DE1211339B - Steuerbares Halbleiterbauelement mit vier Zonen - Google Patents
Steuerbares Halbleiterbauelement mit vier ZonenInfo
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 28
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 5
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910015367 Au—Sb Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/70—Bipolar devices
- H01L29/74—Thyristor-type devices, e.g. having four-zone regenerative action
- H01L29/744—Gate-turn-off devices
Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. α.:
HOIl
Deutsche KL: 21g-11/02
Nummer: 1211339
Aktenzeichen: W 32884 VIII c/21 g
Anmeldetag: 1. September 1962
Auslegetag: 24. Februar 1966
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Halbleiterschalter und insbesondere auf einen Vierzonen-Halbleiterschalter
mit drei Elektroden, der die Fähigkeit besitzt, verhältnismäßig große Werte des zwischen den beiden äußeren Anschlüssen fließenden
Stromes abzuschalten, indem ein Impuls oder eine Spannung zwischen eine der inneren und eine der
äußeren Zonen angelegt wird.
Bekannte steuerbare Halbleiterbauelemente vom Vierzonen-pnpn- oder npnp-Typ werden leitend
gemacht, indem entweder die Spannung, die an das Bauelement gelegt wird, so weit vergrößert wird, daß
sie die Kippspannung überschreitet und dadurch das Bauelement leitend macht, oder indem ein genügend
großer Strom in Durchlaßrichtung zwischen einer der inneren und der benachbarten äußeren Zone hindurchgeschickt
wird, wodurch das Bauelement ebenfalls leitend wird. Derartige Bauelemente können
vom leitenden in den nichtleitenden Zustand übergeführt werden, indem der hindurchfließende Strom
auf praktisch Null vermindert wird. In derartigen konventionellen Vierzonen-Halbleiterbauelementen
konnten bisher nur verhältnismäßig kleine Ströme zwischen den äußeren Anschlüssen abgeschaltet
werden, indem ein Strom in Sperrichtung zwischen einer der inneren Zonen und der benachbarten
äußeren Zone hindurchgeschickt wurde. Deshalb können für alle praktischen Anwendungsfalle die bisher
üblichen Vierzonen-Halbleiterbauelemente nur dadurch abgeschaltet, d. h. von dem leitenden in den
nichtleitenden Zustand übergeführt werden, daß der Strom zwischen den äußeren Anschlüssen vermindert
wird.
Es ist deshalb ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Vierzonen-Halbleiterbauelement zu schaffen,
das verhältnismäßig große Ströme zwischen den äußeren Anschlüssen abschalten kann, indem ein
Strom zwischen einer der äußeren Zonen und einer der inneren Zonen aufgedrückt wird.
Ein weiteres Ziel der Erfindung ist es, ein Vierzonen-Halbleiterbauelement
zu schaffen, das vom Sperrzustand in den leitenden Zustand oder vom leitenden in den sperrenden Zustand in Abhängigkeit
von der Richtung des Stromes zwischen einer der äußeren Zonen und einer der inneren Basiszonen geschaltet
werden kann.
Die Erfindung betrifft deshalb ein steuerbares Halbleiterbauelement mit einem einkristallinen Halbleiterkörper
und vier Zonen abwechselnden Leitfähigkeitstyps sowie mit je einer Kontaktelektrode auf den
beiden äußeren Zonen und auf einer der inneren Zonen. Erfindungsgemäß ist es dadurch gekennzeich-Steuerbares
Halbleiterbauelement mit vier Zonen
Anmelder:
Westinghouse Electric Corporation,
East Pittsburgh, Pa, (V. St. A.)
Vertreter:
Dr. jur, G. Hoepffner, Rechtsanwalt,
Erlangen, Werner-von-Siemens-Str. 50
Erlangen, Werner-von-Siemens-Str. 50
Als Erfinder benannt:
Thorndike C. T, New,
Greensburg, Pa. (V. St. A.)
Thorndike C. T, New,
Greensburg, Pa. (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St, ν Amerika vom 6. Oktober 1961
(143 148)
(143 148)
net, daß an der Oberfläche die Randlinie der Kontaktelektrode an der inneren Zone höchstens eine
Diffusionslänge von der Randlinie des pn-Übergangs zwischen dieser inneren Zone und der benachbarten
äußeren Zone entfernt ist, aber die Randlinie des pn-Übergangs nicht berührt, und daß diese äußere
Zone die Form eines Streifens mit einer Streifenbreite von höchstens 1,25 mm hat. Zweckmäßig ist
die Fläche dieses pn-Übergangs auch wesentlich kleiner als die Fläche des pn-Übergangs zwischen der
nichtkontaktierten inneren Zone, der Basiszone, und der dieser benachbarten äußeren Zone, der Emitterzone.
