DE1278037B - Optischer Sender mit einer Halbleiterdiode als stimulierbarem Medium - Google Patents
Optischer Sender mit einer Halbleiterdiode als stimulierbarem MediumInfo
- Publication number
- DE1278037B DE1278037B DEJ24771A DEJ0024771A DE1278037B DE 1278037 B DE1278037 B DE 1278037B DE J24771 A DEJ24771 A DE J24771A DE J0024771 A DEJ0024771 A DE J0024771A DE 1278037 B DE1278037 B DE 1278037B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- semiconductor diode
- optical transmitter
- active layer
- zone
- semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
- H01S5/32—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/1071—Ring-lasers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Led Devices (AREA)
Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND DEUTSCHES ^t^SfSS PATENTAMT
Int. Cl.:
HOIs
AUSLEGESCHRIFT
Deutsche KL: 21g-53/08
Nummer: 1278 037
Aktenzeichen: P 12 78 037.9-33 (J 24771)
Anmeldetag: 22. November 1963
Auslegetag: 19. September 1968
Die Erfindung betrifft einen optischen Sender mit Halbleiterdiode als stimulierbarem Medium, deren
PN-Übergang zur unmittelbaren Umwandlung elektrischer Energie in Lichtenergie mit einem Gleichstrom
oberhalb eines Schwellenwertes in Durchlaßrichtung belastet wird und deren optisch ebene, in
einem Winkel von 90° zur PN-Übergangsebene verlaufende Stirnflächen so angeordnet sind, daß eine
innere Totalreflexion herbeigeführt wird. Unter optisch ebenen Flächen werden dabei Oberflächen
verstanden, deren Rauheit mit optischen Mitteln nicht mehr feststellbar ist, wie es z. B. bei Kristallspaltflächen
der Fall ist.
Bekanntlich ergibt sich bei einem solchen optischen Sender für einen Gleichstrom, dessen Wert oberhalb
des genannten Schwellenwertes liegt, eine scharfe Einengung der Emissionslinienbreite und damit verbunden
eine Intensitätssteigerung in der stimulierten Strahlung, da in diesem Fall die Verluste im Halbleiter
nahezu vollständig kompensiert werden.
Die Aufgabe der Erfindung besteht unter Herabdrücken des genannten Schwellenwertes zur Anregung
stimulierter Strahlung auf einen Minimalwert darin, voneinander unabhängige stimulierte Ausgangsstrahlen
unterschiedlicher Wellenlänge gleichzeitig zu erzeugen.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß der Querschnitt der Halbleiterdiode in der PN-Übergangsebene
ein regelmäßiges Sechseck darstellt und daß mindestens einer Stirnfläche Mittel zur
Unterdrückung der inneren Totalreflexion und damit zur Auskopplung stimulierter Strahlung zugeordnet
,sind bzw. zugeordnet werden können.
Die Auskopplungsmittel lassen sich auf verschiedene Art und Weise verwirklichen. So können entweder
Nuten oder Rippen senkrecht zum PN-Übergang verlaufend auf den entsprechenden Stirnflächen
angeordnet sein oder aber auch ein Prisma mit einer Stirnfläche im Abstand von etwa einer Wellenlänge
von einer Stirnfläche der Halbleiterdiode angeordnet sein, wobei dessen Formgebung für die Auskopplung
der Ausgangsstrahlung in einem vorgegebenen Flächenbereich geeignet ist.
Die Erfindung soll nunmehr an Hand von Ausführungsbeispielen mit Hilfe der Zeichnungen näher
erläutert werden. Es zeigt
F i g. 1 einen optischen Sender mit einer Halbleiterdiode als stimulierbarem Medium im Querschnitt,
F i g. 2 das Muster der Ausbreitungswege bei innerer Totalreflexion bei einer Halbleiterdiode mit
einer einfachen Querschnittsform,
Optischer Sender mit einer Halbleiterdiode als
stimulierbarem Medium
stimulierbarem Medium
Anmelder:
International Business Machines Corporation,
Armonk,N.Y. (V. St. A.)
