DE1789045C3 - Integrierte, optisch-elektronische Festkorper-Schaltungsanordnung - Google Patents
Integrierte, optisch-elektronische Festkorper-SchaltungsanordnungInfo
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- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 title claims description 21
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 139
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 claims description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 11
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 9
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 34
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 16
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 12
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 11
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 5
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000012549 training Methods 0.000 description 2
- 108700005085 Switch Genes Proteins 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002730 additional effect Effects 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 238000000407 epitaxy Methods 0.000 description 1
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 210000004127 vitreous body Anatomy 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/12—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto
- H01L31/16—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto the semiconductor device sensitive to radiation being controlled by the light source or sources
- H01L31/167—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto the semiconductor device sensitive to radiation being controlled by the light source or sources the light sources and the devices sensitive to radiation all being semiconductor devices characterised by potential barriers
- H01L31/173—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto the semiconductor device sensitive to radiation being controlled by the light source or sources the light sources and the devices sensitive to radiation all being semiconductor devices characterised by potential barriers formed in, or on, a common substrate
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
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- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine integrierte, optisch-elektronische Festkörper-Schaltungsanordnung nach dem
Oberbegriff des Patentanspruches 1.
Eine derartige Schaltungsanordnung ist bekannt (»Electronics«. 15. Februar 1963, Seiten 4r>
bis 69). Hei dieser Schaltungsanordnung sind verschiedene elektrische
und opto-elektronische Bauelemente in einem Halbleiterkristall vorgesehen. Zwischen den einzelnen
opto-elektronischen Bauelementen werden Lichtsignale durch den Halbleiterkristall übertragen, für die abei
keine besonderen üchtwege vorgesehen sind. Dadurch können bei der Übertragung der Signale durch
Streulicht unerwünschte Verluste auftreten.
Es gibt weiterhin bereits eine integrierte Schaltung, bei der verschiedene elektrische und auch opto-elektronische
Bauelemente in verschiedenen Ebenen übereinandergeschichtet sind (FR-PS 14 54 464). Aber auch
diese bekannte Schaltung sieht keine besonderen Wege für die Lichtsignale vor.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine integrierte opiisch-elektronische Festkörper-Schaltungsanordnung
anzugeben, bei der die optische Signalübertragung möglichst verlustfrei ausgeführt werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im Patentanspruch 1 angegebenen Merkmale gelöst
Die Erfindung sieht also zur Übertragung von Lichtsignalen optische Leitbahnen mit der Wirkung
eines Lichtleiters vor. Dadurch können die Lichtsignale nahezu verlustfrei übertragen werden. Dies bedeutet
aber auch, daß Signale mit wesentlich höherem Informationsinhalt verarbeitet werden können.
Durch die Einführung auch optischer Schallwege zur Übertragung von nachrichtentechnischen Informationen
in ein integriertes Schaltsystem ergeben sich auch eine Reihe elektronischer Vorteile, wie z. B. eine
Reduzierung von Relaxations- und Trägheitserscheinungen, bessere Übertragungsverhältnisse im Frequenzbereich
nachrichtentechnischer Höchstfrequenzen und im oberhalb hieran angrenzenden Frequenzbereich
eine gegenüber gewöhnlichen elektrischen Stromwegen in konventionellen integrierten Schaltungen
wesentlich genauere Festlegung und Konstanthaltung der charakteristischen Parameter des Übertragungsweges,
eine größere Zuverlässigkeit des Übertragungsweges.
Jedes Ausführungsbeispiel ist schematisch sowohl im Querschnitt in der Längsrichtung als auch in einer
Draufsicht von oben dargestellt. Die Bezugszeichen in den Figuren sind für gleiche Teile des erfindungsgemäßen
Festkörpersystems im Querschnitt und in der Draufsicht gleich. In der Draufsicht sind die Ziffern
durch einen Strich gekennzeichnet.
In den F i g. I und 2 ist eine optische Leitbahn 12 bzw.
12' als Schaltelement in einer integrierten Schaltung dargestellt. Diese Leilbahn dient zur Übertragung eines
bestimmten Lichtstromes von begrenztem Querschnitt in vorgegebener horizontaler Richtung zwischen Bau-
und/oder Schaltelementen des integrierten Systems parallel zu dessen Oberfläche. Ein solcher Lichtstrom
kann grundsätzlich zur Übertragung nachrichtentechnischer Informationen oder im einfachsten Fall zum
Energietransport verwendet werden. Das übertragene Licht in einer optischen Leitbahn des Systems kann
beispielsweise auch kohärentes Licht aus einer Laserquelle innerhalb des integrierten Systems sein. Im
vorliegenden Ausführungsbeispiel braucht dies aber nicht der Fall zu sein. Dieser Umstand soll darauf
hinweisen, daß eine optische Leitbahn im allgemeinen keine Einschränkungen auf qualitative Eigenschaften
des übertragenen Lichtes ausübt und diese Eigenschaften, von besonders zu besprechenden Fällen abgesehen,
auch nicht verändert. Die stofflichen Eigenschaften einer optischen Leilbahn können verschieden sein, sie
vereinigen das in optischer Hinsicht für den Lichttransport Notwendige mit gegebenen Möglichkeiten der
Herstellung integrierter Systeme. Eine optische Leitbahn besteht vorzugsweise aus Glas oder einem
glasartigen Körper, und das Spektrum des sich in der
optischen Leitbahn fortpflanzenden Lichtes muß in dem Bereich ihrer optischen Durchlässigkeit liegen.
