DE1216455B - Verfahren zum Ausrichten der Feldachse eines elektronenoptischen Linsen, insbesondere in einem Elektronenmikroskop zugeordneten Stigmators und Anordnung zur Durchfuehrung des Verfahrens - Google Patents
Verfahren zum Ausrichten der Feldachse eines elektronenoptischen Linsen, insbesondere in einem Elektronenmikroskop zugeordneten Stigmators und Anordnung zur Durchfuehrung des VerfahrensInfo
- Publication number
- DE1216455B DE1216455B DES90205A DES0090205A DE1216455B DE 1216455 B DE1216455 B DE 1216455B DE S90205 A DES90205 A DE S90205A DE S0090205 A DES0090205 A DE S0090205A DE 1216455 B DE1216455 B DE 1216455B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- stigmator
- voltage
- correction field
- electron
- arrangement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. α.:
HOIj
Deutsche Kl.: 21g-37/20
Nummer: 1216455
Aktenzeichen: S 90205 VIII c/21 g
Anmeldetag: 25. März 1964
Auslegetag: 12. Mai 1966
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ausrichten
der Feldachse eines elektronenoptischen Linsen, insbesondere in einem Elektronenmikroskop zugeordneten
Stigmators.
Es ist bekannt, den durch magnetische bzw. elek-Irische
Unsymmetrie von elektronenoptischen Linsen, wie sie beispielsweise in Elektronenmikroskopen Verwendung
finden, hervorgerufenen Astigmatismus durch Vorsehen eines Stigmators zu kompensieren,
der nach Art einer Zylinderlinse wirkt und mittels geeignet angeordneter felderzeugender Elemente
— bei elektrischen Stigmatoren Spulen bzw. Elektroden — ein sattelförmiges Feld zu erzeugen gestattet.
Dieses sattelförmige Feld besitzt einen hinsichtlich Größe und Richtung derat eingestellten
Astigmatismus, daß er den zu kompensierenden Astigmatismus der jeweiligen Linse bzw. Linsen aufhebt.
Wichtig ist bei derartigen Stigmatoranordnungen, daß die Achse ihres Feldes mit der Achse des Feldes
der jeweils zu korrigierenden Linse bzw. Linsen zusammenfällt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Ausrichten der Feldachse eines elektronenoptischen
Linsen insbesondere in einem Elektronenmikroskop zugeordneten Stigmators zu schaffen,
das die Ausrichtung der Feldachse des Stigmators während des Betriebes des elektronenoptischen Gerätes,
im Beispiel des Elektronenmikroskops, vorzunehmen gestattet und keinen großen Aufwand an
Mitteln zu seiner Durchführung erfordert.
Diese Aufgabe löst ein Verfahren, bei dem erfindungsgemäß mit den Linsen ein Bild eines Objektes
erzeugt wird, unter Beobachtung des Bildes die Stärke des vom Stigmator erzeugten Korrekturfeldes
sprunghaft geändert wird und das Korrekturfeld derart verlagert wird, daß die sprunghaften Änderungen
seiner Stärke keine störenden Bildsprünge bewirken.
Beispielsweise kann man bei der Durchführung des Verfahrens das Bild eines Testobjektes mit den zu
korrigierenden Linsen erzeugen; es ist aber auch möglich, beispielsweise das Bild einer Aperturblende
oder der Kathode des elektronenoptischen Gerätes zu erzeugen.
