DE1549880B1 - Arrangement for the optical scanning of characters - Google Patents

Arrangement for the optical scanning of characters

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DE1549880B1
DE1549880B1 DE19671549880 DE1549880A DE1549880B1 DE 1549880 B1 DE1549880 B1 DE 1549880B1 DE 19671549880 DE19671549880 DE 19671549880 DE 1549880 A DE1549880 A DE 1549880A DE 1549880 B1 DE1549880 B1 DE 1549880B1
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contour
switch
circle
deflection
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Klaus Hempen
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    • G06K11/02—Automatic curve followers, i.e. arrangements in which an exploring member or beam is forced to follow the curve
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Description

1 21 2

Die Erfindung bezieht sich auf eine Anordnung zur Ein Nachteil dieser Schaltungsanordnung liegt darin,The invention relates to an arrangement for A disadvantage of this circuit arrangement is that

optischen Abtastung von Zeichen, bei der der Elektro- daß der Meine Abtasthalbkreis, der vollkommen imoptical scanning of characters, in which the electric that the my scanning semicircle, which is completely in the

nenstrahl einer mit um 90° phasenverschobenen Wech- schwarzen Bereich einer Zeichenlinie verlaufen muß,inner beam must run with a 90 ° phase shifted black area of a drawing line,

selspannungen gesteuerten Elektronenstrahlröhre den infolge der Liniendicke und von Unvollkommenheiten Konturen des Zeichens entweder von außen (Außenab- 5 in der Druckgüte aus der Zeichenlinie heraus und wie-self-voltage controlled cathode ray tube due to the line thickness and imperfections Contours of the character either from the outside (external 5 in the print quality out of the character line and again

tastung) oder von innen (Innenabtastung) in aufein- der in sie hineintreten kann. Es besteht dann die Ge-scanning) or from within (inside scanning) one on top of the other. There is then the

anderfolgenden, etwa halbkreisförmigen Bögen nach- fahr, daß der Elektronenstrahl die Zeichenlinie nichtfollow the other, roughly semicircular arcs, so that the electron beam does not touch the drawing line

geführt wird, bei der jede der beiden Wechselspan- mehr findet. Um dies zu verhindern, muß zusätzlichis performed in which each of the two alternating stresses finds more. To prevent this, you must additionally

nungen mittels eines Schalters einem Integriergliedzuge- eine Korrekturschaltung vorgesehen werden, führt wird, dessen Ausgang an der X- bzw. an der Y- io In der deutschen Auslegeschrift 1205 745 ist eineA correction circuit is provided by means of a switch to an integrating element, the output of which is at the X or at the Y-

Ablenkeinrichtung angeschlossen ist und bei dem der weitere Schaltungsanordnung zur Steuerung des Elek-Deflection device is connected and in which the further circuit arrangement for controlling the elec-

Schalter zwischen zwei Wechselspannungsgeneratoren tronenstrahls beschrieben. Bei ihr sind GeneratorenSwitch between two alternating voltage generators tronenstrahls described. There are generators with her

mit um 180° gegeneinander verschobener Phase um- für eine positive und negative Sinusspannung sowie fürwith phase shifted by 180 ° to each other for a positive and negative sinusoidal voltage as well as for

schaltet. ■ eine positive und negative Kosinusspannung vorge-switches. ■ a positive and negative cosine voltage provided