Eine besonders zweckmäßige Eigenschaft der optischen Leilbahn ist, daß sie einen definierten Eingang
und Ausgang für das Licht besitzt. Der in der optischen Leitbahn transportierte Lichtstrom kann sich demzufolge
nur in einer bestimmten Richtung innerhalb der Leitbahn vom Eingang zum Ausgang hin fortpflanzen.
Ein seitlicher Austritt des Lichtes wird durch innere Totalreflexion verhindert Die innere Totalreflexion
kann in besonderen Fällen auch durch einen filmartigen Überzug, beispielsweise Metallüberzug, der Seitenflächen
der optischen Leitbahn begünstigt werden.
Im Ausführungsbeispiel nach den F i g. 1 und 2 ist die optische Leitbahn 12 und 12' in den hochohmigen
Grundkristall 11 bzw. 11' aus vorzugsweise halbleitendem
Material eingebettet Die obere Seitenfläche der optischen Leitbahn stimmt mit der sonstigen Oberfläche
des integrierten Systems hinsichtlich Ihrer Höhe praktisch überein. Der Grundkristall hat beispielsweise
bei einer relativ großen integrierten Anordnung eine Länge von 10 mm und eine entsprechende Breite von
4,5 mm sowie eine Dicke von I bis 2 mm. Die ein-Jiffundicrten,
einlegiertcn oder cpitaktischL-n Schichten
für die elektrischen und optischen Bauelemente des integrierten Systems haben eine Tiefe von der
Größenordnung 0,1 mm.Diese Tiefe kann je nach dem auch kleiner oder etwas größer sein, der angegebene
Wert ist in sinnvoller Weise veränderbar. An der linken Seite enthält der Grundkristall Il bzw. 11' eine
Lumineszenz- oder Laserdiode mit dem hochdotierten n-Ieitenden Gebiet 14 bzw. 14' und dem ebenfalls
hochdotierten p-leitenden Halbleitergebiet 13 bzw. 13'. Im folgenden kann die Lumineszenzdiode des integrierten
Systems auch durch eine Laserdiode ersetzt werden. Die Halbleitergebiete 13 und 14 bzw. 13' und 14' sind
jedes einzeln in herkömmlicher Weise mit den Metallkontakten 15 und 16 bzw. 15' und 16 ' versehen.
Die Ziffer 121 bezeichnet eine schützende Oberflächenoxidschicht. Die linke Stirnfläche der optischen
Leitbahn grenzt zweckmäßig als optischer Eingang derart an die Lumineszenzdiode, daß die in Richtung des
pn-Übergangs austretende Lumineszenzstrahlung senkrecht durch diese Stirnfläche in die optische Leitbahn
eintritt und in dieser bis zu einer Photodiode geleitet wird. Das Licht tritt in diese Photodiode parallel zu
ihrem pn-Übergang zwischen dem n-Gebiet 18 bzw. 18' und dem p-Gebk't 17 bzw. 17' ein. Der photoelektrisch
wirkende pn-Übergang dieser Diode kann beispielsweise auch senkrecht zur Oberfläche in unmittelbarer Nähe
des Ausgangs der optischen Leitbahn angebracht sein. Eine andere Modifikation ist ein von links nach rechts
schräg ansteigender Verlauf des pn-Übergangs mit einem entsprechenden prismenfönnigen Ausgang der
optischen Leitbahn. Analoge Abwandlungen können auch für die Lumineszenzdiode auf der linken Seite des
integrierten Systems sinngemäß vorgenommen werden. Die Ziffern 19 und 19' sowie 120 bzw. 120' bezeichnen
metallische Kontakte, welche die schützende Oxidschicht durchdringen.
Das Ausführungsbeispiel nach den F i g. 1 und 2 demonstriert in einfachster Weise die Möglichkeit eines
optisch-elektronischen Systems in integrierter Bauweise. Als Schallelement eines solchen Systems ist im
vorliegenden Beispiel zunächst nur eine horizontal verlaufende optische Leitbahn im System dargestellt,
welche eine optische Übertragung nachrichtentechnischer Informationen von einer Lumineszenzdiode auf
eine Photodiode, die beiden dem integrierten System selbst angehören, ermöglicht Die Information kann
hierbei als Modulation der Intensität des Lichtstromes übertragen werden. In der Photodiode wird der optisch
übertragende Informationsinhalt wieder in elektrische Strom- und/oder Spannungsschwankungen umgewandelt,
wobei man im linearen oder auch im nichtlinearen Arbeitsbereich aussteuern kann.
Weitere, auf der Verwendung derartiger optischer
Weitere, auf der Verwendung derartiger optischer
lu Leitbahnen beruhende, neue elektronische Möglichkeiten
lassen sich beliebig konstruieren. Beispielsweise kann man zunächst durch eine kleine Erweiterung des
Systems gemäß den F i g. 1 und 2 im Rahmen konventioneller integrierter Schaltungen eine elektrisehe
Rückkopplung von der Photodiode über ohmsche Strompfade auf die elektrische Steuerung der Lumineszenzdiode
vornehmen, oder man kann von der Photodiode eine elektrische Übertragung auch auf
andere verschiedene oder untereinander gekoppelte gleichartige Bau- oder Schaltelemente des optisch-elektronischen
integrierten Systems realisieren. Diese Rückkopplung oder Übertragung kann aber vorzugsweise
auch auf optischem Wege durch optische Leitbahnen erfolgen. In nachrichtentechnischer Hin-
2ϊ sieht kann hierbei der Informationsinhalt auch erweitert
oder reduziert und transformiert werden. Eine Erweiterung des Informationsinhaltes kann z. B. dadurch
geschehen, daß die Photodiode noch durch eine weitere Lichtquelle beaufschlagt wird, welche direkt eine
JO Information auf die Photodiode überträgt. Diese
Lichtquelle kann auch nur eine optische Umleitung der ersten Lichtquelle über eine optische Verzweigung sein,
wobei jedoch die Lichtintensität oder andere Parameter bei der optischen Umleitung zusätzlich moduliert
Ji werden. Besondere Bedeutung erlangen diese Möglichkeiten
bei Verwendung von kohärentem Licht.