Mit anderen Worten, es wird ein mit drei Anschlüssen versehener Halbleiterschalter geschaffen,
der mindestens vier Zonen und drei gleichrichtende Übergänge besitzt, wobei eine der äußeren Zonen
(erster Emitter) klein ist, d, h. von wesentlich kleinerer Flächengröße ist als die andere äußere Zone
(zweiter Emitter). Dieser Umstand verhilft zu einer Verkleinerung des Verstärkungsfaktors ß2 zwischen
der Basis und dem Kollektor eines Dreizonentransistors, dessen Emitter der genannte zweite Emitter ist.
Ferner ist die erste Emitterzone mit einem gleichrichtenden Übergang auf einer zweiten Zone, der
Basiszone, in der Weise angeordnet, daß ein pn-
609 509/27&
Übergang mit einem verhältnismäßig langen Rand gebildet wird; und eine ohmsche Steuerkontaktelektrode
ist auf dieser Basiszone so angebracht, daß sie gleichmäßig eng entfernt vom Rand des pn-Übergangs
liegt. Es können zwei öder mehr voneinander getrennte Steuerkontakte vorgesehen werden, die
äußerlich miteinander verbunden sind, oder es kann auch ein einzelner zusammenhängender Kontakt verwendet
werden. Ebenso kann der erste Emitter aus einem zusammenhängenden Kontakt bestehen oder
einer Mehrzahl von Kontakten, die äußerlich miteinander verbunden sind. Der Emitter besteht vorteilhaft
aus einem oder mehreren Streifen, die geschwungen oder geradlinig sein können. Jeder Teil
ist verhältnismäßig schmal, so daß ein Strom, der in den Steuerkontakt geschickt wird, wirkungsvoll den
gesamten Strom durch den Emitter steuern kann und als Folge davon einen hohen Verstärkungsfaktor /S1
zwischen der Basis und dem Kollektor eines äquivalenten Dreizonentransistors schafft, welcher den genannten
ersten Emitter als seinen Emitter hat. Die Breite der Emitterstreifen ist vorzugsweise ungefähr
0,75 mm.
Es hat sich herausgestellt, daß auf diese Weise das Produkt von /S1 und /S2 auf weniger als 1 vermindert
werden kann, indem ein Sperrstrom von verhältnismäßig kleiner Größe auf den Steuerkontakt gegeben
wird und das Bauelement auf diese Weise abgeschaltet wird.
Weitere Ziele und Vorteile der vorliegenden Erfindung gehen aus der folgenden Beschreibung im
Zusamenhang mit den Zeichnungen hervor. Es zeigt
Fig. 1 eine schematische Darstellung eines Vierzonen-Halbleiterbauelements;
Fig. 2 zeigt ein äquivalentes schematischesSchaltbild
eines Vierzonen-Halbleiterbauelements;
Fig. 3 zeigt ein Diagramm, welches für die Erläuterung
der Erfindung zweckmäßig ist;
Fig. 4 zeigt in der Aufsicht ein Bauelement gemäß der vorliegenden Erfindung;
Fig. 5 zeigt einen Schnitt entlang der LinieV-V
der Fig. 4;
Fig. 6 zeigt eine Schaltung, welche verwendet wird, um erfindungsgemäß aufgebaute Bauelemente
zu prüfen;
Fig. 7 zeigt ein Paar von Kurven, die mit der Schaltung gemäß Fig. 6 aufgenommen wurden, und
Fig. 8 zeigt in der Aufsicht eine weitere Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung.
Die Erfindung bezieht sich allgemein auf ein Vierzonen-Halbleiterbauelement
vom pnpn- oder npnp-Typ. In Fig. 1 ist ein schematischer Aufbau eines
pnpn-Bauelements dargestellt. Ein Vierzonen-Halbleiterbauelement mit drei Anschlüssen, einem ersten
Emitteranschluß, einem zweiten Emitteranschluß und einem Steueranschluß (erste Basis), funktioniert
wie das in Fig. 2 dargestellte Äquivalent, das aus zwei Transistoren T1 und T2 vom komplementären
Leitfähigkeitstyp aufgebaut ist. Der mit drei Anschlüssen versehene Vierzonen-Halbleiterschalter,
der in der Fig. 1 dargestellt ist, besteht aus dem Halbleiterbauelement 10, welches eine erste äußere
Zone 11 aus η-leitendem Material, eine erste innere Zone 12 aus p-leitendem Material, eine zweite innere
Zone 13 aus η-leitendem Material und eine zweite äußere Zone 14 aus p-leitendem Material besitzt.