Es ist bereits bekannt, zum Ausrichten der Feldachse die Stigmatorerregung durch Speisen des Stigmators
mit einer Wechselspannung zu wobbeln. Ist die Feldachse des Stigmators nicht bezüglich der
Feldachse der zu korrigierenden Linsen ausgerichtet, so ergibt sich im Falle dieses bekannten Verfahrens
eine visuell zu beobachtende Unscharfe in dem elek-Verf
ahren zum Ausrichten der Feldachse eines
elektronenoptischen Linsen, insbesondere in
einem Elektronenmikroskop zugeordneten
Stigmators und Anordnung zur Durchführung
des Verfahrens
elektronenoptischen Linsen, insbesondere in
einem Elektronenmikroskop zugeordneten
Stigmators und Anordnung zur Durchführung
des Verfahrens
Anmelder:
Siemens & Halske Aktiengesellschaft,
Berlin und München,
München 2, Wittelsbacherplatz 2
Berlin und München,
München 2, Wittelsbacherplatz 2
Als Erfinder benannt:
Moriz v. Rauch, Berlin
Moriz v. Rauch, Berlin
tronenoptisch erzeugten Bild, und die Erregung der Stigmatorelemente wird unter Betrachtung dieses
Bildes so lange geändert, bis die größte Bildschärfe beobachtet wird. Abgesehen davon, daß dieses Verfahren
zusätzliche Mittel zur wahlweisen Speisung des Stigmators mit einer Wechselspannung erfordert,
bietet es insofern Schwierigkeiten bei der genauen Ausrichtung der Feldachse des Stigmators, als die
visuelle Beurteilung der Schärfe eines elektronenoptisch erzeugten Bildes als subjektiver Verfahrensschritt mit einer gewissen Ungenauigkeit behaftet ist.
Die bei dem geschriebenen Verfahren erzeugten diskreten sprunghaften Änderungen der Stigmatorerregung
und die demgemäß bei schlechter Ausrichtung der Feldachse des Stigmators auftretenden Bildsprünge
lassen sich aber auch bei visueller Beobachtung eindeutig erkennen, so daß außer der Vermeidung
der Zuführung einer besonderen Wechselspannung der Vorteil einer sehr genauen Justierung der
Feldachse des Stigmators vorhanden ist.
Bei einem elektrischen Stigmator, d. h. einem solchen mit Magnetspulen oder elektrischen Ablenkplatten
(Elektroden), wird man den Betrag der den Stigmator speisenden Spannung sprunghaft ändern.
Zwecks Erzielung besonders deutlicher Bildsprünge bei schlechter Ausrichtung der Feldachse des Stigmators
wird man den Betrag der Spannung um seinen
609 568/438
vollen Wert ändern. Man kann auch die Polarität dieser Spannung umpolen.
Zur Verlagerung des Korrekturfeldes, bis Bildsprünge bei den sprunghaften Änderungen der
Speisespannung des Stigmators nicht mehr auftreten und demgemäß eine Ausrichtung der Feldachse erzielt
ist, wird man bei einem elektrischen Stigmator das Verhältnis der die Stigmatorelemente speisenden
Spannungen verändern. Man kann aber auch die Lage von Teilen des Stigmators ändern.
Bei einem Stigmator mit nach Größe und Richtung getrennt regelbarem Korrekturfeld läßt sich das beschriebene
Verfahren mit Vorteil auch zur Bestimmung des Azimuts zwischen dem Astigmatismus der
elektronenoptischen Linse bzw. Linsen und dem Astigmatismus des Stigmators heranziehen.
Eine besonders einfache Anordnung zur Durchführung des beschriebenen Verfahrens bei einem elektrischen
Stigmator sieht in der Zuleitung für die den Stigmator speisende Spannung eine Taste vor, die infolge
ihrer Lage außerhalb des Vakuumraumes des elektronenoptischen Gerätes während des Betriebes
desselben bedient werden kann. Irgendwelche zusätzlichen Mittel zur Arretierung der Stellung der Taste
bei eingeschaltetem Stigmator erübrigen sich, wenn der Kontakt der Taste in deren unbetätigtem Zustand
geschlossen ist. Die bei der Durchführung des beschriebenen Verfahrens erzeugten sprunghaften
Änderungen des Korrekturfeldes lassen sich in einfachster Weise durch Drücken und/oder Loslassen
dieser Taste erzeugen.
