justierung der Lage des Halteelementes 33 der fotografischen Maske im Hinblick auf den Ring 34-dient - wie aus Fig. 3 ersichtlich - eine Justierschraube 31a, die mit dem vorstehenden Teil 34b des Rings 34· zusammenwirkt, sowie ein Feder element 31t>i cLas sich in einer zur Justierschraube 31 symmetrischen und entgegengesetzten Lage des Rings befindet, so daß der Ring 34- stets gegen die Justierschraube 31a gedruckt wird. Die Konstruktion und Wirkungsweise der Justierschraube 31a und des Federelementes 31"b sind ähnlich denen der Justierschraube 30a und des Federelementes 35. Durch Drehen der Justierschrauben 30a und 31a können der Ring 34- und das Halteelement 33 für die fotografische Maske in zueinander senkrechter Richtung verschoben werden. Es ist außerdem eine nicht dargestellte Drehvorrichtung zum Drehen des Ringes 34· um seine Achse vorgesehen. Ferner sind Mittel vorgesehen, um das horizontale Teil 38 in senkrechter Richtung gegenüber dem zweiten Halter zu verstellen. Diese Verstelleinrichtung ist mit einer Stellschraube 40a versehen, die - wie Fig. 3 zeigt - mit einem am senkrechten Teil 40 angebrachten Vorsprung 40b so zusammenwirkt, daß die Spitze der Stellschraube 40a stets das horizontale Teil

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38 berührt. So kann die relative Lage der fotografischen Maske 2 gegenüber dem Plättchen 1, das ortsfest auf dem Halteelement 37 montiert ist, sehr leicht verstellt werden. Nach der Beendigung des erwähnten Überlagerungsvorganges wird der erste Halter durch Drehen der Stellschraube 40a nach oben verschoben, bis das Plättchen 1 die fotografische Maske 2 berührt. Sodann wird die Verschiebeeinrichtung 19 entlang der Schwalbenschwanzführung des fc Basisteils 41, bezogen auf Big. 3» nach links oder rechts verschoben und hierbei die dem Plättchen 1 überlagerte Maske 2 in die Arbeitsposition einer folgenden Belichtungsanordnung gebracht.

Bei der beschriebenen Ausführungsform dieser Erfindung sind mehrere Modifikationen möglich. Der Reflexionsspiegel zum Einstellen des Strahlengangs kann durch Mittel zum Drehen des halbdurchlässigen Spiegels um 77/2 ersetzt werden, so daß die Bilder der voneinander unabhängigen Muster zu beiden Seiten des halb- * durchlässigen Spiegels 5 aufgenommen werden. Die Lagen des halbdurchlässigen Spiegels 5 "und des Reflexionsspiegels 13 können gegenseitig vertauscht werden. Der Spiegel 18 ist in der verlängerten Achse der oberen Objektivlinse 3-A- angeordnet, so daß die überlagerten Muster gemäß Fig. 1 von rechts beobachtet werden können.

Wie beschrieben, wird das Ziel dieser Erfindung durch ein • Mikroskop erreicht, das den erwähnten Aufbau besitzt und bei dem ohne Anwendung von Infrarotstrahlen einfache optische Mittel

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verwendet sind. Die Überlagerung kann somit sehr leicht exakt durchgeführt werden.

Als rückseitiges Plattchenmuster können Punkte oder verschiedene komplexe Formen eines regelmäßig auf einem Plättchen angeordneten Metallfilmes verwendet werden. Der fotografischen Maske werden zu den rückseitigen Mustern ähnliche Muster gegeben. Die Muster der fotografischen Maske können zur Erreichung des Zieles dieser Erfindung in Form eines lichtundurchlässigen Filmes, mit dem eine Glasplatte bedeckt ist, vorliegen. Wie bereits erläutert, wird bei der Herstellung von Halbleiteranordnungen, insbesondere von Halbleiteranordnungen des ^llbeam-lead^ll-Typs die fotografische Maske für die Durchführung des Ätzvorganges des mit einer fotoempfindlichen Emulsion bedeckten Plattchens benutzt, um das Plättchen von Elementen zu trennen oder an den· gewünschten Stellen sogenannte Fenster des Oxydfilms auf dem Plättchen herzustellen.

Das erwähnte Verfahren zum Überlagern von Mustern kann auch ohne Schwierigkeiten zur Herstellung anderer Halbleiter anordnungen verwendet werden. Das Verfahren ist anwendbar, wenn ein lichtundurchlässiges Plättchen verwendet wird. Mit anderen Worten ist das erwähnte Verfahren nicht auf die Herstellung von Halbleiteranordmingen beschränkt, sondern kann auch bei anderen lichtundurchlässigen Plättchen verwendet werden. Andererseits kann im Falle eines lichtdurchlässigen Scheibchens die Bildeinstellung der vorderen und rückseitigen Muster exakt

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separat durchgeführt werden im Hinblick auf g'edes der getrennt liegenden Muster.