Das Konturverfolgungsverfahren, von dem die Er- 15 sehen. Über Schalter werden entweder die positiven findung Gebrauch macht, besteht darin, daß die Kon- oder die negativen Sinus- und Kosinusspannungen über tür des zu erkennenden Zeichens mittels eines Elektro- je einen zugeordneten Integrator an die X- und F-Abnenstrahles verfolgt wird und die jeweiligen Span- lenkeinrichtung der Kathodenstrahlröhre angelegt, nungswerte der X- und F-Ablenkung der Kathoden- Die Schalter bewirken die abwechselnde Verbindung strahlröhre ausgewertet werden. Dieses Verfahren ist 20 der positiven und negativen Sinus- bzw. Kosinusgenebesonders im IBM-Journal of Research and Develop- ratoren an die jeweiligen Integratoren immer dann, ment 7, Januar 1963, S. 14 bis 21, beschrieben. Um auf wenn der Strahl die nachzuzeichnende Linie übereiner Papiervorlage die Kontur eines Zeichens zu ver- quert. Der Strahl wird der Zeichenlinie in Halbkreisfolgen, wird der Lichtpunkt des Leuchtschirmes einer bögen nachgeführt. Dabei befinden sich die Mittelpunk-Elektronenstrahlröhre auf die Vorlage projiziert. Das 25 te der Abtastkreise stets nahe dem Rande der Zeichenliremittierte Licht wird mittels eines Fotovervielfachers nie. Die Nachzeichnung wird instabil, wenn die Mitte ausgewertet. Bewegt sich der Lichtpunkt in das Zeichen des Abtastkreises zu weit vom Linienrand entfernt ist, hinein, so wird durch die schwarze Kontur weniger wie es z. B. bei der Einleitung des Nachzeichnungsvor-Licht remittiert als durch die hellere Vorlage. Die ganges der Fall sein kann. Das hat zur Folge, daß der Helligkeitsänderungen werden zur Steuerung der 30 Mittelpunkt des nächsten Kreises zu tief innerhalb des Weiterbewegung des Lichtpunktes ausgenutzt. Der Zeichens liegt. Um dies zu verhindern, wird eine auf-Elektronenstrahl folgt der Kontur des Zeichens ent- wendige-Schaltung-aufgeführtydie die Schalter immer weder in Kreisbögen, oder Jn Halbkreisbögen, der., dann rückstellt, wenn die Dauer des Schwarz-Signals Kreismittelpunkt wird'dabei entlang der Kontur wei--'"" etwa 60° des Abtastkreises überschreitet, terbewegt. 35 Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, eine sehrThe contour tracing process that the observers see of. Either the positive finding is made use of via switches, consists in the fact that the con or the negative sine and cosine voltages are tracked via the door of the character to be recognized by means of an electrical integrator each assigned to the X and F radiation beams The respective tension deflection device of the cathode ray tube is applied, voltage values of the X and F deflection of the cathode ray tube The switches cause the alternating connection ray tube to be evaluated. This method is described in particular in the IBM Journal of Research and Developers to the respective integrators, ment 7, January 1963, pp. 14 to 21, of the positive and negative sine and cosine genes. In order to cross the contour of a character when the beam crosses the line to be drawn over a paper template. The beam follows the drawing line in semicircular sequences, the light point of the luminescent screen follows an arc. The center point cathode ray tube is projected onto the template. The 25th of the scanning circles, always near the edge of the characters, is never emitted by means of a photomultiplier. The tracing becomes unstable when the center is evaluated. If the point of light in the sign of the scanning circle is too far away from the edge of the line, the black contour becomes less like it is, for example, B. remitted at the initiation of the tracing before light than by the lighter original. The ganges may be the case. As a result, the changes in brightness are used to control the center point of the next circle too deep within the further movement of the point of light. The sign lies. To prevent this, an on-electron beam follows the contour of the sign required circuit-listed, the switches are always neither in circular arcs, nor in semicircular arcs, which then resets when the duration of the black signal becomes the center of the circle along the contour white '"" exceeds about 60 ° of the scanning circle, is moved. 35 The object of the invention is to provide a very

