DE112017004468T5 - Electron beam irradiation apparatus and method of using the same - Google Patents

Electron beam irradiation apparatus and method of using the same Download PDF

Info

Publication number
DE112017004468T5
DE112017004468T5 DE112017004468.5T DE112017004468T DE112017004468T5 DE 112017004468 T5 DE112017004468 T5 DE 112017004468T5 DE 112017004468 T DE112017004468 T DE 112017004468T DE 112017004468 T5 DE112017004468 T5 DE 112017004468T5
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
coolant
electron beam
temperature
beam irradiation
coolant path
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE112017004468.5T
Other languages
German (de)
Inventor
Takeshi Noda
Katsunori KUSUNOKI
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Zosen Corp
Original Assignee
Hitachi Zosen Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Zosen Corp filed Critical Hitachi Zosen Corp
Publication of DE112017004468T5 publication Critical patent/DE112017004468T5/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
    • A61L2/08—Radiation
    • A61L2/087—Particle radiation, e.g. electron-beam, alpha or beta radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65B—MACHINES, APPARATUS OR DEVICES FOR, OR METHODS OF, PACKAGING ARTICLES OR MATERIALS; UNPACKING
    • B65B55/00—Preserving, protecting or purifying packages or package contents in association with packaging
    • B65B55/02—Sterilising, e.g. of complete packages
    • B65B55/04—Sterilising wrappers or receptacles prior to, or during, packaging
    • B65B55/08—Sterilising wrappers or receptacles prior to, or during, packaging by irradiation
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K5/00—Irradiation devices
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K5/00—Irradiation devices
    • G21K5/04—Irradiation devices with beam-forming means
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K5/00—Irradiation devices
    • G21K5/10—Irradiation devices with provision for relative movement of beam source and object to be irradiated
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J33/00—Discharge tubes with provision for emergence of electrons or ions from the vessel; Lenard tubes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J33/00—Discharge tubes with provision for emergence of electrons or ions from the vessel; Lenard tubes
    • H01J33/02—Details
    • H01J33/04—Windows
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/002—Cooling arrangements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

Eine Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung (1) umfasst Folgendes: eine Vakuumkammer (2), in der an Elektronenstrahlgenerator (20) angeordnet ist; eine Vakuumdüse (3), die mit der mit ihr kommunizierenden Vakuumkammer (2) verbunden ist; und ein Emissionsfenster (5), das für die Vakuumdüse (3) bereitgestellt ist und über das ein Elektronenstrahl (E) aus dem Elektronenstrahlgenerator (20) nach außen emittiert wird. Ein Kühlmittelpfad, über den Kühlmittel geleitet wird, ist in der Vakuumdüse (3) ausgebildet. Die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung (1) umfasst eine Kühlmitteltemperatureinstelleinheit (7), die konfiguriert ist, um die Temperatur des zum Kühlmittelpfad geleiteten Kühlmittels einzustellen, um in der Umgebung von Nitratsalz (N), das auf der Oberfläche der Vakuumdüse (3) akkumuliert ist, eine relative Feuchtigkeit zu erreichen, bei der ein Zerfließen des Nitratsalzes (N) verhindert wird.

Figure DE112017004468T5_0000
An electron beam irradiation apparatus (1) comprises: a vacuum chamber (2) in which an electron beam generator (20) is disposed; a vacuum nozzle (3) connected to the vacuum chamber (2) communicating therewith; and an emission window (5) provided for the vacuum nozzle (3) and via which an electron beam (E) is emitted outwardly from the electron beam generator (20). A coolant path through which coolant is passed is formed in the vacuum nozzle (3). The electron beam irradiation apparatus (1) includes a coolant temperature adjusting unit (7) configured to adjust the temperature of the coolant path to the coolant path to be in the vicinity of nitrate salt (N) accumulated on the surface of the vacuum nozzle (3). to achieve a relative humidity, in which a flow of the nitrate salt (N) is prevented.
Figure DE112017004468T5_0000

Description

Gebiet der TechnikField of engineering

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung und ein Verfahren zur Verwendung derselben.The present invention relates to an electron beam irradiation apparatus and a method of using the same.

Hintergrund der ErfindungBackground of the invention

Eine Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung, die einen Elektronenstrahl emittiert, wird häufig in verschiedenen Industriebereichen verwendet. Wenn sie zum Sterilisieren eines Behälters oder dergleichen durch Elektronenstrahl-Bestrahlung eingesetzt wird, sind keine Chemikalien erforderlich, weshalb kein Risiko hinsichtlich zurückbleibender Chemikalien besteht. Folglich ist die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung in entwickelten Ländern, wo Sicherheit ein Anliegen ist, weit verbreitet.An electron beam irradiation device that emits an electron beam is widely used in various industrial fields. When used to sterilize a container or the like by electron beam irradiation, no chemicals are required and there is no risk of remaining chemicals. Consequently, the electron beam irradiation device is widely used in developed countries where safety is a concern.

Bei einer typischen Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung reagiert ein emittierter Elektronenstrahl mit der Außenluft und erzeugt korrosives Gas, wie etwa Salpetersäuregas und Ozongas. Eine wichtige Herausforderung im Zusammenhang mit der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung ist daher die Verhinderung von Korrosion. Wenn ein Behälter oder dergleichen durch Elektronenstrahl-Bestrahlung gereinigt wird, blättert ein bei der Korrosion erzeugtes Korrosionsmaterial von der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung ab und fällt in den Behälter oder dergleichen, was zu unzulänglicher Sterilisierung führt. Die Verwendung der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung muss daher oft unterbrochen werden, um das Korrosionsmaterial von der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung zu entfernen.In a typical electron beam irradiation device, an emitted electron beam reacts with the outside air and generates corrosive gas, such as nitric acid gas and ozone gas. An important challenge associated with the electron beam irradiation device is therefore the prevention of corrosion. When a container or the like is cleaned by electron beam irradiation, corrosion material generated by the corrosion peels off from the electron beam irradiation device and falls into the container or the like, resulting in insufficient sterilization. The use of the electron beam irradiation device must therefore often be interrupted to remove the corrosion material from the electron beam irradiation device.

Herkömmliche Offenbarungen schlagen vor, dass Taukondensation, die in der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung auftritt, abgeführt wird, um eine Akkumulierung von Wasser aufgrund von Taukondensation zu verhindern, wodurch wiederum Korrosion verhindert wird (siehe beispielsweise Patentliteratur Nr. 1).Conventional disclosures suggest that dew condensation occurring in the electron beam irradiator is dissipated to prevent accumulation of water due to dew condensation, again preventing corrosion (see, for example, Patent Literature No. 1).

Quellenswell

Patentliteraturpatent literature

Patentliteratur Nr. 1: Japanisches offengelegtes Patent Nr. 2005-156285Patent Literature No. 1: Japanese Patent Laid-Open No. 2005-156285

Zusammenfassung der ErfindungSummary of the invention

Technisches ProblemTechnical problem

Die in der Patentliteratur Nr. 1 offenbarte Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung berücksichtigt zwar Korrosion aufgrund von Taukondensation (tritt ein, wenn die relative Feuchtigkeit bei 100 % liegt), doch nicht Korrosion aufgrund von anderen Faktoren. Liegt beispielsweise die relative Feuchtigkeit in der Umgebung des Nitratsalzes, das aufgrund von Salpetersäuregas auf Metallteilen der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung akkumuliert ist, bei weniger als 100 %, übersteigt jedoch eine vordefinierte Feuchtigkeit, wird das Nitratsalz zu wässriger Lösung, indem es Wasser aus dem umgebenden Gas absorbiert, was als „Zerfließen“ bezeichnet wird. Diese wässrige Lösung besitzt eine extrem große Oxidierungskraft und fördert somit die Korrosion des Metalls in Kontakt mit der wässrigen Lösung. Aus diesem Grund kann die in der Patentliteratur Nr. 1 offenbarte Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung Korrosion bedauernswerterweise nicht ausreichend verhindern;Although the electron beam irradiation apparatus disclosed in Patent Literature No. 1 takes into account corrosion due to dew condensation (occurs when the relative humidity is 100%), it does not account for corrosion due to other factors. For example, if the relative humidity in the vicinity of the nitrate salt accumulated on metal parts of the electron beam irradiation apparatus due to nitric acid gas is less than 100% but exceeds a predefined humidity, the nitrate salt becomes aqueous solution by taking water from the surrounding gas absorb what is termed "deliquescence". This aqueous solution has an extremely high oxidizing power and thus promotes corrosion of the metal in contact with the aqueous solution. For this reason, the electron beam irradiation apparatus disclosed in Patent Literature No. 1 can not sufficiently prevent corrosion sufficiently;

Es ist ein Ziel der vorliegenden Erfindung, eine Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung bereitzustellen, deren Korrosion ausreichend verhindert werden kann.It is an object of the present invention to provide an electron beam irradiation apparatus, the corrosion of which can be sufficiently prevented.