Dieses Vierzonenbauelement hat einen ersten Emitteranschluß 16, einen zweiten Emitteranschluß
15 und einen Steueranschluß 17, der an der ersten inneren Basiszone 12 angebracht ist.
Das Vierzonenbauelement, das schematisch in Fig. 1 dargestellt ist, arbeitet effektiv wie zwei komplementäre
Transistoren T1 und T2, von denen T1
von npn-Typ und T2 vom pnp-Typ ist, und die entsprechend
dem äquivalenten Schaltbild gemäß Fig. 2 miteinander verbunden sind. Fig. 1 zeigt das Vierzonenbauelement
in Reihe geschaltet mit einer Last
ίο 18 und einer Gleichspannungsquelle 19. Indem eine
positive Spannung von genügender Höhe auf den Steueranschluß 17 gegeben wird, kann der Halbleiterschalter
leitend gemacht werden. Jedoch ist es bei konventionellen Vierzonenbauelementen bisher
nicht möglich gewesen, das Bauelement abzuschalten, indem eine Spannung zwischen Steueranschluß
und erstem Emitteranschluß angelegt wird, wenn ein Strom von merklicher Größe durch das Gerät fließt.
Wie in Fig. 2 dargestellt, hat die zweite innere
Basiszone 13 die Funktion der Kollektorzdne des äquivalenten Transistors T1 und der Basiszone des
äquivalenten Transistors T2. Die erste innere Zone
12 ist die Basiszone des äquivalenten Transistors T1
und die Kollektorzone des äquivalenten Transistors T2.
Der Stromverstärkungsfaktor (X1 ist, wie es in
Fig. 2 dargestellt ist, der des Stromes zwischen Emitter 11 und Kollektor 13 des äquivalenten Transistors
T1, während a2 der Stromverstärkungsfaktor
zwischen Emitter 14 und Kollektor 12 des äquivalenten Transistors T2 ist. Genauso ist /J1 der Verstärkungsfaktor
zwischen Basis und Kollektor des äquivalenten Transistors T1, während ß2 der Verstärkungsfaktor
zwischen Basis und Kollektor des äquivalenten Transistors T2 ist. Wie bekannt, ist β gleich
, und in α ausgedrückt ist es etwa gleich .
Bei einem Siliziumbauelement nimmt der Verstärkungsfaktor
mit dem Strom infolge Sättigung der Störstellen zu, bis er infolge hoher Injektionsrate
vermindert wird (s. Sah, Noyce und Shockley, Proceedings of the IRE, Bd. 45, S. 1228, September
1957). Ein typisches Diagramm für α in Abhängigkeit des Emitterstromes ist in Fig. 3 dargestellt.
Wenn ein positiver Impuls zwischen dem Steueranschluß 17 und dem Anschluß 16 aufgedrückt wird,
wird der Steuerstrom/Si vergrößert und vergrößert
hierdurch den Basisstrom J61 des ersten Transistors
T1. Der Kollektorstrom I01 des äquivalenten Transit
T it d til SZ D SI
1 01 q
stors T1 ist dann proportional /S1-Z01. Der 1
ist derselbe Strom wie der Basisstrom des äquivalenten Transistors T2 (Ib2), der umgekehrt den Kollektorstrom
I02 des äquivalenten Transistors T2 zu
einer Vergrößerung auf ß2-Ib2 veranlaßt. Da beide
/S-Funktionen des Stromes sind und sehr schnell zunehmen,
bis das Produkt ß1 -/S2 größer als 1 wird,
arbeitet der Schalter selbsthaltend, und der hindurchgeschickte Strom kann beliebig vergrößert werden.
Der Strom wird dann lediglich durch die Gesamtimpedanz des Stromkreises begrenzt. Wenn diese Bedingung
erfüllt ist, wird der Schalter als eingeschaltet oder leitend bezeichnet.