Es sind Schaltungsanordnungen zur Steuerung der einfache Schaltungsanordnung zur Steuerung der Ab-Ablenkspannungen der Elektronenröhre nach dem lenkeinrichtung der Elektronenstrahlröhre mit um Konturverfolgungsverfahren bekannt. Solche Schaltun- 90° phasenverschobenen Wechselspannungen anzugen sind z. B. in Frequenz, Bd. 20, 1966, Nr. 9, S. 291 geben, bei der der Elektronenstrahl der Kontur des bis 302, beschrieben. Sie erfordern aber einen erheb- 40 Zeichens von außen (Außenabtastung) oder innen (Inlichen technischen Aufwand, da sie getrennte elek- nenabtastung) in aufeinanderfolgenden Halbkreistrische Wege für die Erzeugung der Kreisspannung zur-*Λ bögen nachgeführt wird. : Steuerung des Elektronenstrahles, sowie zur Addition Dies wird dadurch erreicht, daß jede der beiden der Spannungswerte für die erforderliche Nachsteue- Wechselspannungen über je einen Übertrager, einen rung des Kreismittelpunktes entlang der Kontur be- 45 der Schalter, der zwischen den Enden der Sekundärnötigen. Wicklung des Übertragers hin- und herschaltet und There are circuit arrangements for controlling the simple circuit arrangement for controlling the deflection voltages the electron tube after the steering device of the cathode ray tube with known contour tracing method. Such switching- 90 ° phase-shifted alternating voltages must be used are z. B. in Frequency, Vol. 20, 1966, No. 9, p. 291, in which the electron beam of the contour of the to 302. But they require a significant 40 characters from the outside (outside scanning) or inside (inside technical effort, as they have separate electronic scanning) in successive semicircular tables Paths for the generation of the circular voltage to the * Λ arches are tracked. : Control of the electron beam, as well as addition. This is achieved in that each of the two the voltage values for the required readjusting AC voltages via one transformer each, one tion of the center of the circle along the contour is 45 the switch, the one between the ends of the secondary. Winding of the transformer back and forth and

In der deutschen Auslegeschrift 1 205 745 ist eben- je ein an den Schalter angeschlossenes, zur Stabilisiefalls eine Schaltungsanordnung zur Steuerung des rung dienendes, aus der Parallelschaltung eines Wider-Elektronenstrahles angegeben. Es sind dort Generator.. Standes und eines Kondensators bestehendes i?C-Glied ren für Sinus- und Kosinusspannungen vorgesehen. 50 zu einem der Integrierglieder geführt wird, das zwischen Diese werden über je einen Schalter entweder direkt dem J?C-Glied und der Mittelanzapfung der Sekundäroder über je ein Dämpfungsglied mit je einem züge- wicklung des Übertragers angeordnet ist und daß die ordneten Integrator verbunden, an deren Ausgang die .Schalter nur. dann umschalten, wenn-der .Elektronen* Ablenkspannungen für die Kathodenstrahlröhre abge- strahl in die Kontur eines Zeichens hineinläuft (Außennommen werden. Die Schalter werden von einer Kipp- 55 abtastung) oder aus ihr herausläuft (Innenaütastung). stufe in Abhängigkeit von dem bei der Abtastung der Die Erfindung· wird an Hand eines Ausführungsbei-Zeichen reflektierten Lichtes gesteuert. Der Elektronen- Spieles näher erläutert. Dabei zeigt strahl beschreibt einen Kreisbogen mit einem bestimm- F i g. 1 ein Blockschaltbild der Abtastanordnung, ten Radius, bis er auf die Kontur trifft. Dann werden F i g. 2 eine Schaltungsanordnung nach der Erdie Dämpfungsglieder, die nur die Amplitude der 60 findung,In the German Auslegeschrift 1 205 745 there is also one connected to the switch for stabilization purposes a circuit arrangement for controlling the tion serving, from the parallel connection of a counter electron beam specified. There is a generator .. stand and an i? C element consisting of a capacitor Ren intended for sine and cosine voltages. 50 is led to one of the integrating links between These are either directly connected to the J? C element and the center tap of the secondary or via a switch is arranged via an attenuator each with a pulling winding of the transformer and that the arranged integrator connected, at whose output the .switch only. then switch when-the .electrons * Deflection voltages for the cathode ray tube radiated into the contour of a character (ex will. The switches are scanned by a toggle 55) or run out of it (interior scanning). stage as a function of the scanning of the The invention · is on the basis of an execution at character reflected light controlled. The electron game explained in more detail. It shows ray describes an arc of a circle with a definite- F i g. 1 is a block diagram of the scanning arrangement, th radius until it meets the contour. Then F i g. 2 shows a circuit arrangement according to the earth Attenuators that only find the amplitude of the 60,