Lösung des Problemsthe solution of the problem

Um das oben beschriebene Problem zu lösen, umfasst eine Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung gemäß einer ersten Erfindung Folgendes: eine Vakuumkammer, in der ein Elektronenstrahlgenerator angeordnet ist; ein Emissionsfenster, über das ein Elektronenstrahl aus dem Elektronenstrahlgenerator nach außen emittiert wird; und einen Kühlmittelpfad, über den Kühlmittel zum Kühlen des Emissionsfensters geleitet wird, wobei
die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung ferner eine Kühlmitteltemperatureinstelleinheit, die konfiguriert ist, um die Temperatur des zum Kühlmittelpfad geleiteten Kühlmittels einzustellen, umfasst, um in der Umgebung von Nitratsalz, das auf einer Oberfläche in der Nähe des Kühlmittelpfads akkumuliert ist, eine relative Feuchtigkeit zu erreichen, bei der ein Zerfließen des Nitratsalzes verhindert wird.In order to solve the above-described problem, an electron beam irradiation apparatus according to a first invention includes: a vacuum chamber in which an electron beam generator is disposed; an emission window through which an electron beam is emitted to the outside from the electron beam generator; and a coolant path over which coolant is directed to cool the emission window, wherein
the electron beam irradiation apparatus further includes a coolant temperature adjusting unit configured to adjust the temperature of the coolant-flow-passing coolant to achieve relative humidity in the vicinity of nitrate salt accumulated on a surface near the coolant path the flow of the nitrate salt is prevented.

Eine Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung gemäß einer zweiten Erfindung ist eine Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung gemäß der ersten Erfindung, ferner umfassend eine Vakuumdüse, die mit der mit ihr kommunizierenden Vakuumkammer verbunden ist, wobei
das Emissionsfenster für die Vakuumdüse bereitgestellt ist und
der Kühlmittelpfad in der Vakuumdüse ausgebildet ist.An electron beam irradiation apparatus according to a second invention is an electron beam irradiation apparatus according to the first invention, further comprising a vacuum nozzle connected to the vacuum chamber communicating therewith
the emission window is provided for the vacuum nozzle and
the coolant path is formed in the vacuum nozzle.

Eine Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung gemäß einer dritten Erfindung ist die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung gemäß der ersten oder zweiten Erfindung, wobei bei der Kühlmitteltemperatur, die durch die Kühlmitteltemperatureinstelleinheit eingestellt wird, die relative Feuchtigkeit in der Umgebung des Nitratsalzes, das auf der Oberfläche in der Nähe des Kühlmittelpfads akkumuliert ist, gleich oder weniger als 30 % ist.An electron beam irradiation apparatus according to a third invention is the electron beam irradiation apparatus according to the first or second invention, wherein at the coolant temperature set by the coolant temperature adjusting unit, the relative humidity in the vicinity of the nitrate salt accumulated on the surface near the coolant path is equal to or less than 30%.

Ein Verfahren zur Verwendung einer Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung gemäß einer vierten Erfindung ist ein Verfahren zur Verwendung einer Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung gemäß der ersten oder zweiten Erfindung. Das Verfahren umfasst Folgendes:

  • Vorab-Berechnen der Temperatur des zum Kühlmittelpfad geleiteten Kühlmittels, um in der Umgebung des Nitratsalzes, das auf der Oberfläche in der Nähe des Kühlmittelpfads akkumuliert ist, eine relative Feuchtigkeit zu erreichen, bei der ein Zerfließen des Nitratsalzes verhindert wird; und
  • Einstellen der Temperatur des zum Kühlmittelpfad geleiteten Kühlmittels auf die berechnete Temperatur durch die Kühlmitteltemperatureinstelleinheit und anschließend Leiten des Kühlmittels zum Kühlmittelpfad.
A method of using an electron beam irradiation apparatus according to a fourth invention is a method of using an electron beam irradiation apparatus according to the first or second invention. The method comprises:
  • Precalculating the temperature of the coolant to the coolant path to reach a relative humidity in the vicinity of the nitrate salt accumulated on the surface in the vicinity of the coolant path, which prevents the nitrate salt from flowing away; and
  • Adjusting the temperature of the coolant path to the coolant path to the calculated temperature by the coolant temperature adjustment unit, and then directing the coolant to the coolant path.

Eine Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung gemäß einer fünften Erfindung umfasst Folgendes: eine Vakuumkammer, in der ein Elektronenstrahlgenerator angeordnet ist; ein Emissionsfenster, über das ein Elektronenstrahl aus dem Elektronenstrahlgenerator nach außen emittiert wird; und einen Kühlmittelpfad, über den Kühlmittel zum Kühlen des Emissionsfensters geleitet wird, wobei
die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung eine Kühlmitteltemperatureinstelleinheit umfasst, die konfiguriert ist, um die Temperatur des zum Kühlmittelpfad geleiteten Kühlmittels auf eine Temperatur einzustellen, bei der Nitratsalz, das auf einer Oberfläche in der Nähe des Kühlmittelpfads akkumuliert ist, sich durch Wärme auflöst.An electron beam irradiation apparatus according to a fifth invention comprises: a vacuum chamber in which an electron beam generator is disposed; an emission window through which an electron beam is emitted to the outside from the electron beam generator; and a coolant path over which coolant is directed to cool the emission window, wherein
the electron beam irradiation apparatus includes a coolant temperature adjusting unit configured to set the temperature of the coolant path to the coolant path to a temperature at which nitrate salt accumulated on a surface near the coolant path dissolves by heat.

Eine Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung gemäß einer sechsten Erfindung ist die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung gemäß der fünften Erfindung, wobei die Kühlmitteltemperatureinstelleinheit die Temperatur des Kühlmittels einstellt, um in der Umgebung des Nitratsalzes, das auf der Oberfläche in der Nähe des Kühlmittelpfads akkumuliert ist, eine relative Feuchtigkeit zu erreichen, bei der ein Zerfließen des Nitratsalzes verhindert wird.An electron beam irradiation apparatus according to a sixth invention is the electron beam irradiation apparatus according to the fifth invention, wherein the coolant temperature adjusting unit adjusts the temperature of the coolant to acquire a relative humidity in the vicinity of the nitrate salt accumulated on the surface in the vicinity of the coolant path reach, in which a flow of the nitrate salt is prevented.

Vorteilhafte Auswirkungen der ErfindungAdvantageous effects of the invention

Gemäß der oben beschriebenen Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung und einem Verfahren zur Verwendung desselben wird Nitratsalz, das auf einer Oberfläche in der Nähe eines Kühlmittelpfads akkumuliert ist, nicht zu wässriger Lösung, wodurch Korrosion erfolgreich verhindert werden kann.According to the above-described electron beam irradiation apparatus and a method of using the same, nitrate salt accumulated on a surface in the vicinity of a coolant path does not become an aqueous solution, whereby corrosion can be successfully prevented.

Figurenlistelist of figures

  • [1] 1 ist eine Längsquerschnittsansicht, die eine schematische Konfiguration einer Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.[ 1 ] 1 Fig. 15 is a longitudinal cross-sectional view showing a schematic configuration of an electron beam irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • [2] 2 ist eine vergrößerte Längsquerschnittsansicht, die eine Vakuumdüse zeigt, welche von der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung umfasst ist.[ 2 ] 2 Fig. 15 is an enlarged longitudinal cross-sectional view showing a vacuum nozzle included in the electron beam irradiation apparatus.
  • [3] 3 ist ein Diagramm, das das Ergebnis eines Experiments zur Berechnung einer relativen Feuchtigkeit, bei der Nitratsalz zerfließt, darstellt.[ 3 ] 3 Figure 11 is a graph illustrating the result of an experiment to calculate a relative humidity at which nitrate salt deliquesces.
  • [4] 4 ist ein Diagramm, das das Verhältnis zwischen der Temperatur eines Kühlmittels, das einem in der Vakuumdüse ausgebildeten Kühlmittelpfad zugeführt wird, und der relativen Feuchtigkeit in der Umgebung der Oberfläche der Vakuumdüse zeigt.[ 4 ] 4 FIG. 15 is a graph showing the relationship between the temperature of a coolant supplied to a coolant path formed in the vacuum nozzle and the relative humidity in the vicinity of the surface of the vacuum nozzle.
  • [5] 5 ist eine Fotografie der Vakuumdüse nach kontinuierlicher Verwendung einer Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung gemäß einem Beispiel für die vorliegende Erfindung.[ 5 ] 5 Fig. 10 is a photograph of the vacuum nozzle after continuous use of an electron beam irradiation apparatus according to an example of the present invention.
  • [6] 6 ist eine Fotografie, die 5 entspricht, gemäß einem Vergleichsbeispiel.[ 6 ] 6 is a photograph that 5 corresponds, according to a comparative example.
  • [7] 7 ist eine Längsquerschnittsansicht, die eine schematische Konfiguration einer Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.[ 7 ] 7 Fig. 12 is a longitudinal cross-sectional view showing a schematic configuration of an electron beam irradiation apparatus according to another embodiment of the present invention.
  • [8] 8 ist eine vergrößerte Längsquerschnittsansicht, die Teil D von 7 zeigt.[ 8th ] 8th is an enlarged longitudinal cross-sectional view, the part D of 7 shows.

