DE1234873B

DE1234873B - Method of manufacturing a photocathode

Info

Publication number: DE1234873B
Application number: DE1952Z0003156
Authority: DE
Inventors: Dr-Ing Martin Ploke
Original assignee: Zeiss Ikon AG
Current assignee: Zeiss Ikon AG
Priority date: 1952-12-13
Filing date: 1952-12-13
Publication date: 1967-02-23

Description

Verfahren zur Herstellung einer Photokathode Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Photokathode, die aus einer Legierung oder intermetallischen Verbindung von Antimon oder Wismut mit einem Alkalimetall besteht, bei dem zunächst eine Antimon- oder Wismut-Schicht auf eine Unterlage aufgebracht wird und dann die Unterlage mit der Schicht der Einwirkung eines Alkalimetalls ausgesetzt wird.Method of Making a Photocathode The invention relates to a method of manufacturing a photocathode made of alloy or intermetallic There is a compound of antimony or bismuth with an alkali metal, in which initially an antimony or bismuth layer is applied to a base and then the Underlay with the layer is exposed to the action of an alkali metal.

Derartige Verfahren sind bekannt. Als Metall geringer Leitfähigkeit wird Antimon oder Wismut verwendet. Die zweite Legierungskomponente kann beispielsweise aus Cäsium bestehen. Bekanntlich weisen die Alkalimetalle ein besonders großes Atomvolumen auf, was zur Folge hat, daß die Durchmischung mit dem Metall geringer Leitfähigkeit nicht vollständig ist, so daß die Legierung weniger Alkalimetall enthält, als zur Herstellung einer Photozelle hoher Empfindlichkeit erforderlich ist. Die Ursache dieser geringeren Aufnahmefähigkeit ist darin zu sehen, daß sie bei den bisher üblichen Auftragsverfahren als dichte, metallisch glänzende Schicht erhalten wird.Such methods are known. As a metal of low conductivity antimony or bismuth is used. The second alloy component can, for example consist of cesium. It is known that the alkali metals have a particularly large atomic volume on, which has the consequence that the mixing with the metal of low conductivity is not complete, so that the alloy contains less alkali metal than for Manufacture of a photocell of high sensitivity is required. The cause this lower capacity is to be seen in the fact that it is common to the hitherto usual Application method is obtained as a dense, shiny metallic layer.

Um die Aufnahmefähigkeit der Metallschicht der Photokathode zu erhöhen, wird gemäß der Erfindung die Antimon- oder Wismut-Schicht in einer inerten Atmosphäre bei einem Druck von 0,1 bis 30 mm Hg auf die Unterlage aufgedampft. Die Gasatmosphäre kann z. B. aus Argon, aus einem Gemisch aus Argon und Wasserstoff oder aus Wasserstoff allein bestehen.To increase the absorption capacity of the metal layer of the photocathode, According to the invention, the antimony or bismuth layer is in an inert atmosphere vapor-deposited onto the substrate at a pressure of 0.1 to 30 mm Hg. The gas atmosphere can e.g. B. from argon, from a mixture of argon and hydrogen or from hydrogen exist alone.

Die Aufnahmefähigkeit der Metallschicht der Photokathode kann auch durch ein elektrolytisches Auftragsverfahren erhalten werden, und zwar gemäß der Erfindung dadurch, daß die Antimon- oder Wismut-Schicht durch die Elektrolyse bei einer Stromdichte von mehr als 0,05 A/cm2 auf die Unterlage aufgebracht wird.The absorption capacity of the metal layer of the photocathode can also can be obtained by an electrolytic deposition process according to FIG Invention in that the antimony or bismuth layer by the electrolysis a current density of more than 0.05 A / cm2 is applied to the substrate.

Mit den beschriebenen Verfahren können Photozellen mit einer wesentlich höheren Empfindlichkeit hergestellt werden als bisher; ihre Aktivierungszeit wird durch diese Maßnahmen verkürtzt, so daß sich diese Verfahren für eine Massenproduktion von Photozellen besonders eignen.With the methods described, photocells with a significantly higher sensitivity can be produced than before; their activation time will be shortened by these measures, so that these processes are suitable for mass production photocells are particularly suitable.

Claims

Claims: 1. Method for producing a photo cathode, those made of an alloy or intermetallic compound of antimony or bismuth with an alkali metal, which initially has an antimony or bismuth layer is applied to a base and then the base with the layer of action is exposed to an alkali metal, characterized in that the antimony or Bismuth layer in an inert atmosphere at a pressure of 0.1 to 30 mm Hg is evaporated onto the substrate.

2. Process for the production of a photocathode, those made of an alloy or intermetallic compound of antimony or bismuth with an alkali metal, which initially has an antimony or bismuth layer is applied to a base and then the base with the layer of action of the alkali metal is exposed, characterized in that the antimony or Bismuth layer by electrolysis at a current density of more than 0.05 A / cm2 the pad is applied. Publications considered: German Patent Specifications No. 710 006, 717 810, 744 768, 864 585; Austrian Patent No. 135 959; Swiss Patent No. 228 761; French Patent No. 840,976; Zeitschrift für Physik, 101 (1936), volumes 5 and 6, pp. 335 to 342; Gör 1 i c h: »The Photo cell «, 1951, pp. 71 to 77; Philips Techn. Rundschau, 3 (1938), pp. 80 to 87; Advances in Electronics, Vol. 1, 1948, p. 77.