Wechselspannungen um einen konstanten Faktor F i g. 3 den Verlauf des Elektronenstrahls entlangAC voltages by a constant factor F i g. 3 along the path of the electron beam

reduzieren, zwischen Generatoren und Integratoren ge- einer Kontur,reduce, between generators and integrators to form a contour,

schaltet. Der Radius des nunmehr vom Elektronen- F i g. 4 den Verlauf der Spannungen am Umschaltstrahl ausgeführten Kreises ist kleiner. Nach einer punkt, wenn der Elektronenstrahl in X-Richtung läuft, halben Periode des Oszillators wird der Schalter umge- 65 F i g. 5 den Verlauf der Spannungen am Ausgang stellt. Der Elektronenstrahl beschreibt also einen der Integrierglieder bei den Spannungen am Um-Kreisbogen mit größerem Radius und dann einen schaltpunkt nach F i g. 4. Halbkreisbogen mit kleinerem Radius. In F i g. 1 wird der Elektronenstrahl der Elektronen-switches. The radius of the now from the electron- F i g. 4 shows the course of the voltages on the switching beam executed circle is smaller. After a point when the electron beam runs in the X direction, half the period of the oscillator, the switch is reversed. 5 shows the profile of the voltages at the output represents. The electron beam describes one of the integrators for the voltages at the arc of a circle with a larger radius and then a switching point according to FIG. 4. Semi-circular arc with a smaller radius. In Fig. 1 the electron beam of the electron

Claims (3)

