DE1623297A1 - Einstellvorrichtung - Google Patents
EinstellvorrichtungInfo
- Publication number
- DE1623297A1 DE1623297A1 DE19671623297 DE1623297A DE1623297A1 DE 1623297 A1 DE1623297 A1 DE 1623297A1 DE 19671623297 DE19671623297 DE 19671623297 DE 1623297 A DE1623297 A DE 1623297A DE 1623297 A1 DE1623297 A1 DE 1623297A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- perpendicular directions
- guide surfaces
- attached
- adjusting device
- upper stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F41—WEAPONS
- F41G—WEAPON SIGHTS; AIMING
- F41G7/00—Direction control systems for self-propelled missiles
- F41G7/20—Direction control systems for self-propelled missiles based on continuous observation of target position
- F41G7/30—Command link guidance systems
- F41G7/301—Details
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/18—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form
- G05B19/19—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path
- G05B19/21—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device
- G05B19/23—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device for point-to-point control
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
- H05K13/0015—Orientation; Alignment; Positioning
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/37—Measurements
- G05B2219/37275—Laser, interferometer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Description
Einstellvorrichtung,
Für diese Anmeldung wird die Priorität aus der US-Patentanmeldung
Serial No. 555-,583 vom 6. Juni 1966 in Anspruch
genommen.
Die Erfindung bezieht sich auf eine Einrichtung zur
genauen Einstellung einer Arbeitsfläche In einer gegebenen Ebene.
Für manche Zwecke ist es erforderlich, eine Arbeitsfläche
mit einer Genauigkeit unterhalb eines Mikrons einstellen zu können. Beispielsweise wird bei der Herstellung von Masken,
wie sie bei der Fabrikation von Halbleiter-Mikroschaltungen
benutzt werden, eine fotografische Platte an der Arbeitsfläche angebracht und genau eingestellt, derart, dass ein fokussiertes,
von einer Blitzlichtlampe darauf projiziertes Muster aufgenommen wird. Auf diese Weise werden verschiedene solcher
Masken mit voneinander abweichenden Mustern nacheinander hergestellt. Bei dem Fabrikationsprozess der Mikroschaltungen
werden diese Masken auf der gleichen Halbleiterunterlage übereinandergelegt.
Dabei ist eine Genauigkeit unterhalb eines Mikrons bei der Einstellung der Platten vor der Belichtung
O0d88-4/u462
1S23297
notwendig,, um eine genaue Übereinstimmung der übereinander- .
gelegten Muster zu gewährleisten.
Solche Einstellvorrichtungen enthalten, zwei bewegliche
Bühnen» Eine" untere Bühne ist in einer. Richtung auf Führungen
beweglich, die auf einer festen Basis ©.tier Unterlage angebracht
sind, und eine obere Bühne, welche die Arbeitsfläche enthält, ist in einer dazu senkrechten Richtung auf Führungen beweglich,
die an der unteren Bühne angebracht sind. Bei solchen Vorrichtungen
kann die Bewegung der oberen Bühne gegenüber der unteren
Bühne gemessen werden. Damit ist aber der Nachteil verbunden,
dass eine Bewegung der oberen Bühne in cfer einen Richtung
nicht feststellbar ist und somit wesentliche Systemfehler bei der nutzbaren Einstellung der Arbeitsfläche auftreten können.
Durch die Erfindung wird eine Einstellvorrichtung geschaffen,
bei der diese Schwierigkeit behoben ist und darüberhinaus noch weitere Vorteile erzielt werden. r
Eine Einstellvorrichtung gemäss der Erfindung weist eine Einrichtung zum Projizieren einer optischen Strahlung in
abwechselnd zueinander senkrechten Richtungen^ welche miteinander eine feste Ebene definieren, eine Einrichtung zum Bewegen
einer Fläche in dieser festen Ebene und eine daran befestigte Einrichtung zur Reflexion' der optischen Strahlung sowie' in
Abhängigkeit von der Lage der Reflexionseinrichtung gegenüber der in abwechselnd senkrechten Richtungen projizierten Strahlung
ansprechende Einrichtungen auf, die dazu dienen 3 der Lage der
Fläche in"der festen Ebene entsprechende Anzeige-"und/oder
Steuersignale zu geben«, ' ■· ^
BAD
8 8 8 4/0462
Insbesondere werden abwechselnd, in zueinander senkrechten
Richtungen projizierte optische Strahlen von einer festen Basis aus projiziert, die miteinander eine Ebene für
die Bewegung einer oberen Bühne definieren"; an der "oberen
Bühne sind Reflektoren angebracht, so dass deren Stellung in. den optischen Strahlen interferometrisch^.n Bezug auf
die feste Basis gemessen werden kann.
