DE1926849A1 - Device for registration with electron beams - Google Patents
Device for registration with electron beamsInfo
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- Y10S101/00—Printing
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Description
906» -vl-° ' ■-.-,·; .906 »- vl - ° '■ -.-, ·; .
NEDERLANDSE CENTRALE ORGANISATIE VOOH - . ■' 1 7. MAj 1969
TOEGEPAST-NATUURWETENSGHAfPELIJK'
ONDERZOEK, Den Haag, Holland.NEDERLANDSE CENTRALE ORGANIZATION VOOH -. ■ '1 May 7, 1969 TOEGEPAST-NATUURWETENSGHAfPELIJK'
ONDERZOEK, The Hague, Holland.
Vorrichtung zur Registrierung mit Elektronenstrahlen.Device for registration with electron beams.
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Binärregistrierung mit Hilfe eines Elektronenstrahlenbündels, versehen mit einer Elektronenquelle zur Erzeugung des Bündels, einem Organ zum Fokussieren des Bündels, elektronenoptischen Mitteln zur Formgestaltung des Bündels und zur Belichtung mit nahezu konstanter Stromdichte des Registriermaterials durch das Bündel und Mittel, mit denen Registriermaterial und Bündel in bezug auf einander bewegt werden können.The invention relates to a device for binary registration With the help of an electron beam, provided with an electron source for generating the bundle, an organ for focusing the Bundle, electron-optical means for shaping the bundle and for exposure of the recording material with an almost constant current density by the bundle and means by which recording material and bundles can be moved with respect to each other.
Derartige Vorrichtungen sind bekannt. Einerseits-gibt es Vorrichtungen zum Belichten einer fotografischen Emulsion oder einen Fotolack zur Herstellung einer Maske. Andererseits gibt es Vorrichtungen zum Belichten einer fotografischen Emulsion- oder Fotolack zur Durchführung direkter Arbeitsvorgänge an Schaltungen.Such devices are known. On the one hand there are devices for exposing a photographic emulsion or a photoresist for making a mask. On the other hand, there are devices for exposing a photographic emulsion or photoresist for performing direct operations on circuits.
Bei der Vorrichtung zur Herstellung einer Maske ist die herzustellende ./ Maske eine verkleinerte Abbildung einer: vorher zwischen der Kondensorlinse und der Zwischenlinse angebrachten Materialmaske. Will man also Masken von einer anderen Torrn machenT so ist die. Materialmaske durch eine Materiälmaske dieser Form zu ersetzen. Bei der Vorrichtung zur Durchführung von Arbeitsvorgängen_an Schaltungen werden die Arbeitsvorgänge mit einem Steuerband einer"Rechenmaschine gesteuert, Das Bündel ist, wenn belichtet" wird, auf das Werkstück eingestellt, und hat dann nahezu immer dieselbe. Form und denselben Querschnitt. Das erforderliche Küster wird durch Ablenkung des fokussierten Bündels hergestellt ο . , - -.·.. :- "■In the device for producing a mask, the ./ mask to be produced is a reduced image of a material mask previously attached between the condenser lens and the intermediate lens. So if you want to make masks from another Torrn T is that. Replace material mask with a material mask of this shape. In the device for performing work processes on circuits, the work processes are controlled with a control belt of a "calculating machine. The bundle, when exposed", is set on the workpiece and then has almost always the same. Shape and the same cross-section. The necessary sexton is made by deflecting the focused bundle ο. , - -. · .. : - "■
Gegenstand der Erfindung ist eine andere Art und Weise, nach der ean „Muster hergestellt wird, die, wie sich gezeigt hat, viele zusätzliche Vorteile hat, . . -The invention relates to another way in which ean “Pattern is produced, which, as has been shown, many additional Has advantages. . -
Die Erfindung ist zu diesem Zweck gekennzeichnet, durch Mittel zum Variieren in Form und/oder Grosse des Querschnittes des Elektronen- ; Strahlenbündels in der Registrierfläche, die den belichtenden Teil im Bildelement bildet. . ■To this end, the invention is characterized by means for Vary in the shape and / or size of the cross section of the electron; The bundle of rays in the registration surface, which is the part to be exposed forms in the picture element. . ■
Das erforderliche Muster wird nun dadurch hergestellt,"dassdieses Muster in Bildelemente aufgeteilt wird und dadurch, dass in diesen Elementen mit dem Bündel Belichtungen mit einem, an derselben Stelle in Grosse und Form, variierenden Querschnitt des Bündels, das zu diesem Zweck von einer programmierten Rechenmaschine oder durch eine abgetastete Vorlage- gesteuert wird, ausgeführt '//erden.The required pattern is now produced by "that this Pattern is divided into picture elements and by being in these Elements with the bundle Exposures with a, at the same point in size and shape, varying cross-section of the bundle, which is to for this purpose by a programmed calculating machine or by a scanned original is controlled, executed // ground.