Eine integrierte Schaltungsanordnung wird gemäß den folgenden Verfahrenssehritten hergestellt:

1. Es wird zunächst die Substratoberflache oxydiert, um auf dieser eine Oxydschicht zu bilden;

2. es werden Fenster gebildet, um die erforderliche verdeckte (buried) Diffusion auf der Substratoberseite durch Fotoätzen der Oxydschicht durchzuführen. Gleichzeitig werden Fenster gebildet, die als Basismuster auf'dsr Elioksäit» des Substrats verwendbar sind|

3· die verdeckte (buried) Diffusion wird in den Fenstern durchgeführt j

4. es wird die Oxydschicht entfernt}

5. es wird die Epitaxie-Schicht auf der Substratoberseite gebildetjund als Folge hiervon ist der Bereich, in dem die verdeckte Diffusion durchgeführt worden ist, nicht mehr erkennbar j

6. die Oberfläche der Epitaxie-Schicht wird oxydiertJ

7· es wird die gewünschte Diffusion an dem so behandelten Substrat durchgeführt.

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Das Bilden der Fenster für den Diffusionsvorgang erfolgt aufgrund der Basismuster, die gemäß Verfahrensschritt 2 dieses Verfahrens auf der Substratrückseite gebildet worden sind.

In Eig. 4 ist ein modifizierter Apparat dargestellt, der zwei Paare von Objektivlinsen besitzt, die in einem horizontalen Abstand angeordnet sind und dazu verwendet werden können, zwei überlagerte kombinierte Bilder mit Rücksicht auf die betreffenden Muster, die den Objektivlinsen gegenüberliegen, zu beobachten. Mit anderen Worten kann der Überlagerungsvorgang schnell und exakt für zwei Teile des Plättchens und die betreffenden Teile der fotografischen Maske durchgeführt werden. In Fig. 4 ist der wesentliche Teil des Apparates zur Durchführung der Überlagerung dargestellt. Es sind zwei Paare von Objektivlinsen 42a, 43a und 42b, 43b in der gleichen Weise wie das Objektivlinsenpaar 3A und 3B der ersten in Pig. 1 dargestellten Ausführungsform angeordnet. Bilder A, B der Muster auf der fotografisehen Maske 2 und ein zweites Paar von Bildern O und D der Muster auf den erwähnten beiden entsprechenden Teilen des Plättchens 1, das unterhalb der Maske 2 liegt, werden in ähnlicher Weise wie bei dem in Fig. 1 dargestellten Apparat durch entsprechende optische Mittel zu einem gemeinsamen Reflexionsprisma 44 (45-Grad-Prisma) projiziert. Das Reflexionsprisma 44 ist an der gleichen Stelle wie der halbdurchlässige Spiegel 5 in Fig. 1 angeordnet. Zur Vereinfachung wird zunächst eine Beschreibung bezüglich der Bilder A und B gegeben. Die -Bilder A und B werden durch das gemeinsame Reflexionsprisma 44 und ferner

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durch die Reflexionsspiegel 45a, 46a und 45b, 46b, die symmetrisch in zwei Reihenanordnungen angeordnet sind, reflektiert. Sodann werden die Bilder A und B nach Reflexion durch ein zweites gemeinsames Reflexionsprisma 47 zu einem dritten gemeinsamen halbdurchlässigen Spiegel 48 projiziert. Der gemeinsame halbdurchlässige Spiegel 48 enthält einen ersten halbdurchlässigen Spiegel 48a, der dazu dient, das Bild, bezogen auf die Projektionsrichtung um 90 _: nach rechts zu reflektieren, und einen zweiten halbdurchlässigen Spiegel 48b, der dazu dient, das Bild, bezogen auf die Pro j ekti onsri chtung, um 90° nach links zu reflektieren. Die durch den ersten halbdurchlässigen Spiegel 48a nach rechts reflektierten Bilder A und B werden zu einer Okularlinse 50a projiziert, die auf der rechten Seite angeordnet ist. Die durch den zweiten halbdurchlässigen Spiegel 48b nach links reflektierten Bilder A und B werden zu einer Okularlinse 50b auf der linken Seite projiziert. Somit können die den Mustern auf der fotografischen Maske 2 entsprechenden Bilder A und B gleichzeitig durch die Okularlinsen 50a und 50b eingefangen werden. In genau der gleichen Weise können durch die Okularlinsen 50a und 50b die den Mustern auf dem Plättchen 1 entsprechenden Bilder C und D gleichzeitig beobachtet werden. Demzufolge können die kombinierten Bilder der Muster auf dem Plättchen 1 und der fotografischen Maske 2 klar beobachtet werden, und der Überlagerungsvorgang kann sehr leicht und genau durchgeführt werden. Bei der erwähnten Ausführungsform können vor dem gemeinsamen halbdurchlässigen Spiegel 48 getrennte optische Mittel für die Bilder der Muster des Plättchens 1 und

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der fotografischen Maske 2 vorgesehen werden.

