DE1202819B - Verfahren zum Herstellen von Farbschirmen fuer Elektronenstrahlroehren - Google Patents

Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND

DEUTSCHES

PATENTAMT

AUSLEGESCHRIFT

Int. α.:

Nummer:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:

H04n

HOIj

Deutsche Kl.: 21 al - 32/54

C12328 VIII a/21 al
24. Dezember 1955
14. Oktober 1965

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Anbringen von verschiedenen Leuchtstoffen gemäß einem bestimmten Muster auf dem Bildschirm von Farbfernsehelektronenstrahlröhren, insbesondere Röhren, die gemäß dem Prinzip der Mikroablenkung mit Nachfokussierung arbeiten.

Farbfernsehelektronenstrahlröhren können in zwei Kategorien unterteilt werden. Bei beiden Kategorien ist der Bildschirm mit Leuchtstoffen überzogen, die in einer Anzahl, üblicherweise drei, additiven Farben aufleuchten, die zusammen Weiß liefern können. Diese Leuchtstoffe sind in nach einem Muster sich wiederholender Gruppen oder Farbzellen auf einem Schirm aufgebracht, die je sämtliche Typen der verwendeten Leuchtstoffe enthalten. Jede Gruppe oder Zelle als Ganzes weist eine Höhe von der Größenordnung eines Bildelementes oder Bildpunktes des wiederzugebenden Bildes auf, so daß die Höhe der Oberfläche jedes einzelnen Leuchtstoffes subelementare Abmessung aufweist. Die sub- so elementaren Flächen können in der anderen Richtung gleichfalls eine subelementare Abmessung aufweisen, oder aber sie können in Form von sich über den Bildschirm erstreckenden Linien gestaltet sein. Beim Wiedergeben eines Fernsehbildes wird der Elektronenstrahl gemäß einem regelmäßigen Muster abgelenkt, um nahezu die ganze Bildfläche abzutasten, während Mittel vorgesehen sind, um den Strahl so zu steuern, daß er in jedem Augenblick den gewünschten Leuchtstoff trifft, so daß auf diese Weise die von der Röhre wiederzugebende Farbe bestimmt wird.

Bei den vorstehend erwähnten beiden Kategorien von Röhren finden unterschiedliche Mittel Verwendung, um den Strahl auf eine bestimmte Fläche zu richten und somit die in diesem Augenblick von der Röhre wiederzugebende Farbe zu bestimmen. Die eine Kategorie kann als »Schattenmaskentyp« bezeichnet werden. Hierbei ist der Bildschirm von der Elektronenquelle aus gesehen, von einer Maske bedeckt, die gemäß einem Muster, das den Stellen entspricht, die ein einziger Leuchtstoff einnimmt, mit Öffnungen versehen ist. Bei einer Dreifarbenröhre finden üblicherweise drei Elektronenstrahlerzeuger Verwendung, die drei Strahlen erzeugen, die sich in der Ebene der Maske schneiden und sich dieser Maske unter verschiedenen Winkeln nähern. Das Leuchtstoffmuster ist derartig, daß jeder von den drei Strahlen, nachdem er durch die Öffnung hindurchgegangen ist, einen bestimmten Leuchtstoff trifft. Es ist ersichtlich, daß, wenn die Leuchtstoffelemente die ganze Bildfläche bedecken, die Öffnun-Verfahren zum Herstellen von Farbschirmen für Elektronenstrahlröhren

Anmelder:

Chromatic Television Laboratories Inc.,

Emeryville, Calif. (V. St. A.)

Vertreter:

Dr. rer. nat. P. Roßbach, Patentanwalt,

Hamburg 1, Mönckebergstr. 7

Als Erfinder benannt:

Chester Rudolf Mueller,

Concord Contra Costa, Calif. (V. St. A.)

Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 28. Dezember 1954
(478 060)

gen höchstens ein Drittel der Auftrefffläche einnehmen können, so daß zwei Drittel der von den Strahlenerzeugern erzeugten Elektronen verlorengehen. In Wirklichkeit wird dieser Höchstwert eines Drittels nie erreicht.