In einem Ausführungsbeispiel wird der Elektronenbündelquerschnifct durch ein zwischen der Elektronenquelle und dem Fokussierörgan.ange-; brachtes Doppelprisma gesteuert, welches Doppelprisma ein elektrostatisches Prisma ist, über das die Spannungsdifferenz moduliert werden kann. . ■In one embodiment, the electron beam is cross-sectioned by a between the electron source and the Fokussierörgan.ange-; Brachtes double prism controlled, which double prism an electrostatic The prism is used to modulate the voltage difference can be. . ■
Die Anwendung dieses Steuerungssystems resultiert in zwei punktförmigen Fokussen der Quelle auf beiden Seiten des ursprünglichen Fokus, jeder von der halben Intensität und weiterhin in einer Entfernung voneinander, die proportional zu der Modulation ist» Durch die Anwendung als Organe von zwei in der Strahlrichtung hintereinander angeordneten Vierpollinsen, werden die Punktfokusse in Linienfokusse umgewandelt. Ein derartiges System mit Linienfokussen und einer vor der Registrierfläche angeordneten Blende eignet sich besonders zur Verwendung für die Binärregistrierung» The application of this control system results in two punctiform Focusing the source on either side of the original focus, each at half the intensity and continuing at a distance from each other, which is proportional to the modulation »By using two four-pole lenses arranged one behind the other in the direction of the beam, the point foci are converted into line foci. Such a system with line foci and one in front of the The aperture arranged on the registration surface is particularly suitable for use for binary registration »
In einem anderen Ausführungsbeispiel wird der Elektronenbündelquerschnitt durch Modulation auf ein Ablenkorgan gesteuert, das .."zwischen/.--einer Blende und einem Fokussierorgan mit einer in einer geraden L:lni: mit der -ersten stehenden zweiten Blende im Bildfeld dieses Fokussierorgans angeordnet ist. . , .In another embodiment of the electron beam cross-section is controlled by modulation onto a deflector, the .. "between /.-- a diaphragm and a Fokussierorgan with a straight in a L: lni: is arranged with the -first stationary second aperture in the image field of this Fokussierorgans ..,.
.^,^rm . : ■■■■"■ ' ~ BAD ORIGINAL ■"."■' .' . ^, ^ rm . : ■■■■ "■ '~ BAD ORIGINAL ■". "■'. '
909850/0823 - »..909850/0823 - »..
Die in diesem Ausführungsbeispiel verwendeten Mittel finden dabei statt und an Stelle des im ersten AuBführungsbeispiel erwähnten Doppelprisma' Anwendung.The means used in this embodiment take place here and instead of the double prism mentioned in the first exemplary embodiment Use.
Die Erfindung wird nun anhand einer Zeichnung durch, neun Figuren dieser und anderer Ausführungsbeispiel<r und Einzelheiten erläutert werden.The invention is now based on a drawing, nine figures this and other exemplary embodiments and details are explained will.
Figur 1 zeigt den utrahlengang bei Abbildung mit zwei Vierpollinsen. Figur 2 zeigt schematise« eine Vierpollinse.Figure 1 shows the Urahlengang when imaging with two quadrupole lenses. FIG. 2 schematically shows a quadrupole lens.