Man wird zur Erzeugung der sprunghaften Änderungen des Korrekturfeldes zweckmäßigerweise den
Betrag der Speisespannung des Stigmators um seinen vollen Wert ändern, d.h. die Spannung wahlweise
zu- und abschalten. Es kann aber auch genügen, die Spannung nur auf einen bestimmten endlichen Wert
herabzusetzen, was sich mit einer Anordnung erreichen läßt, bei der die Taste einen Umschaltkontakt
besitzt, der die abwechselnde Speisung des Stigmators mit zwei Spannungen unterschiedlicher Beträge vorzunehmen
gestattet. Diese beiden Spannungen können an einer Widerstandsschaltung abgegriffen werden,
so daß nur eine Spannungsquelle erforderlich ist.
In den Figuren ist ein Ausführungsbeispiel für eine Anordnung zur Durchführung des beschriebenen
Verfahrens bei einem elektromagnetischen Stigmator in ihren hierfür wesentlichen Teilen schematisch dargestellt.
Gemäß F i g. 1 ist jeweils zwei gegenüberliegenden der Stigmatorspulen S, deren Anordnung bezüglich
des Korpuskularstrahles K aus F i g. 2 ersichtlich ist, ein Spannungsteiler R zugeordnet, der das Verhältnis
der beiden Speisespannungen der jeweiligen beiden Spulen zu verändern gestattet. Die in diesem Beispiel
acht Stigmatorspulen S sind in zwei ineinandergeschachtelte Vierersysteme 1 und 2 mit einander
gegenüberliegenden Spulen α bzw. b aufgeteilt, damit durch unterschiedliche Erregung der beiden Vierersysteme
die Richtung des Korrekturfeldes des Stigmators geändert werden kann. Hierzu dienen die
Widerstände Wl und W2.
Man erkennt, daß aber unabhängig von den jeweiligen Werten von PFl und W2 das Verhältnis der
Speisespannungen für jeweils zwei gegenüberliegende Spulen, das an den Spannungsteilern R abgegriffen
wird, erhalten bleibt, so daß die Feldachse des Korrekturfeldes ihre Lage beibehält.
Die Taste Γ gestattet, durch öffnen der gemeinsamen
ZuleitungZ Bildsprünge, d.h. Sprünge des Korpuskularstrahles K quer zur Geräteachse, hervorzurufen,
deren Kleinheit ein Maß für die Güte der durch Verlagerung mittels der Spannungsteiler R erzielten
Ausrichtung der Feldachse des Stigmators ist.
Das beschriebene Verfahren und die zu seiner Durchführung angegebene beispielsweise Anordnung
ίο gestatten die Ausrichtung der Feldachse eines elektrischen
oder magnetischen Stigmators relativ zur Feldachse der zu korrigierenden Linse bzw. Linsen
während des Betriebes des Gerätes und mit hinlänglicher Genauigkeit vorzunehmen, da man auch bei
visueller Betrachtung leicht entscheiden kann, ob Bildsprünge bei definierten sprunghaften Änderungen
des Korrekturfeldes auftreten oder nicht.
Claims (12)
1. Verfahren zum Ausrichten der Feldachse eines elektronenoptischen Linsen, insbesondere in
einem Elektronenmikroskop zugeordneten Stigmators, dadurch gekennzeichnet, daß mit den Linsen ein Bild eines Objektes erzeugt
wird, daß unter Beobachtung des Bildes die Stärke des vom Stigmator erzeugten Korrekturfeldes
sprunghaft geändert wird und daß das Korrekturfeld derart verlagert wird, daß die sprunghaften
Änderungen seiner Stärke keine Bildsprünge bewirken.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Betrag der den Stigmator
speisenden Spannung sprunghaft geändert wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Betrag der Spannung
um seinen vollen Wert sprunghaft geändert wird.