Die gleiche Wirkung ist erzielbar, wenn ein einziger Strahl zunächst abgelenkt und dann wieder zurückgelenkt wird, so daß er an den gewünschten Punkt des Schirmes gelangt. Der Strahl wird dabei der Reihe nach unter drei verschiedenen Winkeln auf die Maske gerichtet, so daß das gleiche Ergebnis erzielt wird, als wenn drei Strahlerzeuger Anwendung finden. In beiden Fällen hängt die wiedergegebene Farbe von dem Winkel ab, unter dem der Strahl auf den Schirm auftrifft.

Bei der zweiten Kategorie von Wiedergaberöhren findet ein Mikroablenksystem mit Nachfokussierung Anwendung, um den ankommenden Strahl auf eine Fläche zu richten, die mit einem bestimmten Leuchtstoff überzogen ist. In diesem Fall ist die Maske von einem Gitter ersetzt, das aus verhältnismäßig dünnen Drähten besteht, die nur einen geringen Teil der Bildfläche bedecken. Der übrige Teil dieses Gitters

509 717/271

besteht aus öffnungen, deren Abmessungen viel mehr denjenigen einer Gruppe von Leuchtstoffelementen oder einer Farbzelle entsprechen als denjenigen einer einzigen Leuchtstoffkomponente der Gruppe. Ein großer Teil der auf ein solches Gitter gerichteten Elektronen geht durch die Öffnungen hindurch.

Um die Elektronen, die durch eine beliebige Öffnung des Gitters hindurchgegangen sind, auf einen in einer bestimmten Farbe aufleuchtenden Leuchtstoff zu richten, wirkt jede Öffnung wie die Pupille einer Elektronenlinse. Infolgedessen ist der Zusatz von wenigstens einer weiteren durchlässigen Elektrode erforderlich, die mit einem Potential in bezug auf die Kathode des Elektronenstrahlerzeugers wirkt, das sich von demjenigen des zuerst erwähnten Gitters unterscheidet, und so mit diesem Gitter ein elektrisches Feld liefert, das den Elektronenstrahl auf einer Fläche sammelt, die erheblich kleiner als die Öffnung des Linsengitters ist, so daß der Strahl auf einen einzigen Leuchtstoff beschränkt wird.

Die einfachste Bauart ist die, bei der eine leitende Schicht auf die Leuchtstoffoberfläche aufgebracht wird. Wenn das Potential der leitenden Schicht derartig ist, daß die Elektronen, nachdem sie durch die Gitteröffnungen hindurchgegangen sind, beschleunigt werden, sind die vom Gitter und von der Schicht gebildeten Elektronenlinsen Konvergenzlinsen. Die von dem Schirm wiederzugebende Farbe kann durch den Winkel bestimmt werden, unter dem der Strahl auf den Schirm auftrifft, wie dies vorstehend für Röhren mit Maske beschrieben worden ist, oder durch Potentialdifferenzen zwischen den die Linsenöffnung bestimmenden Teilen, die dadurch eine Ablenkung des Strahles und außerdem eine Fokussierung auf der Strecke bewirken, die der Strahl zwischen Gitter und Schirm durchläuft (Mikroablenkung mit Nachfokussierung).

Eine solche Mikroablenkung ist am besten erzielbar, wenn das Gitter aus im wesentlichen parallelen, ausgespannten Leitern und der Leuchtstoffschirm aus Streifen oder Linien der verschiedenen Leuchtstoffe besteht, welche Leuchtstofflinien parallel zu den Gitterdrähten verlaufen.

Abgesehen von der erforderlichen Genauigkeit und den äußerst geringen Abmessungen der Phosphoroberflächen, wenigstens in einer Richtung, ist der Bau eines Schirmes für eine Maskenröhre verhältnismäßg einfach. Bei diesen Röhren sind die Elektronenbahnen von einem virtuellen Ausgangspunkt aus durch die Maske hindurch zum Schirm hin geradlinig. Das Muster eines jeden Leuchtstoffes ist mit demjenigen der Maskenöffnungen identisch, jedoch in etwas vergrößertem Maßstab, wobei die Abmessungen einer jeden Leuchtstofffläche sich den Abmessungen der entsprechenden öffnung verhalten wie der Abstand der virtuellen Elektronenquelle vom Schirm zu dem Abstand dieser Quelle von der Maske. Die virtuelle Elektronenquelle ist dabei der Ablenkungsmittelpunkt des Strahles. Solche Schirme können photographisch hergestellt werden, weil der Elektronenstrahl von einem Lichtstrahl ersetzt werden kann. Die Maske selbst oder eine Reproduktion kann dabei als Schattenmaske Anwendung finden. Mittels dreier Belichtungen, je aus einem verschiedenen Mittelpunkt, können Mutterschirme für jeden Leuchtstoff eines Dreifarbenschirmes hergestellt werden.