7 Ansprüche 4 Figuren

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Claims

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1. Justierverfahren für die Muster einer fotografischen Maske auf der Oberfläche eines Plattchens an Hand von Mustern auf der Rückseite des Plättchens, dadurch gekennzeichnet, daß die fotografische Maske zwischen zwei einander gegenüberliegenden Objektivlinsen auf das mit den Basismustera versehene Plättchen gebracht wird, daß durch die Objektivlinsen den Muster«. e^spr-sGliv^.^ Bilder gesondert abgenommen werden, daß a:„© Bilder in einem ähnlich vergrößerten Zustand kombiniert werden und die relative Lage der Bilder durch mechanisches Verschieben der relativen Lage der fotografischen Maske gegenüber dem Plättchen derart justiert wird, daß bei Beobachtung des kombinierten Bildes dieses zu einem im wesentlichen exakt überlagerten Bild wird·

2. Justierverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß es gleichzeitig an wenigstens jeweils zwei getrennten Teilen von Mustern der fotografischen Maske und des Plättchens durchgeführt wird.

3. Vorrichtung zum Justieren der Muster einer fotografischen Maske auf der Oberfläche eines Plättchens an Hand von Mustern

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auf der Rückseite des Plättchens, dadurch gekennzeichnet , daß sie ein Paar einander gegenüberliegender Objektivlinsen mit einer gemeinsamen Achse enthält, ferner in der Verlängerung dieser Achse angeordnete Reflexionsspiegel, einen halbdurchlässigen Spiegel zum Kombinieren der von den Objektivlinsen kommenden Bilder, eine Okularlinse zum Vergrößern eines durch den halbdurchlässigen Spiegel kombinierten Bildes, ferner Mittel zum Verstellen der Lage der fotografischen Maske gegenüber dem Plättchen in dem Zwischenraum zwischen den Objektivlinsen, wobei die Mittel zum Verstellen der Lage eine Einrichtung umfassen, durch die die auf dem Plättchen liegende fotografische Maske im sich berührenden Zustand zeitlich fixierbar ist.

4. Vorrichtung zum Justieren der Muster einer fotografischen Maske auf der Oberfläche eines Plättchens an Hand von Mustern auf der Rückseite des Plättchens, dadurch gekennzeichnet , daß sie zwei Paare im gleichen Abstand einander gegenüberliegender Objektivlinsen enthält, die parallel zueinander angeordnet sind, ferner Mittel zum Verstellen der Lage der fotografischen Maske, die über dem mit Basismustern versehenen Plättchen zwischen den einander gegenüberliegenden Objektivlinsen angeordnet ist, außerdem wenigstens eine oberhalb der Objektivlinsen angeordnete Okularlinse, ferner Mittel zum Sammeln der beiden kombinierten Bilder im Gesichtsfeld der Okularlinsen, so daß in der linken Hälfte des Gesichtsfeldes jeder Okularlinse das

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kombinierte Bild der linken Objektivlinse und in der rechten Hälfte des Gesichtsfeldes Jeder Okularlinse das kombinierte Bild der rechten Objektivlinse eingefangen wird.

5· Vorrichtung nach Anspruch 4-, dadurch gekennzeichnet , daß die Mittel zum Sammeln der beiden kombinierten Bilder ein erstes gemeinsames Prisma enthalten,

^ das in einer Lage zur Reflexion der von den Objektivlinsen kommenden Bilder derart angeordnet ist, daß das von der rechten Objektivlinse kommende Bild nach rechts und das von der linken Objektivlinse kommende Bild nach links reflektiert wird, daß ferner ein zweites gemeinsames Prisma in einer Lage zum Reflektieren der von dem ersten gemeinsamen Prisma kommenden Bilder zu den Okular linsen vorgesehen ist, so daß die durch das zweite gemeinsame Prisma reflektierten Bilder im Gesichtsfeld der jeweiligen Okularlinse liegen»und daß Mittel zum Reflektieren der beiden, reflektierten Bilder von

w dem ersten gemeinsamen Prisma zu dem zweiten gemeinsamen Prisma vorgesehen sind und schließlich Mittel zum getrennten Reflektieren der beiden reflektierten Bilder von dem zweiten gemeinsamen Prisma zu den Okularlinsen.

6· Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet , daß die Mittel zum Reflektieren der beiden von dem zweiten gemeinsamen Prisma gesondert zu den Okularlinsen reflektierten Bilder zwei halbdurchlässige nebeneinanderliegende Spiegel umfassen.

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7. Vorrichtung nach Anspruch 5 oder 4, dadurch gekennzeichnet , daß Mittel Vorgesehen sind, durch die die Justiervorrichtung zeitweise in eine Position gebracht werden kann, bei der durch die Okularlinse bzw. die Okularlinsen kombinierte Bilder beobachtet werden können.

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