DE1521074C - Process for the electrolytic deposition of zirconium boride. Elimination from: 1226311 - Google Patents
Process for the electrolytic deposition of zirconium boride. Elimination from: 1226311Info
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- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N zirconium Chemical group [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 25
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 title claims description 25
- QXUAMGWCVYZOLV-UHFFFAOYSA-N boride(3-) Chemical compound [B-3] QXUAMGWCVYZOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 title 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 25
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M Potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 14
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N Boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 9
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 claims description 7
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 claims description 7
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M Lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OMQSJNWFFJOIMO-UHFFFAOYSA-J Zirconium tetrafluoride Chemical compound F[Zr](F)(F)F OMQSJNWFFJOIMO-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 5
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M Caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- AHLATJUETSFVIM-UHFFFAOYSA-M Rubidium fluoride Chemical compound [F-].[Rb+] AHLATJUETSFVIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 230000001427 coherent Effects 0.000 claims description 4
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 4
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 3
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 3
- ODGCEQLVLXJUCC-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroborate Chemical compound F[B-](F)(F)F ODGCEQLVLXJUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims 3
- 229910020261 KBF4 Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000000374 eutectic mixture Substances 0.000 claims 2
- AKEBROIVCDHVSD-UHFFFAOYSA-N potassium;tetrafluoroborate Chemical compound [K+].F[B-](F)(F)F AKEBROIVCDHVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N HF Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- KGJZTOFHXCFQIV-UHFFFAOYSA-N Sodium tetrafluoroborate Chemical compound [Na+].F[B-](F)(F)F KGJZTOFHXCFQIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 claims 1
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 claims 1
- 231100000078 corrosive Toxicity 0.000 claims 1
- 231100001010 corrosive Toxicity 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 claims 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 1
- -1 nickel-molybdenum-chromium Chemical compound 0.000 claims 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000047 product Substances 0.000 claims 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N Zirconium(IV) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 2
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 2
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052846 zircon Inorganic materials 0.000 description 2
- 241000723368 Conium Species 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N Hafnium Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium(0) Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon(0) Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium(0) Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
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Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum elektro- oder unter Vakuum. Das Inertgas kann bei Atmolytischen Abscheiden einer dichten zusammenhän- sphärendruck oder bei darüber oder darunter liegengenden Schicht von Zirkoniumborid aus einer Alkali- den Drücken verwendet werden, wenn es hierbei halogenide enthaltenden Schmelze in einer inerten wirklich inert ist gegenüber der Schmelze und dem Atmosphäre. 5 Zirkoniumborid. Der Behälter für die Schmelze kannThe invention relates to a method for electrical or under vacuum. The inert gas can be used at atmolytic Deposition of a dense coherent spherical pressure or when it is above or below it Layer of zirconium boride from an alkali pressure can be used when doing this Halide-containing melt in an inert is really inert to the melt and the The atmosphere. 5 zirconium boride. The container for the melt can
Es ist bekannt, Zirkonium, Hafnium, Vanadium, aus einem beliebigen Stoff bestehen, der nicht schäd-It is known that zirconium, hafnium, vanadium, consist of any substance that is not harmful
Niob, Tantal, Chrom, Molybdän oder Wolfram oder Hch auf die Schmelze oder das abgeschiedene Zir-Niobium, tantalum, chromium, molybdenum or tungsten or Hch on the melt or the deposited zirconia
Legierungen dieser Metalle elektrolytisch aus einer koniumborid wirkt und nicht durch die SchmelzeAlloys of these metals act electrolytically from a conium boride and not through the melt
Alkalihalogenide enthaltenden Schmelze in Gegen- während des Verfahrens angegriffen wird,The melt containing alkali halides is attacked during the process,
wart einer inerten Atmosphäre abzuscheiden. io Als Kathodenmaterial kann eine große Anzahl vonwaiting to be deposited in an inert atmosphere. io As the cathode material, a large number of
Es ist außerdem bekannt, bei der elektrolytischen elektrisch leitenden Stoffen und Legierungen verwen-It is also known that electrolytic electrically conductive materials and alloys are used.