Eine optische Rückkopplung von der Photodiode auf die Lumineszenz- bzw. Laserdiode in den F i g. 1 und 2
läßt sich im Prinzip durch eine zweite entsprechende
■»<· optisch-integrierte Schaltanordnung, jedoch in entgegengesetzter
Transportrichtung vornehmen. Die Strom- und/oder SDannungsschwankungen der photoinduzierten
Photodiode der F i g. 1 und 2 werden direkt auf die elektrische Spannung an einer Lumines-
·»■> zenzdiode der zweiten Anordnung übertragen. Deren
Lumineszenzstrahlung fließt in der optischen Leitbahn der zweiten Anordnung zu einer mit der ersten
Lumineszenzdiode elektrisch direkt gekoppelten Photodiode, durch welche die primäre Lumineszenzdiode
κι geschaltet wird. Auf diese und ähnliche Weise ergeben sich sinngemäß zahlreiche weitere Möglichkeiten, durch
optische Leitbahnen nachrichtentechnisch in Wechselwirkung stehende integrierte Schaltkomnlexe in Hin-
und Rückwirkung, auch unter Einbeziehung aktiver
·">'■ Schaltelemente, in elektrischer Hinsicht vollständig zu
entkoppeln. Durch Iteration und Kombination solcher optisch-elektronischer Systeme können größere integrierte
Schallkomplexe zusammengestellt werden. Hierbei lassen sich z. B. extrem schnelle Schalter,
wi Schaltweichen, Frequenzumwaiidlungen. Filter, Verzweigungen
und Vereinigungen von Karralen, Modulationen, Phasenverschiebungen, Rückkopplungen, Verstärkungen,
entkoppelte Übertragungen usw. integriert und miniaturisiert herstellen. Bei Verwendung von
tii Laserlicht lassen sich über optische Leitbahnen eine
große Anzahl von Fernsehkanälen in integrierter und miniaturisierter Bauweise übertragen und schalten.
Eine Schaltung eemäß den Fie. I und 2 kann nach
Eine Schaltung eemäß den Fie. I und 2 kann nach
einer geringfügigen Abwandlung in elektronischer Hinsicht auch in umgekehrter Richtung arbeitend
betrieben werden. Hierbei wird eine Photodiode des integrierten Systems von einer Lichtquelle photoelektrisch
mit einer Information beaufschlagt. Die Lichtquelle kann selbst ein Teil des integrierten Systems sein. Die
resultierenden Strom- bzw. Spannungsschwankungen werden innerhalb der integrierten Schaltung auf eine
Lumineszenzdiode elektrisch direkt übertragen. Diese Lumineszenzdiode steuert über mindestens eine optische
Leitbahn eine oder weitere Photodioden, wobei auch ein Teil des Informationsflusses auf die erste
Photodiode zurückgelenkt werden kann. Bei dieser Rückkopplung eines Teilflusses von Informationen
können diese in verschiedener Hinsicht erweitert und/oder transformiert werden, z. B. können hierbei
neue Frequenzkanäle und Verknüpfungen von solchen Kanälen bei bestimmten Schritten des elektronischen
Schaltablaufs in diesem einbezogen werden. Derartige erweiterte Möglichkeiten ergeben sich insbesondere bei
Verwendung von Laserlicht.
Nach den geschilderten nachrichtentechnischen Anwendungsmöglichkeiten
von optischen Leitbahnen sei jetzt der technologische Aufbau betrachtet. Die technologische Herstellung entspricht überwiegend,
aber durchaus nicht vollständig, konventionellen Verfahren und richtet sich jeweils nach den verwendeten
Materialien. Demzufolge wird man im wesentlichen zwei grundsätzliche technologische Möglichkeiten unterscheiden.
Entweder ein integriertes System besteht kompakt vorwiegend aus einem einzigen hochohmigen,
vorzugsweise halbleitenden Grundkristall (in F i g. 1 und 2 z. B. 11 und 1Γ), in den die verschiedenen dotierten
Schichten der optisch-elektronischen Bauelemente und Schaltungen mit Hilfe der Maskentechnik eindiffundiert
— und/oder einlegiert werden, oder das integrierte System basiert auf einem Grundkristall mit einem aus
aufgebrachten Fremdschichten bestehenden elektronischen Aufbau, wobei diese Fremdschichten z. B. durch
Aufdampfen oder durch Epitaxie oder mechanisch aufgebracht werden. In speziellen Fällen können diese
Fremdschichlen auch von gleichem Material, jedoch verschiedener Dotierung sein. Die Fremdschichten
können eine kristalline, aber auch eine halbkristalline bis amorphe, glasartige Struktur besitzen. Je nach Art und
Weise dieser verschiedenen technologischen Aufbaumöglichkeiten kann eine optische Leitbahn z. B. in den
F i g. 1 und 2 im Falle eines kompakten Aufbaues des Systems ein Bestandteil des hochohmigen, vorzugsweise
halbleitenden Grundkristalles sein, der sich von den dotierten Bereichen 13,13' und 14,14' sowie 17,17' und
18,18' der Lumineszenz- bzw. der Photodiode nur durch
seine Dotierung unterscheidet. Die in den Fig. 1 und 2 gezeichneten Umrisse der optischen Leitbahn 12 bzw.