Im folgenden wird die Erfindung anhand der Zeichnungen
beispielsweise näher erläutert:
Fig. 1 ist eine schematische Darstellung einer interferometrisch
gesteuerten Einstellvorrichtung gemäss der Erfindung.
Fig. 2 ist eine Grundrissdarstellung, welche die baulichen
Einzelheiten der Bühne der Vorrichtung nach Fig. 1 zeigt.
Fig. 3.ist eine Seitenansicht längs der Linie 3-3
Fig. 3.ist eine Seitenansicht längs der Linie 3-3
in Fig. 2.
Fig. 4 ist eine Querschnittansicht längs der Linie
Fig. 4 ist eine Querschnittansicht längs der Linie
1I-1J in Fig. 2.
Fig. 5 ist eine Draufsicht auf die Ebene gemäss
Fig. 5 ist eine Draufsicht auf die Ebene gemäss
der Linie 5-5 in Fig. 1J.
Fig. 6 ist eine Seitenansicht längs der Linie 6-6 s
Fig. 6 ist eine Seitenansicht längs der Linie 6-6 s
in Fig. 2.
Fig. 7 ist ein Querschnitt längs der Linie 7-7 in Fig. 2.
Fig. 7 ist ein Querschnitt längs der Linie 7-7 in Fig. 2.
Fig. 8 ist eine vergrösserte Seitenansicht eines, . ;
Teils 8-8 in Fig..3.
009884/0462 bad OP.iG.rn
W L-I ■*>
Fig. 9 ist eine Seitenansicht j teilweise ±ni Schnitt,.
, längs dar Linie 9-9 in Fig. 8.
Fig. Io ist eine Grundrissansicht längs der Linie
io-lo in Fig. 8, und
Fig. Il ist.eine vergrösserte Querschnittsdarstellung
Fig. Il ist.eine vergrösserte Querschnittsdarstellung
des Bereichs 11-11 in Fig. 9.
Wie Fig. 1 zeigt, sind an der festen Basis 1 Führungsleisten 2 für die untere Bühne 3 in der Richtung X angebracht,
und an der unteren Bühne 3 sind Führungsleisten 4 für die obere Bühne in der Richtung Y gegenüber der unteren Bühne J
angebracht. An der oberen Bühne 5 kann eine Arbeitsfläche vorgesehen sein, die genau in der X-Y-Ebene eingestellt werden
soll.
Ein Laser 6, beispielsweise ein mit einer kontinuierlichen
Welle arbeitender Hellum-Neongaslaser, der bei
6328 A arbeitet, richtet einen hochmonochromatischen und
gebündelten Strahl auf den Strahlteiler 7, und die beiden Teile des aufgeteilten Strahles werden auf entsprechende
Strahlteiler 8 bzw. 9 gerichtet, um eine Interferometa?-Messung
sowie Bezügsstrahl zu bilden. Der eine Meßstrahl 11 ist längs
der X-Achsel und der andere Meßstrahl 12 längs der Y-Achse gerichtet. Diese beiden Strahlen bilden eine waagerechte
Ebene, in welcher die Lage der Oberen Bühne 5 steuerbar ist» An der oberen Bühne 5 ist ein länglicher Spiegel 13 angebracht,
der mittels einer geeigneten Einstellvorrichtung so gerichtet wird, dass der X-Strahl 11 längs seiner eigenen Achse zurück
reflektiert wird; ferner ist daran ein länglicher Spiegel I1I
009884/0462
vorgesehen, der in gleiher Weise ausgerichtet wird, um den
Y-Strahl 12 längs seiner eigenen Achse zurückzureflektieren.
Ein Bezugsstrahl für die X-Achse wird von dem festen Bezugsspiegel 15 zurückreflektiert und ein Bezugsstrahl für die
Y-Achse wird von einem festen Bezugsspiegel 16 zurückreflektiert .
