DE185148T1 - Abschabbare dichtschicht und verfahren zu ihrer herstellung. - Google Patents

Abschabbare dichtschicht und verfahren zu ihrer herstellung.

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DE185148T1
DE185148T1 DE198585111753T DE85111753T DE185148T1 DE 185148 T1 DE185148 T1 DE 185148T1 DE 198585111753 T DE198585111753 T DE 198585111753T DE 85111753 T DE85111753 T DE 85111753T DE 185148 T1 DE185148 T1 DE 185148T1
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Germany
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sealing layer
layer
hollow glass
glass microspheres
binder material
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Application number
DE198585111753T
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Irwin A. Radnor Pennsylvania 19087 Hicks
Donald C. Willow Grove Pennsylvania Ruddy
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Elster American Meter Co LLC
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American Meter Co Inc
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    • F16J—PISTONS; CYLINDERS; SEALINGS
    • F16J15/00—Sealings
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    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
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    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
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Claims (11)

O 1 8 5 1 A 8 \ 85 111 753.1 American Meter Company Patentansprüche
1. Verfahren zum Herstellen einer Fluiddichtung auf wenigstens einer Fläche eines Paares von Teilen, die eine Relativbewegung zueinander ausführen können, welches
folgende Schritte umfaßt:
Beschichten der einen Fläche mit einer Schicht eines
Harzbindematerials; und
Bedecken der Schicht mit einem zerbrechlichen Material, bevor das Harzbindematerial trocknet.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei welchem das Harzbindematerial Epoxydharz ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1, bei welchem das zerbrechliche Material aus hohlen Glasmikrokugeln besteht.
4. Verfahren nach Anspruch 3, bei welchem die hohlen
Glasmikrokugeln einen Durchmesser aufweisen, der im wesentlichen im Bereich von ungefähr 5 um bis ungefähr 75 um liegt.
5. Verfahren nach Anspruch 3, bei welchem der Verfahrensschritt des Bedeckens den Schritt des Anbringens der Mikrokugeln auf die nasse Schicht im wesentlichen senk-
0185U8
recht dazu umfaßt.
6. Verfahren nach Anspruch 1, bei welchem ferner der Schritt des Erwärmens der beschichteten und bedeckten Fläche ausgeführt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1, bei welchem die eine Fläche aus Aluminium ausgebildet wird und welches ferner den Schritt des Versehens der einen Fläche mit einer Chromatveredelungsschicht vor dem Verfahrensschritt des Beschichtens umfaßt.
8. Dichtschicht für eine erste Fläche, welche relativ zu einer zweiten Fläche beweglich ist, wobei die Dichtschicht eine Mischung eines zerbrechlichen Materials in einem Harzbindematerial aufweist, und wobei die Mischung einen derartigen Materialgradienten aufweist, daß im wesentlichen das gesamte Harzbindematerial auf der ersten Fläche und im wesentlichen das gesamte zerbrechliche Material an der Grenzfläche entfernt zu der ersten Fläche vorliegt.
9. Dichtschicht nach Anspruch 8, bei welcher das Harzbindematerial Epoxydharz ist.
10. Dichtschicht nach Anspruch 8, bei welcher das zerbrechliche Material aus hohlen Glasmikrokugeln besteht.
11. Dichtschicht nach Anspruch 10, bei welcher die hohlen Glasmikrokugeln einen Durchmesser aufweisen, der im wesentlichen im Bereich von ungefähr 5 um bis ungefähr 75 um liegt.
DE198585111753T 1984-11-29 1985-09-17 Abschabbare dichtschicht und verfahren zu ihrer herstellung. Pending DE185148T1 (de)

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DE198585111753T Pending DE185148T1 (de) 1984-11-29 1985-09-17 Abschabbare dichtschicht und verfahren zu ihrer herstellung.

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JP (1) JPS61130671A (de)
KR (1) KR860004261A (de)
AU (1) AU4784585A (de)
BR (1) BR8506185A (de)
DE (1) DE185148T1 (de)
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KR860004261A (ko) 1986-06-20
DK423985D0 (da) 1985-09-18
EP0185148A1 (de) 1986-06-25
US4548863A (en) 1985-10-22
JPS61130671A (ja) 1986-06-18
AU4784585A (en) 1986-06-05
DK423985A (da) 1986-05-30

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