Wenn kein Steuerstrom vorhanden ist, teilt sich der Strom durch das Bauelement/ = Jß2 = /£l
zwischen I01 und I02 (oder J61 und J02) im Verhältnis
zwischen /S1 und ß2 auf. Wenn ein negativer oder
Sperrstrom auf den Steuerkontakt 17 gegeben wird, fließt I02 in den äußeren Stromkreis anstatt als Ibl
zu dienen. In diesem Fall wird der Basisstrom Ibl des
ersten äquivalenten Transistors T1 verkleinert oder
unterbrochen, und sein Emitterstrom wird ebenfalls vermindert. Dies kann wieder den Verstärkungsfaktor
ßx verkleinern. Der gleiche Effekt tritt dann in
dem zweiten äquivalenten Transistor T2 auf und vermindert ß2 usw. Wenn ein genügend großer Anteil
des Kollektorstromes des zweiten äquivalenten Transistors T2 in den äußeren Stromkreis abgezweigt wird,
um Ibx und Icx zu vermindern, wodurch verhältnismäßig
niedrige /J1 und /J2 resultieren, kann das Produkt
aus ßx und /J2 auf weniger als 1 vermindert
werden, wodurch das Element in den nichtleitenden oder abgeschalteten Zustand übergeführt wird.
Das Verhältnis des Laststromes / zu dem Steuerstrom in Sperrichtung, der benötigt wird, um den
Laststrom / zu unterbrechen, wird Ausschaltverstärkungsfaktor genannt. Damit ein hoher Ausschaltverstärkungsfaktor
erzielt wird, ist es notwendig, einen geringen Steuerstrom, d. h. einen kleinen Strom Ic 2, zu benötigen. Wie schon zuvor festgestellt,
ist die Aufteilung des Stromes/ oder /fi2 in die
Ströme/,.2 oder Ibl proportional zu ßr Deshalb
kann der Ausschaltverstärkungsfaktor so gut wie ßx
gemacht werden. Es ist aber ebenso notwendig, ß2
auf etwa -g- zu halten, so daß die genannte Ver-
Stärkung leicht auf weniger als 1 vermindert werden kann.
Vor dem Ausschalten des Schalters ist das Stromniveau ziemlich hoch. Das ßx des äquivalenten Transistors
Tx ist die effektive Transistorverstärkung bei hohem Stromniveau, die äußerlich meßbar ist. Beim
normalen Vierzonenbauelement ist der äußerlich erhältliche Stromgewinn dieses Teiles bei hoher
Stromdichte ziemlich niedrig.
Deshalb ist ein normales Bauelement vom Vierschichten- oder Vierzonentyp schwierig abzuschalten,
wenn ein merklicher Strom fließt, da der Steuerstrom nur einen kleinen Bereich im wesentlichen
innerhalb einer Diffusionslänge von dem Steuerkontakt beeinflussen kann. Weiter ist infolge der physikalischen
Größe des zweiten Emitters (p-leitende Zone) die Stromdichte ähnlich der im ersten Emitter
(η-leitende Zone), wodurch ß2 hoch ist, so daß das
Produkt von ßx und ß2 nicht leicht auf kleiner als 1
vermindert werden kann, womit das mit drei Anschlüssen versehene Vierzonenbauelement abgeschaltet
werden kann.
Gemäß der vorliegenden Erfindung ist dagegen der Aufbau des Vierzonenbauelements so getroffen,
daß ein Steuerstrom in Sperrichtung durch die Steuerelektrode zugeführt werden kann, der verhältnismäßig
große Ströme zwischen den äußeren Anschlüssen löschen kann, und es wurden Versuche
mit solchen Bauelementen durchgeführt, bei denen ein verhältnismäßig kleiner Steuerstrom einen Laststrom
von über 20 A abschaltete.
Die F i g. 4 zeigt in der Aufsicht ein Ausführungsbeispiel der Erfindung, und Fig. 5 zeigt im Querschnitt
in vergrößertem Maßstab das Element gemäß F i g. 4 längs der Linie V-V. Das Element, wie es in
den Fig. 4 und 5 dargestellt ist, besteht aus einem ohmschen stark dotierten Kontakt 21, der als ohmscher
Kontakt einer diffundierten p-leitenden Zone 22 dient. Die diffundierte p-Zone 22 hat Kreisform
und hat einen aufwärts gekrümmten Rand, wie es in F i g. 5 dargestellt ist, der sich bis zum Graben 26
erstreckt. Zwischen dem aufwärts gebogenen äußeren Rand der p-Zone22 erstreckt sich eine runde
η-leitende Zone 23. Eine diffundierte Zone 24 vom p-Leitfähigkeitstyp bildet einen diffundierten pn-Übergang
mit der n-Zone 23 und ist ebenfalls rund. Diese p-Zone bildet die Steuerzone des Vierschichtbauelements;
die äquivalente Zone in den Fig. 1 und 2 ist mit 12 bezeichnet. Ein durch diese Zone
fließender Strom schaltet das Bauelement ein oder
ίο aus, aus dem nichtleitenden in den leitenden und
aus dem leitenden in den nichtleitenden Zustand.