Beschreibung von AusführungsformenDescription of embodiments

Es wird nun eine Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben.An electron beam irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention will now be described with reference to the accompanying drawings.

Wie in 1 gezeigt, umfasst die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung eine Vakuumkammer 2, in der ein Elektronenstrahlgenerator 20 angeordnet ist, eine Vakuumdüse 3, die mit der mit ihr kommunizierenden Vakuumkammer 2 verbunden ist, und ein Emissionsfenster 5, das für die Vakuumdüse 3 bereitgestellt ist und über das ein Elektronenstrahl E aus dem Elektronenstrahlgenerator 20 nach außen emittiert wird. Bei dieser Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1 ist in der Vakuumdüse 3 ein Kühlmittelpfad (in 1 nicht gezeigt) ausgebildet, über den das Kühlmittel geleitet wird.As in 1 As shown, the electron beam irradiation apparatus comprises a vacuum chamber 2 in which an electron beam generator 20 is arranged, a vacuum nozzle 3 , with the communicating with her vacuum chamber 2 connected, and an issue window 5 That for the vacuum nozzle 3 is provided and over which an electron beam e from the electron beam generator 20 is emitted to the outside. In this electron beam irradiation device 1 is in the vacuum nozzle 3 a coolant path (in 1 not shown), through which the coolant is passed.

Das zur Beschleunigung des Elektronenstrahls E aus dem Elektronenstrahlgenerator 20 geeignete Ausmaß an Vakuum wird in der Vakuumkammer 2 und der Vakuumdüse 3 erreicht. Die Vakuumdüse 3 ist angeordnet, um den Elektronenstrahl E von einer Seite (nachstehend als Basisendseite bezeichnet), auf der die Vakuumdüse 3 mit der Vakuumkammer 2 verbunden ist, zu einer der Basisendseite entgegengesetzten Seite (nachstehend als Vorderendseite bezeichnet), zu führen. Anders ausgedrückt ist die Vakuumdüse 3 so angeordnet, dass die axiale Mitte der Vakuumdüse 3 mit der Bewegungsrichtung des Elektronenstrahls E fluchtend ausgerichtet ist. Das Emissionsfenster 5 ist auf Vorderendseite der Vakuumdüse 3 angeordnet, um das Innere der Vakuumdüse 3 abzudichten.This is to accelerate the electron beam E from the electron beam generator 20 appropriate level of vacuum is in the vacuum chamber 2 and the vacuum nozzle 3 reached. The vacuum nozzle 3 is arranged to the electron beam e from one side (hereinafter referred to as base end side) on which the vacuum nozzle 3 with the vacuum chamber 2 is connected to one of the base end side opposite side (hereinafter referred to as the front end side) to lead. In other words, the vacuum nozzle 3 arranged so that the axial center of the vacuum nozzle 3 with the direction of movement of the electron beam e is aligned. The emission window 5 is on front end side of the vacuum nozzle 3 arranged around the inside of the vacuum nozzle 3 seal.

Die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1 umfasst eine Kühlmittelzirkuliereinheit 6, die konfiguriert ist, um das Kühlmittel über den in der Vakuumdüse 3 ausgebildeten Kühlmittelpfad zu zirkulieren, um eine Schädigung des Emissionsfensters 5 zu vermeiden, das auf hohe Temperatur erwärmt wird, während der Elektronenstrahl E durch das Emissionsfenster 5 hindurchtritt. Die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1 umfasst auch eine Kühlmitteltemperatureinstelleinheit 7, die konfiguriert ist, um die Temperatur des über den Kühlmittelpfad zirkulierenden Kühlmittels einzustellen. Ein herkömmlicher Zweck der Kühlmittel-Zirkulierung besteht darin, „durch Kühlen des Emissionsfensters 5 eine Schädigung des Emissionsfensters 5 zu verhindern, das auf eine hohe Temperatur erwärmt wird, während der Elektronenstrahl E durch das Emissionsfenster 5 hindurchtritt“. Somit ist die Obergrenze der durch die Kühlmitteltemperatureinstelleinheit 7 eingestellten Kühlmitteltemperatur eingestellt, um diesen herkömmlichen Zweck zu erreichen.The electron beam irradiation device 1 includes a coolant circulation unit 6 that is configured to move the coolant over in the vacuum nozzle 3 circulated coolant path to damage the emission window 5 to avoid being heated to high temperature while the electron beam e through the emission window 5 passes. The electron beam irradiation device 1 also includes a coolant temperature adjustment unit 7 configured to adjust the temperature of the coolant circulating over the coolant path. A common purpose of the coolant circulation is by cooling the emission window 5 damage to the emission window 5 which is heated to a high temperature while the electron beam E passes through the emission window 5 passes ". Thus, the upper limit is that through the coolant temperature adjusting unit 7 set coolant temperature set to achieve this conventional purpose.

Bei einer typischen Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung, wie in 1 gezeigt, erzeugt der aus dem Emissionsfenster 5 emittierte Elektronenstrahl E Salpetersäuregas G durch Reaktion mit der Außenluft, und aufgrund des Salpetersäuregases G akkumuliert Nitratsalz N auf der Oberfläche der Vakuumdüse 3 oder dergleichen. Dasselbe gilt für die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1 gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Das Nitratsalz N akkumuliert nicht nur auf der Oberfläche der Vakuumdüse 3, sondern auch auf der Oberfläche jeder Komponente der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1, die dem Salpetersäuregas G ausgesetzt ist. Bei der vorliegenden Ausführungsform betreffen die Beschreibung und die Veranschaulichung hauptsächlich das auf der Oberfläche der Vakuumdüse 3 akkumulierte Nitratsalz N, das Probleme verursacht. Die Art des Nitratsalzes N hängt vom Material der Vakuumdüse 3 ab, das dem Salpetersäuregas G ausgesetzt ist. Beispielsweise umfasst das Nitratsalz N, wenn das Material (Nickel-, Eisen- und Chromhaltigen) Edelstahl und Kupfer umfasst, Nickelnitrat, Eisennitrat, Chromnitrat und Kupfernitrat.In a typical electron beam irradiation device, as in FIG 1 shown, the generated from the emission window 5 emitted electron beam E nitric acid gas G by reaction with the outside air, and due to the nitric acid gas G accumulates nitrate salt N on the surface of the vacuum nozzle 3 or similar. The same applies to the electron beam irradiation device 1 according to the embodiment of the present invention. The nitrate salt N not only accumulates on the surface of the vacuum nozzle 3 but also on the surface of each component of the electron beam irradiation device 1 containing the nitric acid gas G is exposed. In the present embodiment, the description and the illustration mainly refer to that on the surface of the vacuum nozzle 3 accumulated nitrate salt N that causes problems. The type of nitrate salt N depends on the material of the vacuum nozzle 3 off, the nitric acid gas G is exposed. For example, the nitrate salt includes N if the material comprises (nickel-, iron- and chromium-containing) stainless steel and copper, nickel nitrate, iron nitrate, chromium nitrate and copper nitrate.