Figur 3 zeigt ein Schema für eine Speisevorrichtung einer Vierpollinse» Figur k zeigt ein Doppelprisffiä. ·- - ' Figur 5 zeigt eine Frihzipsskizze für den Strahlengang in einer Belichtungsapparatur mit Doppe!prisma und. Vierpollineen. Figur 6 zeigt einen etwas anderen Strahlengang schematise!! angegeben in einer Fläche und ausgebreitet mit Mitteln zum Invertieren des belichteten Bildis. -.FIG. 3 shows a scheme for a feed device for a quadrupole lens. FIG. K shows a double profile. · - - 'Figure 5 shows a Frihzips sketch for the beam path in an exposure apparatus with Doppe! Prism and. Quadruple lines. Figure 6 shows a slightly different beam path schematically !! indicated in an area and spread out with means for inverting the exposed image. -.
Figur-7 zeigt den Strahlengang für \Vne Apparatur, bei der die Kittel zwei halbe Blenden, ein Ablenkungsorgan und ein Fokussierorgan umfassen. Figure-7 shows the beam path for \ Vne apparatus in which the gown comprise two half-diaphragms, a deflecting organ and a focusing organ.
a baway
Die Figuren 7 und 7 zeigen die wirküngs\veise des geregelten Ablenksystems F aus Bild 1. FIGS. 7 and 7 show the effectiveness of the regulated deflection system F from FIG .
Figur 8 zeigt drei Kusführungsformen von in· einer Apparatur mit Strahlengang nach Bild 7 anwendbaren Blenden« Figur 9 zeigt eine Belichtüngsapparatur in der Perspektive.Figure 8 shows three Kusführungformen in · an apparatus with Beam path according to Figure 7 applicable diaphragms «Figure 9 shows an exposure apparatus in perspective.
In den -Figuren, beziehen sich gleiche Ziffern und gleiche Buchstaben auf gleiche Elemente.In the figures, the same numbers and the same letters refer to each other on the same elements.
In Figur Λ sind drei Strahlen 1, 2 und 3 eines divergierenden Strahlenbündels das von der Quelle B ausgesendet und in Punkt C konvergiert wird, gezeichnet.In Figure Λ three rays 1, 2 and 3 of a diverging beam which is emitted from the source B and converged in point C, are drawn.
Die Strahlen 1 und 3 und die Strahlen 2 und 3 liegen in Plänen, die in bezug auf einander einen Winkel von 90 Grad bilden.The rays 1 and 3 and the rays 2 and 3 lie in plans that form an angle of 90 degrees with respect to each other.
909850/0826909850/0826
Durch die Linien A und A wird die Stärke der Vierpollinsen bzw. werden die Vierpollinsen selbst, welche für die Abbildung C von . Quelle B sorgen, schematisch angegeben.The lines A and A indicate the strength of the quadruple lenses or the quadrupole lenses themselves, which are used for the image C of. Source B concerns, indicated schematically.
Die Pfeile k, 5T" 6 und 7 in den Linien A und A geben die Richtung der Fokussierung" bzw. Defokussierung des Bündels an.The arrows k, 5 T "6 and 7 in the lines A and A indicate the direction of focusing" or defocusing of the beam.
Pfeil k gibt zum Beispiel an, dass das Bündel im Strahlenfeld 2 und 3 durch die erste Linse noch weiter zerstreut wird und Pfeil 5 gibt anj dass das Bündel im Strahlenfeld 1 und 3 durch die erste Linse konvergiert «ird.Arrow k indicates, for example, that the bundle in radiation fields 2 and 3 is scattered even further by the first lens and arrow 5 indicates that the bundle in radiation fields 1 and 3 is converged by the first lens.
Die Vierpollinsen A und A_ fokussieren also.in einem Plan und defokussieren also in dem nahezu darauf lotrechten Plan.The four-pole lenses A and A_ therefore focus in a plan and thus defocus in the almost perpendicular plan.