Abscheidung von hochschmelzenden Metallen der det werden. Die einzige Voraussetzung für das Ka-Deposition of refractory metals of the det. The only requirement for the
IV., V. und VI. Gruppe des Periodischen Systems thodenmaterial ist, daß es nicht sehr mit der SchmelzeIV., V. and VI. Group of the Periodic Table method material is that it is not very with the melt
in einer inerten Atmosphäre zu arbeiten. reagiert und daß es selbst nicht bei oder unterhalbto work in an inert atmosphere. reacts and that it is not at or below itself
Bei diesen bekannten Verfahren erhält man die 15 der Arbeitstemperatur schmilzt. So werden z. B. be-In these known processes, the working temperature is obtained which melts. So z. B. loading
Abscheidungen in der Regel in der Form von Pul- friedigende Niederschläge erhalten auf rostfreiemDeposits usually in the form of powder - peaceful precipitates received on stainless
vem oder als dendritische schlecht zusammenhän- Stahl, Graphit, Nickel und Kupfer. In manchen Fäl-vem or as dendritic poorly connected- steel, graphite, nickel and copper. In some cases
gende Niederschläge. len ist es zweckmäßig, das Kathodenmaterial vorzu-low rainfall. len it is advisable to prepare the cathode material
Aufgabe der Erfindung ist die elektrolytische Ab- behandeln, z. B. durch Anodisieren. Die Wahl desThe object of the invention is the electrolytic treatment, z. B. by anodizing. The choice of the
scheidung von Zirkoniumborid in Form einer dich- ao Kathodenmaterials und seine Vorbehandlung hängtseparation of zirconium boride in the form of a dichroic cathode material and its pretreatment depends
ten zusammenhängenden Schicht. in jedem einzelnen Fall von verschiedenen Umstänr th contiguous layer. in each case of different circum stances r
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch ge- den ab. Dazu gehören die Form des zu überziehenlöst,
daß ein schmelzflüssiger Elektrolyt. mit 10 bis den Gegenstandes und die Toleranzen, die bei dem
90 Gewichtsprozent Kaliumfluorid, Rubidiumfluorid überzogenen Gegenstand tragbar sind. Bei Verfah-
und/oder Cäsiumfluorid, 5 bis 30 Gewichtsprozent 95 ren, bei welchen das Zirkoniumborid voja- der Kaeines
Zirkonfluorids, berechnet als einfaches Fluorid, thpde entfernt wird, empfiehlt es sich, für diese ein
5 bis 11 Gewichtsprozent Bortrifluorid, das in der Material zu wählen, das wiederverwendet werden
Schmelze als Fluoborat enthalten ist, und wenigstens kann. " ' -.
einem Fluorid eines Elementes1, das in der Span- Das abzuscheidende Zirkonium kann entweder
nungsreihe höher steht als Zirkon und Bor, verwen- 30 von der Anode oder aus der Schmelze stammen, und
det wird. die Art der zu verwendenden Anode hängt davonAccording to the invention, this object is thereby achieved. These include the form of the coating that dissolves a molten electrolyte. with 10 to the object and the tolerances that are acceptable for the 90 weight percent potassium fluoride, rubidium fluoride coated object. In the case of process and / or cesium fluoride, 5 to 30 percent by weight, in which the zirconium boride from Kaeines zirconium fluoride, calculated as simple fluoride, is removed, it is recommended that a 5 to 11 percent by weight boron trifluoride, which is in the To choose material that can be reused melt as fluoborate, and at least can. "' -.
a fluoride of an element 1, which can in the rake The deposited zirconium either row voltage is higher than zirconium and boron, verwen- 30 from the anode or from the melt, and is det. the type of anode to be used depends on it
Die Schmelze soll hierbei keine nennenswerten ab, ob die Anode oder die Schmelze das ZirkoniumThe melt should not depend on whether the anode or the melt is the zirconium
Mengen von Chloriden, Bromiden und Oxiden ent- liefern. Wenn die ,Anode die Zirkoniumquelle seinDeliver quantities of chlorides, bromides and oxides. If the, anode be the zirconium source
halten,. soll, so kann sie ganz oder zum Teil aus Zirkoniumkeep,. it can be made entirely or in part of zirconium
Mit gutem Erfolg kann eine Grundschmelze ver- 35 bestehen. Solche Anoden können z. B. die Form von wendet werden, die im wesentlichen aus einer eutek- Stäben, Platten, Kugeln haben. Wenn eine Anode aus tischen Mischung von Kaliumfluorid, Natriumfluorid Einzelteilen verwendet wird, so kann sie durch ein und Lithiumfluorid besteht. Eine solche eutektische geeignetes Netz, ζ. Β. aus Nickel, zusammengehalten Mischung besteht aus 59,05 Gewichtsprozent Ka- werden. Falls die Anode die Zirkoniumquelle ist, so liumfluorid, 11,70 Gewichtsprozent Natriumfluorid 40 kann die angewendete Spannung unterhalb der Span- und 19,25 Gewichtsprozent Lithiumfluorid und hat nung liegen, die für die Zersetzung der Schmelze ereinen Schmelzpunkt von etwa 454° C. forderlich ist. Wenn die Schmelze als Quelle für dasA base melt can exist with good success. Such anodes can e.g. B. the form of which essentially consist of a eutek rods, plates, balls. When an anode is off table mixture of potassium fluoride, sodium fluoride individual parts is used, so they can through a and lithium fluoride. Such a eutectic suitable network, ζ. Β. made of nickel, held together Mixture consists of 59.05 percent by weight of Ka- be. If the anode is the zirconium source, so lium fluoride, 11.70 percent by weight sodium fluoride 40, the applied voltage can be below the span and 19.25 percent by weight lithium fluoride and has voltage which is necessary for the decomposition of the melt Melting point of about 454 ° C. is required. If the melt as a source for the
Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es abzuscheidende Zirkoniumborid dient, so kann;«ine möglich, Zirkoniumborid in der Form von dichten unlösliche oder lösliche Anode oder eine Wasserfeinkörnigen zusammenhängenden und duktilen Nie- 45 Stoffelektrode verwendet werden. Man kann eine uiiderschlägen abzuscheiden. Die so erhaltenen Nieder- lösliche Anode, z. B. aus Graphit oder Kohlenstoff, schlage können im Bedarfsfalle von der Unterlage bei der Zersetzung solcher Verbindungen verwenden, abgelöst und in an sich bekannter Weise verformt in welchem das Zirkonium in der höchsten Wertig- oder verarbeitet werden. ; keit vorliegt. Bei Verwendung einer unlöslichenAccording to the process according to the invention it is used to deposit zirconium boride, so it is possible to use zirconium boride in the form of a dense insoluble or soluble anode or a fine-grained, coherent and ductile nickel-material electrode. One can deposit an ooze. The low-solubility anode obtained in this way, e.g. B. made of graphite or carbon, can, if necessary, use the base in the decomposition of such compounds, detached and deformed in a manner known per se in which the zirconium is processed in the highest valency or. ; is present. When using an insoluble
Die zu verwendenden Arbeitstemperaturen und 50 Anode muß die Spannung wenigstens ebenso hoch kathodischen Stromdichten hängen von der Zusam- sein wie das Zersetzungspotential der Schmelze. Das mensetzung der Schmelze ab. Im allgemeinen arbeitet Zirkoniumborid kann unabhängig von der Wertigman bei einer Temperatur von 700 bis 900° C, vor- keit, in welcher das Zirkonium vorliegt, bei Verwenzugsweise bei 775 bis 875° C, und bei einer katho- dung einer Wasserstoffelektrode oder bei Verwendischen Stromdichte von 5 bis 350, vorzugsweise 150 35 dung einer Anode erhalten werden, die ein aktives bis 200 mA/cm2. Metall, und zwar Lithium, Natrium, Kalium, Ma-The working temperatures to be used and the anode, the voltage must depend on the composition at least as high as the cathodic current densities as the decomposition potential of the melt. The composition of the melt. In general, zirconium boride can work independently of the value at a temperature of 700 to 900 ° C., at which the zirconium is present, when used at 775 to 875 ° C., and when a hydrogen electrode is cathodized or when current density is used from 5 to 350, preferably 150 35 formation of an anode can be obtained which has an active up to 200 mA / cm 2 . Metal, namely lithium, sodium, potassium, ma
Das Schmelzbad sollte 5 bis 30 Gewichtsprozent gnesium, Calcium und/oder Aluminium enthält. IrThe weld pool should contain 5 to 30 percent by weight of magnesium, calcium and / or aluminum. Ir
Zirkoniumfluorid enthalten. Diese Konzentration diesen Fällen braucht die Spannung nicht so hochContain zirconium fluoride. This concentration in these cases does not need the tension so high
sollte während des ganzen Abscheidens aufrecht ge- zu sein wie das Zersetzungspotential der Schmelzeshould be upright during the entire deposition, like the decomposition potential of the melt
halten werden. 60 sie muß nur genügen, um den Widerstand des Elekwill hold. 60 it only has to be sufficient to withstand the resistance of the Elek
Nach dem Verfahren der Erfindung kann Zirko- trolyten und die sehr geringe Polarisation der Elek-According to the method of the invention, zirconia and the very low polarization of the elec-
nium aus der Verbindung ausgeschieden werden, in trode zu überwinden. Verwendet man eine Anodinium can be excreted from the compound, in trode to be overcome. If you use an anodi
welcher es in seiner höchsten unter den vorliegenden aus einem aktiven Metall, so wird die Schmelze durclwhichever is the highest among those present from an active metal, the melt is thrown through
Bedingungen möglichen Wertigkeit vorliegt, d. h. als das Fluorid des aktiven Metalls, das sich an deConditions possible valence, d. H. than the fluoride of the active metal, which is de
4-wertiges Zirkon. 65 Anode bildet, und durch Abscheidung des Zirko4-value zircon. 65 forms anode, and by deposition of the zircon
Die elektrolytische Abscheidung sollte in einer niumborids an der Kathode allmählich verdünnt; füThe electrodeposition should be gradually diluted in a nium boride on the cathode; for
inerten, nicht oxydierenden Atmosphäre durch- ein kontinuierliches Arbeiten ist es aber am besteninert, non-oxidizing atmosphere, but it is best to work continuously
geführt werden, z. B. unter Argon, Neon oder Helium die Schmelze umlaufen zu lassen, und aus ihr außerbe performed, e.g. B. to circulate the melt under argon, neon or helium, and from her except
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