Vertreter:
Dipl.-Ing. R. Busch, Patentanwalt,
7030 Böblingen, Sindelfinger Str. 49
Als Erfinder benannt:
Frederick Hayes Dill, Putnam Valley, N. Y.;
Richard Frederick Rutz, Cold Spring, N. Y.;
Peter Pitirimovich Sorokin, Ossining, N. Y.
(V. St. A.)
Richard Frederick Rutz, Cold Spring, N. Y.;
Peter Pitirimovich Sorokin, Ossining, N. Y.
(V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 30. November 1962 (241389)
F i g. 3 eine Halbleiterdiode als stimulierbares Medium, wobei einer Stirnfläche ein Auskopplungsmittel
zugeordnet ist,
F i g. 4 mögliche Ausbreitungswege in einer HaIbleiterdiode,
die gemäß der Erfindung einen hexagonalen Querschnitt aufweist.
Der optische Sender nach F i g. 1 besteht aus einem Halbleiterkristall 10 mit einem PN-Übergang 12, der
eine P-Zone 14 von einer N-Zone 15 trennt, wobei die Zonen 14 und 15 mindestens ähnliche Brechungsindizes
besitzen. Eine erste Elektrode oder ein ohmscher Kontakt 18, der aus Indium besteht, befindet
sich auf der P-Zone 14, und eine zweite Elektrode oder ein ohmscher Kontakt 20, der aus mit GoIdantimon
plattiertem Kovar (54 Fe; 27 Ni; 19 Co) bestehen kann, befindet sich auf der N-Zone 16. Die
Elektroden 18 und 20 sind vorzugsweise Metallbleche, die ebene Flächen bilden und parallel zueinander
verlaufen. Die Halbleiterdiode ist so aufgebaut, daß die Ebene des PN-Überganges (Fig. 1) parallel
zu den Ebenen der Elektroden 18 und 20 liegt und alle anderen Grenzflächen 22, 24, 26, 28 des Halbleiterkristalls
10 (F i g. 2) zur Vereinfachung der Darstellung in Ebenen liegen, die miteinander einen
Winkel von 90° bilden und optisch eben sind.
Die einander gegenüberliegenden Flächen 22 und und die gegenüberliegenden Flächen 26 und 28
809 617/446
3 4
können durch bekannte Verfahren, z. B. durch Wird angenommen, daß die Strahlen des in F i g. 2
Schleifen und Polieren, optisch eben und parallel zu- gezeigten Weges 21 einen Einfallswinkel von 45°
einander gemacht werden, oder aber vorzugsweise haben und 45° größer als der kritische Winkel für
auch durch ein an anderer Stelle vorgeschlagenes das Material der aktiven Schicht 25 ist, dann wird
Spaltverfahren. Nach der Spaltung ergeben sich 5 der Strahl im Innern des Halbleiters mit nur geringem
kristalline Formen mit optisch ebenen Flächen sehr oder überhaupt keinem Energieverlust reflektiert,
hoher Präzision, genauen geometrischen Abmes- Wenn dagegen die Strahlen im Innern auf die Resungen
und Abständen. Die Spaltung erfolgt in der flexionsflächen mit einem Winkel auffallen, der
Weise, daß der Kristall zunächst auf einer groß- kleiner als der kritische Winkel ist, dann werden sie
flächigen kristallographischen Ebene aufgelegt wird, io teilweise aus der aktiven Schicht 25 hinaus abgedie
senkrecht zu einer kristallographischen Ebene strahlt. Wenn Strahlen im Innern mit einem Winkel
mit minimaler Bindungskraft verläuft, und daß dann auftreffen, der nur wenig größer als der kritische
auf den Kristall längs der kristallographischen Ebene Winkel ist, dann gleicht die reflektierte Amplitude
minimaler Bindungskraft eine Spaltkraft ausgeübt nahezu der Einfallsamplitude,