3 43 4 strahlröhre is über ein Linsensystem auf die die Zeichen stellt. Die Spannung hinter Schalter Sl, Ul α zeigt tragende Unterlage Z gelenkt. Das von Zeichen und deutlich den Halbwellenverlauf einer Doppelweg-Unterlage remittierte Licht gelangt zum Photoverviel- gleichrichtung mit dem Gleichstrommittelwert fächer P, wird dort in elektrische Signale umgewandelt 0,64 · Ül, wobei Ül der Scheitelwert der Wechsel- und dem Bewerter B, einem Schwellwertglied, züge- 5 spannung i/l ist. Der Spannungsverlauf hinter dem führt. Am Ausgang des Bewerters B ist ein Umschalter U Schalter S2, UIa läßt eine Frequenzverdoppelung angebracht. Mit ihm kann eingestellt werden, ob die mit dem Gleichstrommittelwert Null erkennen. Kontur des Zeichens von innen (Innenabtastung) oder Die Spannungen UXb bzw. U2b, die zu der X- bzw. von außen (Außenabtastung) durch den Elektronen- F-Ablenkeinrichtung führen, sind in F i g. 5 skizziert, strahl verfolgt wird. Der Umschalter U ist mit der io Sie entstehen durch Integration der Spannungen UIa Kippschaltung if verbunden, die bei der Innenabta- und UIa. Man sieht, daß sich der Halbkreismittelstung die Schalter Sl, Sl immer dann gemeinsam um- punkt in Z-Richtung mit dem doppelten Scheitelwert, legt, wenn der Elektronenstrahl aus dem Innern des also gleich dem Kreisdurchmesser, weiterbewegt. Der Zeichens kommend die Kontur überschreitet, bei 4er Wechselspannung am Kondensator Cl überlagert sich Außenabtastung immer dann, wenn der Elektronen- 15 eine Gleichspannung von der doppelten Größe des strahl von außen kommend in das Zeichen hineinläuft. Wechselspannungsscheitelwertes. In der F-Richtung Die Schalter Sl bzw. Sl schalten zwischen den Wech- überlagert sich der Wechselspannung keine Gleichselspannungsgeneratoren Gl und Gl bzw. G3 und GA spannung. Somit findet keine Verschiebung des Halbhin und her. Gl ist gegenüber Gl, G3 gegenüber GA kreismittelpunktes in F-Richtung statt. Die Spannung um 180°, Gl gegenüber G3 und Gl gegenüber GA 20 UIb hat die doppelte Frequenz wie die Wechselspanum 90° phasenverschoben. Die Generatoren Gl bis nung Ul. Um dies zu verdeutlichen, ist in F i g. 4 und 5Radiation tube is via a lens system on which the characters are placed. The voltage behind switch Sl, Ul α shows supporting base Z steered. The light remitted by characters and clearly the half-wave course of a two-way underlay arrives at the photomultiplier device with the DC mean value fan P, where it is converted into electrical signals 0.64 · Ül, where Ül is the peak value of the alternating and evaluator B, a threshold value element , tensile-5 tension i / l is. The tension behind the leads. At the output of the evaluator B is a changeover switch U switch S2, UIa allows a frequency doubling. It can be used to set whether those with the DC mean value recognize zero. Contour of the character from the inside (inside scanning) or The voltages UXb and U2b, which lead to the X and from outside (outside scanning) by the electron F deflection device are shown in FIG. 5 outlined, beam is traced. The changeover switch U is connected to the io. They are created by integrating the voltages UIa toggle switch if, which are used in the case of the inside and UIa. It can be seen that the semicircle centering switches S1, S1 together at a point in the Z-direction with twice the peak value when the electron beam moves on from the inside, i.e. equal to the diameter of the circle. The character coming exceeds the contour, with 4 alternating voltage on the capacitor C1, external scanning is always superimposed when the electron 15 a direct voltage of twice the size of the beam coming from the outside runs into the character. AC voltage peak value. In the F-direction The switches S1 and S1 switch between the AC voltage, no DC voltage generators Gl and Gl or G3 and GA voltage are superimposed. Thus there is no shift of the half back and forth. Eq is compared to Eq, G3 compared to GA at the center of the circle in the F direction. The voltage by 180 °, Gl compared to G3 and Gl compared to GA 20 UIb has twice the frequency as the alternating span is phase shifted by 90 °. The generators Gl to nung Ul. To make this clear, FIG. 4 and 5 Sri bzw. STl mit dem Integrierglied /1 bzw. Il ver- quenz der Wechselspannung ist, auf der ZeitachseSri or STl with the integrator / 1 or Il is the frequency of the alternating voltage, on the time axis bunden. Am Ausgang des Integriergliedes /1 wird die 25 markiert.bound. The 25 is marked at the output of the integrator / 1. Z-Ablenkspannung, am Ausgang des Integriergliedes Die Bewegung des Elektronenstrahles in beliebigeZ deflection voltage, at the output of the integrator The movement of the electron beam in any Il wird die F-Ablenkspannung für die Elektronen- Richtungen wird durch entsprechende Überlagerung Il becomes the F deflection voltage for the electron directions by means of corresponding superimpositions röhre E abgenommen. von Gleich- und Wechselspannungen, die sich beimtube E removed. of direct and alternating voltages that arise when Die in F i g. 1 gestrichelt eingerahmten Bereiche sind Umschalten der Schalter Sl und Sl durch die angein F i g. 2 näher ausgeführt. 