Jede Vierpollinse A und A besteht aus vier Spulen 8, 9> 10 und 11, die gesondert ausgeführt sind, siehe Figur 2. ■ ■Each quadrupole lens A and A consists of four coils 8, 9> 10 and 11, which are carried out separately, see Figure 2. ■ ■
Die Stärke der Linse wird aus den Abbildungs- und Vergrösserungserfordernissen errechnet und durch die Abmessungen der Vorrichtung bedingt* . .The power of the lens is determined by the imaging and magnification requirements calculated and conditioned by the dimensions of the device *. .
Der Strom durch eine Spule 8, 9i 10 und 11 der Linse wird bestimmt mit Hilfe der Formeln·The current through a coil 8, 9i 10 and 11 of the lens is determined using the formulas
• 1 -1• 1 -1
f = ~n"—'■—η λ und f =f = ~ n "- '■ - η λ and f =
χ β sinß.1 y βχ β sinß.1 y β
worin f und f. Brennpunktabstande in der Fokussier- und der Defokus-where f and f. focus distances in the focusing and defocusing
x y 2 .x y 2.
eiereinrichtung sind und worin β als Parameter der Linse gegeben wirdegg device and where β is given as a parameter of the lens
worin ni = die Anzahl «mpere-V/icklungen je Spule. u = die Beschleunigungsspannung der Elektronen in Volt. 1 = die Länge der Spule parallel zur Systemachse. r = die Entfernung der Spule zur Systemachse. , - . ■where ni = the number of turns per coil. u = the acceleration voltage of the electrons in volts. 1 = the length of the coil parallel to the system axis. r = the distance of the coil to the system axis. , -. ■
Das Schaltschema der Spulen einer Linse zeigt Fig. 3·The circuit diagram of the coils of a lens is shown in Fig. 3
• ' · , cow• '·, cow
909850/0826. ·. -5-909850/0826. ·. -5-
ORIQfNAL INSPECTEDORIQfNAL INSPECTED
Um den Ablenkungsfehler erster Ordnung zu korrigieren, sind sowohl die • Nord- wie auch die Südpole in eine einfache Balanceschaltung aufgenommen. To correct for the first order deflection error, both the • North and south poles included in a simple balance circuit.
Aus den Abbildungs- und Vergrbsserungserfordernissen ergibt sich der j Platz der beiden Linsen.The j results from the imaging and enlargement requirements Place the two lenses.
In dem Ausfuhrungsbeispiel einer Belichtungseinrichtung, siehe Fig. 5» ist vor die Vierpollinsen A , A ein Doppelprisma, siehe Fig. k, ! In the exemplary embodiment of an exposure device, see Fig. 5 "is above the Vierpollinsen A, A double prism, see Fig. K!
geschaltet. " : switched. " :
Das Doppelprisma wird durch einen Hohlzylinder 15 und einen './olframfaden 16 gebildet.The double prism is formed by a hollow cylinder 15 and a './olframfaden 16 formed.
Der Zylinder 15 ist zum Durchlassen des Strahlenbündels 19 mit einer öffnung 17 und zum Durchlassen der Bündel 19,, und 19? mit einer öffnung 18 versehen.The cylinder 15 has an opening 17 for the passage of the beam 19 and for the passage of the bundles 19 1 and 19 ? provided with an opening 18.
Die Bündel 19,, und 19? erhält man durch Anbringung einer Spannungsdifferenz auf dem Doppelprisma.The bundles 19 ,, and 19 ? is obtained by applying a voltage difference to the double prism.
Auf diese Weise entstehen zwei virtuelle Quellen und abhängig von der Spannungsdifferenz werden diese virtuellen Quellen einander wohl "oder nicht überlappen.In this way, two virtual sources are created and depending on the Voltage difference, these virtual sources will "overlap" one another or not.
Dadurch, dass in der Elektronenquelle von Fig„ 5 eine Spaltblende als wehneltöffnung angewandt worden ist, erhält man einen ellipsförmigen ''cross-over" von der Quelle.The fact that in the electron source of FIG. 5 a slit diaphragm as If the wehnelt opening has been applied, an ellipsoidal one is obtained '' cross-over "from the source.