Bei Mikroablenkungsröhren ist ein solches photographisches Verfahren nicht möglich, weil die Bahn des Strahles vom Mittelpunkt zum Schirm nicht geradlinig ist, so daß der Strahl nicht von einem Lichtstrahl ersetzt werden kann. Sollte der Elektronenstrahl von einem Lichtstrahl ersetzt werden, so würde der Schirm unbrauchbar sein, weil die belichteten Oberflächen die Breite der Gitteröffnungen aufweisen würden, die viel größer als die mit einem

ίο bestimmten Leuchtstoff zu überziehende Oberfläche sind. Die verschiedenen Leuchtstofflinien würden somit einander überlagert sein.

Gemäß einem bekannten Verfahren werden in einer Röhre mit Nachfokussierung und Mikroablenkung die Farblinien auf dem lichtoptischen Wege mittels einer Mutterplatte aufgetragen, die an der Stelle der Mikroablenkgitter angeordnet wird. Die Abweichungen in der Strahlablenkung sind aber nicht auf der Mutterplatte vorhanden.

Die Abmessungen der bestimmten Gitteröffnungen und Gitterschirmabständen entsprechenden Leuchtstoffoberflächen können berechnet werden. Es ist jedoch äußerst schwierig, einen Schirm nach diesen Berechnungen herzustellen.

Drei verschiedene Wirkungen der Elektronenlinsen sind weiter wichtig für den Bau solcher Gitter-Schirmkombinationen:

a) Brechung oder die Abweichung des Strahles von der geraden Bahn;

b) Fokussierung oder das Maß, um welches der Strahl konzentriert wird, und somit die Feinheit des Flecks, den der Strahl auf dem Schirm erzeugt, und

c) (bei der Verwendung von Mikroablenkung) die Ablenkempfindlichkeit.

Alle diese drei Wirkungen ändern sich mit dem Ablenkwinkel des abtastenden Strahles. Insbesondere an den Rändern des Schirmes sind die Abweichungen verhältnismäßig groß, so daß diese Wirkungen bei der Herstellung des Schirmes beachtet werden müssen. Nur mit sehr verwickelten Verfahren, beispielsweise durch Belichtungen des Schirmes in getrennten Zonen, könnte optisch ein brauchbarer Schirm hergestellt werden.

Es ist bekannt, eine Mutterplatte für einen Farbschirm derart herzustellen, daß der Elektronenstrahl selbst die Linien jeder Farbe aufzeichnet. Der Strahl erzeugt dabei eine weiße Lichtspur auf einem Schirm, die durch ein entsprechendes Farbfilter auf eine Farbplatte übertragen wird. Dabei werden die benötigten Korrekturen zu gleicher Zeit mit aufgezeichnet.

Weiter ist es bekannt, daß ein Elektronenstrahl für die Belichtung einer photographischen Emulsion dienen kann.

Diese Verfahren sind aber im vorliegenden Fall nicht ohne weiteres zur Herstellung einer Mutterplatte für Mikroablenkröhren anwendbar, weil die Breite jeder Farblinie größer sein soll als der Durchmesser des Strahles am Auftreffpunkt.

Eine Defokussierung des Strahles zur Vergrößerung des Strahldurchmessers ist aber nicht zulässig, weil dann die Betriebsbedingungen nicht mehr gewährleistet sind.

Ein praktisch gut brauchbares Verfahren zum Anbringen von Leuchtstoffen in einem bestimmten Muster auf solchen Bildschirmen ergibt sich, wenn

gemäß der Erfindung das Verfahren durch die nach- schiedlichen Leuchtstoffe werden dabei der Reihe folgenden Schritte gekennzeichnet wird: nach, je nach der Entwicklung des vorhergehenden,

a) Überziehen der Grundplatte, die im wesent- vorgesehen.

liehen ein Ebenbild des Bildschirmes ist, mit Die Erfindung wird nachstehend an Hand einer

einer photographischen Emulsion, die für einen 5 Zeichnung näher erläutert, in der