Wenn die relative Feuchtigkeit in der Umgebung der Oberfläche der Vakuumdüse 3 bei 100 % liegt, mit anderen Worten, wenn auf der Oberfläche der Vakuumdüse 3 Taukondensation eintritt, wird das Nitratsalz N auf natürliche Weise zu wässriger Lösung, indem es aufgrund der Taukondensation Wassertropfen absorbiert. Diese wässrige Lösung besitzt eine extrem große Oxidierungskraft und fördert somit die Korrosion des Metalls in Kontakt mit der wässrigen Lösung. Das Nitratsalz N wird nicht nur dann zu wässriger Lösung, wenn die relative Feuchtigkeit in der Umgebung der Oberfläche der Vakuumdüse 3 bei 100 % liegt, mit anderen Worten nicht nur dann, wenn auf der Oberfläche der Vakuumdüse 3 Taukondensation eintritt. Wenn die relative Feuchtigkeit in der Umgebung der Oberfläche der Vakuumdüse 3 bei weniger als 100 % liegt, aber eine vordefinierte Feuchtigkeit übersteigt, weist das Nitratsalz N ein Phänomen auf, das als Zerfließen bezeichnet wird, bei dem das Nitratsalz N zu wässriger Lösung wird, indem es Wasser vom umgebenden Gas absorbiert. Anders gesagt, wenn die relative Feuchtigkeit in der Umgebung der Oberfläche der Vakuumdüse 3 gleich oder geringer als die vordefinierte Feuchtigkeit ist, wird Zerfließen verhindert, weshalb das auf der Oberfläche der Vakuumdüse 3 akkumulierte Nitratsalz N nicht zu wässriger Lösung wird. Als Ergebnis wird die Korrosion der Oberfläche der Vakuumdüse 3 verhindert. Wie bekannt ist, weisen die relative Feuchtigkeit und die Temperatur in einem Raum eine negative Korrelation auf, weshalb es erforderlich ist, dass die Temperatur gleich oder höher als eine vordefinierte Temperatur ist, um die relative Feuchtigkeit in der Umgebung der Oberfläche der Vakuumdüse 3 so einzustellen, dass sie gleich oder geringer als die vordefinierte Feuchtigkeit ist. Es ist ein wesentliches Ziel der vorliegenden Erfindung, die Temperatur des zum Kühlmittelpfad der Vakuumdüse 3 geleiteten Kühlmittels so einzustellen, dass die Temperatur in der Umgebung der Oberfläche der Vakuumdüse 3 gleich oder höher als die vordefinierte Temperatur ist. Der Zweck der Kühlmittel-Zirkulation besteht in der vorliegenden Erfindung also darin, „die Temperatur (gleich oder höher als die vordefinierte Temperatur) in der Umgebung der Oberfläche der Vakuumdüse 3 einzustellen, um die relative Feuchtigkeit (gleich oder geringer als die vordefinierte Feuchtigkeit) zu erreichen, bei der das Zerfließen des auf der Oberfläche der Vakuumdüse 3 akkumulierten Nitratsalzes N verhindert wird“. Dementsprechend ist die Untergrenze der durch die Kühlmitteltemperatureinstelleinheit 7 eingestellte Kühlmitteltemperatur eingestellt, um diesen Zweck der vorliegenden Erfindung zu erreichen.When the relative humidity around the surface of the vacuum nozzle 3 at 100%, in other words, when on the surface of the vacuum nozzle 3 Taukondensation occurs, the nitrate salt N naturally to aqueous solution by absorbing water droplets due to dew condensation. This aqueous solution has an extremely high oxidizing power and thus promotes corrosion of the metal in contact with the aqueous solution. The nitrate salt N Not only does it turn into aqueous solution when the relative humidity around the surface of the vacuum nozzle 3 at 100%, in other words not only when on the surface of the vacuum nozzle 3 Dew condensation occurs. When the relative humidity around the surface of the vacuum nozzle 3 is less than 100%, but exceeds a predefined humidity, the nitrate salt indicates N a phenomenon referred to as deliquescence in which the nitrate salt N becomes aqueous solution by absorbing water from the surrounding gas. In other words, when the relative humidity in the vicinity of the surface of the vacuum nozzle 3 is equal to or less than the predefined moisture, bleed is prevented, which is why on the surface of the vacuum nozzle 3 accumulated nitrate salt N does not become an aqueous solution. As a result, the corrosion of the surface of the vacuum nozzle 3 prevented. As is known, the relative humidity and the temperature in a room have a negative correlation, which is why it is required that the temperature is equal to or higher than a predetermined temperature to the relative humidity in the vicinity of the surface of the vacuum nozzle 3 adjust to be equal to or less than the predefined humidity. It is an essential object of the present invention, the temperature of the coolant path to the vacuum nozzle 3 adjusted coolant so that the temperature in the vicinity of the surface of the vacuum nozzle 3 is equal to or higher than the predefined temperature. Thus, the purpose of the coolant circulation in the present invention is "the temperature (equal to or higher than the predetermined temperature) in the vicinity of the surface of the vacuum nozzle 3 to adjust the relative humidity (equal to or less than the predefined humidity), at which the deliquescence of the on the surface of the vacuum nozzle 3 accumulated nitrate salt N is prevented". Accordingly, the lower limit is that through the coolant temperature adjusting unit 7 set coolant temperature set to achieve this purpose of the present invention.

Es soll nun eine Konfiguration des Kühlmittelpfads und seiner näheren Umgebung in der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1 detailliert unter Bezugnahme auf 2 beschrieben werden.It will now be a configuration of the coolant path and its closer environment in the Electron beam irradiator 1 in detail with reference to 2 to be discribed.

Wie in 2 gezeigt, weist die Vakuumdüse 3 eine Doppelschalenstruktur aus einer Außenschale 39 und einer Innenschale 38 auf. Ein Kühlmittelpfad 41, über den das Kühlmittel von der Basisendseite zur Vorderendseite zirkuliert, ist zwischen der Außenschale 39 und der Innenschale 38 ausgebildet. Anders gesagt ist der Kühlmittelpfad 41 ein zylindrischer Raum, der zwischen der Außenschale 39 und der Innenschale 38 ausgebildet ist. Die Vakuumdüse 3 umfasst einen Wärmeleitteil 35, der mit der Doppelschalenstruktur auf der Vorderendseite verbunden ist und aus einem stark wärmeleitfähigen Element hergestellt ist, um effizient Wärme vom Emissionsfenster 5 auf das Kühlmittel zu übertragen. Das Emissionsfenster 5 ist auf dem Wärmeleitteil 35 befestigt.As in 2 shown points the vacuum nozzle 3 a double shell structure from an outer shell 39 and an inner shell 38 on. A coolant path 41 through which the coolant circulates from the base end side to the front end side is between the outer shell 39 and the inner shell 38 educated. In other words, the coolant path is 41 a cylindrical space between the outer shell 39 and the inner shell 38 is trained. The vacuum nozzle 3 includes a heat conducting part 35 bonded to the double shell structure on the front end side and made of a highly thermally conductive element to efficiently heat from the emission window 5 to transfer to the coolant. The emission window 5 is on the heat conducting part 35 attached.

Auf der Basisendseite des Kühlmittelpfads 41 arbeitet die Kühlmittelzirkuliereinheit 6, um dem Kühlmittelpfad 41 das Kühlmittel bereitzustellen und das Kühlmittel aus dem Kühlmittelpfad 41 zu sammeln. Wie oben beschrieben, ist der Kühlmittelpfad 41 der zylindrische Raum. Eine Längshälfte des zylindrischen Raums des Kühlmittelpfads 41 ist eine Seite (nachstehend als Kühlmittelzufuhrseite 42 bezeichnet), auf der das Kühlmittel von der Kühlmittelzirkuliereinheit 6 zugeführt wird. Die andere Längshälfte ist eine Seite (nachstehend als Kühlmittelrückgewinnungsseite 43 bezeichnet), auf der das Kühlmittel von der Kühlmittelzirkuliereinheit 6 entnommen wird. Auf dem Kühlmittelpfad 41 kommunizieren die Kühlmittelzufuhrseite 42 als der eine halbzylindrische Raum und die Kühlmittelrückgewinnungsseite 43 als der andere halbzylindrische Raum nur auf der Vorderendseite miteinander und sind in einem anderen Teil als der Vorderendseite durch eine in der Vakuumdüse 3 umfasste Trennwand (nicht gezeigt) voneinander getrennt.On the base end side of the coolant path 41 the coolant circulation unit works 6 to the coolant path 41 to provide the coolant and the coolant from the coolant path 41 to collect. As described above, the coolant path is 41 the cylindrical space. A longitudinal half of the cylindrical space of the coolant path 41 is one side (hereinafter, as a coolant supply side 42 designated) on which the coolant from the Kühlkreiszirkuliereinheit 6 is supplied. The other longitudinal half is one side (hereinafter referred to as the refrigerant recovery side 43 designated) on which the coolant from the Kühlkreiszirkuliereinheit 6 is removed. On the coolant path 41 communicate the coolant supply side 42 as the a semi-cylindrical space and the coolant recovery side 43 as the other semi-cylindrical space only on the front end side with each other and are in a part other than the front end side through one in the vacuum nozzle 3 included partition (not shown) separated from each other.