Das Verhältnis der beiden Hauptachsen ist hierbei etwa 1 : 3» was im Vergleich zu dem üblichen Fall mit einer runden Wehneltöffnung, bei der das Verhältnis bereits 2 5 3 sein kann, eine Verbesserung bedeutet.The ratio of the two main axes is about 1: 3, which is an improvement compared to the usual case with a round Wehnelt opening, in which the ratio can already be 2 5 3.
-Die auf diese VJeise erhaltene Linienquelle B bildet mit Hilfe des ' Doppelprismas, von dem nur der Drahlt 16 eingezeichnet ist, zwei virtuelle Linienquellfm B,. und B3 für die Vierpollinsen A und A_,The line source B obtained in this way forms two virtual line sources B with the aid of the double prism, of which only the wire 16 is drawn. and B 3 for the quadrupole lenses A and A_,
909850/0826909850/0826
ORIGINAL INSPECTEDORIGINAL INSPECTED
die die Quellen B und B auf einer Präparatrolle 20 in C und Cthe sources B and B on a preparation roll 20 in C and C.
abbilden.depict.
Die Abbildungen C und C bestehen aus,Linienabbildungen mit einer Länge von etwa 100 Kikron und einer Breite von nur einigen· Mikron.Figures C and C consist of, line figures with a Length of about 100 kikrons and a width of only a few microns.
Durch die Stellung und die Erregung der beiden Vierpollinsen A und A kann die Vergrösserung in beiden Hauptachsrichtungen innerhalb weiter Grenzen variiert werden.By the position and the excitation of the two quadrupole lenses A and A. the magnification can be varied within wide limits in both main axis directions.
Zu diesem Zweck sind die Vierpollinsen sowohl drehbar um wie axial an einem Rohr entlang bewegbar.For this purpose the quadrupole lenses can be rotated about as well as axially movable along a pipe.
Bei Regelung der Spannungsdifferenz über das Doppelprisma wird die
Entfernung d zwischen den Abbildungen C und C geregelt und damit
das auf die Präparatrolle 20 in einer dünnen Schicht aufgetragene
Kodak Photo Resist, oder ein anderes zu belichtendes Material,
belichtet»When regulating the voltage difference via the double prism, the distance d between the images C and C is regulated and thus that which is applied to the preparation roll 20 in a thin layer
Kodak Photo Resist, or any other material to be exposed,
exposed »
Die Präparatrolle 20 dreht sich mit einer konstanten Geschwindigkeit unter den Abbildungen C und C weiter und verlagert sich dabei in axialer Richtung um 0,ik mm pro Umdrehung.The preparation roller 20 continues to rotate at a constant speed below the images C and C and is displaced in the axial direction by 0.1 ik mm per rotation.
Durch die Steigung der Präparatrolle 20 von O,14 mm und die dadurch auf der Präparatrolle 20 beschriebene Spur der Linienabbildungen C und C ist, um Überlappung der beschriebenen Spuren zu vermeiden, eine Blende D von 0,15 mm dicht über der Rolle 20 angebracht worden,Due to the slope of the preparation roll 20 of 0.14 mm and the resulting Trace of the line images C written on the preparation roll 20 and in order to avoid overlapping of the written tracks, C is a Aperture D of 0.15 mm has been attached just above the roller 20,
Durch Vorhandensein der Blende D wird der Querschnitt des Elektronenbündels in der Registrierfläche infolge der Modulation variiert, wie. auf Rolle 20 dargestellt ist (siehe die belichteten Spuren E).The presence of the diaphragm D becomes the cross section of the electron beam varies in the registration area as a result of the modulation, such as. on reel 20 (see exposed tracks E).
Um den Fehlerbeitrag in der Abbildung durch Linsenfehler einzuschränken, besonders durch sphärische Aberation, findet Abblendung des Bündels durch Blende D statt.In order to limit the error contribution in the figure due to lens errors, especially due to spherical aberration, the beam is dimmed by aperture D.