12' stellen in diesem Falle gewisse Dotierungsgrenzen dar. Ist die optische Leitbahn 12 bzw. 12' jedoch eine
Fremdschicht in bezug auf den Grundkristall 11 und 1Γ,
so kann diese anstatt aus einem optisch durchlässigen Kristallmaterial auch aus glasartigem Material oder aus
Glas, in speziellen Fällen auch aus halbleitendem Glas, bestehen, wie dies bereits oben als Beispiel erwähnt
worden ist
Nach einer Weiterbildung in technologischer Hinsicht kann der Aufbau eines integrierten Systems im
Gegensatz zu einer Herstellungsweise aus einem kompakten Einkristall auch aus Teilen von verschiedener
stofflicher Beschaffenheit zusammengefügt werden. Als das System zusammenhaltendes Grundgerüst dient
eine Matrix, die wenigstens für bestimmte elektrische — und/oder optische Schaltelemente des integrierten
Systems auch als Substrat verwendet werden kann. Eine solche Matrix besteht aus einem Halblcilerkristall oder
') aus einem Glaskörper oder einem Dielektrikum oder
aus einer Masse aus synthetischem Kunststoff. Die optischen l.eitbahnen sind dann lichtdurchlässige Züge
neben gefärbten, lichtundurchlässigen Partien in der glasartigen Matrix bzw. der Kunststoffmatrix, oder sie
ι« sind optische l.eitbahnen aus Glas, welche von der
Kunslstoffmatrix eingefaßt werden. Schließlich kann das integrierte optisch-elektronische System auch aus
mindestens zwei aufeinander passenden Teilmalrizen bestehen, welche zu einer Gesamtmatrix zusammengesetzt
werden, wobei in einer Teilmatrix aus Glas oder einem glasartigen Stoff die optischen Leätbahncn und in
einer anderen Teilmatrix die elektrischen Schaltwege und die Bauelemente, wie z. B. Dioden, Kondensatoren.
Transistoren, Photodioden, Lumineszenz- oder Laserdioden usw., ausgebildet und zu einem integrierten
System vereinigt sind.
Der in der Beschreibung des Ausführungsbeispiels nach den Fig. 1 und 2 dargestellte Sachverhalt sowie
die über dieses Beispie! hinausgehenden erweiterten
Anwendungsmöglichkeiten und Ausbildungsformen gelten analog auch für die hier folgenden Ausführungsbeispiele nach den F i g. 3 und 4 sowie den F i g. 5 und 6.
Die in den F i g. 3 und 4 schematisch dargestellte einfache Ausführungsform enthält eine Weiterbildung
jo des Prinzips eines integrierten optisch-elektronischen
Systems. Diese Weiterbildung besteht in der Ausbildung eines optischen Leitpunktes. Der optische Leitpunkt 23
und 23' ist eine angenähert halbkugelförmige Erweiterung am Ende einer optischen Leitbahn, wie sie z. B.
J5 nach den F i g. 3 und 4 gemäß 22 und 22' realisiert ist.
Der Zweck eines optischen Leitpunktes besteht in der Möglichkeit der Übertragung des Lichtes von einer
optischen Leitbahn auf ein photoelektrischcs Bauelement der integrierten Schaltung oder umgekehrt von
einer innerhalb der integrierten Schaltung befindlichen Lichtquelle, z. B. einer Lumineszenzdiode, in eine
optische Leitbahn. Ein optischer Leitpunkt kann aber auch die Funktion der Verteilung und Verzweigung
eines Lichtstromes zwischen Leitbahnen übernehmen.
ή Während das Licht in einer optischen Leitbahn infolge
der an allen seitlichen Begrenzungsflächen stattfindenden inneren Totalreflexion sich nur längs der optischen
Leitbahn fortpflanzt, ermöglicht ein optischer Leitpunkt durch innere Reflexion des Lichtes an der halbkugelförmigen
Begrenzungsfläche, welche noch mit einer nach innen reflektierenden metallischen Folie überzogen sein
kann, eine Sammlung des Lichtes in dem halbkugelförmigen Medium des optischen Leitpunktes, so daß der
Lichtstrom von dort ausgehend nunmehr entweder nach unten aus der kreisförmigen Bodenfläche des Leitpunktes
in eine photoelektrisch wirksame Halbleiterschicht des integrierten Systems eintreten oder parallel zur
Oberfläche des Grundkristalls in eine optische Leitbahn mit anderer Richtung übergehen kann. Die Umlenkung
des Lichtes in einem optischen Leitpunkt aus einer optischen Leitbahn in eine andere oder in ein vom
optischen Leitpunkt überdecktes Halbleitergebiet des integrierten Systems erfolgt durch vielfache Reflexion
und Streuung des Lichtes innerhalb des nahezu halbkugelförmigen Körpers des optischen Lichtpunktes.