wird. Soll ein rechteckiger Quader-Kristallkörper aus 15 Aus F i g. 2 geht hervor, daß die dem Weg 21 Galliumarsenid gebildet werden, dann wird der folgenden Strahlen, die einen Einfallswinkel von 45° Galliumarsenid-Kristallkörper parallel zu seiner (100) haben, der größer als der kritische Winkel für das kristallographischen Ebene aufgelegt und eine Kraft Halbleitermaterial der aktiven Schicht 25 ist, nachsenkrecht zur (lOO)-Ebene entlang der kristallo- einander von jeder der Flächen 22, 24, 26 und 28 graphischen (HO)-Ebene des Kristalls ausgeübt. 20 reflektiert werden. Da nun auf diesem Weg nur ein
wird. Soll ein rechteckiger Quader-Kristallkörper aus 15 Aus F i g. 2 geht hervor, daß die dem Weg 21 Galliumarsenid gebildet werden, dann wird der folgenden Strahlen, die einen Einfallswinkel von 45° Galliumarsenid-Kristallkörper parallel zu seiner (100) haben, der größer als der kritische Winkel für das kristallographischen Ebene aufgelegt und eine Kraft Halbleitermaterial der aktiven Schicht 25 ist, nachsenkrecht zur (lOO)-Ebene entlang der kristallo- einander von jeder der Flächen 22, 24, 26 und 28 graphischen (HO)-Ebene des Kristalls ausgeübt. 20 reflektiert werden. Da nun auf diesem Weg nur ein
Die Elekrtroden 18 und 20 sind in geeigneter geringer oder gar kein Energieverlust stattfindet,
Weise über einen veränderbaren Reihenwiderstand bildet die aktive Schicht 25 ein hohes Q für Strahlen
32 und einen Schalter 34 an eine Energiequelle, die längs dieses Weges 21. Schließlich ist aus F i g. 2 erals
Batterie 30 dargestellt ist, angeschlossen, um wahl- sichtlich, daß es viele andere gleichwertige Wege,
weise eine Vorspannung in Durchlaßrichtung an den 25 z. B. die Wege 21 λ und 21 b, gibt, die parallel zum
PN-Übergang 12 anlegen zu können, so daß eine Weg 21 verlaufen und längs denen sich Strahlen aus-Stromdichte
erzielt werden kann, die über der Strom- breiten, bei denen der Einfallswinkel der gleiche ist.
dichteschwelle der verwendeten Halbleiterdiode liegt. Durch Injizieren einer aureichenden Stromdichte
Im Betriebszustand der in F i g. 1 gezeigten Vor- der Ladungsträger durch die aktive Schicht 25 werden
richtung werden beim Schließen des Schalters 34 in- 30 also zunächst stehende Wellen einer Eigenschwingung
folge injizierter Ladungsträger Photonen in einer in der aktiven Schicht 25 entsprechend dem in F i g. 2
relativ dünnen aktiven Schicht 25 erzeugt, deren gezeigten Muster gebildet, so daß dann eine stimu-Oberseite
27 allgemein innerhalb des P-Bereichs liegt, lierte Strahlungsemission stattfinden kann. Natürlich
deren Unterseite praktisch mit dem PN-Übergang 12 haben auch andere Eigenschwingungen als die in
zusammenfällt und deren Seitenflächen mit 22, 24, 26 35 F i g. 2 durch die Wege 21, 21a und 21 b angedeute-
und 28 bezeichnet sind. Die in der aktiven Schicht 25 ten das Bestreben, sich in der aktiven Schicht 25 auserzeugten
Photonen wandern von ihren Ursprungs- zubreiten, aber keine dieser anderen Wellentypen ist
punkten aus in viele verschiedene Richtungen und imstande, eine stimulierte Strahlungsemission bei
haben das Bestreben, in den verschiedenen Richtun- einer so niedrigen Stromdichteschwelle der Ladungsgen Eigenschwingungen auszubilden. Vor allen 40 träger hervorzurufen, bei der eine stimulierte Strah-Dingen
wird jedoch die Eigenschwingung bevorzugt, lungsemission durch die den Wegen 21, 21a und 21 &
die durch einen mit dem höchsten ß-Wert für die nach F i g. 2 entsprechenden Eigenschwingungen beGüte
wirkenden Resonator bedingt ist, um eine stimu- wirkt wird.