909850/0826 0^'"*"909850/0826 0 ^ '"*"
-^ 192S849- ^ 192S849
Gravierung der belicht&ten rräparatrölie 20 kann, wenn gewünscht, durch ÄtzUhg erföigehj wobei die unbelichteten Teile, nach Entwicklung der K ii?. Ri ^Schicht weiter geätzt werden können. Jedes einzelne BiIdelemeht eitier Druckform enthält auf diese .leise z»B. einen öder mehrere Drücknäpfe Von verschiedener Oberfläche und/öder von verschiedener Tiefe*Engraving of the exposed preparation tube 20 can, if desired, by ÄtzUhg erföigehj whereby the unexposed parts, after development the K ii ?. Ri ^ layer can be further etched. Every single picture item eitier printing form contains on this .leise z »B. a desolate several pushbuttons of different surface and / or of different Depth*
Schemätiseh ist in Figur 6 der Strahlengang für eine Einrichtung mit invertierter idnienabbildurig angegeben.Schemätiseh in Figure 6 is the beam path for a device with inverted idnienabbildurig indicated.
In dieser Einrichtung ist ^ um die Empfindlichkeit zu vergrösserri, das Doppeiprismä 16 nach der ersten Vierpollihse" Ä, angeordnet wordent Beim Fehlen der Modulation auf dem Doppeiprismä 16 fällen die Bilder C, und C_ zusammen auf die Maske F. Auf der Präparatrolle 20 findet dann keine Belichtung statt.In this device, in order to increase the sensitivity, Doppeiprismä 16 after the first Vierpollihse "Ä, has been arranged If there is no modulation on the double prism 16, the images fall C, and C_ together on the mask F. Find on the preparation roll 20 then no exposure takes place.
Bei Modulation fallen die Bilder C und C teilweise oder ganz ausserhalb der Maske F.With modulation, the images C and C are partially or completely outside the mask F.
Durch das zweite Doppelprisma G und die rotationssymmetrische Linse H werden diese Bilder C und C wieder zu einer Linienabbildung I zusammengefügt, deren Länge durch die Modulation bestimmt und mit der Praparatrolle 20 belichtet wird.Through the second double prism G and the rotationally symmetrical lens H these images C and C become a line image I again assembled, the length of which is determined by the modulation and exposed to the preparation roll 20.
In Fig. 7 wird der Strahlengang wieder in einer anderen Vorrichtung dargestellt -. In Fig. 7 the beam path is shown again in a different device .
Die Quelle E wird durch die rotations-symmetrische Linse K in der Ebene der rotationssymmetrischen Linse N abgebildet.The source E is through the rotationally symmetrical lens K in the Plane of the rotationally symmetrical lens N shown.
Eine Blende L, der.en Ausführungsformen in Fig. 8 gezeichnet sind, fängt einen Teil des Strahlenbündels auf=A diaphragm L, the embodiments are drawn in Fig. 8, catches part of the beam =
Ein Ablenksystem M, .an-das ein modulierendes Signal angeschlossen ,^werden kann, ist vor der Linse N angebracht worden. A deflection system M, to which a modulating signal can be connected, has been placed in front of the lens N.
Hiiiter die Linse N wurde eine Blende 0 gesetzt. * .'.An aperture 0 was set above lens N. *. '.
9Ö985Ö/0826 8AD ordinal9Ö985Ö / 0826 8AD ordinal
Beim Fehlen der Modulation auf dem System M- wird die Abbildung in der Ebene der Linse N unbehindert durch die Blende 0 mit Hilfe derIf there is no modulation on the M- system, the figure in the Plane of the lens N unimpeded by the aperture 0 with the help of the
9»9 »
rotationssymmetrischen Linse H auf der Rolle 20 abgebildet werden»rotationally symmetrical lens H can be mapped on the roll 20 »
Die gezogenen im Bildelement R konvergierenden Linien geben den Strahlengang für. diesen Zustand an.The drawn lines converging in the picture element R give the Beam path for. this condition.
■ - ■■ - ■
Falls aber Lodulation auf dem System M vorhanden ist, wird ein Teil des Bündels durch die Blende 0 aufgefangen werden.But if there is Lodulation on the system M, a part of the bundle can be caught by aperture 0.