Die Kühlmitteltemperatureinstelleinheit 7 stellt die Temperatur des Kühlmittels, das der Kühlmittelzufuhrseite 42 des Kühlmittelpfads 41 zugeführt wird, auf eine Temperatur zwischen der Untergrenzentemperatur und der Obergrenzentemperatur, die oben beschrieben werden, ein. Ferner stellt die Kühlmitteltemperatureinstelleinheit 7 die Temperatur des Kühlmittels so ein, dass sie gleich oder höher als die Untergrenzentemperatur ist, um das Zerfließen des Nitratsalzes N zu verhindern, und stellt die Temperatur des Kühlmittels so ein, dass sie gleich oder geringer als die Obergrenzentemperatur ist, um eine Schädigung des Emissionsfensters 5 zu verhindern.The coolant temperature adjustment unit 7 represents the temperature of the coolant, that of the coolant supply side 42 of the coolant path 41 is supplied to a temperature between the lower limit temperature and the upper limit temperature described above. Further, the coolant temperature adjusting unit provides 7 the temperature of the coolant is equal to or higher than the lower limit temperature to cause the nitrate salt to flow N and adjusts the temperature of the coolant to be equal to or lower than the upper limit temperature to damage the emission window 5 to prevent.

Es soll nun ein Verfahren zur Verwendung der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1 beschrieben werden.A method of using the electron beam irradiation apparatus will now be described 1 to be discribed.

Zur einfacheren Beschreibung wird davon ausgegangen, dass die Doppelschalenstruktur der von der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1 umfassten Vakuumdüse 3 aus Edelstahl hergestellt und der Wärmeleitteil 35 aus Kupfer ist. Dementsprechend ist das Material der Vakuumdüse 3, das dem Salpetersäuregas G ausgesetzt ist, Edelstahl und Kupfer, und somit ist das auf der Oberfläche der Vakuumdüse 3 akkumulierte Nitratsalz N Nickelnitrat, Eisennitrat, Chromnitrat und Kupfernitrat.For ease of description, it is assumed that the double shell structure is that of the electron beam irradiation device 1 included vacuum nozzle 3 made of stainless steel and the heat conducting part 35 made of copper. Accordingly, the material of the vacuum nozzle 3 containing the nitric acid gas G exposed to stainless steel and copper, and so that's on the surface of the vacuum nozzle 3 accumulated nitrate salt N Nickel nitrate, iron nitrate, chromium nitrate and copper nitrate.

Die relative Feuchtigkeit, bei der auf der Oberfläche der Vakuumdüse 3 akkumuliertes Nitratsalz N (Nickelnitrat, Eisennitrat, Chromnitrat oder Kupfernitrat) zerfließt, wird vorab berechnet, beispielsweise durch ein Experiment oder anhand von bestehenden Unterlagen. Im Fall eines Experiments tritt ein Zerfließen des Nitratsalzes N ein, wenn das Gewicht eines beliebigen der Nitratsalze N (aufgrund von Wasserabsorption aus dem umgebenden Gas) zunimmt, wenn die relative Feuchtigkeit 30 %. übersteigt, wie in 3 gezeigt. Dementsprechend liegt die relative Feuchtigkeit, bei der bei keinem der Nitratsalze N Zerfließen eintritt, bei weniger als 30 %, mit anderen Worten, die vordefinierte Feuchtigkeit liegt bei 30 %. Anschließend wird die Temperatur des dem Kühlmittelpfad 41 zugeführten Kühlmittels, die zum Einstellen der relativen Feuchtigkeit in der Umgebung der Oberfläche der Vakuumdüse 3 auf die vordefinierte Feuchtigkeit erforderlich ist, durch ein Experiment oder dergleichen berechnet. Die relative Feuchtigkeit und die Temperatur in der Umgebung der Oberfläche der Vakuumdüse 3 weisen eine negative Korrelation auf, während die Temperatur in der Umgebung der Oberfläche der Vakuumdüse 3 und die Temperatur des Kühlmittels eine positive Korrelation aufweisen. Die relative Feuchtigkeit in der Umgebung der Oberfläche der Vakuumdüse 3 und die Temperatur des Kühlmittels weisen daher beispielsweise eine negative Korrelation auf, die in 4 durch das Bezugszeichen F gekennzeichnet ist. Es ist demnach angezeigt, dass, wenn die Temperatur (45 °C in 4) des dem Kühlmittelpfad 41 zugeführten Kühlmittels, die zum Einstellen der relativen Feuchtigkeit in der Umgebung der Oberfläche der Vakuumdüse 3 auf die vordefinierte Feuchtigkeit (30 % in 4) erforderlich ist, berechnet ist, wie in einer in 4 durch das Bezugszeichen A gekennzeichneten Region gezeigt, die relative Feuchtigkeit in der Umgebung der Oberfläche der Vakuumdüse 3 unweigerlich gleich oder geringer als die vordefinierte Feuchtigkeit (30 % in 4) ist, wenn die Temperatur des Kühlmittels gleich oder höher als die berechnete Temperatur (45 °C in 4) ist. Somit wird die berechnete Temperatur (45 °C in 4) des Kühlmittels als Untergrenzentemperatur in die Kühlmitteltemperatureinstelleinheit 7 eingegeben (eingestellt).The relative humidity at which on the surface of the vacuum nozzle 3 Accumulated nitrate salt N (nickel nitrate, iron nitrate, chromium nitrate or copper nitrate) dissolves is calculated in advance, for example by experiment or from existing documentation. In the case of an experiment, flow of the nitrate salt occurs N one, if the weight of any of the nitrate salts N (due to water absorption from the surrounding gas) increases when the relative humidity is 30%. exceeds, as in 3 shown. Accordingly, the relative humidity is none of the nitrate salts N Flowing occurs at less than 30%, in other words, the predefined humidity is 30%. Subsequently, the temperature of the coolant path 41 supplied coolant for adjusting the relative humidity in the vicinity of the surface of the vacuum nozzle 3 to the predefined humidity is required, calculated by an experiment or the like. The relative humidity and the temperature around the surface of the vacuum nozzle 3 have a negative correlation while the temperature in the vicinity of the surface of the vacuum nozzle 3 and the temperature of the coolant have a positive correlation. The relative humidity around the surface of the vacuum nozzle 3 and the temperature of the coolant therefore have, for example, a negative correlation, which in 4 is identified by the reference symbol F. It is therefore indicated that when the temperature (45 ° C in 4 ) of the coolant path 41 supplied coolant for adjusting the relative humidity in the vicinity of the surface of the vacuum nozzle 3 on the predefined humidity (30% in 4 ), is calculated as in an in 4 by the reference numeral A indicated region, the relative humidity in the vicinity of the surface of the vacuum nozzle 3 inevitably equal to or less than the predefined humidity (30% in 4 ) is when the temperature of the coolant is equal to or higher than the calculated temperature (45 ° C in 4 ). Thus, the calculated temperature (45 ° C in 4 ) of the coolant as the lower limit temperature in the Kühlmitteltemperaturinstelleinheit 7 entered (set).

Auf der anderen Seite wird die Höchsttemperatur des dem Kühlmittelpfad 41 zugeführten Kühlmittels zur Verhinderung von Schädigungen des Emissionsfensters 5 durch ein Experiment oder dergleichen berechnet. Die berechnete Höchsttemperatur wird in die Kühlmitteltemperatureinstelleinheit 7 als Obergrenzentemperatur eingegeben (eingestellt). Anschließend wird aus dem Elektronenstrahlgenerator 20 der Elektronenstrahl E erzeugt und über das Emissionsfenster 5 nach außen emittiert, wie in 1 gezeigt. Das Kühlmittel, das eine Temperatur aufweist, die durch die Kühlmitteltemperatureinstelleinheit 7 so eingestellt ist, dass sie zwischen der Untergrenzentemperatur und der Obergrenzentemperatur liegt, wird durch die Kühlmittelzirkuliereinheit 6 über den Kühlmittelpfad 41 zirkuliert, wie in 2 gezeigt.On the other hand, the maximum temperature of the coolant path 41 supplied Coolant to prevent damage to the emission window 5 calculated by an experiment or the like. The calculated maximum temperature is put into the coolant temperature adjusting unit 7 entered as upper limit temperature (set). Subsequently, from the electron beam generator 20 the electron beam E is generated and across the emission window 5 emitted to the outside, as in 1 shown. The coolant having a temperature defined by the coolant temperature adjusting unit 7 is set to be between the lower limit temperature and the upper limit temperature is determined by the Kühlmittelzirkuliereinheit 6 over the coolant path 41 circulates, as in 2 shown.