Diese innere Reflexion und Streuung des Lichtes geschieht sowohl an der reflektierenden Halbkugeloberfläche
als auch im Volumen des optischen
Leitpunkles. Somit wird im Gegensatz zur Reflexion an
einem definierten Spiegel der aus einer richtungsbehaftcten
optischen l.citbahn austretende l.ichlstrom in einem optischen l.eilpunkt durch vielfache Reflexion
und Streuung gleichmäßig verteilt, so daß von dort gleichzeitig in verschiedenen, beliebig wählbaren
Richtungen Lichttcilströmc in andere optische Kanäle
des integrierten Systems übertragen werden können. Natürlich ist in solchen Fällen, wo eine Verteilung des
Lichtstromes aus einer optischen Leitbahn durch vielfache Reflexion und Streuung nicht erwünscht und
statt dessen nur eine Reflexion in einer definierten Vorzugsrichtung vorzunehmen ist. der optische Leitpunkt
beispielsweise durch eine reflektierende ebene Prismenfläche innerhalb der optisch-elektrischen Schaltung
des integrierten Systems zu ersetzen. Ein optischer Leitpunkt bietet jedoch den grollen Vorteil, daß sich an
diesen gleichzeitig mehrere verschiedene optisch-elektronische Funktionen und sogar in beliebigen Richtungen
der integrierten Schaltung anschließen lassen.
Hinsichtlich des Materials und der technologischen Realisierung eines optischen Leitpunktes gelten die
gleichen Eigenschaften, Merkmale und Verfahrensweisen wie bei einer optischen Leiibahn. Soweit diese
Gesichtspunkte ausführlich oben beim Ausführungsbeispiel nach den F i g. 1 und 2 dargelegt wurden, brauchen
sie nicht mehr beschrieben zu werden. Demzufolge besteht ein optischer Leitpunkt eines optisch-elektronischen
Systems vorzugsweise aus Glas oder einem glasartigen Material. Der optische Leitpunkt kann
entweder mit einer oder mehreren optischen Leitbahnen einen zusammenhängenden glasartigen Körper
bilden,oder er kann an die Stirnfläche einer l.citbahn als optischer Hin- und Ausgang angrenzend ein an sich
selbständiges Gebilde innerhalb des optisch-elektronischen Systems darstellen. In bestimmten Fällen kann ein
optischer Leitpunkt auch Bestandteil einer Kristallschicht des integrierten Systems oder selbst ein eigener
zusätzlicher Kristallkörper in der integrierten Schaltung sein. Um die Fähigkeit der vielfachen Reflexion und
Streuung des Lichtes innerhalb eines optischen Leitpunktes zu erhöhen, kann dieser aus glasartigem oder
kristallinem Material bestehen, welches zusätzlich sehr viele innere reflektierende Inhomogenitäten oder
Grenzflächen aufweist. Bei entsprechend guter Transparenz des Materials für den Lichtstrom kann deshalb
ein optischer Leitpunkt z. B. auch aus polykristallinen! Material bestehen. Diese zusätzlichen Eigenschaften
können jedoch nur zur Anwendung kommen, wenn der operierende Lichtstrom innerhalb der in einem optischen
Leitpunkt einmündenden und von diesem ausgehenden optischen Leitbahnen eine entsprechend
hohe Intensität besitzt. Als ein von den optischen Ixitbahncn in materieller Hinsicht unabhängiges Gebilde
kann ein optischer Leitpunkt auch technologisch selbständig hergestellt werden, z. B. durch punktförmiges
Auftropfenlassen aus einer Glas- oder Kristall· schmelze längs einer sehr feinen, hausförmigen Zuführung.
Bei einer Weiterbildung besteht ein optischer Leitpunkt aus einem fluoreszierenden Material, welches
durch den aus der optischen Leitbahn oder einer Lichtquelle des integrierten Systems in den Körper des
optischen Leitpunktes eingestrahlten Lichtstrom zu eigener Strahlung angeregt wird. In diesem Falle wird
ein optischer Leitpunkt selbst zur Strahlungsquelle innerhalb des optisch-integrierten Systems. Der optische
Leitpunkt ist dabei zweckmäßig ein fluoreszierender Kristall oder ein mit einem fluoreszierenden
Farbstoff versehener Glaskörper, wobei der Farbstoff entweder im Volumen oder an der näherungsweisc
halbkugelförmigcn Oberfläche des optischen Lcitptinktes
vorhanden ist.
An einem einfachen Ausführungsbeispiel nach den F i g. J und 4 wird eine Realisierungsmöglichkeit für
einen optischen Leitpunkl 23 bzw. 23' demonstriert, der im vorliegenden Fall z. B. mit der optischen Leitbahn 22
und 22' einen zusammenhängenden glasartigen oder kristallinen Körper bildet mit einer dem verwendeten
Spektralbereich entsprechenden optischen Durchlässigkeit. Die in den hochohmigen, vorzugsweise halbleitendcn
Grundkristall 2t bzw. 21' einlegicrte stark
p-lcitende Schicht 24 bzw. 24' bildet zusammen mit der angrenzenden n-leilentien Schicht 25 und 25' eine
Lumineszenz- oder Laserdiode, die über die Kontakte 26, 26' und 27, 27' elektrisch gesteuert wird. Der in der
Lumineszenz- bzw. Laserdiode 24/25 bzw. 24725' erzeugte Lichlstrom gelangt in der optischen Leitbahn
22 bzw. 22' in den näherungsweise halbkugelförmigen optischen Leitpunkt 23 bzw. 23'. Das in dem Leitpunkt
23, 23' vorhandene Licht steuert photoelektrisch eine Photodiode, welche zum integrierten System gehört und
sowohl aus der p-leitenden Schicht 28 bzw. 28' als auch aus der n-lcitenden Schicht 29 bzw. 29' besteht. Die
metallischen Kontakte der Photodiode sind 210 und 220
bzw. 210' und 220'. Die etwa halbkugelförmige Kalotte
des optischen Leitpunktes ist in speziellen Fällen mit einer nach innen reflektierenden dünnen Schicht 230
bedeckt. Diese kann zweckmäßig ein metallischer Niederschlag sein. Wie bereits erwähnt, ist der optische
Leitpunkt 23 bzw. 23' ein fluoreszierender Körper oder wird durch einen zugesetzten Farbstoff (an der
Oberfläche oder im Inneren) durch Einwirkung der aus der optischen Leitbahn 22, 22' in die Halbkugel 23, 23'
eintretenden Strahlung zu einer eigenen zusätzlichen Strahlung angeregt. Durch diesen Effekt wird die
Photodiode intensiver ausgesteuert und es können auf diese Weise allgemein Eigenschaften der Übertragung
im integrierten optisch-elektronischen System in nachrichtentechnischer Hinsicht verbessert werden.