4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Spannung sprunghaft umgepolt
wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß zur Verlagerung
des Korrekturfeldes das Verhältnis der Spannungen an den das Korrekturfeld erzeugenden
Stigmatorelementen verändert wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß zur Verlagerung
des Korrekturfeldes die Lage von Elementen des Stigmators geändert wird.
7. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 3 oder 5
oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß in der Zuleitung für die den Stigmator speisende Spannung
eine Taste vorgesehen ist.
8. Anordnung nach Anspruch?, dadurch gekennzeichnet, daß der Kontakt der Taste in
deren unbetätigtem Zustand geschlossen ist.
9. Anordnung nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Taste die Zuleitung
für die den Stigmator speisende Spannung zu unterbrechen gestattet.
10. Anordnung nach Anspruch 7 oder 8, da-, durch gekennzeichnet, daß die Taste einen Umschaltkontakt
besitzt, der die abwechselnde Speisung des Stigmators mit zwei Spannungen unterschiedlicher
Beträge oder Polaritäten vorzunehmen gestattet.
11. Anordnung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß zum Abgreifen der zwei Spannungen
eine Widerstandsschaltung vorgesehen ist.
12. Anordnung nach einem der Ansprüche? bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß gegenüberliegenden
Stigmatorelementen ihre Speisespannungen über getrennte Spannungsteiler mit veränderbaren
Teilerverhältnissen zugeführt sind, wobei durch Änderung der Teilerverhältnisse das
Korrekturfeld verlagert wird.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES90205A DE1216455B (de) | 1964-03-25 | 1964-03-25 | Verfahren zum Ausrichten der Feldachse eines elektronenoptischen Linsen, insbesondere in einem Elektronenmikroskop zugeordneten Stigmators und Anordnung zur Durchfuehrung des Verfahrens |
GB6982/65A GB1095917A (en) | 1964-03-25 | 1965-02-18 | Improvements in electron lenses |
US442389A US3444427A (en) | 1964-03-25 | 1965-03-24 | Method and device for aligning the field axis of a stigmator in an electron-optical lens system |
NL6503733A NL6503733A (de) | 1964-03-25 | 1965-03-24 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES90205A DE1216455B (de) | 1964-03-25 | 1964-03-25 | Verfahren zum Ausrichten der Feldachse eines elektronenoptischen Linsen, insbesondere in einem Elektronenmikroskop zugeordneten Stigmators und Anordnung zur Durchfuehrung des Verfahrens |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1216455B true DE1216455B (de) | 1966-05-12 |
Family
ID=7515637
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DES90205A Pending DE1216455B (de) | 1964-03-25 | 1964-03-25 | Verfahren zum Ausrichten der Feldachse eines elektronenoptischen Linsen, insbesondere in einem Elektronenmikroskop zugeordneten Stigmators und Anordnung zur Durchfuehrung des Verfahrens |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3444427A (de) |
DE (1) | DE1216455B (de) |
GB (1) | GB1095917A (de) |
NL (1) | NL6503733A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9455115B2 (en) | 2014-12-17 | 2016-09-27 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Method of adjusting a stigmator in a particle beam apparatus and a Particle beam system |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1325540A (en) * | 1969-10-10 | 1973-08-01 | Texas Instruments Ltd | Electron beam apparatus |
US6864493B2 (en) * | 2001-05-30 | 2005-03-08 | Hitachi, Ltd. | Charged particle beam alignment method and charged particle beam apparatus |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR944238A (fr) * | 1947-03-13 | 1949-03-30 | Csf | Méthode de correction des optiques électroniques |