Zum Ein- und Ausschalten wird der Steuerstrom zwischen der p-leitenden Zone 24 und einer äußeren
η-leitenden Zone 25 aufgedrückt, die einen durch Legierung hergestellten gleichrichtenden Kontakt mit
der p-Zone 24 bildet. Der ringförmige oder runde η-leitende erste Emitter 25 besitzt zwei diametral
angeordnete Leiter, die mit Hilfe des Leiters 27 miteinander verbunden sind, der einen Anschluß 28
ao zum Zuführen des Ein- oder Ausschaltsteuerstromes besitzt. Als Anschlüsse der inneren Basiszone 24
sind zwei Steuerkontaktglieder 31 und 32 angebracht. Das Kontaktglied 31, wie es in den F i g. 4 und 5
dargestellt ist, ist eine p-leitende runde Scheibe 31, die symmetrisch innerhalb des Emitterringes 25 liegt.
Der äußere Rand des Kontaktgliedes 31 liegt symmetrisch zum inneren runden Rand des Emitters 25 und
ist eng benachbart mit gleichmäßigem Abstand davon angeordnet. Beide Kontaktglieder 31 und 32
bilden ohmsche nicht gleichrichtende Verbindungen mit der inneren Basiszone 24 und bilden so elektrische
Anschlüsse. Die Kontakte 31 und 32 sind durch einen Leiter 33 miteinander verbunden, der
einen Anschluß 34 besitzt, so daß ein Strom zwisehen den Anschlüssen 28 und 34 hindurchgeschickt
werden kann, um einen Einschalt- oder Ausschaltstrom durch die Steuerelektrode zu leiten. Aus
Gründen der Übersichtlichkeit sind die Leitungen und Anschlüsse 27, 28, 33 und 34 in F i g. 4 nicht
dargestellt.
Die wirksame Randlänge des ersten Emitters ist dadurch vergrößert, daß ein innerer und äußerer
Kontakt in engem Abstand und symmetrisch zum Emitter 25 angeordnet ist. Weiter ist die Wirkung des
Widerstandes der Basiszone 24 vermindert, um unnötige Verluste in dieser Zone zu vermindern, und
zwar dadurch, daß der Abstand zwischen dem Emitter 25 und den Steuerkontakten 31 und 32 enggehalten wird, vorzugsweise kleiner als eine Träger-
diffusionslänge, aber nicht mehr als 125 μ. Die Breite des η-leitenden Emitters wird ebenfalls so ausgewählt,
daß die gesamte Fläche unter dem Emitter durch die Steuerkontakte 31 und 32 wirksam kontrolliert
wird. Die Fläche des zweiten Emitters 22 (P-Emitter des äquivalenten Transistors T2) ist größer
als der erste Emitter 25, wodurch der Stromverstärkungsfaktor /?2 klein gehalten wird. Als Folge dieser
Anordnung kann man einen Strom zwischen den Anschlüssen 28 und 34 fließen lassen, der verhältnismäßig
große Beträge des durch das Bauelement fließenden Laststromes abschalten kann. Bisher war es
nur möglich, verhältnismäßig kleine Lastströme abzuschalten, indem eine Spannung oder ein Strom
zwischen Emitter und Basis eines Vierzonenbauelements gelegt wurde. Ein zufälliger weiterer Vorteil,
der durch die verhältnismäßig hohe Abschaltverstärkung erreicht wird, ist darin zu sehen, daß die Kippcharakteristik
nicht sehr stark durch hohe Tempe-
raturen beeinflußt wird, wodurch man höhere
Arbeitstemperaturen als bei bisher bekannten Halbleiterbauelementen zulassen kann.
Der Stromverstärkungsfaktor ß2 kann weiter dadurch
niedriggehalten werden, daß die untere η-leitende Zone 23 eine verhältnismäßig große Dicke
besitzt, d. h. eine Dicke erheblich größer als die der oberen p-leitenden Zone 24. Die bevorzugte Dicke
der Zone 23 ist etwa eine Diffusionslänge, d. h. etwa 125 μ, während die Dicke der Zone 24 nur etwa
50 μ oder weniger beträgt.