Für das Auslührungsbeispicl nach den F i g. 5 und 6
gelten entsprechend die in den beiden vorausgegangenen Ausführungsbeispiclen gegebenen Erklärungen.
Das in den Fig. 5 und 6 schematisch dargestellte integrierte System soll insbesondere zur Demonstration
der Möglichkeit einer wechsclwirkungsfreien Überkreuzung
eines elektrischen ohmsehen Strompfades 37
so bzw. 37' durch eine optische Leitbahn 32 bzw. 32' herangezogen werden. Ferner soll in diesem System ein
optischer Leitpunkt 36 bzw. 36' mit einmündender und mit ausgehender optischer l.citbahn 32, 32' bzw. 320
dargestellt und ein entsprechender informationsbehafteter Transport eines optischen Stromflusses parallel
zur Kristallobjrfläche des integrierten Systems gezeigt werden. Beide Zweige 32' und 320' der optischen
Leitbahn sind im vorliegenden Beispiel Fremdschichten geeigneter optischer Durchlässigkeit, die auf den
wi hochohmigen. vorzugsweise halbleitenden Grundkristall
31 bzw. 3Γ z.B. epitaktisch aufgetragen werden,
nachdem vorher in den Grundkristall 31, 31' der ohmsche elektrische Strompfad 37, 37' und 370'
η-leitend und die niederohmige p-Zone 372' einlegiert
frs oder eindiffundiert worden sind. In analoger Weise wie
bei dem Ausführungsbeispiel nach den F i g. 3 und 4 die Schichten 28' und 29' stellen in Fig.6 die in den
Grundkristall 31' einlegierte p-leitende Schicht 372' und
die darüber liegende η-leitende Schicht 371', die in den
η-leitenden ohmschen Strompfad 370' und 37' übergeht,
cine Photodiode dar. Diese Photodiode mit den metallischen Anschlußkontakten 373' und 3730' wird
mit einem optischen Stromfluß durch den optischen L.eitpunkt 360' versehen. Dieser optische Stromfluß
wird in der Lumineszenzdiode mit dem pn-Übergang 33 — 34 bzw. 33' —34' erzeugt, in dem optischen
Leitpunkt 38, 38' mit einer nach innen reflektierenden Kappe 380 gesammelt und gelangt schließlich über die
optische Leitbahn 32, 32' bzw. 320' und den optischen Leitpunkt 36 bzw. 36' in den optischen Leitpunkt 360'
mit der darunter liegenden Photodiode 371'—372'. An der Lumineszenz- bzw. Laserdiode befinden sich die
metallischen Anschlußkontakte 39, 39' und 390'. Die beispielsweise epitaktisch auf den Grundkristall aufgebrachten
optischen Leitbahnen 32,32' bzw. 320' sind mit einer Oxidschicht 35 oder mit einer anderen Schutzschicht
überzogen. Außerhalb dieser optischen Leitbahnen 32, 32' und 320' ist der Grundkristall 31, 31' des
integrierten Systems sowie die einlegierten ohmschen Slrompfade 37, 37' und 370' und ferner die einlegierten
Schichten der Photodiode und der Lumineszenz- bzw. Laserdiode mit einer gegenüber der Oxidschicht 35
etwas tiefer liegenden Oxidschicht 310' überdeckt. Die optischen Leitpunkte 36, 36' und 360' sind aus
fluoreszierendem Material hergestellt, oder sie sind wenigstens teilweise mit einem fluoreszierenden Überzug
versehen. Der vorzugsweise halbleitende hochohmipe Grundkristall 31 des optisch-elektronischen
Systems hat eine Grundfläche von beispielsweise 1,5 cm χ 1,5 cm und eine Dicke von etwa 3 mm. Die
Dicke der optischen Leitbahn 32 betrag! ungefähr 0,3 mm. Die Dimensionen der übrigen Teile des
integrierten Systems sind diesen Abmessungen entsprechend zugeordnet.
In den Fig. 7 und 8 ist ein etwas komplizierteres integriertes optisch-elektronisches System dargestellt,
welches ebenfalls die Möglichkeiten in bezug auf den Aufbau sowie in nachrichtentechnischer elektronischer
Hinsicht als ein aus vielen anderen herausgegriffenes Beispiel demonstrieren soll. Herstellungs- und Funktionsweise
der einzelnen optisch-elektronischen Teile des integrierten Systems sind in den vorausgehenden
Ausführungsbeispielen bereits erläutert worden, so daß hier lediglich das in den Fig. 7 und 8 schematisch
dargestellte System beschrieben werden kann.