Die gestrichelten im Bildelement Ii' konvergierenden Linien geben davon den -.'trahlengang wiederThe dashed lines converging in the picture element Ii 'indicate therefrom the -. 'beam path again
Das Ablenksystem P ist mit dem System H gekoppelt und angebracht* um dafür -u sorgen, dass die Schwerpunkte der Bildelemente in einer Linie auf den Zylinder zu liegen kommen.The deflection system P is coupled to the system H and attached * um -u ensure that the focal points of the picture elements are in one line come to rest on the cylinder.
Ficur 7a gibt hiervon für Linien-Bildelemente beim Fehlen des Ablenksysteirs Γ- ein Beispiel. . . -Fig. 7a gives hereof for line picture elements in the absence of the deflection system Γ- an example. . . -
Figur 7b £ibt ein Beispiel für Bildelemente in der Form von Quadraten, h-:ji denen zur. Beispiel -it dem geregelten System P die SchwerpunkteFIG. 7b gives an example of picture elements in the form of squares, h-: j i those for. Example -with the regulated system P the focus
auf eine gerade Linie ζ rebracht sind. - 'are brought into a straight line. - '
Eei anwendung in Fig. 7 '-iner Blende L1 0 des in Fig* Sa gezeigten Typs erhält ir.an 5ildelerr.<%nte R in der Form einer LInIe1 deren Länge je nach der Kodulaticn variiert. Bei Anwendung einer Blende des in. Fig. 8b gezeigten Typs werden diese zu kleinen Quadraten, deren GrosBe mit der Modulation variiert- Und bei Äny/endung einer Blende des in: Fig. 8c gezeigten Typs werden die Bildelemente zu ^uadratinusterji pit einer konstanten Anzahl kleiner Felder, deren ^uadrate Je nach der Modulation in Grosse variieren^Eei application in Fig. 7 '-iner diaphragm L 1 0 of the type shown in Fig * Sa receives ir.an 5ildelerr. <% N-th R 1 whose length varies depending on the Kodulaticn in the form of a line. .. In use of a diaphragm of 8b in Fig type shown this to small squares are their GrosBe variiert- with the modulation and at Äny / ending of a panel of the in: Fig. 8c type shown, the picture elements to ^ uadratinusterji pit a constant number small fields, the squares of which vary in size depending on the modulation
Fig. 9 zeigt schematisch und in Perspektive eine Einrichtung nach der Erfindung mit einem Strahlengang, der mit dem von Fig* 6 ubereiuiFftimmt, und bei der Sp^ltlinsen S und ..T-, statt der Vierpollineett A* und A» ver<- ' ■" t Wendet werden« : " !Fig. 9 shows schematically and in perspective a device according to the invention with an optical path that is sold with that of Fig * 6 ubereiuiFftimmt, and wherein Sp ^ ltlinsen S and ..T-, instead of Vierpollineett A * and A '<- '■ "t Applies to": "
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.". Es iat selbstverständlich, daes das modulierende Signal auf elektronischem Wege den für eine gute Wiedergabe der Halbtöne im zu erhaltenden Druckwerk zu stellenden Anforderungen angepasst werden kann» . ". It goes without saying that the modulating signal can be electronically adapted to the requirements for a good reproduction of the halftones in the printing unit to be preserved»
Dies ist von grosser Bedeutung, da das Signal von der Abtasteinrichtung, vom Original, nicht linear mit der Tintenmenge sein wird, die pro Drucknapf von der Druckrolle auf die Kopie übertragen werden muss»This is of great importance because the signal from the scanning device, from the original, will not be linear with the amount of ink that has to be transferred from the pressure roller to the copy per pressure cup »
Selbstverständlich ermöglicht dieses System auch örtliche KorrektionenoOf course, this system also enables local correctionso
ORIQiNALINSPECTEDORIQiNALINSPECTED
Claims (1)
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| NL6807439A NL6807439A (en) | 1968-05-27 | 1968-05-27 |
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| DE1926849A1 true DE1926849A1 (en) | 1969-12-11 |
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Family Applications (1)
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