Bezüglich der Flächengrößen des zweiten Emitters 22 und des ersten Emitters 25 erscheint es wünschenswert,
einen beträchtlichen Unterschied vorzusehen. Eine wesentliche Verbesserung der Abschaltcharakteristik
erreicht man, wenn die Fläche des ersten Emitters mindestens um den Faktor 2 kleiner
als die Fläche des zweiten Emitters ist.
Damit eine · wirksame Steuerung des Emitterstromes bewirkt werden kann, muß der Emitter 25
eine solche Form aufweisen, daß jeder Teil des Emitter-pn-Übergangs durch die Steuerelektrode
kontrolliert werden kann. Ein schmaler Streifen, vorzugsweise
mit einer Breite von nicht mehr als 1,25mm, ist eine brauchbare Form, während die
Form der Anordnung des Streifens oder der Streifen verhältnismäßig unbedeutend ist. Ein aus einem
Fleck bestehender' Emitter mit einem Durchmesser von weniger als 0,75 mm ist brauchbar, solange der
Rand des pn-Übergangs ausreichend lang ist. Es ist nicht notwendig, daß der Steuerkontakt eine ähnliche
schmale Form aufweist, wenn eine gute Abschaltcharakteristik erzielt werden soll. Trotzdem kann er
zur besseren Ausnutzung der Kristalloberfläche ebenfalls eine geringe Breite aufweisen, so daß die
Steuer- und Emitterkontakte in einer verschachtelten Anordnung ineinander passen.
Die Länge des Emitter-Basis-pn-Übergangs, die zum Abschalten durch Anlegen eines Sperrstromes
an die Steuerelektrode notwendig ist, hängt von der Größe des Laststromes ab. Je größer der Gesamtstrom
ist, desto größer sollte die Randlänge sein. Es hat sich herausgestellt, daß etwa 0,25 bis 12,5 mm
Randlänge des pn-Übergangs pro Ampere Laststrom adäquat sind.
Im folgenden wird ein spezielles Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Anordnung angegeben.
Dieses Bauelement entspricht im Aufbau den Fig. 4 und 5. Das .η-leitende Silizium von etwa
20 Ohm-cm wurde geschliffen, geschnitten und geläppt, so daß eine Scheibe von etwa 11,5 jnmDurchmesser
und einer Dicke von etwa 230 bis 250 μ entstand. Sie wurde dann gereinigt, geätzt und mit Aluminium
diffundiert, und zwar bei 1200° C 64 Stunden lang, wodurch in bekannter Weise eine p-leitende
Zone hergestellt wurde, welche nach dem Einätzen
des Grabens 26 die Zonen 21 und 24 bildet. Die Oberflächenkonzentration der Verunreinigungsatome
lag in dem Bereich zwischen 2 bis 5-1016 cm~3; die
Tiefe des pn-Übergangs lag bei etwa 50 μ. Der Emitterring 25, Steuerfleck 31, Steuerring 32 und der
Kontakt 21 wurden an der diffundierten Scheibe angebracht. Die Abmessungen und Zusammensetzung
dieser Teile waren:
Außendurchmesser
(mm)
(mm)
Innendurchmesser (mm)
Zusammensetzung (Atome/em3)
Emitterring 25 ...
SteuerelektrödenfleckSl
Steuerelektrodenring 32
Kontakt21
Die Dicke des Emitterringes 25 betrug etwa 25 μ, genau wie die Dicke der Scheibe 31 und des Ringes
32. Die Ringe 25 und 32 und die Scheibe 31 wurden konzentrisch zur Scheibe 21 angeordnet. Die Zusammenstellung
wurde im Vakuum bei einer Höchsttemperatur von etwa 700° C zusaramenlegiert. Die
legierte Einheit wurde dann mit Wachs maskiert. In die Wachsschicht wurde am gewünschten Ort des
Grabens 26 eine Spur gekratzt, welche die diffundierte Siliziumoberfläche zum Ätzen freilegte. Dies
wird getan, um die p-leitende diffundierte Schicht in die npnp-Struktur aufzuteilen. Der Graben 26 lag
konzentrisch zur Scheibe 21 und hatte eine Tiefe von etwa 100 μ, einen Außendurchmesser von etwa
10,65 mm und einen Innendurchmesser von etwa 9,65 mm. Diese Grundeinheit wurde dann auf eine
nicht dargestellte Grundplatte hart aufgelötet und die Leitungen angebracht.
Das gemäß diesen Angaben aufgebaute Bauelement wurde in einem Stromkreis ähnlich dem
gemäß Fig. 6 geprüft; die Ergebnisse sind in Fig. 7
dargestellt. Us ist die Spannung einer Stromquelle
und betrug 8 V Gleichspannung. /, ist der Laststrom;
er entspricht IE2 in der vorhergehenden Diskussion.