Die Mess- und Bezugsstrahlen für die X-Achse setzen sich
in dem Strahlteiler 8 wieder zusammen und der wieder zusammengesetzte Strahl, welcher Interferenzstreifen enthält, wird auf
Fotodetektoren 17 und 18 gerichtet. Die Hälfte des wieder
zusammengesetzten, auf die Fotozelle 17 gerichteten Strahles wird durch einen Viertelwellenlängen-Phasenverzögerungsfilm
geleitet. Nach an sich bekannten Verfahren der Richtungs-StreifenZcShlinterferometrie
wird in dem Fotodetektor jeweils ein Impuls durch die Interferenzstreifen erzeugt, wenn der
Spiegel 11 sich in der X-Richtung um einen Betrag bewegt, "der
gleich der Hälfte oder einem anderen vorbestimmten Bruchteil der Wellenlänge der Strahlungsquelle 6 ist. Die in den Fotodt.·4
Aktoren 17 und 18' erzeugten Impulse sind wegen des Phasen-Vfcrsügerungsfilms
19 um 90° phasenverschoben; daher können
cj«se Impulse in einem Zweirichtungszähler 21 kombiniert
werden, so dass sie ein'Digitalsignal oder einen Zählwert,
erzeugen, das bzw. der ein Mass für die nutzbare Bewegung des Spiegels 13 in der X-Riehtung darstellt; das bedeutet,
dass der Zähler Zählwerte addiert, wenn sich der Spiegel in einem Richtungssinn, beispielsweise also nach rechts, bewegt,
8AD ORiGfMAL
009884/0462
-D-
und dass er Zählwerte substrahiert, wenn der Spiegel sich .
im entgegengesetzten Sinne, also beispielsweise nach links, bewegt. In gleicher Weise wird"die Hälfte des wieder zusammengesetzten
Strahls in der Y-Achse durch einen Phasenverzögerungsfilm 22 geleitet, um in den Fotodetektoren 23 und 24 um 90°
phasenverschobene Interferenzstreifenimpulse zu erzeugen, welche einen Zweirichtungszähler 25 zugeführt werden, um
ein Digitalsignal zu bilden, das der nutzbaren oder Nettobewegung in der Y-Richtung entspricht.
Eine digitale Eingangsvorrichtung 26, beispielsweise von der Art, wie sie bei Lochstreifen benutzt wird, speichert Digitalinformationen,
welche in Form von Streifenzählwerten den verschiedenen X- und Y-Koordinatenwerten entsprechen,
um welche die obere Bühne 5 bewegt werden soll. Bei Erregung
durch den Folgeschalter (sequencer) 27 wird der Zählwert aus dem Eingang 26, der der gewünschten X-Koordinate entspricht,
mit dem Ausgangswert des X-Achsenzählers 21 in dem Vergleicher 28 verglichen, so dass ein Ausgangssignal zu der X-Achsen-Servokontrolleinrichtung
29 geleitet wird, welche in beiden Richtungen den Antrieb des Servomotors 31 regelt, um die
untere Bühne 3 in der X-Richtung über den Antriebsstab 32
in dem für die Annullierung des Ausgangswerts aus dem Vergleicher 28 richtigen Sinne zu bewegen, wobei zugleich die
obere Bühne 5 zu dem gewünschten X-Koordinatenwert hin verstellt wird. In gleicher Weise wird der Zählwert aus dem
Eingang 26, der der gewünschten Y-Koordinate entspricht,
009884/0462
mit dem Ausgangswert des X-Achsen-2ählei»B 25 in dem Vergleicher
35 verglichen, ,wobei ein Ausgangswert zu de**
Y-Achsen-Servokontrolleinriehtung 24 geleitet wird, um die
obere Bühne, 5 mittels des Servomotors 35 und des Antriebsstabes
j>6 zu der gewünschten Y-Koordinate zu führen. Der
Folgeschalter 27 kann dann einen Vorgang oder eine Bewegung an der Arbeitsfläche der oberen Bühne steuern; ist beispielsweise
eine fotografische Platte zur Bildung einer Maeke für eine Mikroschaltung an der Bühne 5 angebracht, so kann der
Folgeschalter eine Blitzlichtlampe einschalten, um ein Muster auf die Platte zu projizieren, nachdem sie auf die gewünschte
Lage in der X-Y-Ebene eingestellt ist.