30 schnittene Phasenlage ergeben, in X- und F-RichtungThe in F i g. 1 areas framed by dashed lines are switching of the switches Sl and Sl by the indicated F i g. 2 detailed. 30 cut phase position result in the X and F directions In F i g. 2 a ist die Schaltung für die X-Ablenkung, erreicht.In Fig. 2 a, the circuit for the X deflection is reached. in F i g. 2 b die Schaltung für die F-Ablenkung Im eingeschwungenen Zustand bewegt sich der dargestellt. Beide Schaltungen sind im Aufbau gleich. Halbkreismittelpunkt des Elektronenstrahles auf der F i g. 2a zeigt die Schaltung für die X-Ablenkung. Die Kontur des Zeichens. Bei der Einleitung des Kontur-Wechselspannung Ul wird über den Übertrager Tl, 35 Verfolgungsvorganges, und wenn die Zeichen Ecken den elektronischen Umschalter Sl, dem als i?C-Glied haben, ist es möglich, daß die Mitte des Kreises nicht Rl, Cl ausgebildeten Stabilisierungsglied S71 zu dem auf der Kontur liegt, sondern entweder im Zeichen oder Integrierglied /1 geführt. Das Integrierglied /1 besteht außerhalb des Zeichens. Es besteht dann die Gefahr, im Ausführungsbeispiel aus dem i?C-Gliedi?l, Cl. daß der Elektronenstrahl die Kontur des Zeichens Das eine Ende des Kondensators Cl ist mit der Mittel- 40 nicht mehr findet. Dies wird durch die i?C-Glieder Rl, anzapfung A1 der Sekundärwicklung des Übertragers Cl bzw. R3, C3 verhindert. Mit ihnen kann man auf Tl verbunden. An Cl wird die Spannung UIb zur einfache Weise das Verhältnis Halbkreisradius zur X-Ablenkung abgegriffen. Länge der Weiterbewegung des Kreismittelpunktesin Fig. 2 b the circuit for the F deflection. In the steady state, the shown moves. Both circuits have the same structure. Semicircle center of the electron beam on the Fig. 2a shows the circuit for the X deflection. The contour of the sign. When the contour AC voltage Ul is initiated, the tracing process is carried out via the transformer Tl, 35, and if the characters corners have the electronic switch S1, the i? C element, it is possible that the center of the circle is not formed by Rl, Cl Stabilization link S71 to which lies on the contour, but is guided either in the symbol or integrating link / 1. The integrator / 1 exists outside the sign. There is then the danger that in the exemplary embodiment from the i? C element, C1. that the electron beam can no longer find the contour of the character. This is prevented by the i? C elements Rl, tap A1 of the secondary winding of the transformer Cl or R3, C3 . You can connect to them on Tl. The voltage UIb, the ratio of the semicircle radius to the X deflection, is tapped off at Cl in a simple manner. Length of the further movement of the center of the circle In F i g. 2 b ist die Schaltung für die F-Ablenkung derart festlegen, daß der Kreismittelpunkt nicht umIn Fig. 2 b the circuit for the F-deflection is set in such a way that the center of the circle is not around dargestellt. 45 den Kreisdurchmesser, sondern um kleinere Werteshown. 45 the diameter of the circle, but smaller values Die Wechselspannung Ul, die gegenüber der Span- weiterwandert. Der Unterschied von Kreisdurch-The alternating voltage Ul, which moves on compared to the span. The difference between circle diameters nung i/l um 90° phasenverschoben ist, führt über den messer und Weiterbewegung des Kreismittelpunktesvoltage i / l is phase shifted by 90 °, leads over the knife and further movement of the center of the circle Übertrager Tl, den elektronischen Umschalter Sl, das wird durch die verschiedene Größe von Wechsel- undTransmitter Tl, the electronic changeover switch Sl, which is due to the different sizes of changeover and als i?C-Glied R3, C3 ausgebildete Stabilisierungsglied Gleichstromwiderstand im Strompfad zu den Konden-stabilizing element designed as i? C element R3, C3 DC resistance in the current path to the condensate STl zu dem Integrierglied II, das aus dem i?C-Glied 50 satoren Cl bzw. CA erreicht. Dabei bewegt sich der STl to the integrating element II, which reaches from the i? C element 50 sators Cl or CA. The moves RA, CA besteht. CA liegt außerdem an der Mittelan- Kreismittelpunkt in Richtung zur Kontur hin, so daß RA, CA exists. CA is also at the center point of the circle in the direction of the contour, so that zapf ung A1 der Sekundärwicklung des Übertragers Tl. er nach einer gewissen Zeit auf der Kontur zu liegenzapf ung A1 of the secondary winding of the transformer Tl. He to lie on the contour after a certain time An CA wird die Spannung Ulb zur F-Ablenkung abge- kommt. Der Elektronenstrahl wird also durch dieThe voltage Ulb for F-deflection is coming off of CA. The electron beam is so through the nommen. Die Funktion der Schalter Sl und Sl ist bei i?C-Glieder Rl, Cl, R3, C3 an der Kontur