Elektronenbeschuß empfindlich ist; Fig. 1 einen Schnitt durch eine Ausführungsform

b) Einbauen der Grundplatte in ein demontier- ^e"!f j³^ *^um Durchführen des Verfahrens gebares Vakuumsystem; maß der Erfindung zeigt, wahrend

el Evakuieren des Vakuumsvstems· ^Flg· ^{2 schaublldllch emen Teli der Fl}§- ^{l und}

CJ evakuieren des VaKuumsystems, _{io p}._{g 3} ^ _{idealisiertes BUd der Weise darstellt},

d) Anlegen der Betriebsspannungen an die ver- _{in der die E}i_{ektronen auf d}j_e lichtempfindliche schiedenen Elektroden, wodurch die Ablenk- _Schicht f_okussi_ert werden.

felder für die Abtastung der Grundplatte mit _{Fig> 1 zeigt ein sogenanntes} demontierbares

dem Elektronenstrahl erzeugt und auf der mit Vakuumsystem, das in Wirklichkeit eine übliche

einer photographischen Emulsion versehenen ₁₅ Elektronenstrahlröhre ist, die mit einem entfernbaren

Grundplatte ein Raster geschrieben wird, das Bildschirm versehen ist und entlüftet werden kann,

dem Raster entspricht, das im Betneb der _{Hn solches} vakuumsystem weist einen Kolben IQ

Rohre abgetastet wird; _{auf; der auf übliche Weise mit einem Hals 12 ver}.

e) zusätzliche Mikroablenkung des fokussierten _sehen ist. In dem Hals ist ein üblicher Elektronen-Strahles durch Anlegen einer zusätzlichen 20 strahlerzeuger angeordnet, der eine Kathode 1 als Wechselspannung an die zwei Sätze des zusatz- Elektronenquelle, eine Steuerelektrode 2, eine erste liehen Linsensystems; dadurch tastet der Strahl Anode 3 und eine zweite Anode 4 enthält, um einen einen Bereich ab, der breiter als der Brennfleck Elektronenstrahl erzeugen zu können. Auch ist ein des Strahles und gleich dem für einen einzelnen Paar Ablenkspulen 5 vorgesehen, um zu bewirken, Leuchtstoffbezirk ist; 25 daß der Strahl 14 ein Raster auf der Grundplatte 16

f) Entfernen der Grundplatte aus dem Vakuum- beschreibt. Bei der Anordnung des Gerätes ist die system; Oberfläche 21 der Grundplatte 16 mit einer Phos-

g) Entwickelnder Emulsion, um das gewünschte phorschicht überzogen, die von einer leitenden Aluoptische Muster zu erzielen, und miniumschicht 19 bedeckt ist und em Lichtmuster

h) Aufbringen der Leuchtstoffe auf dem Bild- ³° ™P> ^we _T ⁿⁿ, ^die Leuchtstoffschicht abgetastet wird.

schirm gemäß dem Muster. dieses Lichtmuster ist durch die durchsichtige

⁰ Deckplatte des demontierbaren Systems hindurch

Die Grundplatte mit diesem optischen Muster sichtbar.

kann als Mutterschirm zum Herstellen eines Bild- Zwischen der Grundplatte 16 und dem Elekschirmes nach einem Druckverfahren dienen. Für die 35 tronenstrahlerzeuger sind eine Anzahl Gitterdrähte anderen Leuchtstoffmuster können von dem in der 20 angeordnet. Diese Gitterdrähte sind in zwei vorstehend angegebenen Weise gemäß der Erfindung zwischeneinanderliegende und gegeneinander isoerzielten Mutterschirm Mutterschirme hergestellt lierte Sätze unterteilt, an die somit verschiedene Powerden. tentiale angelegt werden können (F i g. 2) und auch

Die Grundplatte wird vorzugsweise in einem de- 40 an die Metallschicht 19 zum Erzielen der Elektronenmontierbaren Vakuumsystem angeordnet, und zwar bahnen nach Fig. 3.

auf in bezug auf die linsendarstellenden Elemente Das demontierbare Vakuumsystem weist einen

entsprechende Weise wie der Bildschirm in der metallenen Tragflansch 22 auf, der dauerhaft am