RL ist der Lastwiderstand, Ist ist der Steuerstrom in
Sperrichtung, der das Gerät abschaltet.
5,3
3,5
7,15
11,5
3,5
7,15
11,5
3,8
5,6
5,6
Au-Sb (n) Au-B (ρ) Au-B (p) 101«
Au-B (p) 1019
' Die Kurve 40 in Fig. 7 zeigt die mit dem oben beschriebenen Bauelement erzielten Ergebnisse und
zeigt einen hohen Abschaltverstärkungsfaktor. Die Kurve 50 zeigt die Ergebnisse ähnlicher Prüfungen,
die mit einem npnp-Bauelement gemacht wurden, das einen Aufbau aufweist, wie er in der USA.-Patentschrift
2 980 832 von F. Stein und E. Torok beschrieben ist.
Es versteht sich, daß Bauelemente, die gemäß der Erfindung hergestellt werden, auch andere äußere
Formen als die beschriebenen Beispiele aufweisen können. Der Leitfähigkeitstyp der Zonen kann umgekehrt
werden. Das Halbleitermaterial muß nicht Silizium sein, sondern kann auch Germanium, eine
Am-ByVerbindung, eine A^B-n-Verbindung usw.
sein. Ähnlich können die Dotierungsmaterialien andere Donatoren und Akzeptoren als die beschriebenen
sein. Weiter können pnpm- oder npnm-Strukturen verwendet werden, wie sie vorgeschlagen
worden sind. Weiter ist anzunehmen, daß Strukturen, welche eine eigenleitende Intrinsicschicht enthalten,
z. B, mit npinp-Aufbau, brauchbar sind, Der Emitter 25 und die Steuerkontakte 31 und 32
brauchen nicht die beschriebene Form zu haben; es können verschieden andere geometrische Figuren
eine große Randlinie zwischen Emitter und Steuer-
kontakt bei engem Abstand zwischen Emitter und Steuerkontakt und kleinen Emitterabmessungen ergeben.
So ist z.B. in Fig. 8 eine andere Ausführungsform dargestellt. Die obere Zone 124 einer recht-
eckigen Scheibe, die in der Weise behandelt wurde, daß sich drei Zonen von abwechselndem Leitfähigkeitstyp
gebildet haben, besitzt einen Steuerkontakt 132, der einen Emitter 125 umschließt. Die Teile
des Kontaktes 132 erstrecken sich innerhalb des Emitters 125 und sind auf drei Seiten von Teilen
des Emitters 125 umschlossen. Auf diese Weise kann ein langer und enger Zwischenraum zwischen diesen
beiden Teilen erzielt werden.
Claims (5)
1. Steuerbares Halbleiterbauelement mit einem einkristallinen Halbleiterkörper und vier Zonen
abwechselnden Leitfähigkeitstyps sowie mit je einer Kontaktelektrode auf den beiden äußeren ao
Zonen und auf einer der inneren Zonen, dadurch gekennzeichnet, daß an der Oberfläche die Randlinie der ohmschen Kontaktelektrode
an der inneren Zone höchstens eine Diffusionslänge von der Randlinie des pn-Ubergangs
zwischen dieser inneren Zone und der benachbarten äußeren Zone entfernt ist, aber die
Randlinie des pn-Übergangs nicht berührt, und daß diese äußere Zone die Form eines Streifens
mit einer Streifenbreite von höchstens 1,25 mm hat.
2. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Randlänge der
streifenförmigen äußeren Zone, in Millimeter gemessen, das 0,25- bis 12,5fache des Laststromes
des Halbleiterbauelements, in Ampere gemessen, beträgt.
3. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die kontaktierte innere
Zone beträchtlich dünner als die andere innere Zone ist.
4. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaktelektrode
der inneren Zone aus zwei Teilen besteht, die innerhalb und außerhalb der ringförmigen Kontaktelektrode
der äußeren Zone konzentrisch angeordnet sind.
5. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Fläche des pn-Übergangs
zwischen der kontaktierten inneren und der benachbarten äußeren Zone um mindestens
den Faktor 2 kleiner ist als die Fläche des pn-Übergangs zwischen der nichtkontaktierten
inneren Zone und der dieser benachbarten äußeren Zone.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Auslegeschrift Nr. 1107 710;
Deutsche Auslegeschrift Nr. 1107 710;
USA.-Patentschrift Nr. 2 993 154;
französische Patentschrift Nr. 1 267 417;
IRE Transact, on Electron Devices, Januar 1959, S. 28 bis 35.
französische Patentschrift Nr. 1 267 417;
IRE Transact, on Electron Devices, Januar 1959, S. 28 bis 35.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
609 509/276 2.66 @ Bundesdruckerei Berlin
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US143354A US3210563A (en) | 1961-10-06 | 1961-10-06 | Four-layer semiconductor switch with particular configuration exhibiting relatively high turn-off gain |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1211339B true DE1211339B (de) | 1966-02-24 |
Family
ID=22503701
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEW32884A Pending DE1211339B (de) | 1961-10-06 | 1962-09-01 | Steuerbares Halbleiterbauelement mit vier Zonen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3210563A (de) |
BE (1) | BE623187A (de) |
CH (1) | CH394402A (de) |
DE (1) | DE1211339B (de) |
GB (1) | GB983266A (de) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL290680A (de) * | 1962-06-19 | |||
US3271587A (en) * | 1962-11-13 | 1966-09-06 | Texas Instruments Inc | Four-terminal semiconductor switch circuit |
FR1400724A (fr) * | 1963-06-04 | 1965-05-28 | Gen Electric | Perfectionnements aux dispositifs semiconducteurs de commutation et à leur procédé de fabrication |
US3331000A (en) * | 1963-10-18 | 1967-07-11 | Gen Electric | Gate turn off semiconductor switch having a composite gate region with different impurity concentrations |
US3356862A (en) * | 1964-12-02 | 1967-12-05 | Int Rectifier Corp | High speed controlled rectifier |
US3465214A (en) * | 1967-03-23 | 1969-09-02 | Mallory & Co Inc P R | High-current integrated-circuit power transistor |
US3577042A (en) * | 1967-06-19 | 1971-05-04 | Int Rectifier Corp | Gate connection for controlled rectifiers |
SE318654B (de) * | 1967-06-30 | 1969-12-15 | Asea Ab | |
US3628106A (en) * | 1969-05-05 | 1971-12-14 | Gen Electric | Passivated semiconductor device with protective peripheral junction portion |
US4364073A (en) * | 1980-03-25 | 1982-12-14 | Rca Corporation | Power MOSFET with an anode region |
US5262336A (en) * | 1986-03-21 | 1993-11-16 | Advanced Power Technology, Inc. | IGBT process to produce platinum lifetime control |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1107710B (de) * | 1959-11-18 | 1961-05-31 | Siemens Ag | Schaltanordnung mit einer Vierschicht-halbleiteranordnung |
US2993154A (en) * | 1960-06-10 | 1961-07-18 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor switch |
FR1267417A (fr) * | 1959-09-08 | 1961-07-21 | Thomson Houston Comp Francaise | Dispositif à semi-conducteur et méthode de fabrication |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2877359A (en) * | 1956-04-20 | 1959-03-10 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor signal storage device |
US2998534A (en) * | 1958-09-04 | 1961-08-29 | Clevite Corp | Symmetrical junction transistor device and circuit |
US2980832A (en) * | 1959-06-10 | 1961-04-18 | Westinghouse Electric Corp | High current npnp switch |
US3040270A (en) * | 1959-09-01 | 1962-06-19 | Gen Electric | Silicon controlled rectifier circuit including a variable frequency oscillator |
DE1103389B (de) * | 1959-10-14 | 1961-03-30 | Siemens Ag | Schaltanordnung mit einer Vierschichthalbleiteranordnung |
-
0
- BE BE623187D patent/BE623187A/xx unknown
-
1961
- 1961-10-06 US US143354A patent/US3210563A/en not_active Expired - Lifetime
-
1962
- 1962-09-01 DE DEW32884A patent/DE1211339B/de active Pending
- 1962-09-27 GB GB36658/62A patent/GB983266A/en not_active Expired
- 1962-09-27 CH CH1138962A patent/CH394402A/de unknown
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1267417A (fr) * | 1959-09-08 | 1961-07-21 | Thomson Houston Comp Francaise | Dispositif à semi-conducteur et méthode de fabrication |
DE1107710B (de) * | 1959-11-18 | 1961-05-31 | Siemens Ag | Schaltanordnung mit einer Vierschicht-halbleiteranordnung |
US2993154A (en) * | 1960-06-10 | 1961-07-18 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor switch |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3210563A (en) | 1965-10-05 |
BE623187A (de) | |
GB983266A (en) | 1965-02-17 |
CH394402A (de) | 1965-06-30 |
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