Gemäß der oben beschriebenen Konfiguration und dem Verwendungsverfahren wird das Emissionsfenster 5 durch das Kühlmittel gekühlt, da das zum Kühlmittelpfad 41 geleitete Kühlmittel eine Temperatur aufweist, die so eingestellt ist, dass sie zwischen der Untergrenzentemperatur und der Obergrenzentemperatur liegt, und es wird eine Schädigung verhindert, und ein Zerfließen des auf der Vakuumdüse 3 akkumulierten Nitratsalzes N wird verhindert.According to the above-described configuration and the usage method, the emission window becomes 5 cooled by the coolant, since that to the coolant path 41 guided coolant has a temperature which is set so that it is between the lower limit temperature and the upper limit temperature, and damage is prevented, and a deliquescence of the on the vacuum nozzle 3 accumulated nitrate salt N will be prevented.

Auf diese Weise wird gemäß der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1 und dem Verfahren zur Verwendung derselben ein Zerfließen des auf der Vakuumdüse 3 akkumulierten Nitratsalzes N verhindert, wodurch das auf der Oberfläche der Vakuumdüse 3 akkumulierte Nitratsalz N nicht zu wässriger Lösung wird, wodurch wiederum die Korrosion der Vakuumdüse 3 ausreichend verhindert wird.In this way, according to the electron beam irradiation apparatus 1 and the method of using the same, a deliquescence of the on the vacuum nozzle 3 accumulated nitrate salt N prevents, causing the on the surface of the vacuum nozzle 3 accumulated nitrate salt N does not become aqueous solution, which in turn causes corrosion of the vacuum nozzle 3 is sufficiently prevented.

Es sollen nun die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1 gemäß einem Beispiel, in dem die oben beschriebene Ausführungsform ausführlicher beschrieben wird, und eine Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung gemäß einem Vergleichsbeispiel beschrieben werden. Das folgende Beispiel und das Vergleichsbeispiel erfüllten beide die folgenden Bedingungen.

  1. (1) Die Außenschale 39 und die Innenschale 38 der Vakuumdüse 3 waren aus Edelstahl hergestellt, und der Wärmeleitteil 35 aus Kupfer. Das Emissionsfenster 5 war aus Titan hergestellt. Bei dem Kühlmittel handelte es sich um reines Wasser.
  2. (2) Die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1 wurde in einen Raum mit einer Temperatur von 30 °C und einer relativen Feuchtigkeit von 40 % oder weniger gegeben. In dem Raum wurde Gas von der Oberseite zugeführt und von der Unterseite gesammelt, so dass das Gas im Raum konstant ausgetauscht wurde.
It is now the electron beam irradiation device 1 according to an example in which the above-described embodiment will be described in more detail, and an electron beam irradiation apparatus according to a comparative example will be described. The following example and the comparative example both satisfied the following conditions.
  1. (1) The outer shell 39 and the inner shell 38 the vacuum nozzle 3 were made of stainless steel, and the heat conducting part 35 made of copper. The emission window 5 was made of titanium. The coolant was pure water.
  2. (2) The electron beam irradiation device 1 was placed in a room having a temperature of 30 ° C and a relative humidity of 40% or less. In the room, gas was supplied from the top and collected from the bottom so that the gas in the room was constantly changed.

Beispielexample

Im vorliegenden Beispiel wurde die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1 verwendet, als die Temperatur des Kühlmittels bei 60 °C lag, was gleich oder höher als die oben beschriebene Untergrenzentemperatur ist.In the present example, the electron beam irradiation device 1 when the temperature of the coolant was 60 ° C, which is equal to or higher than the lower limit temperature described above.

Nach 432 Stunden der Bestrahlung mit dem Elektronenstrahl E durch die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1 wurde ein Bild der Seitenfläche eines Vorderendteils der Vakuumdüse 3 aufgenommen. 5 ist eine Fotografie, die durch diese Bildaufnahme erhalten wurde. Obwohl die Bestrahlung mit dem Elektronenstrahl E für eine lange Zeit von 432 Stunden durchgeführt wurde, wurde auf dem Vorderendteil der Vakuumdüse 3 im Wesentlichen keine Korrosion beobachtet, wie in 5 gezeigt.To 432 Hours of irradiation with the electron beam E by the electron beam irradiation device 1 was an image of the side surface of a front end portion of the vacuum nozzle 3 added. 5 is a photograph obtained through this image capture. Although the irradiation of the electron beam E was conducted for a long time of 432 hours, on the front end portion of the vacuum nozzle 3 essentially no corrosion is observed, as in 5 shown.

[Vergleichsbeispiel][Comparative Example]

Im vorliegenden Vergleichsbeispiel wurde die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung verwendet, als die Temperatur des Kühlmittels bei 30 °C lag, was unter der oben beschriebenen Untergrenzentemperatur liegt.In the present comparative example, the electron beam irradiation apparatus was used when the temperature of the coolant was at 30 ° C, which is lower than the lower limit temperature described above.

Nach 91 Stunden der kontinuierlichen Bestrahlung mit dem Elektronenstrahl E durch die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung wurde ein Bild der Seitenfläche des Vorderendteils der Vakuumdüse 3 aufgenommen. 6 ist eine Fotografie, die durch die Bildaufnahme erhalten wurde. Obwohl die Bestrahlung mit dem Elektronenstrahl E für eine kurze Zeit von 91 Stunden durchgeführt wurde, wurde auf dem Vorderendteil der Vakuumdüse 3 signifikante Korrosion beobachtet, wie in 6 gezeigt.After 91 hours of continuous irradiation with the electron beam E by the electron beam irradiation device, an image of the side surface of the front end portion of the vacuum nozzle was taken 3 added. 6 is a photograph that was obtained by the image capture. Although the irradiation of the electron beam E was conducted for a short time of 91 hours, on the front end portion of the vacuum nozzle 3 significant corrosion is observed, as in 6 shown.

Ein Vergleich zwischen dem Beispiel (5) und dem Vergleichsbeispiel (6) deutet darauf hin, dass keine Korrosion auftrat, wenn die Temperatur des zum Kühlmittelpfad 41 geleiteten Kühlmittels auf der Seitenfläche des Vorderendteils der Vakuumdüse 3 bei 60 °C lag (Beispiel: gleich oder höher als die Untergrenzentemperatur), während Korrosion auftrat, wenn in herkömmlichen Fällen die Temperatur des zum Kühlmittelpfad 41 geleiteten Kühlmittels bei 30 °C lag (Vergleichsbeispiel: weniger als Untergrenzentemperatur).A comparison between the example ( 5 ) and the comparative example ( 6 ) indicates that no corrosion occurred when the temperature of the coolant path 41 guided coolant on the side surface of the front end portion of the vacuum nozzle 3 at 60 ° C (example: equal to or higher than the lower limit temperature) while corrosion occurred when, in conventional cases, the temperature of the coolant path 41 conducted coolant at 30 ° C (Comparative Example: less than lower limit temperature).

Auf diese Weise wurde die Korrosion der Vakuumdüse 3 eindeutig ausreichend verhindert, indem Temperatur des zum Kühlmittelpfad 41 geleiteten Kühlmittels als Neuerung von 30 °C in herkömmlichen Fällen auf 60 °C geändert wurde.In this way, the corrosion of the vacuum nozzle was 3 clearly enough prevented by adding temperature to the coolant path 41 changed coolant to 30 ° C in conventional cases was changed to 60 ° C as an innovation.