lierte Strahlungsemission hervorzurufen. Der Wert Q Weiterhin ergibt sich, daß sich z. B. auch eine
ist ja proportional dem Verhältnis des Energie- 45 Eigenschwingung zwischen den Flächen 22 und 24
inhalts der Lichtstrahlen zum Energieverlust pro auszubreiten versucht, wie es durch die horizontale
Volumeinheit des Halbleiters. Strahlen, die im Halb- Linie 23 angedeutet ist. Da jedoch die Flächen 22
leiter nur eine kurze Strecke zurücklegen, bevor sie und 24 in diesem Falle nur etwa 30 bis 40°/o des
in das die aktive Schicht 25 umgebende Medium ein- einfallenden Lichtes reflektieren, treten zwangläufig
treten, lösen nicht sofort eine stimulierte Strahlungs- 50 so hohe Verluste auf, daß hierfür nur ein Resonator
emission aus, so daß sich für diese Strahlen ein nied- mit sehr niedrigem Q zur Verfügung steht. Aus ähnriges
Q ergibt. In einem Halbleiter des in F i g. 1 ge- liehen Gründen bilden auch die Flächen 26 und 28
zeigten Typs treffen sehr viele Strahlen auf die im entsprechenden Zusammenwirken nur einen Reso-Flächen
12, 22, 24, 26, 27 und 28 der aktiven Schicht nator mit sehr niedrigem Q. Es ist dabei zu beachten,
25 mit Winkeln auf, die größer oder kleiner sind als 55 daß, nachdem einmal bei einer ersten Eigenschwinder
durch die relativen Brechungsindizes der aktiven gung eine stimulierte Strahlungsemission hervor-Schicht25
und des diese Schicht 25 umgebenden gerufen ist, ein großer Teil der dem stimulierbaren
Materials definierte kritische Winkel für die Total- Medium zugeführten Anregungsenergie nun dazu
reflxion. Aus F i g. 2 geht hervor, daß, wenn der verwendet wird, diese Eigenschwingung aufrechtzu-Strahl
einem durch die dicke Linie 21 dargestellten 60 erhalten, so daß sich dann für andere mögliche Eigen-Weg
folgt und der Einfallswinkel des Strahls größer schwingungen nur unter äußerst schwierigen Bedinals
der kritische Winkel ist, die aktive Schicht 25 ein gungen stimulierte Strahlungsemission anregen läßt,
hohes Q für die dem Weg 21 folgenden Strahlen Da, wie schon erwähnt, die P-Zone und die
bildet, da die Strahlen an jeder der vier Flächen der N-Zone aus Materialien nahezu gleichen Brechungsaktiven
Schicht 25 total reflektiert werden, wenn die 65 indexes bestehen, können Eigenschwingungen, die
Flächen 22, 24, 26 und 28 optisch eben sind und den sich auf den Wegen 21, 21« und 21 & ausbreitenjede
mit der an sie angrenzenden Fläche einen Winkel den gleichen, aber sich in einer hierzu senkrechten
von 90° einschließt. Ebene ausbilden, ebenfalls nur unter äußerst ungün-
stigen Bedingungen aufrechterhalten werden, da ihre Energie in inaktive Bereiche des Halbleiters 10 abwandert,
nämlich in die P-Zone 14 oberhalb der Fläche 27 und in die N-Zone 15 unterhalb des PN-Übergangs
12, wo sie alsbald absorbiert wird.
Zur Erläuterung ist oben eine Halbleiterdiode als stimulierbares Medium mit quadratischem, horizontalem
Querschnitt beschrieben worden. Es versteht sich aber, daß auch andere derartige Querschnittsformen verwendet werden können, um durch innere
Totalreflexion gebildete Wellentypen auszunutzen. Um jedoch die Zahl der sich bildenden möglichen
Wellentypen in jedem Falle so klein wie möglich zu halten, muß sich der Brechungsindex Ti1 des Halbleiters
stets nach folgender Beziehung richten:
H1 =
sin
worin iV gleich der Anzahl der Seiten des Vielecks ist. Wenn die aktive Schicht 25 des Halbleiters mit
dem Brechungsindex Ti1 von einem Medium umgeben
ist, das den Brechungsindex n2 hat, ergibt sich dann
für das Verhältnis — die Beziehung:
sin
1 —
Die aktive Schicht 25 des in F i g. 1 und 2 gezeigten optischen Halbleitersenders ist für die in Betracht
kommenden Eigenschwingungen als Resonator mit hohem Q angenommen worden. Durch geeignete
Maßnahmen kann die in der aktiven Schicht 25 (Fig. 1 und 2) erzeugte kohärente Strahlung aus
einer Oberfläche der Schicht 25 ausgekoppelt werden. Dies läßt sich durch eine »Störung« herbeiführen,
die z. B. in Form einer Rippe auf der Stirnfläche der aktiven Schicht oder einer Nut bzw. Kerbung hierin
vorgesehen werden kann, um die Strahlung in das umgebende Medium in an sich bekannter Art und
Weise leiten zu können. Die kohärente Strahlung kann aber auch aus einer aktiven Schicht 38 eines
optischen Halbleitersenders (s. F i g. 3) ausgekoppelt werden, indem im Abstand von etwa einer Wellenlänge
von deren einer Stirnfläche ein Prisma 40 aus optischem Material angebracht wird, dessen Brechungsindex
etwa dem der aktiven Schicht 38, z. B. Galliumarsenid, entspricht und dessen geometrische
Gestalt so beschaffen ist, daß die hier durch gerichtete Strahlung ein kohärentes Strahlenbündel 42 der
stimulierten Ausgangsstrahlung an dem hierfür vorgesehenen Stirnflächenteil bereitstellt.
In F i g. 4 schließlich ist der erfindungsgemäß ausgebildete optische Halbleitersender mit einer aktiven
Schicht 44 regelmäßigen sechseckigen Querschnitts dargestellt, wo sich gleichzeitig drei besondere, total
reflektierte Eigenschwingungen ausbilden können. Die erste durch eine gestrichelte Linie 46 angedeutete
Eigenschwingung wird an jeder Stirnfläche der aktiven Schicht 44 total reflektiert, die zweite durch die
gestrichelte Linie 48 angedeutete Eigenschwingung wird an nur drei eine über die andere folgenden
Stirnflächen der aktiven Schicht 44 total reflektiert, und die dritte, durch die strichpunktierte Linie 50
angedeutete Eigenschwingung wird an den restlichen
ίο drei eine über die andere folgenden Stirnflächen der
aktiven Schicht 44 total reflektiert. Die Eigenschwingung 46 kann durch eine jeweilige Einkerbung an
entsprechenden Ecken des Hexagons, die die Bahn 46 unterbrechen, unterdrückt werden, so daß dann die
Eigenschwingungen 48 und 50 begünstigt werden. Weiterhin hat sich gezeigt, daß die zweite und die
dritte Eigenschwingung 48 und 50 optisch voneinander unabhängig sind und daher jede dieser Eigenschwingungen
für sich aus dem in F i g. 4 gezeigten
ao optischen Halbleitersender ausgekoppelt werden kann, indem z. B. zwei optische Auskopplungsteile
der in F i g. 3 gezeigten Art benutzt werden.
Claims (3)
1. Optischer Sender mit einer Halbleiterdiode als stimulierbarem Medium, deren PN-Übergang
zur unmittelbaren Umwandlung elektrischer Energie in Lichtenergie mit einem Gleichstrom
oberhalb eines Schwellenwertes in Durchlaßrichtung belastet wird und deren optisch ebene,
in einem Winkel von 90° zur PN-Übergangsebene verlaufende Stirnflächen so angeordnet sind, daß
eine innere Totalreflexion herbeigeführt wird, dadurchgekennzeichnet, daß der Querschnitt
der Halbleiterdiode in der PN-Übergangsebene ein regelmäßiges Sechseck darstellt und
daß mindestens einer Stirnfläche Mittel zur Unterdrückung der inneren Totalreflexion und damit
zur Auskopplung der stimulierten Strahlung zugeordnet sind bzw. zugeordnet werden können.
2. Optischer Sender oder Verstärker nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß an der
P-Zone eine ohmsche Elektrode aus Indium an der N-Zone eine mit Goldantimon plattierte
ohmsche Elektrode aus Kovar (54 Fe; 27 Ni; 19 Co) angeschlossen ist.