Röhre. Nach der Entlüftung können dann die erfor- Rand des Glaskolbens 10 befestigt ist. Dieser

derlichen elektrischen Felder angelegt werden. Die 45 Trägerflansch 22 dient dazu, die Grundplatte 16 mit

zusätzliche Ablenkung kann durch Änderung des den beiden Gittern 20 in der richtigen Lage gegen-

Kraftlinienfeldes selbst oder durch Überlagerung von über dem Elektronenstrahlerzeuger in der Röhre zu

Mikroablenkungsfeldern in der Nähe der Grund- befestigen. Die durch ein Scharnier mit dem Flansch

platte erzielt werden. Diese Änderung kann so er- verbundene Deckplatte 18 wird mit Flügelmuttern

folgen, daß wechselweise eine Über- und eine Unter- 50 festgesetzt, während eine luftdichte Verbindung zwi-

fokussierung des Bündels erzeugt wird. Bei der Ver- sehen dieser Deckplatte 18 und dem Flansch 22 vor-

wendung eines Linsensystems, das aus zwei Sätzen gesehen ist, so daß die Röhre durch das Pumprohr

von Leitern besteht, die wechselweise nebeneinander 24 hindurch entlüftet werden kann,

und parallel zueinander in der Nähe der Grundplatte Die Grundplatte 16 paßt in eine Öffnung des

angeordnet sind, wird die zusätzliche Ablenkung 55 Flansches 22 ein und kann mit Hilfe von Klinken 26

vorzugsweise durch die Anlegung sich ändernder in dieser Öffnung befestigt werden.

Potentialdifferenzen zwischen diesen zwei Leiter- Das Verfahren gemäß der Erfindung kann wie

Sätzen erzielt. Um die Elektronen abzuleiten, wird folgt durchgeführt werden:

auf die photographische Emulsionsschicht auf der Nahdem die Grundplatte mit dem Leuchtstoff-Grundplatte noch eine leitende Metallschicht auf- 60 überzug angeordnet und die Röhre entlüftet ist, gebracht, die nach der elektronischen »Belichtung« wird die Wirkung der Röhre visuell kontrolliert und der Grundplatte gelöst wird, bevor die Photoemul- die erforderliche Einstellung durchgeführt. Die mit sion entwickelt wird. Weil der Elektronenstrahl Leuchtstoff überzogene Grundplatte 16 wird dann selbst die »Belichtung« besorgt, ergeben sich samt- von einer anderen Grundplatte ersetzt, bei der die liehe Korrektionen von selbst. Es ist auch möglich, 65 Fläche 21 mit einer lichtempfindlichen Emulsion die Leuchtstoffe in einer lichtbeständigen Emulsion überzogen ist, die auch für Elektronenbeschuß empzu verarbeiten, wobei der Bildschirm selbst als findlich ist. Die Emulsion muß vorzugsweise verGrundplatte dienen kann. Die Emulsionen der unter- zögert wirken und somit verhältnismäßig unempfind-

Claims (1)

1. 7 8

   lieh sein, so daß geringe Lichtmengen, die beim Zu- Die Frequenz dieser Spannungen ist belanglos, wenn sammenbau und Abbau der Röhre erforderlich sind, dafür gesorgt wird, daß die ganze Oberfläche auf keine Belichtung der Emulsion herbeiführen. Da- der gewünschten Breite der Linie während der »Bedurch ist es nicht notwendig, in einem völlig dunklen lichtung« beschrieben wird. Die Amplitude der zuZimmer zu arbeiten. Solche verzögert wirkenden 5 sätzlichen Ablenkspannungen ist jedoch wichtig. Um Emulsionen sind käuflich erhältlich. Vorzugsweise während jeder »Farbperiode« die gleichen Abwird eine Emulsion gewählt, wie sie bei der Photo- weichungen des Flecks auf jeder Leuchtstofflinie zu gravure Anwendung findet. erzielen, muß die Amplitude etwa 70% von der-

   Die Oberfläche 21, auf der jetzt Emulsion vor- jenigen sein, die bei der Wiedergabe eines Bildes handen ist, wird dann so behandelt, daß sich eine io Verwendung findet. Dieser Wert ist jedoch in geelektrisch leitende Metallschicht auf der Emulsions- wissem Maße von den baulichen Größen der Röhre schicht ergibt, wobei die leitende Schicht für Elek- abhängig.