Da die Interferometer-Ileßstrahlen 11 und 12, welche
die X-Y-Ebene definieren, gegenüber der Basis 1 fest sind, wird jede Bewegung der oberen Bühne 5 gegenüber der unteren
Bühne in der X-Eichtung festgestellt·'auf diese Weise werden
die eingangs erwähnten Systeinfehler früherer Vorrichtungen
vermieden.
Einzelheiten der Antriebs- und Führungseinrichtung für
die Bühnen 3 und 5 sind in den Fig. 2 bis 11 gezeigt.
Das Gewicht der unteren Bühne 3 wird auf der Basis 1
durch 4 senkrechte Luftlager 4l getragen, das Gewicht der ,
oberen Bühne 5 durch 4 senkrechte Luftlager 42. Die Lager
4l und 42 sind im wesentlichen genau gleich; sie sind in
Fig. 4 dargestellt. Luft oder ein anderes Gas wird unter Druck durch einen zentralen Durchgang in dem Bolzen 43
BAD ORJGlftJÄL
009884/0462
hindurchgeleitet, der ein abgerundetes Ende 44 aufweist,, das in einem Lagerkopf 45 ruht . Die Luft wird über 3 Durchgänge
"4-6 zu öffnungen 47 auf der Vorderseite der Köpfe 45
und von da aus durch radial angeordnete und auf dem, Umfang
verteilte Kanäle 48 xveitergeleitet, wie es in Fig. 5 gezeigt
ist , Die Basis 1, die aus Granit hergestellt sein kann, hat eine optisch flache oder ebene.Oberseite, über weichender
Lagerkopf 45 im Wesentlichen reibungsfrei mittels einer dazu
eingefügten dünnen Luftschicht geführt ist. Der Bolzen 43
kann sich in dem Sitz 44 frei drehen und gewährleistet so, dass der Kopf 45 parallel zur Oberfläche der Basis 1 bleibt
Die Bühnenführungsleisten 2 und 4, welche beispielsweise aus Quarz bestehen können, sind rechteckige Leisten mit optisch
feinbearbeiteten Seiten der Flächen 5o zur genauen Führung
der Bühnen in der X- und Y-Richtung auf waagerechten Luft- - lagern 51, wie in Fig. 7 gezeigt. Die Bauweise der Lager 51
ist etwa die gleiche wie die der Lager 4l, 42, weswegen für die einander entsprechenden Elemente die gleichen Bezugszeichen verwendet s:ind. Ein Joch 52» das an der entsprechenden
Bühne 3 bzw. 5 angebracht ist, überspannt in Querrichtung die
dazugehörige Führungsleiste 2 oder 4 und nimmt an seinen entgegengesetzten
Enden die Lagerzapfen 43 an, so dass die Lagerköpfe 45 an den parallelen Seitenflächen 5o der Führungsleisten
geführt sind. Der Kopf 45 kann sich frei in dem Sitz
drehen, so dass er parallel zu der Führungsfläche 5o verbleibt, wobei stets eine dazwischenliegende Luftschicht als
Schmiermittel vorgesehen ist. Da das Gewicht der Bühnen
009884/0462
von dem senkrechten Lager 4l und 42 getragen wird, sind
die waagerechten-Lager 4l im wesentlichen unbelastet, und
die Führung in der X- und Y-Richtung ist sehr genau auf die Führungsleisten 2 und 4 bezogen.
Um die Genauigkeit der X- und Y-Führung beizubehalten, ist es wichtig, dass keine inneren Torsionsspannungen in
den Führungsleisten 2 und 4 auftreten können, welche die Führungsflächen 5o verformen würden» Dies wird durch die
in den Fig. 8 bis 11 gezeigte neue Bauweise erreicht. Um Jede Führungsleiste 2 bzw. 4 wird durch 3 C-Klammern 6l
gehalten. Die berührenden Teile jeder Klammer Gl bestehen(
wie Fig. 11 zeigt, aus einem Zapfen 62 mit abgerundetem
Ende 63, das einen Sitz in der Platte 64 hat . Der Zapfen
kann vorteilhaft aus einer handelsüblichen Kugelkalottenscheibe bestehen. Die Zapfen 62 können sich frei in dem Sitz
63 drehen, so dass ihre Flachseiten die Ober- und Unterseite
der dazu genau parallelen Führungsleiste berühren, so dass die Druckspannungen gleichmässig über die Berührungsfläche
vorteilt werden, auch wenn Unterschiedlichkeiten in der oc-eren und unteren Führungsleistenfläche vorhanden sein
sollten. Dies erlaubt in vorteilhafter Weise, die optisch feine Politur (optical finishing) der Leiste auf die seitlichen
Führungsflächen 5o zu begrenzen. Da die 3 Klammerstellen
die räumliche Lage der Führungsleisten eindeutig definieren, werden durch die Tragvorrichtung keinerlei
innere Spannungen verursacht.