Das integrierte optisch-elektronische System gemäß den Fig. 7 und 8 zeigt als Ausführungsbeispiel die
Möglichkeit einer sich verzweigenden optischen Übertragung einer Information von einer elektronisch
gesteuerten Lumineszenz- oder Laserdiode 44. 45 bzw. 44', 45' über die optischen Leitbahnen 42,420, (421) bzw.
42', 420', 42Γ mit dem optischen Leitpunkt 43 bzw. 43'
auf die beiden elektronisch unabhängig steuerbaren Photodioden 47, 48 bzw. 47', 48' und 470', 480'. Hierbei
ist außerdem eine steuerbare kapazitive elektronische Rückkopplung von der Photodiode 47, 48 bzw. 47', 48'
über die in den Grundkristall 41 bzw. 41' einlegierten ohmschen, η-leitenden Strompfad 461', 46', 460' und den
pn-Übergang 46, 4501 bzw. 46', 450Γ sowie den nsn-Übergang 440', 4601' auf die Lumineszenzdiode 44,
45 bzw. 44', 45' vorgesehen. Die p-leitende Schicht 45 bzw. 45' der Lumineszenzdiode ist über den ohmschen
p-leitenden Strompfad 450' mit der p-Zone 4501 bzw. 4501' des pn-Übergangs 4501-46 bzw. 450Γ-46'
verbunden, welcher den einen Zweig der elektronischen Kopplung von der Photodiode 47—48 bzw. 47'—48' mit
der Lumineszenzdiode 44 — 45 bzw. 44'—45' bewerkstelligt.
Der andere Zweig einer rein kapazitiven Brücke erfolgt von der n-Schicht 44 bzw. 44' der Lumineszenzdiode
über den legierten nsn- bzw. nin-Kondensator 440'—460Γ, der durch ohmschc Slrompfade 46 bzw. 46'
und 461' mit der n-Schicht 47 bzw. 47' der einen Photodiode verbunden ist. Auf diese Weise können
sowohl die n- als auch die p-Schicht der Lumineszenzdiode unabhängig gesteuert werden, was insbesondere
to bei Laserdioden im integrierten Betrieb des Systems eine zusätzliche Steuerung des Inversicnszustandes
neben der Modulation ermöglicht. Die Gleichspannungseinstellung des pn-Überganges 4501—46 bzw.
450Γ—46' kann an der metallischen Anschlußelektrode
4610' oder 48' geschehen. An einem dieser Kontakte kann außerdem noch eine zusätzliche zeitlich veränderliche,
insbesondere periodische äußere Spannung zur parametrischen Steuerung der Übertragungseigenschaften
des pn-Übergangs 4501-46 bzw. 4501— 46' angelegt werden. Desweiteren dienen zur Einstellung
der Vorspannung der Lumineszenz- bzw. Laserdiode die metallischen Anschlußkontakte 4500' für die p-Zone
und 49' für die η-Zone. Die beiden Photodioden werden gleichspannungsmäßig über den Kontakt 480Γ der
gemeinsamen p-Schicht 48 bzw. 48'(48O) und die Kontakte 48' bzw. 4620' (auf den η-leitenden ohmschen
Zuführungen 46' und 46Γ bzw. 462' zur n-Schicht 47 bzw. 47' der einen bzw. zur n-Schicht 470' der anderen
Photodiode) versorgt und eingestellt.
Die Lumineszenz- bzw. Laserdiode ist ersichtlich mit einem optischen Leiipunkt 430 bzw. 4 JO1. der mit einem
nach innen reflektierenden Film überzogen ist. bedeckt Hierdurch wird auch die nach oben aus der nleitenden
Halbleiterschicht 44 austretende Strahlung der i.umineszenzdiode für den in der optischen Leitbahn 42 bzw.
42' ausgesendeten l.ichtlluli bewahrt und zur Verfügung
gestellt. Der optische Leitpunkt 430 bzw. 430' gibt ein Beispiel für stoffliche Unabhängigkeit von Lumineszenz-
bzw. l.aserdioden und optischer l.eitbahn: d. h, der optische Leitpunkt 430 bzw. 430' ist ein technologisch
selbständiger Körper des integrierten Systems. Hingegen stellt der zur Verzweigung des Lichtstromes
dienende optische Leitpunkt 43 bzw. 43' ein Beispiel dafür dar, daß der optische Leitpunkt 43, 43' mit den
optischen Leitbahnen 42, 42', 420, 420' und 421, 42Γ
sowie mit den beiden optischen Leitpunkten 431, 43Γ und 432' über den Photodioden 47, 48 bzw. 47'. 48' und
470', 480' einen auch in stofflicher Hinsicht zusammenhängenden Glas- oder Kristallkörper bilden kann.—
Hinsichtlich der geometrischen Abmessungen des integrierten Systems gemäß den F i g. 7 und 8 gelten in
analoger Weise die bereits bei den vorausgehenden Ausführungsbeispielen gemachten Angaben.