   tronen durchlässig sein muß. Es hat sich heraus- Auf diese Weise liefert das sich ergebende Muster

   gestellt, daß eine Aluminiumschicht, wie sie üb- die richtigen Ausgleiche der Abweichungen von den

   licherweise bei Elektronenstrahlröhren Anwendung 15 augenblicklichen Abmessungen des Flecks und der

   findet, für diesen Zweck befriedigend wirkt. Empfindlichkeit für die Farbablenkung und weiter

   Diese Grundplatte wird dann im Flansch 22 in der für die Brechung des Strahles.

   richtigen Lage in bezug auf die Gitterdrähte be- Nachdem das lichtempfindliche Material dem Elekfestigt, wobei die mit Emulsion überzogene Ober- tronenstrahl ausreichend ausgesetzt worden ist, wird fläche 21 der Kathode zugewendet ist und wobei die 20 Luft in die Röhre eingelassen und die Grundplatte Lage der Lage dieser Teile in der fertigen Elektronen- 16 von den Gittern 20 gelöst und entfernt. Die leistrahlröhre genau entspricht. Die Röhre wird dann tende Schicht wird beispielsweise mit einer geeignemittels der Deckplatte 18 abgeschlossen und entlüftet, ten Lösung von Natriumhydroxyd entfernt, wonach wonach die gleichen Spannungen wie beim Versuch das photographische Material gemäß einem üblichen mit der ersteren Grundplatte angelegt werden. Diese 25 photographischen Verfahren entwickelt wird.
   Spannungen müssen sich zueinander genau so ver- Hierbei kann in Abhängigkeit von der angewandhalten wie in der fertigen Röhre, sie brauchen jedoch ten Emulsion entweder alles entfernt werden, mit nicht den gleichen Wert wie die zuletzt erwähnten Ausnahme von den belichteten Linien, oder die Spannungen zu besitzen. Es müssen beispielsweise nicht belichteten Teile können sichtbar gemacht die an die Gitter 20 angelegten Spannungen nahezu 30 werden. Dann kann die Grundplatte für Druckzwecke ein Viertel der Spannung sein, die an die leitende Verwendung finden. Dazu kann in bekannter Weise Schicht 19 angelegt wird, gerechnet in bezug auf die der Emulsion ein Farbstoff zugesetzt werden. Weil Kathodenspannung. Dieses Verhältnis ändert sich dieser Mutterschirm all die erforderlichen Korreketwas mit dem Ablenkwinkel des Strahles. Die Ab- tionen enthält, werden diese beim Abdrucken auf lenkspannungen werden nunmehr an die Spulen 5 35 den Bildschirm übertragen. Jedes geeignete Druckangelegt, verfahren kann hierbei Anwendung finden.

   Die Linien, die der fokussiert^ Strahl auf der Weil die Abweichungen für benachbarte Linien Grundplatte beschreiben würde, sind erheblich äußerst klein sind, kann derselbe Mutterschirm auch schmaler als die gewünschte Breite der Leuchtstoff- zum Aufdrucken der Linien der anderen Leuchtlinien auf dem fertigen Schirm. Die Fokussierung 40 stoffe dienen, oder es können durch Abdruck- und des Strahles kann in verschiedener Weise so geändert Umkehrverfahren Mutterschirme für die anderen werden, daß der Fleck, den der Strahl auf dem Leuchtstoffe von ihm hergestellt werden.
   Schirm erzeugt, die gewünschten größeren Abmes- Wenn der Bildschirm auf einer gekrümmten sungen erhält, beispielsweise durch Änderung des Oberfläche angebracht wird, beispielsweise auf der Verhältnisses zwischen den fokussierenden Feldern 45 Stirnfläche des Kolbens selbst, kann das Druckbeiderseits des optimalen Wertes, so daß der Fleck verfahren Schwierigkeiten bereiten und kann es durch Über- oder Unterfokussierung vergrößert wirtschaftlicher sein, das Verfahren gemäß der Erfinwird und seine Lage durch Änderungen der Bre- dung zu verwenden, um den Schirm selbst unmittelchung verschoben wird. Dies ergibt eine annähernde, bar herzustellen. In diesem Fall wird das Fenster der jedoch brauchbare Korrektion für die zunehmende 50 Röhre selbst an der Stelle der Grundplatte 16 ange-Brechung des fokussierenden Strahles in der Rieh- ordnet. Das Photomaterial enthält dabei einen der tung der Röhrenachse mit zunehmendem Ablenk- Leuchtstoffe anstatt eines Farbstoffes. Dreimal nachwinkel. Eine magnetische Ablenkspule in der Nähe einander muß dann eine empfindliche Schicht ander Auftrefffläche kann Anwendung finden, durch gebracht, »belichtet« und entwickelt werden, je mit die ein veränderlicher Strom fließt, um den Strahl 55 einem Zusatz eines in einer anderen Farbe aufauf seiner Bahn zwischen Gitter und Auftrefffläche leuchtenden Leuchtstoffes, wobei der Strahl bei jeder zunächst nach der einen Seite und dann nach der folgenden »Belichtung« etwas verschoben werden anderen Seite während der verschiedenen Abtastun- muß, um das Muster für die Linien eines bestimmgen abzulenken, so daß ein Streifen der gewünschten ten Leuchtstoffes abzutasten.
   Breite hinter jeder Gitteröffnung von dem Elek- 60