009884/0462
- Io -
Wie aus Fig. 2 hervorgeht, sind die Servomotoren 31 und
35 durch ein Reibungsgetriebe derart untersetzt 3 dass sie
eine sehr genaue Bewegung der" entsprechenden AntriebsstSbe
32 bzw. 36 ermöglichen. Bei einem typischen gemäss der
Erfindung ausgebildeten System kann die obere Bühne 5 mit einer Genauigkeit von 10 Mikrozoll oder 0,00025 M eingestellt werden.
Erfindung ausgebildeten System kann die obere Bühne 5 mit einer Genauigkeit von 10 Mikrozoll oder 0,00025 M eingestellt werden.
009884/0462
Claims (1)
- Patentansprüche1. Einstellvorrichtungj welche eine Einrichtung'(6) zum Projizieren einer optischen Strahlung (11, 12) in abwechselnd zueinander senkrechten Richtungen (X5 Y), die miteinander eine feste Ebene definieren, eine Einrichtung zum Bewegen einer Fläche (5) in dieser festen Ebene und eine an dieser befestigte Einrichtung (13, 1*0 zur Reflexion«der optischen Strahlung soviie in Abhängigkeit von der Lage der Reflexionseinrichtung gegenüber der in abwechselnd senkrechten Richtungen projizierten Strahlung ansprechende Einrichtungen (17, 18; 23,. 24) aufweist, die dazu dienen, der Lage derFläche (5) in der festen Ebene (X, Y) entsprechende Anzeige- und/oder Steuersignale zu geben.2. Einstellvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass auf einer festen Basis oder Unterlage eine Einrichtung zur Führung einer unteren Bühne in einer der beiden zueinander senkrechten Richtungen und auf dieser eine Einrichtung zur Führung der oberen Bühne in der anderen Richtung befestigt sind, und dass an der oberen Bühne die Reflektoren angebracht sind, während die Einrichtungen zum Projizieren der optischen Strahlung auf der festen Basis befestigt sind.3". Einstellvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die untere und die obere Bühne von senkrechten Gaslagern getragen werden und dass waagerechte Gaslager00988A/0462für die Bewegung der Bühnen über ihre Führungen vorgesehen sind.4. Einstellvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet", dass die Führungseinrichtungen aus rechteckigen Leisten mit optisch feinbearbeiteten oder polierten seitlichen Führungsflächen bestehen. ·5. Einstellvorrichtung· nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Leisten an der festen Basis bzw. der unteren Bühne an jeweils drei Punkten festgeklemmt sind, so dass keine inneren Torsionsspannungen auftreten können, welche die Führungsflächen verformen.6. Einstellvorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der die Leiste je^ls berührende Teil einer Klemmvorrichtung aus einem Zapfen mit einer ebenen Berührungsfläche und mit einer abgerundeten Endfläche besteht, die mit einem entsprechend geformten Hohlsitz so zusammenwirkt, dass der Zapfen sich frei drehen kann, so dass die ebene Endfläche§4e Ober- und Unterseite der Leiste stets zueinander parallel s ind..7. Einstellvorrichtung nach Anspruch 4, gekennzeichnet durch senkrechte Gaslager für die Bewegung der Bühnen längs ihrer seitlichen Führungsflächen.8. Einstellvorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine interferometrische Einrichtung zur Messung der Reflexion der optischen Strahlung zwecks übereinstimmender Einstellung der Bewegung der Arbeitsfläche in jeder der " » beiden zueinander senkrechten Richtungen nach Streifenzähl-009884/0A62 Lwerten. "9. Einstellvorrichtung nach Anspruch 8, gekennzeichnet durch einen Eingang für Digitalwerte zur Erzeugung von jeweils einer gewünschten Lage der Arbeitsfläche in jeder der abwechselnd zueinander senkrechten Richtungen entsprechenden Digitalsignale, eine Einrichtung zum Vergleichen dieser mit der durch die interferometrische Einrichtung registrierten Bewegung und einer in Abhängigkeit von dieser Vergleichereinrichtung