stabilisiert. F i g. 1 bereits geschildert worden. Die gemeinsame 55took. The function of the switches Sl and Sl is stabilized at the contour in the case of i? C elements Rl, Cl, R3, C3. F i g. 1 has already been described. The common 55 Steuerung der Schalter Sl und Sl ist in der F i g. 1 Patentansprüche:Control of the switches Sl and Sl is shown in FIG. 1 claims: durch die strichpunktierte Linie angedeutet. Bei der 1. Anordnung zur optischen Abtastung vonindicated by the dash-dotted line. In the first arrangement for optical scanning of Dimensionierung der Integrierglieder muß beachtet Zeichen, bei der der Elektronenstrahl einer mit umDimensioning of the integrating elements must be observed characters in which the electron beam is one with around werden, daß R S> -V ist, wobei ω die Kreisfrequenz R 9f phasenverschobenen Wechselspannungen ge-that R S> -V, where ω is the angular frequency R 9 f phase-shifted alternating voltages coC n 60 steuerten Elektronenstrahlrohre den Konturen des coC n 60 electron beam tubes controlled the contours of the der Wechselspannungen i/l und Ul ist. Zeichens entweder von außen (Außenabtastung)the alternating voltages i / l and Ul . Character either from outside (outside scanning) Zur Erklärung der grundsätzlichen Wirkungsweise oder von innen (Innenabtastung) in aufeinander-To explain the basic mode of operation or from the inside (inside scanning) in der Schaltungen nach F i g. 2 kann man sich zunächst folgenden etwa halbkreisförmigen Bögen nachge-the circuits according to FIG. 2 one can initially look at the following roughly semicircular arcs Rl, Cl bzw. R3, C3 kurzgeschlossen denken. Der führt wird, bei der jede der beiden Wechselspan- Think of Rl, Cl or R3, C3 short-circuited. Which is leading, in which each of the two alternating Elektronenstrahl soll sich entsprechend F i g. 3 in 65 nungen mittels eines Schalters einem IntegriergliedThe electron beam should be located in accordance with FIG. 3 in 65 voltages by means of a switch to an integrator Halbkreisbögen an der Kontur eines Zeichens entlang zugeführt wird, dessen Ausgang an der X- bzw. anSemicircular arcs are fed along the contour of a character, the output of which is at the X or at in X-Richtung bewegen. Den Verlauf der Spannungen der F-Ablenkeinrichtung angeschlossen ist und beimove in the X direction. The curve of the voltages of the F-deflector is connected and at hinter den Schaltern Sl und Sl ist in F i g. 4 darge- dem der Schalter zwischen zwei Wechselspan-behind the switches Sl and Sl is in FIG. 4 shows the switch between two AC voltages nungsgeneratoren mit um 180° gegeneinander verschobener Phase umschaltet, dadurch gekennzeichnet, daß jede der beiden Wechselspannungen über je einen Übertrager (71 bzw. T2), einen der Schalter (Sl bzw. S2), der zwischen den Enden der Sekundärwicklung des Übertragers (Tl bzw. TI) hin- und herschaltet und je ein an den Schalter angeschlossenes, zur Stabilisierung dienendes, aus der Parallelschaltung eines Widerstandes (Rl bzw. RS) und eines Kondensators (Cl bzw. CS) bestehendes i?C-Glied zu einem der Integrier-voltage generators with a phase shifted by 180 °, characterized in that each of the two alternating voltages has a respective transformer (71 or T2), one of the switches (Sl or S2), which is between the ends of the secondary winding of the transformer (Tl or . TI) switches back and forth and each connected to the switch, serving for stabilization, consisting of the parallel connection of a resistor (Rl or RS) and a capacitor (Cl or CS) existing i? C element to one of the integrating glieder (/1 bzw. 12) geführt wird, das zwischen dem i?C-Glied (R2, Cl bzw. R3, CS) und der Mittelanzapfung der Sekundärwicklung des Übertragers (21 bzw. Tl) angeordnet ist, und daß die Schalter (5Ί, S2) nur dann umschalten, wenn der Elektronenstrahl in die Kontur eines Zeichens hineinläuft (Außenabtastung) oder aus ihr herausläuft (Innenabtastung).members (/ 1 or 12) , which is arranged between the i? C member (R2, Cl or R3, CS) and the center tap of the secondary winding of the transformer (21 or Tl) , and that the switch ( 5Ί, S2) only switch when the electron beam runs into the contour of a character (outside scanning) or out of it (inside scanning). 2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Integrierglied (/1 bzw. 12) aus einem i?C-Glied (Rl, Cl bzw. CA, RA) besteht.2. Arrangement according to claim 1, characterized in that the integrating element (/ 1 or 12) consists of an i? C element (Rl, Cl or CA, RA) . Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1205745B (en) * 1962-12-31 1965-11-25 Ibm Device for optical scanning of characters

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1205745B (en) * 1962-12-31 1965-11-25 Ibm Device for optical scanning of characters

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GB1224926A (en) 1971-03-10
FR1579220A (en) 1969-08-22
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