3. Anordnung mindestens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleiterdiode
aus zinkdotiertem Galliumarsenid besteht.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Französische Patentschriften Nr. 1 298 106,
1301101;
Französische Patentschriften Nr. 1 298 106,
1301101;
USA.-Patentschrift Nr. 3 059 117;
Electronics vom 10. 8.1962, S. 7;
Electronics vom 10. 8.1962, S. 7;
Journal of Applied Physics, Bd. 34, Nr. 1, 1963, S. 235 bis 236;
Physical Review Letters, Bd. 9, Nr. 9, vom 1.11. 1962, S. 366 bis 368.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
809 617/446 9.68 © Bundesdruckerei Berlin
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US241389A US3248671A (en) | 1962-11-30 | 1962-11-30 | Lasers utilizing internal reflection techniques |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1278037B true DE1278037B (de) | 1968-09-19 |
Family
ID=22910519
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEJ24771A Pending DE1278037B (de) | 1962-11-30 | 1963-11-22 | Optischer Sender mit einer Halbleiterdiode als stimulierbarem Medium |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3248671A (de) |
AT (1) | AT264584B (de) |
DE (1) | DE1278037B (de) |
GB (1) | GB995715A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3632585A1 (de) * | 1985-09-28 | 1987-04-02 | Sharp Kk | Halbleiterlaser |
DE3802404A1 (de) * | 1988-01-28 | 1989-08-03 | Licentia Gmbh | Halbleiterlaser |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3361987A (en) * | 1963-11-29 | 1968-01-02 | United Aircraft Corp | Poly-sided folded path laser |
NL135100C (de) * | 1964-01-27 | |||
US3300671A (en) * | 1964-03-10 | 1967-01-24 | Gen Electric | Surface-adjacent junction electroluminescent device |
US3478277A (en) * | 1964-06-24 | 1969-11-11 | Bell Telephone Labor Inc | Optical mode selector |
US3390606A (en) * | 1965-03-01 | 1968-07-02 | Honeywell Inc | Control apparatus |
US3415602A (en) * | 1966-01-14 | 1968-12-10 | Philips Corp | Internal reflection element for micro-sample analysis |
US3480877A (en) * | 1966-03-23 | 1969-11-25 | Bell Telephone Labor Inc | Solid state laser |
US3537028A (en) * | 1967-10-23 | 1970-10-27 | Rca Corp | Confocal semiconductor diode injection laser |
US3605037A (en) * | 1969-05-02 | 1971-09-14 | Bell Telephone Labor Inc | Curved junction laser devices |
US3786907A (en) * | 1971-09-22 | 1974-01-22 | H Muncheryan | Laser eraser for a typewriter |
US3760297A (en) * | 1972-01-20 | 1973-09-18 | Int Standard Electric Corp | Laser to optical fiber coupling |
JPS5021686A (de) * | 1973-06-25 | 1975-03-07 | ||
US3969686A (en) * | 1975-03-26 | 1976-07-13 | Xerox Corporation | Beam collimation using multiple coupled elements |
EP0001393A3 (de) * | 1977-08-25 | 1979-12-12 | Charles R. Henry | Ein System zur Verteilung, Übertragung, Detektion, Sammlung oder Modulation sich ausbreitender Energie und/oder Energiefelder |
AU595277B2 (en) * | 1985-10-04 | 1990-03-29 | Electro Optic Systems Pty Limited | Laser apparatus |
US4756002A (en) * | 1986-06-23 | 1988-07-05 | Mcdonnell Douglas Corporation | Laser diode coupler |
US4870654A (en) * | 1987-05-22 | 1989-09-26 | California Laboratories, Inc. | Generation of multiply folded optical paths |
US4924476A (en) * | 1987-12-04 | 1990-05-08 | Cornell Research Foundation, Inc. | Traveling wave semi-conductor laser |
JP2713745B2 (ja) * | 1988-11-16 | 1998-02-16 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光励起固体レーザー |
US4955034A (en) * | 1989-03-01 | 1990-09-04 | Electro-Optics Technology, Inc. | Planar solid state laser resonator |
CA2068899C (en) * | 1991-09-17 | 1997-06-17 | Samuel Leverte Mccall | Whispering mode micro-resonator |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1298106A (fr) * | 1960-10-25 | 1962-07-06 | Western Electric Co | Dispositif optique |