   tronenstrahl »belichtet« wird. Diese Linien weisen Patentansprüche:
   jedoch nahezu parallele Ränder auf und geben einen

   guten Ausgleich für die Brechung, jedoch nahezu 1. Verfahren zum Aufbringen einer Vielzahl in keine Korrektion für die Änderung der Fleckabmes- verschiedenen Farben aufleuchtender Leuchtstoffe sungen oder der Ablenkempfindlichkeit. Das beste 65 nach einem bestimmten Muster auf den Bild-Verfahren zum Erzielen von Linien der gewünschten schirm einer Farbfernsehelektronenstrahlröhre, in Breite ist jedoch das, bei dem Ablenkspannungen der außer dem fokussierenden Linsensystem ein zwischen den Gitterdrahtsätzen 20 angelegt werden. zusätzliches Linsensystem aus zwei Sätzen ab-

   IO

   wechselnd nebeneinanderliegender, dicht in der Nähe einer Grundplatte ausgespannter paralleler Leiter für eine Mikroablenkung des fokussierten Elektronenstrahles über die verschiedenen Leuchtstoffe angeordnet ist, gekennzeichnet durch folgende Schritte:

   a) Überziehen der Grundplatte, die im wesentlichen ein Ebenbild des Bildschirmes ist, mit einer photographischen Emulsion, die für einen Elektronenbeschuß empfindlich ist;

   b) Einbauen der Grundplatte in ein demontierbares Vakuumsystem;

   c) Evakuieren des Vakuumsystems;

   d) Anlegen von Betriebsspannungen an die verschiedenen Elektroden, wodurch Ablenkfelder für die Abtastung der Grundplatte mit dem Elektronenstrahl erzeugt und auf der Grundplatte ein Raster geschrieben wird, _ao das dem Raster entspricht, das im Betrieb der Röhre abgetastet wird;

   e) zusätzliche Mikroablenkung des fokussierten Strahles durch Anlegen einer zusätzlichen Wechselspannung an die zwei Sätze des zusätzlichen Linsensystems, wodurch der Strahl einen Bezirk abtastet, der breiter ist als der Brennfleck des Strahles und gleich dem für

   ίο

   einen einzelnen Leuchtstoff gewünschten Gebiet;

   f) Entfernen der Grundplatte aus dem Vakuumsystem;

   g) Entwickeln der Emulsion, um das gewünschte optische Muster zu erzielen und

   h) Aufbringen der Leuchtstoffe auf den Bildschirm gemäß dem Muster.

   2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Emulsionsschicht der Grundplatte mit einer leitenden Metallschicht überzogen wird, bevor die Grundplatte im Vakuumraum angeordnet wird, und daß die Metallschicht durch Lösen entfernt wird, nachdem das Raster auf der Emulsion geschrieben ist und bevor die Emulsion entwickelt wird.

   3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger des Bildschirmes in der Elektronenstrahlröhre als Grundplatte verwendet wird, auf die der Reihe nach die verschiedenen, mit der lichtempfindlichen Emulsion versetzten Leuchtstoffe gemäß dem gewünschten Muster aufgebracht werden.

   In Betracht gezogene Druckschriften:
   Deutsche Patentschrift Nr. 862 914;
   USA.-Patentschriften Nr. 2568 448, 2674 649.

   Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

   509 717/271 10.65 © Bundesdruckerei Berlin