wirksamen Antriebsvorrichtung zur Einstellung der Arbeitsfläche in die gewünschte Richtung. ....,,_=.... ■-10. Einstellvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch die Kombination mindestens einer rechteckigen Führungsleiste für die Bewegung der Arbeitsfläche mit optisch feinbearbeiteten oder polierten seitlichen Führungsflächen und einer Tragvorrichtung zum Halten der Führungsleiste, bestehend aus Mitteln zum Festklemmen der Unter- und Oberseite der Leiste an drei Punkten, derart, ■lass in dieser keine inneren Torsionsspannungen auftreten können, welche die Führungsflächen zu verformen suchen.009884/0482
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US55558366A | 1966-06-06 | 1966-06-06 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1623297A1 true DE1623297A1 (de) | 1971-01-21 |
Family
ID=24217832
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19671623297 Pending DE1623297A1 (de) | 1966-06-06 | 1967-05-20 | Einstellvorrichtung |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1623297A1 (de) |
GB (1) | GB1196281A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0035580A1 (de) * | 1980-03-10 | 1981-09-16 | Eaton-Optimetrix Inc. | Interferometrisch gesteuerter Werktisch und Positionsregelschaltung |
-
1967
- 1967-05-20 DE DE19671623297 patent/DE1623297A1/de active Pending
- 1967-06-06 GB GB2595467A patent/GB1196281A/en not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0035580A1 (de) * | 1980-03-10 | 1981-09-16 | Eaton-Optimetrix Inc. | Interferometrisch gesteuerter Werktisch und Positionsregelschaltung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1196281A (en) | 1970-06-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3256835B1 (de) | Prüfvorrichtung sowie verfahren zum prüfen eines spiegels | |
EP0927334B1 (de) | Verfahren und vorrichtung für die 3d-messung | |
DE3316520C2 (de) | Vorrichtung zum Positionieren eines Werkzeuges gegenüber einem Werkstück | |
DE2119486C3 (de) | Elektro-optische Lagekorrekturanordnung für ein optisches MeBsystem | |
DE2246152A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum optischen ausrichten von gegenstaenden | |
DE3226005A1 (de) | System zum messen der kontur einer dreidimensionalen oberflaeche, insbesondere eines optischen gegenstandes | |
DE2164898C3 (de) | Interferometer für zweidimensionale Längenmessungen | |
EP0002668B1 (de) | Einrichtung zur optischen Abstandsmessung | |
DE2942388A1 (de) | Halbleiterplaettchen-positioniervorrichtung | |
DE102010041558A1 (de) | Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie sowie Verfahren zur mikrolithographischen Belichtung | |
DE2854057A1 (de) | Ebenheits-messeinrichtung | |
EP0025036B1 (de) | Verfahren zur scharfeinstellung eines maskenbildes auf ein werkstück | |
EP0084144B1 (de) | Dreidimensionale interferometrische Längenmesseinrichtung | |
DE2758149C2 (de) | Interferometrisches Verfahren mit λ /4-Auflösung zur Abstands-, Dicken- und/oder Ebenheitsmessung | |
DE3721749A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur beruehrungslosen erfassung der form von gegenstaenden | |
DE69018556T2 (de) | Belichtungsvorrichtung. | |
EP1097023B1 (de) | Vorrichtung zum laserbearbeiten von werkstücken | |
EP0346819A2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur berührungslosen Vermessung und ggf. abtragenden Bearbeitung von Oberflächen | |
DE1623297A1 (de) | Einstellvorrichtung | |
DD234070A1 (de) | Interferometrische mehrkoordinatenmesseinrichtung | |
DE2658399A1 (de) | Interferometrisches verfahren | |
DE3826149C2 (de) | ||
DE102007049318B3 (de) | Meßsystem und Meßverfahren | |
DE3878448T2 (de) | Optische vorrichtungen fuer interferometrische messsysteme. | |
DE1907363C3 (de) | Präzisions-Einspannvorrichtung |