FR1301101A (fr) * | 1960-10-25 | 1962-08-10 | Western Electric Co | Dispositif optique |
US3059117A (en) * | 1960-01-11 | 1962-10-16 | Bell Telephone Labor Inc | Optical maser |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3158746A (en) * | 1960-12-27 | 1964-11-24 | Sprague Electric Co | Light modulation in a semiconductor body |
US3153691A (en) * | 1962-04-12 | 1964-10-20 | Bell Telephone Labor Inc | Light modulator |
-
1962
- 1962-11-30 US US241389A patent/US3248671A/en not_active Expired - Lifetime
-
1963
- 1963-11-18 GB GB45355/63A patent/GB995715A/en not_active Expired
- 1963-11-22 AT AT940063A patent/AT264584B/de active
- 1963-11-22 DE DEJ24771A patent/DE1278037B/de active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3059117A (en) * | 1960-01-11 | 1962-10-16 | Bell Telephone Labor Inc | Optical maser |
FR1298106A (fr) * | 1960-10-25 | 1962-07-06 | Western Electric Co | Dispositif optique |
FR1301101A (fr) * | 1960-10-25 | 1962-08-10 | Western Electric Co | Dispositif optique |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3632585A1 (de) * | 1985-09-28 | 1987-04-02 | Sharp Kk | Halbleiterlaser |
US4792962A (en) * | 1985-09-28 | 1988-12-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | A ring-shaped resonator type semiconductor laser device |
DE3802404A1 (de) * | 1988-01-28 | 1989-08-03 | Licentia Gmbh | Halbleiterlaser |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB995715A (en) | 1965-06-23 |
AT264584B (de) | 1968-09-10 |
US3248671A (en) | 1966-04-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1278037B (de) | Optischer Sender mit einer Halbleiterdiode als stimulierbarem Medium | |
DE68910369T2 (de) | Phasengekoppeltes Halbleiterlaser-Array unter Verwendung nahe beieinanderliegender Wellenleiter mit negativem Brechungsindex. | |
DE3125847A1 (de) | Halbleiter-laser | |
DE2540159A1 (de) | Diodenlaser mit integriertem gitter- ausgangskoppler | |
DE2711293A1 (de) | Diodenlaser | |
DE69030148T2 (de) | Optische Halbleitervorrichtung | |
DE1764878C3 (de) | Laseranordnung zur Informationspeicherung mit mindestens drei stabilen Zuständen | |
DE2518567A1 (de) | Laserverstaerkersystem mit mehrfachdurchgang | |
DE1464711C3 (de) | Diodenlaser | |
DE2607708A1 (de) | Laserdiode mit verteilter rueckkopplung | |
DE69211737T2 (de) | Nichtlineare halbleitende optische Vorrichtung mit verbessertem Signal-Rausch-Verhältnis | |
DE2556850C2 (de) | Heteroübergangs-Diodenlaser | |
DE2447536C2 (de) | Halbleiterlaser | |
DE112016007396T5 (de) | Sättigbarer Absorptionsspiegel aus Verbundstruktur | |
DE1191040B (de) | Optischer Sender oder Verstaerker mit Halbleiterdiode, die einen in Flussrichtung belasteten PN-UEbergang zur Injektion von Ladungstraegern aufweist | |
DE1292768B (de) | Anordnung zur inneren Modulation der Strahlung eines quantenmechanischen Senders | |
EP0045862A1 (de) | Halbleiterlaser | |
DE69017415T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur elektrooptischen Modulation unter Benutzung des niederenergetischen schrägen Überganges in einem stark gekoppelten Übergitter. | |
DE2205728C3 (de) | Aus einem mehrschichtigen Halbleiterkörper bestehendes optisches Bauelement | |
DE69210848T2 (de) | Wellenleiter-elektrooptische Vorrichtung | |
DE69609637T2 (de) | Halbleiter-Quantentopfstruktur und Halbleiteranordnung, die dieselbe Struktur enthält | |
DE2843011A1 (de) | Beugungsbegrenzter laseroszillator | |
DE2164827A1 (de) | Halbleiterlaser | |
DE69204525T2 (de) | Wellenmodulator und optischer Detektor mit Quantenpotentialtöpfen. | |
DE1541413A1 (de) | Elektrischer Schockwellenleiter nach dem Gunn-Effekt |