3ei den vorstehend angegebenen vier Ausführungsbeispielen
bilden die in den hochohmigen vorzugsweise halbierenden Grundkristall eingebetteten oder auf
diesen aufgebrachten elektrischen Strompfade und verschiedenartigen pn-Übergänge in elektrostatischer
Hinsicht selbständige Systeme, die durch jeweils einen eigenen elektrischen Eingang und einen Ausgang als
passive oder aktive Elemente bestimmt sind. Der das integrierte System tragende, hochohmige, vorzugsweise
halbleitende Grundkristall repräsentiert hierbei ein elektrostatisches Grund- bzw. Bezugspotential, welches
in den angeführten Beispielen jedoch nicht in die Funktion einer Schaltung einbezogen ist. Aus diesem
Grunde ist in den dargestellten Figuren der Grundkristall ohne eigene Kontaktierung zur Festlegung des
stillschweigend angenommenen Bezugspotentials gezeichnet
worden, lis sei deshalb ausdrücklich bemerk;,
daß /ur Realisierung eines elektrostatischen Grund- oder Bezugspotentials auch bei integrierten Systemen,
die den angegebenen Ausführungsbeispielcn ungefähr entsprechen, der hochohmige, vorzugsweise halbleitende
Grundkristall praktisch mit einem vorzugsweise ohmschen Anschlußkontakt zu versehen ist. Hin solcher
Kontakt kann auch als niederohmige halbleitende oder
als metallisch leitende Trägerschicht unter dem (irundkristall ausgebildet sein. Andererseits kann
jedoch bei integrierten optisch-elektronischen Systemen mindestens ein Anschlußkontakt des vorzugsweise
halbleitenden Grundkristalls in die elektrischen Funktionen der Schaltung als wenigstens ein Pol eines der
integrierten Zwei- und/oder Vierpole des Systems einbezogen sein.
I lier/u Λ Ul;ill Zeichnungen
Claims (8)
1. Integrierte, optisch-elektronische Fesikörper-Schaltungsanordnung
aus vereinigten, zusammenwirkenden, optisch-elektronischen, elektrischen, optischen
und/oder photoelektrischen Bauelementen, die in einem alle optischen und elektronischen
Funktionselemente integrierenden Grundkristall in mindestens zwei Schichten angeordnet sind, gekennzeichnet
durch wenigstens eine als optischer Weg dienende optische Leitbahn mit der Wirkung eines Lichtleiters.
2. Schaltungsanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der optische Weg aus einem
Glas oder aus vorzugsweise einkristallinem, für den verwendeten Spektralbereich optisch durchlässigem
Material besteht.
3. Schaltungsanordnung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß mindestens eine optische Leitbahn in den Grundkristall eingelassen
ist und daß die eine als optischer Eingang dienende Stirnfläche der optischen Leitbahn an ein in den
Grundkristall eingebettetes lumineszierendes oder laseraktives Element derart angrenzt, daß die
austretende Lumineszenz- oder Laserstrahlung senkrecht durch diese Stirnfläche in die optische
Leitbahn eintritt und in dieser ohne seitliche Strahlungsverluste bis in ein an die andere
Stirnfläche angrenzendes optisch-elektronisches Funktionselement gelangt.
4. Schaltungsanordnung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß zur optischen Rückkopplung
zwischen zwei optisch-elektronischen Funtionselementen mindestens eine weitere optische
Leitbahn mit entgegengesetzter Ausbreitungsrichtung des optischen Signals vorgesehen ist.
5. Schaltungsanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß als optische
Verbindung zwischen mindestens zwei optischen Leitbahnen mit verschiedenen optischen Wegen ein
optischer Leitpunkt in Gestalt einer angenähert halbkugelförmigen Erweiterung vorgesehen ist.
6. Schaltungsanordnung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der optische Leitpunkt an
seinen nahezu halbkugelförmigen Begrenzungsflächen mit einer nach innen reflektierenden Folie
überzogen ist.
7. Schaltungsanordnung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die nach innen reflektierende
Folie aus einem Metall besteht.
8. Schaltungsanordnung nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der
optische Leitpunkt aus einem fluoreszierenden Material besteht.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19681789045 DE1789045C3 (de) | 1968-09-27 | 1968-09-27 | Integrierte, optisch-elektronische Festkorper-Schaltungsanordnung |
NL6911499A NL6911499A (de) | 1968-09-27 | 1969-07-25 | |
GB4738869A GB1278668A (en) | 1968-09-27 | 1969-09-26 | Improvements in or relating to optical electronic solid-state systems |
FR6932924A FR2019059A1 (de) | 1968-09-27 | 1969-09-26 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19681789045 DE1789045C3 (de) | 1968-09-27 | 1968-09-27 | Integrierte, optisch-elektronische Festkorper-Schaltungsanordnung |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1789045A1 DE1789045A1 (de) | 1970-10-29 |
DE1789045B2 DE1789045B2 (de) | 1979-05-23 |
DE1789045C3 true DE1789045C3 (de) | 1980-02-14 |
Family
ID=5706772
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19681789045 Expired DE1789045C3 (de) | 1968-09-27 | 1968-09-27 | Integrierte, optisch-elektronische Festkorper-Schaltungsanordnung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1789045C3 (de) |
FR (1) | FR2019059A1 (de) |
GB (1) | GB1278668A (de) |
NL (1) | NL6911499A (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4274104A (en) * | 1979-05-21 | 1981-06-16 | International Business Machines Corporation | Electrooptical integrated circuit communication |
DE3609278A1 (de) * | 1986-03-19 | 1987-09-24 | Siemens Ag | Integrierte optische halbleiteranordnung |
-
1968
- 1968-09-27 DE DE19681789045 patent/DE1789045C3/de not_active Expired
-
1969
- 1969-07-25 NL NL6911499A patent/NL6911499A/xx unknown
- 1969-09-26 GB GB4738869A patent/GB1278668A/en not_active Expired
- 1969-09-26 FR FR6932924A patent/FR2019059A1/fr not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1278668A (en) | 1972-06-21 |
DE1789045A1 (de) | 1970-10-29 |
FR2019059A1 (de) | 1970-06-26 |
NL6911499A (de) | 1970-04-01 |
DE1789045B2 (de) | 1979-05-23 |
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---|---|---|---|
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