BE481554A (de) * | 1947-06-26 | |||
NL192009A (de) * | 1953-11-02 | |||
NL96667C (de) * | 1957-01-03 | |||
NL242894A (de) * | 1958-09-06 |
-
1964
- 1964-03-25 DE DES90205A patent/DE1216455B/de active Pending
-
1965
- 1965-02-18 GB GB6982/65A patent/GB1095917A/en not_active Expired
- 1965-03-24 NL NL6503733A patent/NL6503733A/xx unknown
- 1965-03-24 US US442389A patent/US3444427A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9455115B2 (en) | 2014-12-17 | 2016-09-27 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Method of adjusting a stigmator in a particle beam apparatus and a Particle beam system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL6503733A (de) | 1965-09-27 |
GB1095917A (en) | 1967-12-20 |
US3444427A (en) | 1969-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2606251A1 (de) | Astigmatismuskorrekturanordnung | |
EP1277221A1 (de) | Strahlerzeugungssystem für elektronen oder ionenstrahlen hoher monochromasie oder hoher stromdichte | |
DE1802635A1 (de) | Ablenkschaltungsanordnung fuer Kathodenstrahlroehren | |
DE2752598C3 (de) | Verfahren zum Betrieb einer elektromagnetischen fokussierenden elektronen-optischen Linsenanordnung und Linsenanordnung hierfür | |
DE2930225A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur kompensation des astigmatismus eines ladungstraegerstrahls | |
DE112017007776B4 (de) | Ladungsträgerstrahlvorrichtung | |
DE112010004145T5 (de) | Vorrichtung zur Abtastung mit einem geladenen Teilchenstrahl und Vefahren zur Korrektur der chromatischen und sphärischen Aberration in Kombination | |
DE2063598B2 (de) | Ablenkeinrichtung für den Elektronenstrahl in einem Elektronenmikroskop | |
DE2827458A1 (de) | Konvergenzvorrichtung fuer projektions- farbfernsehsystem | |
DE1216455B (de) | Verfahren zum Ausrichten der Feldachse eines elektronenoptischen Linsen, insbesondere in einem Elektronenmikroskop zugeordneten Stigmators und Anordnung zur Durchfuehrung des Verfahrens | |
DE1299088C2 (de) | Ablenkeinrichtung fuer den korpuskularstrahl in einem korpuskularstrahlgeraet, insbesondere elektronenmikroskop | |
DE112017007787B4 (de) | Ladungsträgerstrahlvorrichtung | |
DE1920941C3 (de) | Vorrichtung zur Korrektur des Strahlenganges eines durch ein magnetisches Streufeld einer oder mehrerer magnetischer Linsen abgelenkten Elektronenstrahles | |
DE2149108B2 (de) | Einrichtung zur Vergrößerungseinstellung eines Elektronenmikroskops | |
DE102017205231B3 (de) | Teilchenoptische Vorrichtung und Teilchenstrahlsystem | |
DE2234381B2 (de) | Elektronenstrahl-Beleuchtungssystem | |
DE2016753B2 (de) | Vorrichtung zur justierung des objektfeldes in elektronenmikroskopen | |
DE2221122C3 (de) | Anastigmatisches magnetisches Elektronenstrahl-Ablenksystem, Verfahren zu seinem Betrieb und Anwendung | |
DE932922C (de) | Einrichtung zum Justieren eines elektronenoptischen Stigmators | |
DE1144856B (de) | Verfahren zum elektronenmikroskopischen Abbilden von magnetisierbaren Objekten und Anordnung zur Durchfuehrung des Verfahrens | |
Haine et al. | An electrostatic-electromagnetic alignment section for the electron microscope | |
EP0314947A1 (de) | Schaltung zur vergrösserungsunabhängigen Bildverschiebung in einem Korpuskularstrahlgerät | |
DE112020006696T5 (de) | Ladungsträgerstrahleinrichtung und verfahren zum steuern einer ladungsträgerstrahleinrichtung | |
DE112014006444T5 (de) | Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung und Verfahren zum Korrigieren der sphärischen Aberration | |
DE918100C (de) | Elektronenoptisches Abbildungsgeraet mit einer Einrichtung zur Herstellung von Elektronenbeugungsbildern |