In der oben beschriebenen Ausführungsform wird Korrosion verhindert, indem die Temperatur des Kühlmittels so eingestellt wird, dass sie höher als in herkömmlichen Fällen ist, da „das Zerfließen des Nitratsalzes N verhindert wird“. Es wird vermutet, dass, anstatt oder zusätzlich zu dem Grund, dass „das Zerfließen des Nitratsalzes N verhindert wird“, Korrosion verhindert wird, weil „das Nitratsalz N sich durch Wärme auflöst“. In diesem Fall wird die Beschreibung der „Temperatur des dem Kühlmittelpfad 41 zugeführten Kühlmittels, die zum Einstellen der relativen Feuchtigkeit in der Umgebung der Oberfläche der Vakuumdüse 3 auf die vordefinierte Feuchtigkeit erforderlich ist, die durch ein Experiment oder dergleichen berechnet wird“ in der oben beschriebenen Ausführungsform mit der Beschreibung der „niedrigsten Temperatur des dem Kühlmittelpfad 41 zugeführten Kühlmittels, die zum Auflösen des auf der Oberfläche der Vakuumdüse 3 akkumulierten Nitratsalzes N erforderlich ist, die durch ein Experiment oder dergleichen berechnet wird“ ersetzt oder kombiniert. Die niedrigste Temperatur wird in die Kühlmitteltemperatureinstelleinheit 7 als Untergrenzentemperatur eingegeben (eingestellt). In diesem Fall umfasst die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung Folgendes: eine Vakuumkammer, in der ein Elektronenstrahlgenerator angeordnet ist; ein Emissionsfenster, über das ein Elektronenstrahl aus dem Elektronenstrahlgenerator nach außen emittiert wird; und einen Kühlmittelpfad, über den Kühlmittel zum Kühlen des Emissionsfensters geleitet wird, wobei die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung eine Kühlmitteltemperatureinstelleinheit umfasst, die konfiguriert ist, um die Temperatur des zum Kühlmittelpfad geleiteten Kühlmittels auf eine Temperatur einzustellen, bei der auf der Oberfläche in der Nähe des Kühlmittelpfads akkumuliertes Nitratsalz sich durch Wärme auflöst. Die Kühlmitteltemperatureinstelleinheit kann die Temperatur einstellen, um in der Umgebung des auf der Oberfläche in der Nähe des Kühlmittelpfads akkumulierten Nitratsalzes die relative Feuchtigkeit zu erreichen, bei der das Zerfließen des Nitratsalzes verhindert wird.In the above-described embodiment, corrosion is prevented by adjusting the temperature of the coolant to be higher than in conventional cases, because the flow of the nitrate salt N is prevented". It is believed that, instead of or in addition to the reason that "the flow of the nitrate salt N is prevented, "corrosion is prevented because" the nitrate salt N dissolves due to heat ". In this case, the description of the "temperature of the coolant path 41 supplied coolant for adjusting the relative humidity in the vicinity of the surface of the vacuum nozzle 3 to the predefined humidity calculated by an experiment or the like "in the embodiment described above describing the lowest temperature of the coolant path 41 supplied coolant, which dissolves the on the surface of the vacuum nozzle 3 accumulated nitrate salt N is required, which is calculated by an experiment or the like "replaced or combined. The lowest temperature is in the coolant temperature adjustment unit 7 entered as lower limit temperature (set). In this case, the electron beam irradiation apparatus includes: a vacuum chamber in which an electron beam generator is disposed; an emission window through which an electron beam is emitted to the outside from the electron beam generator; and a coolant path over which coolant is directed to cool the emission window, the electron beam irradiation device comprising a coolant temperature adjustment unit configured to set the temperature of the coolant path to a coolant path at a temperature near the coolant path on the surface Accumulated nitrate salt dissolves due to heat. The coolant temperature adjusting unit may adjust the temperature to reach the relative humidity in the vicinity of the nitrate salt accumulated on the surface in the vicinity of the coolant path at which the flow of the nitrate salt is prevented.

Die Art des Kühlmittels wird in Bezug auf die oben beschriebene Ausführungsform nicht im Detail beschrieben, ist jedoch nicht in besonderer Weise eingeschränkt. Das Kühlmittel ist beispielsweise Wasser, wie etwa reines Wasser, wässrige Ethylenglykollösung oder Schutzgas, wie Stickstoffgas. Wenn das Kühlmittel Gas, wie etwa Schutzgas, ist, entspricht ein Teil zwischen der Quelle und dem Ziel der Gasströmung (der Teil, in dem das Gas strömt) dem „Kühlmittelpfad, der in der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung ausgebildet ist“. Mit anderen Worten, das Konzept des „Kühlmittelpfads, der in der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung ausgebildet ist“ bezieht sich nicht unbedingt nur auf einen Pfad, der von einem Element umgeben ist, sondern umfasst auch einen beliebigen Kühlmittelpfad, der von gar keinem Element umgeben ist.The type of the refrigerant will not be described in detail with respect to the embodiment described above, but it is not particularly limited. The refrigerant is, for example, water such as pure water, ethylene glycol aqueous solution or protective gas such as nitrogen gas. When the refrigerant is gas such as inert gas, a part between the source and the target of the gas flow (the part where the gas flows) corresponds to the "coolant path formed in the electron beam irradiation device". In other words, the concept of the "coolant path formed in the electron beam irradiation device" does not necessarily refer only to a path surrounded by an element, but also includes any coolant path that is not surrounded by any element.

In der oben beschriebenen Ausführungsform und dem obigen Beispiel umfasst die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1 die Vakuumdüse 3, doch umfasst sie möglicherweise auch keine Vakuumdüse 3. In diesem Fall, wie in 7 als weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung gezeigt, umfasst die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1 die Vakuumkammer 2, in der der Elektronenstrahlgenerator 20 angeordnet ist, und das Emissionsfenster 5, das für die Vakuumkammer 2 bereitgestellt ist und über das der Elektronenstrahl E aus dem Elektronenstrahlgenerator 20 nach außen emittiert wird. In der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung 1 ist der Kühlmittelpfad 41 (in 7 nicht gezeigt), über den das Kühlmittel geleitet wird, in der Vakuumkammer 2 ausgebildet, wie in 8 eines vergrößerten Diagramms von Teil D in 7 gezeigt. Das Emissionsfenster 5 ist angeordnet, um das Innere der Vakuumkammer 2 abzudichten. In der anderen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist eine Komponente, die mit einer der oben beschriebenen Ausführungsform identisch ist, durch das gleiche Bezugszeichen gekennzeichnet, und wird nicht beschrieben.In the above-described embodiment and the above example, the electron beam irradiation apparatus comprises 1 the vacuum nozzle 3 but it may not include a vacuum nozzle 3 , In this case, as in 7 shown as a further embodiment of the present invention comprises the electron beam irradiation device 1 the vacuum chamber 2 in which the electron beam generator 20 is arranged, and the emission window 5 that for the vacuum chamber 2 is provided and via which the electron beam E from the electron beam generator 20 is emitted to the outside. In the electron beam irradiation device 1 is the coolant path 41 (in 7 not shown), over which the coolant is passed, in the vacuum chamber 2 trained as in 8th of an enlarged diagram of part D in FIG 7 shown. The emission window 5 is arranged to the inside of the vacuum chamber 2 seal. In the other embodiment of the present invention, a component identical to one of the embodiment described above is designated by the same reference numeral and will not be described.

Dank der Konfiguration und unter Verwendung des Verfahrens gemäß der anderen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird das zum Kühlmittelpfad 41 geleitete Kühlmittel auf eine Temperatur eingestellt, die zwischen der oben beschriebenen Untergrenzentemperatur und Obergrenzentemperatur liegt. Somit wird das Emissionsfenster 5 durch das Kühlmittel gekühlt, und es wird eine Schädigung des Emissionsfensters verhindert, und das Zerfließen des auf der Vakuumkammer 2 akkumulierten Nitratsalzes N wird verhindert. Dementsprechend wird das auf der Oberfläche der Vakuumkammer 2 akkumulierte Natriumsalz N nicht zu wässriger Lösung, und folglich kann die Korrosion der Vakuumkammer 2 ausreichend verhindert werden.Thanks to the configuration and using the method according to the other embodiment of the present invention, this becomes the coolant path 41 Guided coolant is set to a temperature which is between the lower limit temperature and upper limit temperature described above. Thus, the emission window becomes 5 cooled by the coolant, and it is prevented damage to the emission window, and the deliquescence of the on the vacuum chamber 2 accumulated nitrate salt N will be prevented. Accordingly, this becomes on the surface of the vacuum chamber 2 accumulated sodium salt N not to aqueous solution, and consequently the corrosion of the vacuum chamber 2 be sufficiently prevented.

Claims (6)

Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung, Folgendes umfassend: eine Vakuumkammer, in der ein Elektronenstrahlgenerator angeordnet ist; ein Emissionsfenster, über das ein Elektronenstrahl aus dem Elektronenstrahlgenerator nach außen emittiert wird; und einen Kühlmittelpfad, über den Kühlmittel zum Kühlen des Emissionsfensters geleitet wird, wobei die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung ferner eine Kühlmitteltemperatureinstelleinheit umfasst, die konfiguriert ist, um die Temperatur des zum Kühlmittelpfad geleiteten Kühlmittels einzustellen, um in der Umgebung von Nitratsalz, das auf einer Oberfläche in der Nähe des Kühlmittelpfads akkumuliert ist, eine relative Feuchtigkeit zu erreichen, bei der Zerfließen des Nitratsalzes verhindert wird.An electron beam irradiation apparatus comprising: a vacuum chamber in which an electron beam generator is arranged; an emission window through which an electron beam is emitted to the outside from the electron beam generator; and a coolant path through which coolant is directed to cool the emission window, wherein the electron beam irradiation apparatus further comprises a coolant temperature adjusting unit configured to adjust the temperature of the coolant path to the coolant path to reach a relative humidity in the vicinity of nitrate salt accumulated on a surface near the coolant path, in which Flow of the nitrate salt is prevented. Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung nach Anspruch 1, ferner umfassend eine Vakuumdüse, die mit der Vakuumkammer, welche mit ihr in Kommunikation ist, verbunden ist, wobei das Emissionsfenster für die Vakuumdüse bereitgestellt ist, und der Kühlmittelpfad in der Vakuumdüse ausgebildet ist. Electron beam irradiation device according to Claim 1 and further comprising a vacuum nozzle connected to the vacuum chamber in communication therewith, wherein the emission window for the vacuum nozzle is provided, and the coolant path is formed in the vacuum nozzle. Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei bei der Kühlmitteltemperatur, die durch die Kühlmitteltemperatureinstelleinheit eingestellt wurde, die relative Feuchtigkeit in der Umgebung des Nitratsalzes, das auf der Oberfläche in der Nähe des Kühlmittelpfads akkumuliert ist, gleich oder weniger als 30 % ist.Electron beam irradiation device according to Claim 1 or 2 wherein, at the coolant temperature set by the coolant temperature adjusting unit, the relative humidity in the vicinity of the nitrate salt accumulated on the surface in the vicinity of the coolant path is equal to or less than 30%. Verfahren zur Verwendung der Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei das Verfahren Folgendes umfasst: Vorab-Berechnen der Temperatur des zum Kühlmittelpfad geleiteten Kühlmittels, um in der Umgebung des Nitratsalzes, das auf der Oberfläche in der Nähe des Kühlmittelpfads akkumuliert ist, eine relative Feuchtigkeit zu erreichen, bei der ein Zerfließen des Nitratsalzes verhindert wird; und Einstellen der Temperatur des zum Kühlmittelpfad geleiteten Kühlmittels auf die berechnete Temperatur durch die Kühlmitteltemperatureinstelleinheit und anschließend Leiten des Kühlmittels zum Kühlmittelpfad.A method of using the electron beam irradiation apparatus according to Claim 1 or 2 wherein the method comprises: pre-calculating the temperature of the coolant to the coolant path to achieve relative humidity in the vicinity of the nitrate salt accumulated on the surface near the coolant path, which prevents the nitrate salt from flowing away becomes; and adjusting the temperature of the coolant path to the coolant path to the calculated temperature by the coolant temperature adjusting unit, and then passing the coolant to the coolant path. Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung, Folgendes umfassend: eine Vakuumkammer, in der ein Elektronenstrahlgenerator angeordnet ist; ein Emissionsfenster, über das ein Elektronenstrahl aus dem Elektronenstrahlgenerator nach außen emittiert wird; und einen Kühlmittelpfad, über den Kühlmittel zum Kühlen des Emissionsfensters geleitet wird, wobei die Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung ferner eine Kühlmitteltemperatureinstelleinheit umfasst, die konfiguriert ist, um die Temperatur des zum Kühlmittelpfad geleiteten Kühlmittels auf eine Temperatur einzustellen, bei der Nitratsalz, das auf einer Oberfläche in der Nähe des Kühlmittelpfads akkumuliert ist, sich durch Wärme auflöst.An electron beam irradiation apparatus comprising: a vacuum chamber in which an electron beam generator is arranged; an emission window through which an electron beam is emitted to the outside from the electron beam generator; and a coolant path through which coolant is directed to cool the emission window, wherein the electron beam irradiation apparatus further comprises a coolant temperature adjusting unit configured to set the temperature of the coolant path to the coolant path to a temperature at which nitrate salt accumulated on a surface near the coolant path dissolves by heat. Elektronenstrahl-Bestrahlungsvorrichtung nach Anspruch 5, wobei die Kühlmitteltemperatureinstelleinheit die Temperatur des Kühlmittels einstellt, um in der Umgebung des Nitratsalzes, das auf der Oberfläche in der Nähe des Kühlmittelpfads akkumuliert ist, eine relative Feuchtigkeit zu erreichen, bei der ein Zerfließen des Nitratsalzes verhindert wird.Electron beam irradiation device according to Claim 5 wherein the coolant temperature adjusting unit adjusts the temperature of the coolant to reach a relative humidity in the vicinity of the nitrate salt accumulated on the surface near the coolant path, which prevents the nitrate salt from flowing away.
DE112017004468.5T 2016-09-06 2017-08-04 Electron beam irradiation apparatus and method of using the same Withdrawn DE112017004468T5 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016-173243 2016-09-06
JP2016173243A JP6846142B2 (en) 2016-09-06 2016-09-06 Electron beam irradiation device and its usage
PCT/JP2017/028428 WO2018047548A1 (en) 2016-09-06 2017-08-04 Electron beam irradiation device and method for using same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE112017004468T5 true DE112017004468T5 (en) 2019-05-16

Family

ID=61561799

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE112017004468.5T Withdrawn DE112017004468T5 (en) 2016-09-06 2017-08-04 Electron beam irradiation apparatus and method of using the same

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6846142B2 (en)
DE (1) DE112017004468T5 (en)
WO (1) WO2018047548A1 (en)

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5237553A (en) * 1975-09-20 1977-03-23 Ebara Corp Method for improving the life time of irradiation window of a reactor for treating exhaust gas irradiated with radiation
JPS53119296A (en) * 1977-03-28 1978-10-18 Mizusawa Industrial Chem Method of recovering nitric acid from nitrates
JPH08164322A (en) * 1994-12-12 1996-06-25 Japan Atom Energy Res Inst Method for cooling window foil on reactor side in electron-beam irradiation equipment
JP2000176237A (en) * 1998-12-18 2000-06-27 Ebara Corp Exhaust gas treatment device by electron-beam irradiation, and operation thereof
JP4946431B2 (en) * 2006-12-28 2012-06-06 澁谷工業株式会社 Container sterilizer
JP2009058281A (en) * 2007-08-30 2009-03-19 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Energy beam irradiator
JP5537195B2 (en) * 2010-03-08 2014-07-02 株式会社タクマ Waste heat recovery system for stoker-type incinerator
JP6373262B2 (en) * 2013-04-26 2018-08-15 日立造船株式会社 Electron beam irradiation device

Also Published As

Publication number Publication date
JP6846142B2 (en) 2021-03-24
WO2018047548A1 (en) 2018-03-15
JP2018040602A (en) 2018-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3223471A1 (en) DEVICE FOR CONTINUOUS STEAM PHASE TREATMENT OF WORKPIECES
EP2700075B1 (en) Method for conditioning a power-generating circulatory system of a power plant
DE102015005521B4 (en) Treatment device and treatment method for pickling and phosphating metal parts
DE112015005248B4 (en) HEAT TREATMENT DEVICE AND COOLING DEVICE
EP1614150A2 (en) Device and method for cleaning objects used to produce semiconductors, especially transport and cleaning containers for wafers
DE102015217281A1 (en) Water treatment system for dialysis treatments
DE102014217280A1 (en) Method and arrangement of a steam turbine plant in combination with a thermal water treatment
DE102007062266B4 (en) Cooling system for cooling objects from a painting line, as well as coating system
DE112017004468T5 (en) Electron beam irradiation apparatus and method of using the same
DE102013103668A1 (en) Arrangement for handling a liquid metal for cooling circulating components of a radiation source based on a radiation-emitting plasma
DE102014205393B4 (en) CT system
DE2847862B2 (en) Cooling device for cooling the atmosphere in the primary protection container of a nuclear reactor
DE102014102655A1 (en) Method and apparatus for returning swaths with simultaneous recovery of heat energy
DE60125520T2 (en) STERILIZATION TANK WITH FILTERED GAS PLASMA AND IMPROVED CIRCULATION
DE202009019080U1 (en) Device for the treatment of bath water
DE3714928A1 (en) HEAT EXCHANGER
EP2732221B1 (en) Absorption refrigeration machine
DE102015200431B4 (en) Diaphragm arrangement for an X-ray device and associated X-ray device
EP3430628B1 (en) Process for treatment of waste water from the decontamination of a metal surface from the primary cooling circuit of a nuclear reactor, nuclear reactor waste water treatment device and use of this device
DE2441416C3 (en) Evaporator for solutions containing alkali metal hydroxides, alkali metal chlorates and alkali metal chlorides
DE2322698B2 (en) Method for sterilizing or a corresponding treatment of an object which requires correlated time-temperature management
DE10161880A1 (en) Method and device for removing deposits, in particular oil-like or grease-like deposits, which are located on the surface of metal parts
DE19755001C2 (en) Process for hardening hardened material
DE10312150A1 (en) Process for producing and suddenly supplying a steam mixture consisting of water vapor and hydrogen peroxide vapor
EP1127846A1 (en) Process for reducing biological pollutants in a water circulation system

Legal Events

Date Code Title Description
R082 Change of representative

Representative=s name: CANZLER & BERGMEIER PATENTANWAELTE PARTNERSCHA, DE

Representative=s name: PATENTANWAELTE CANZLER & BERGMEIER PARTNERSCHA, DE

R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee