DE1140299B - Verfahren zum kontinuierlichen Schweissen von Rohren oder aehnlichen Hohlkoerpern aus Baendern - Google Patents

Verfahren zum kontinuierlichen Schweissen von Rohren oder aehnlichen Hohlkoerpern aus Baendern

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DE1140299B
DE1140299B DEB63347A DEB0063347A DE1140299B DE 1140299 B DE1140299 B DE 1140299B DE B63347 A DEB63347 A DE B63347A DE B0063347 A DEB0063347 A DE B0063347A DE 1140299 B DE1140299 B DE 1140299B
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DE
Germany
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container
cathode
vacuum
getter
electron beam
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Application number
DEB63347A
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English (en)
Inventor
Dr Jacob Bingel
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Borsig GmbH
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Borsig GmbH
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K15/00Electron-beam welding or cutting
    • B23K15/0046Welding
    • B23K15/0053Seam welding
    • B23K15/006Seam welding of rectilinear seams

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Description

  • Verfahren zum kontinuierlichen Schweißen von Rohren oder ähnlichen Hohlkörpern aus Bändern Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum kontinuierlichen Schweißen schnell bewegter, aus endlosen Bändern geformter Schlitzrohre oder ähnlicher Hohlkörper durch Elektronenstrahlerhitzung.
  • Eine in Anwendung befindliche Methode zur Schwedßung schnell bewegter, aus endlosen Bändern geformter Schlitzrohre, die an der Schweißstelle durch Druckrollen zusammengepreßt werden, benutzt für die Aufschmelzung der Schlitzrohrkanten eine Induktionsheizung, die aber einen großen Einsatz an elektrischer Energie erfordert. Beispielsweise werden, zum Schweißen von Rohren aus 3 mm starkem Band bei einer Laufgeschwindigkeit von etwa 45 mlmin 600 kW Energie verbraucht. Dies erklärt sich daraus, daß die Induktionsheizung, abgesehen von großen Streuverlusten, die Erhitzung eines etwa 14 mm breiten Streifens am Rohrumfang auf einer Länge von etwa 1 m, im Gefolge hat.
  • Diese bekannte Schweißmethode verursacht aber auch Entmischungen im Gefüge des Materials, die für die Schweißnaht nicht tragbar sind, so daß die jetzige Fabrikation der Rohre auf die Verwendung von unberuhigt vergossenem, zu. Bändern ausgewalztem Stahl angewiesen ist, bei dem die Bandkanten ja praktisch als reines Eisen anzusehen. sind.
  • Diese Mängel des bekannten Verfahrens werden bei Anwendung einer hochkonzentrierten Wärmeübertragung durch Elektronenstrahlerhitzung vermieden, bei der nur schmale Bezirke schnell auf Schmelztemperatur gebracht werden. Da die aneinanderstoßend'en Schlitzkanten augenblicklich weit über die Schmelztemperatur erhitzt werden, ist ein starker Anpreßdruck nicht erforderlich, so. daß praktisch keine Schweißgrat entsteht, der gerade im Innern. der Rohre schwer zu entfernen ist. Weiter kann die Schweißgeschwindigkeit infolge der extrem hohen Wärmeübertragung gerade bei linear ausgedehnten Elektronenquellen gesteigert werden. Damit alle Punkte des Rohrschlitzes erfaßt werden, kann die Ebene des Elektronenstrahls etwas schräg zur Schlitzkantenriehtung eingestellt werden.
  • Erfindungsgemäß wird vorgeschlagen, die Schlitzrohre oder geschlitzten Hohlkörper mittels Elektronenstrahlerhitzung innerhalb einer Vakuumkammer zu verschweißen, die sie durchlaufen.
  • Es ist zwar bereits bekannt, Werkstoffe innerhalb eines abgeschlossenen Vakuumraumes, der auf einen Druck von 10-5 bis 10r4 Torr gehalten wird, mittels Elektronenstrahlerhitzung zu schweißen. Doch lassen sich diese bekannten Methoden nicht mit dein neuen Vorschlag vergleichen, da es bei letzterem gar nicht möglich ist, einen abgeschlossenen Hochvakuumraum herzustellen. Das bewegte Schlitzrohr enthält nicht nur Luft von Atmosphärendruck sondern führt diese auch immer wieder neu heran. Auch würde das Durchlaufen einer abgeschlossenen Vakuumkammer nicht erlauben, diese auch bei Auswahl bester Dichtungsmanschetten auf Hochvakuum zu halten.
  • Andererseits sollen die Schlitzkanten von einem Elektronenstrahl getroffen werden, der nur in einem Hochvakuum erzeugt und weitergeleitet werden kann.
  • Diese technische Situation ist neu und ungewöhnlich; zu ihrer Beherrschung sind demgemäß auch ungewöhnliche Mittel erforderlich, zumal die Glühkathode als Qulle der Elektronen diese nicht nur kurzzeitig emittieren soll, sondern auch eine lange Lebensdauer bei voller Emission im Dauerbetrieb haben muß.
  • Zur Bewältigung der vakuumtechnischen Schwierigkeiten beim urgang von Atmosphärendruck auf Hochvakuum wird von dem, bekannten vakuumtechnischen Prinzip der notwendigen Verbindung von Vorvakuum- und Hochvakuumräumen erfindungsgemäß in. der Art Gebrauch gemacht, d'aß zwischen Rohr und Glühkathode entlang des Elektronenstrahls Luftpumpen verschiedener Wirkungsart in Abständen voneinander eingesetzt werden, um eine kontinuierliche Druckabnahme bis zur Kathode zu erreichen. So wird z. B. ein erstes. Vorvakuum erfindungsgemäß dadurch hergestellt, daß innerhalb des sich bewegenden Rohres ein feststehender Saugstutzen, der mit einer Vorvakuumpumpe verbunden ist, angeordnet wird, der zusammen mit zwei Dichtungsmanschetten einen luftverdünnten Raum .erzeugt und abteilt. Weitere Pumpen innerhalb der Vakuumkammer schließen sich an.
  • Aber auch diese Maßnahmen allein reichen zum Schutze der Glühkathode gegen.Gasangriff nicht aus. Es ist eine bekannte Tatsache, daß die Lebensdauer einer Glühkathode, in verstärktem Maße einer hochempfindlichen Oxydkathode mit starker Emission, inmierhalb eines nicht .abgeschlossenen .Raumes, der laufend evakuiert wird, sehr begrenzt ist, da die Restgase auch bei extrem niedrigem Druck aus Sauerstoff und Stickstoff bestehen, welche chemisch mit dem Kathodenmetall reagieren; dies erfolgt um so- schneller, je mehr diese Restgase durch den durchgehenden Elektronenstrom jonisiert sind. Als noch weit gefährlicher .erweist sich das Jonenbombardement, dem die Glühkathode als tiefste Potentialstelle im elektrischen Kraftfeld ausgesetzt ist. Jedes positive Jon des Vakuumraumes erreicht nach einigen Hin- und Hergängen schließlich die Kathode, und zwar bei Spannungen von 104 bis 105 Volt mit.Starker Wucht, und zerstört diese mechanisch.
  • Erfindungsgemäß werden deshalb die weiteren Maßnahmen vorgeschlagen: 1. Die Glühkathode wird in einem praktisch geschlossenen metallischen Behälter (Kathoden- ; behälter) untergebracht, der durch eine Diffu-- sionspumpe evakuiert werden kann, in Richtung auf die Schweißnaht einen schmalen, beispielsweise mehrere Millimeter breiten Schlitz frei läßt, in Spuren verdampfendes Gettermetall enthält und an eine elektrische Spannung gelegt wird, die niedriger als. die Kathodenspannung ist.
  • 2. Der Kathodenbehälter ist in Richtung zur Schweißnaht metallisch und dicht mit einem weiteren Behälter (Getterbehälter) verbunden, der kurz vor der Schweißnaht einen schmalen, beispielsweise mehrere Millimeter breiten Schlitz frei läßt und in seinem Innern eine Glühanordnung enthält, die räumlich gegen die Schlitzöffnung versetzt ist.
  • 3. Der Getterbehälter ist auf seiner Grundfläche unter Freilassung des Schlitzes außen mit einem hochisolierenden Material belegt.
  • Die beiden Behälter stellen also hintereinandergeschaltete Teilvakuumräume dar mit kontinuierlichem Druckgefälle über Spaltbreiten. von mehreren Millimetern, die sich jedoch nicht mit bekannten Zwischendruckkammern vergleichen lassen, in denen sich der Druck beiderseits. einer engen Bohrung sprunghaft ändert. Bei den letzteren wird das Druckgefälle mechanisch erreicht, im neuen Vorschlag werden zum Evakuieren der beiden Behälter im wesentlichen die chemischen Mittel der Gettermetalle zur Absorption der Luftreste und die elektrischen Mittel der Jonenfänger zur Ablenkung der Gasjonen von der Kahodenoberfläche angewandt. Da man die Breite des Spaltes sowohl in dem Kathoden- als auch Getterbehälter nicht größer wählen wird als den Durchmesser der röhrenförmigen Glühkathode, werden diese Spalten von einem breiten Elektronenstrahl voll ausgefüllt. Praktisch jedes in den Spalt des Getterbehälters z. B. eintretende Luftmolekül wird durch den Elektronenstrahl dissoziiert. Infolge ihrer Trägheit gelangen die positiven Jonen bei geringster Abweichung ihrer Bahn von der Elektronenstrahlrichtung in das Innere des Behälters und damit in ein starkes negatives Kraftfeld, wo sie von den Behälterwänden aufgefangen und neutralisiert werden. Die so rückgebildeten einatomigen Gase werden abgepumpt oder von den Metalldämpfen gebunden. Da außerdem die vom Rohr kommenden elektrischen Kraft-Linien. zum größten Teil an der Kathode scharf umbiegen, um auf deren Oberfläche als Potentialfläche senkrecht zu stehen, fallen die restlichen Jonen im Kathodenbehälter an der Kathode vorbei und erreichen ebenfalls eine Behälterwand. Andere erzeugte Jonen wandern in zur Kathode senkrechter Richtung zum Behälter ab.
  • Die Anordnung einer horizontalen Glühkathode, die senkrecht zu den Feldlinien steht, ist nicht so günstig wie eine vertikal angeordnete Kathode, da im ersteren Fall die Feldlinien an der oberen Zylinderfläche der Kathode nicht angreifen und damit nur der halbe Sättigungsstrom zustande kommt, während im zweiten Fall alle emittierten Elektronen von dem Feld erfaßt werden. In diesem. Falle würden die Elektronen durch eine kreisförmige Öffnung des Kathodenbehälters austreten. Praktisch verlaufen dann die Feldlinien parallel zum Strahl und zur Kathode, auf der sie zum Teil nach scharfer Umbiegung in unmittelbarer Nähe der Kathodenoberfläche enden. Damit erreicht man aber gleichzeitig den weiteren Vorteil, daß alle von der Schweißnahtöffnung laufend eintretenden Gasmoleküle im jonisierten Zustand lediglich dem geradlinigen Teil der Feldlinien infolge ihrer Trägheit folgen und damit von der Kathode ferngehalten werden.
  • Es ist bekannt, da.ß bei der Emission von Glühelektronen eine negative Raumladung an der Kathodenoberfläche überwunden werden muß, welche ein Spannungsgefälle erfordert. Sofern diese Raumladung durch jonisierte Gasreste kompensiert wird, kann der Austritt der Elektronen auch bei ungünstiger Feldverteilung durch kleinste elektrische Kräfte bewirkt werden. Erfindungsgemäß erreicht man dies dadurch, daß man an der Diffusionspumpe, entgegen der üblichen Weise, keine Kühlfälle, gefüllt mit flüssiger Luft, vorsieht und damit dem Quecksilberdampf Einlaß in die Umgebung der Kathode verschafft( Druck= 10-3 mm Hg); dessen jonisierten Atome kompensieren dann die Raumladung. Diese Maßnahme ist unter Berücksichtigung der Lebensdauer der Kathode möglich, da Quecksilberdampf chemisch neutral ist und seine jonisierten Atome zum negativ geladenen Kathodenbehälter abwandern.
  • Der westere an den Kathodenbehälter angeschweißte Behälter hat auch den Zweck, ein. günstiges Vorvakuum für den Kathodenraum herzustellen. Im besonderen enthält er eine Glüheinrichtung mit spiralförmigem Heizdraht, über den ein Porzellanröhrchen und darüber ein Röhrchen aus Gattenmetall, vorzugsweise Zirkon, gestülpt ist. Je nach der Stärke des Heizstromes kann die Menge des spurenförmigen Getterdampfes reguliert werden: Es empfiehlt sich, auch diesen Raum durch eine besondere Pumpe zu evakuieren.
  • Da der Getterbehälter ebenfalls auf negatives Potential infolge der metallischen Verbindung gebracht ist, wirken die Wände desselben nicht nur als Jonenfänger, sondern auch als elektrische »Linse«, welche den Strahl zusammenhält. Da in elektrischer Hinsicht das zu schweißende Rohr auf Erdpotential gehalten werden muß, kommen lohe negative Spannungen an der Kathode zustande, zumal die beiden aufeinander zwar abgestimmten, aber engen Schlitze nur einen kleinen. »Durchgriff« der elektrischen Kraftlinien zulassen. Die Spannung der beiden Behälter ist demgemäß dem absoluten Betragen nach erst recht hoch. Daraus ergibt sich die Notwendigkeit einer guten Isolation der Herausführung durch die äußere Wand des Vakuumbehälters. So ist es auch erforderlich, die Grundplatte des Getterbehälters, welche entweder direkt auf oder unmittelbar nahe bei dem zu verschweißenden Rohr angebracht ist, mit einem isolierenden Belag zu versehen. Ebenfalls zu isolieren sind die Stützen zwischen Innen- und Außenbehälter.
  • Ein Ausführungsbeispiel der Vorschläge bringen die Fig. 1 bis 5. Dabei stellt Fig. 1 den Längsschnitt der Vakuumanlage, Fig. 2 den Querschnitt derselben nach der Schnittlinie II-11 der Fig. 1 dar, während Fig. 3 und 4 die jeweiligen Grundplatten der beiden Behälter und Fig. 5 eine isolierte Durchführung versinnbildlichen. Es bedeutet in der Fig. 1 und 2 B den Vakuumbehälter, durch den: das zu verschweißende Rohr R geführt ist, Sp den Schweißspalt, K1 die Kathodenkammer, k die indirekt geheizte Kathode, K, den Getterbehälter, Ge die Gettervorrichtung, S1, S-., s3 Saugstutzen von Vakuumpumpen; s den Schlitz für den Durchtritt des Elektronenstrahls, El, E., elektrische Spannungen, 1 Isolationsplattem, H -Haltevorrichtungen. Fig. 3 stellt die Grundplatte Gr des Getterbehälters nach Schnitt III-111 der Fig.1 dar, die auch den Kathodenbehälter nach unten abschließt. Fig. 4 zeigt eine Ansicht der Grundplatten mit kreisförmiger Durchtrittsöffnung, während Fig.5 die isolierten Durchführungen in. der Vakuumanlage schematisch darstellt.
  • Die Möglichkeit der Schweißung mit Elektronenstrahlerhitzung setzt scharf gebündelte Strahlen in einem luftverdünnten Raum voraus. Es ist nun ein kennzeichnendes Merkmal der Erfindung, daß diese Elektronenstrahlen im Gegen atz zur Technik der in einem Hochvakuum arbeitenden Elektronenoptik in einem Teilvakuum realisiert werden müssen. Diese neue Technik wird erhellt durch bekanntgewordene Laboratoriumsversuche, in denen man fadenförmige Elektronenstrahlen auch in einem Teilvakuum von 5 - 10-g mm Hg auf längeren Strecken aufrechterhielt. Dies wird dadurch ermöglicht, daß die negative Raumladung innerhalb des Strahls durch die positiven Jonen der Gasreste neutralisiert wird und damit die Abstoßungskräfte aufgehoben werden, womit als Ergebnis ein selbstfokussierter Strahl entsteht. Da nun nach dem Vorhergehenden bis zum Schlitz des Getterbehälters ein Teilvakuum von ungefähr 5 - 10-gmm Hg aufrechterhalten werden kann, lassen sich selbstfokussierte Elektronenstrahlen bis in die Nähe des Schweißspaltes heranführen. Bezüglich des dort herrschenden Vakuums können folgende Bemerkungen gemacht werden. Der Dampfdruck des öls innerhalb der ölgetränkten Dichtungsmanschette an der Durchführung für das Rohr R ist klein. Wirken Saugstuzen und Pumpenlagen im Hauptbehälter richtig zusammen, dann läßt sich für die Umgebung des Schweißspaltes ein Unterdruck von 10-2 mm Hg abschätzen. Damit ist die Gewähr gegeben, daß der Elektronenstrahl den Schweißspalt auf der kurzen Entfernung vom Behälterschlitz zum Rohr mit einigen Millimetern. Abstand ohne Lichtbogenbildung erreicht.
  • Erfindungsgemäß wird vorgeschlagen, durch Gasreste fokussierte Elektronenstrahlen dadurch zu ermöglichen, daß der Teilvakuumdruck innerhalb der Getterkammer auf ungefähr 5 - 10-g mm Hg gehalten wird.

Claims (5)

  1. PATENTANSPRÜCHE: 1. Verfahren zum kontinuierlichen Schweißen von Rohren oder ähnlichen Hohlkörpern aus Bändern, dadurch gekennzeichnet, daß die Schlitzrohre oder geschlitzten Hohlkörper mittels Elektronenstrahlerhitzung innerhalb einer Vakuumkammer, die sie durchlaufen, geschweißt werden, wobei zum Schutze der Glühkathode gegen Gasangriff folgende Maßnahmen vorgesehen werden: a) Gemäß dem bekannten vakuumtechnischen Prinzip der Aneinanderreihung von Vorvakuum- und Hochvakuumräumen werden zwischen Rohr und Glühkathode entlang des Elektronenstrahls Luftpumpen verschiedener Wirkungsart in Abständen voneinander eingesetzt, um eine kontinuierliche Druckabnahme zu erreichen; b) die Glühkathode wird in einem praktisch se= schlossenen metallischen Behälter (Kathodenbehälter) untergebracht, der in der Richtung auf die Schweißnaht einen schmalen, beispielsweise mehrere Millimeter breiten Schlitz frei läßt, in Spuren verdampfendes Gettermetall enthält und an eine elektrische Spannung gelegt wird, die niedriger als die Kathodenspannung ist; c) der Kathodenbehälter ist in Richtung zur Schweißnaht metallisch und dicht mit einem weiteren Behälter (Getterbehälter) verbunden, der kurz vor der Schweißnaht einen schmalen, beispielsweise mehrere Millimeter breiten Schlitz frei läßt und in seinem Innern eine Glühanordnung zur Verdampfung von Gettermetall, vorzugsweise Zirkon in Form eines metallischen Röhrchens, enthält, die räumlich gegen. die Schlitzöffnung versetzt ist; d) der Getterbehälter ist auf seiner Grundfläche unter Freilassung des Schlitzes außen mit einem hochisolierenden Material belegt.
  2. 2. Erzeugung eines ersten Vorvakuums nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß innerhalb des sich bewegenden Rohres ein: feststehender Saugstutzen, der mit einer Vorvakuumpumpe verbunden ist, angeordnet wird, und der zusammen mit zwei Dichtungsmanschetten einen luftverdünnten Raum erzeugt und abteilt.
  3. 3. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Glühkathode in ihrer Achsenrichtung im Kathodenbehälter senkrecht zur Rohrachse angeordnet ist, während die Elektronen durch kreisförmige Öffnungen der Grundplatten in. Richtung zur Schweißnaht austreten.
  4. 4. Abgeändertes Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, d'aß die Quecksilberdiffusionspumpe, die auf den Kathodenbehälter arbeitet, ohne Kühlfalle betrieben wird, so daß die Quecksilberdämpfe den Kathodenbahälter zum Zwecke der Raumladungskompensation anfüllen.
  5. 5. Abgeändertes Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß auch der Getterbehälter auf einen Dampfdruck, der nicht niedriger als 10-s mm Hg ist, gehaltem. wird, um die Entstehung selbstfokussierter Elektronenstrahlen zu ermöglichen. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Auslegeschrift Nr. 1084 398.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1615448B1 (de) * 1966-12-13 1970-12-10 Air Reduction Vorrichtung zur Bearbeitung von Materialien mittels eines Elektronenstrahls

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1084398B (de) * 1958-07-01 1960-06-30 Zeiss Carl Fa Verfahren und Vorrichtung zum Schweissen und Loeten mit Ladungstraegerstrahlen

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