DE112011105377B4

DE112011105377B4 - Plasmagerät des Atmosphärendrucks und dessen Herstellungsverfahren

Info

Publication number: DE112011105377B4
Application number: DE112011105377.0T
Authority: DE
Inventors: Hsiang-Yin Shih; Maocheng Yan
Original assignee: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Current assignee: TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date: 2011-06-17
Filing date: 2011-07-01
Publication date: 2017-02-09
Anticipated expiration: 2031-07-02
Also published as: WO2012171235A1; CN102333409A; DE112011105377T5; CN102333409B

Abstract

Atmosphärendruckplasmagerät, dadurch gekennzeichnet, dass es eine Anode, eine Kathode und ein isolierendes Medium aufweist, das zwischen der Anode und der Kathode angeordnet ist, wobei ein ionisierbares Gas zwischen die Anode und die Kathode gefüllt ist; und wobei die Kathode eine Vielzahl von gleichmäßig verteilten und identischen Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas aufweist, und wobei jede Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas einen Erzeugungsbereich des Plasmas und einen Ausstoßbereich des Plasmas aufweist, und wobei der Erzeugungsbereich des Plasmas und der Ausstoßbereich des Plasmas eine identische Fläche haben, und wobei bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen des Plasmas identisch ist; und wobei die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck ist, und wobei die Vielzahl von Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas eine Wabenstruktur bildet; und wobei der Ausstoßbereich des Plasmas kreisförmig ist und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet ist, und wobei das Verhältnis des Halbmessers des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmasbeträgt; oder ...

Description

Technisches Gebiet
Die Erfindung betrifft das Gebiet der Herstellung des Plasmabildschirms, insbesondere ein Atmosphärendruckplasmagerät und dessen Herstellungsverfahren.
Stand der Technik
Wenn Energie kontinuierlich einer Substanz zugeführt wird, erhöht sich die Temperatur der Substanz, wobei die Substanz sich vom Festkörper in Fluid und dann in Gas wandelt. Kontinuierliche Zuführung der Energie kann weitere Änderung ihres Zustandes verursachen. Dabei werden durch Hochenergiekollisionen negativ geladene Elektronen, positive oder negative Ionen und andere Substanzen erzeugt. Das von der Mischung der geladenen Substanzen gezeigte kollektive Verhalten wird als ”Plasma” bezeichnet.
Als eine neue Technik der Oberflächenbehandlung, wie Plasma-Reinigung, hat die Atmosphärendruckplasmabehandlung viele Vorteile, wie z. B. niedrige Temperatur und Luftdruckbehandlung, ohne Beschädigung für die Oberfläche des Materials, ohne Bogen, ohne Vakuumkammer, und ohne Saugsystem für schädliches Gas, und ohne Schäden an der Gesundheit der Bedienungsperson trotz längerer Anwendung, niedrige Kosten usw. Die Atmosphärendruckplasmabehandlung wird in unterschiedlichen Branchen verwendet, z. B. für die Oberflächenbehandlung des TFT-LCD Substrates.
Der Entladungsmodus des Atmosphärendruckplasmas gehört zur dielektrischen Barrierenentladung (Dielectric Barrier Discharge; verkürzend als DBD bezeichnet), nämlich eine Gasentladung im Nicht-Gleichgewichtszustand mit einem im Entladungsraum eingebrachten isolierenden Medium, und wird auch als Koronaentladung der dielektrischen Barriere oder stille Entladung bezeichnet. Die dielektrische Barrierenentladung kann in einem Hochdruck und einem breiten Frequenzbereich arbeiten. In der Regel beträgt der Arbeitsdruck 104 bis 106 Pa und die Netzfrequenz kann 50 Hz bis 1 MHz betragen. Die Elektrodenstruktur wird in einer Vielzahl von Formen ausgebildet. Zwischen zwei Entladungselektroden wird ein bestimmtes Arbeitsgas gefüllt, und ein isolierendes Medium deckt eine oder zwei Elektrode(n) ab, oder das Medium kann direkt im Entladungsraum aufgehängt werden oder der Entladungsraum wird mit teilchenförmigem Medium gefüllt. Wenn eine ausreichende Wechselhochspannung zwischen beiden Elektroden angelegt wird, wird das Gas zwischen den Elektroden einen Durchschlag haben, so dass die Entladung erzeugt wird, d. h. die dielektrische Barrierenentladung wird erzeugt. In der Praxis wird die Pipeline-Elektrodenstruktur weit verbreitet in verschiedenen chemischen Reaktoren verwendet, und die Platten-Elektrodenstruktur wird weit verbreitet in der Industrie für die Modifizierung, Transplantat, Erhöhung der Oberflächenspannung, Reinigung und hydrophile Modifizierung der Makromolekül- und der Polymerfolie und der Plattenmaterialien verwendet.
Die Struktur des Atmosphärendruckplasmagerätes aus dem Stand der Technik weist hauptsächlich eine Anode, ein isolierendes Medium und eine Kathode auf. Zum Ausstoß des zwischen der Anode und der Kathode erzeugten Plasmas sind in der Regel eine Vielzahl von Ausstoßbereichen des Plasmas an der Kathode angeordnet (siehe 1). 1 ist ein Strukturdiagramm der Kathodenstruktur des Atmosphärendruckplasmagerätes aus dem Stand der Technik. Die Kathode weist Ausstoßbereiche des Plasmas 401 und Erzeugungsbereiche des Plasmas 403 auf. Jetzt haben die Ausstoßbereiche des Plasmas der Kathode des Atmosphärendruckplasmagerätes auf dem Markt meistens eine kreisförmige Gestalt und die Anordnung von „Houndtooth”.
Aber die kreisförmige Gestalt und die Anordnung von „Houndtooth” werden folgende Probleme verursachen:

(1) Mit der kreisförmigen Gestalt wird die gleichmäßige Gestaltung der Ausstoßbereiche des Plasmas und der Erzeugungsbereiche des Plasmas nicht berücksichtigt. Es führt leicht dazu, dass das Plasma zwischen der Anode und der Kathode erhalten bleibt. Dadurch wird Korrosion der Kathode und des isolierenden Mediums verursacht, und die Lebensdauer des Gerätes wird reduziert;
(2) Mit Anordnung von „Houndtooth” haben die Position der Ausstoßbereiche des Plasmas und die Position der Erzeugungsbereiche des Plasmas keinen identischen Abstand. Das Plasma in der Nähe der Ausstoßbereiche des Plasmas kann damit einfach ausgestoßen werden, allerdings kann das Plasma, das relativ weit von den Ausstoßbereichen des Plasmas liegt, nicht einfach ausgestoßen werden, so dass das Plasma in partiellen Bereichen leicht erhalten bleibt. An der Außenseite in der Nähe der Ausstoßbereiche des Plasmas hat das Plasma eine hohe Konzentration, bei der Position, die weit entfernt von den Ausstoßbereichen des Plasmas ist, hat das Plasma eine niedrige Konzentration, so dass eine ungleichmäßige Verteilung des Plasmas verursacht wird, was zu einer schlechten Einheitlichkeit der Oberflächenbehandlung führt.

Inhalt der Erfindung
Das zu lösende technische Problem der Erfindung ist, ein Atmosphärendruckplasmagerät und dessen Herstellungsverfahren bereitzustellen, um die Korrosion der Kathode und des isolierenden Mediums durch das Plasma zu verringern, die Lebensdauer des Atmosphärendruckplasmagerätes zu erhöhen und darüber hinaus die Einheitlichkeit der Oberflächenreinigung des Substrates zu verbessern.
Um die obigen Probleme zu lösen, wird ein technisches Schema bei der vorliegenden Erfindung verwendet: ein Atmosphärendruckplasmagerät wird bereitgestellt, aufweisend eine Anode, eine Kathode und ein isolierendes Medium, das zwischen der Anode und der Kathode angeordnet ist, wobei ein ionisierbares Gas zwischen die Anode und die Kathode gefüllt ist, und wobei die Kathode eine Vielzahl von gleichmäßig verteilten und identischen Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas aufweist, und wobei jede Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas Erzeugungsbereiche des Plasmas und Ausstoßbereiche des Plasmas aufweist, und wobei die Erzeugungsbereiche des Plasmas und die Ausstoßbereiche des Plasmas eine identische Fläche haben, und wobei bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen des Plasmas identisch ist, und wobei die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck ist, und wobei die Vielzahl von Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas eine Wabenstruktur bildet, und wobei die Ausstoßbereiche des Plasmas kreisförmig und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet sind, und wobei das Verhältnis des Halbmessers des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt, oder wobei die Ausstoßbereiche des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet sind, und wobei das Verhältnis der Seitenlänge des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt.
Bevorzugt weist das isolierende Medium eine erste Isolationsplattenschicht und eine zweite Isolationsplattenschicht auf, wobei die erste Isolationsplattenschicht die der Kathodenseite zugewandte Oberfläche der Anode abdeckt, und wobei die zweite Isolationsplattenschicht die der Anodenseite zugewandte Oberfläche der Kathode abdeckt.
Bevorzugt weist das isolierende Medium eine dritte Isolationsplattenschicht auf, wobei die dritte Isolationsplattenschicht die der Kathodenseite zugewandte Oberfläche der Anode oder die der Anodenseite zugewandte Oberfläche der Kathode abdeckt, oder die dritte Isolationsplattenschicht freihängend zwischen der Anode und der Kathode angeordnet ist.
Bevorzugt ist das isolierende Medium eine Vielzahl von isolierenden Partikeln, die zwischen die Anode und die Kathode gefüllt sind.
Um die obigen Probleme zu lösen, wird auch ein anderes technisches Schema bei der vorliegenden Erfindung verwendet: ein Atmosphärendruckplasmagerät wird bereitgestellt, aufweisend eine Anode, eine Kathode und ein isolierendes Medium, das zwischen der Anode und der Kathode angeordnet ist, wobei ein ionisierbares Gas zwischen die Anode und die Kathode gefüllt ist, und wobei die Kathode eine Vielzahl von gleichmäßig verteilten und identischen Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas aufweist, und wobei jede Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas Erzeugungsbereiche des Plasmas und Ausstoßbereiche des Plasmas aufweist, und wobei die Erzeugungsbereiche des Plasmas und die Ausstoßbereiche des Plasmas eine identische Fläche haben, und wobei bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen des Plasmas identisch ist, und wobei die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck ist, und wobei die Vielzahl von Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas eine Wabenstruktur bildet, und wobei das isolierende Medium eine erste Isolationsplattenschicht und eine zweite Isolationsplattenschicht aufweist, und wobei die erste Isolationsplattenschicht die der Kathodenseite zugewandte Oberfläche der Anode abdeckt, und wobei die zweite Isolationsplattenschicht die der Anodenseite zugewandte Oberfläche der Kathode abdeckt, und wobei die Ausstoßbereiche des Plasmas kreisförmig und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet sind, und wobei das Verhältnis des Halbmessers des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt.
Bevorzugt weist das isolierende Medium eine dritte Isolationsplattenschicht auf, wobei die dritte Isolationsplattenschicht die der Kathodenseite zugewandte Oberfläche der Anode oder die der Anodenseite zugewandte Oberfläche der Kathode abdeckt, oder die dritte Isolationsplattenschicht freihängend zwischen der Anode und der Kathode angeordnet ist.
Bevorzugt ist das isolierende Medium eine Vielzahl von isolierenden Partikeln, die zwischen die Anode und die Kathode gefüllt sind.
Bevorzugt sind die Ausstoßbereiche des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet, wobei das Verhältnis der Seitenlänge des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt.
Um die obigen Probleme zu lösen, wird noch ein anderes technisches Schema bei der vorliegenden Erfindung verwendet: ein Atmosphärendruckplasmagerät wird bereitgestellt, aufweisend: eine Anode, eine Kathode und ein isolierendes Medium, das zwischen der Anode und der Kathode angeordnet ist, wobei ein ionisierbares Gas zwischen die Anode und die Kathode gefüllt ist, und wobei die Kathode eine Vielzahl von gleichmäßig verteilten und identischen Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas aufweist, und wobei jede Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas Erzeugungsbereiche des Plasmas und Ausstoßbereiche des Plasmas aufweist, und wobei die Erzeugungsbereiche des Plasmas und die Ausstoßbereiche des Plasmas eine identische Fläche haben, und wobei bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen des Plasmas identisch ist.
Bevorzugt ist die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck, wobei die Vielzahl von Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas eine Wabenstruktur bildet.
Bevorzugt sind die Ausstoßbereiche des Plasmas kreisförmig und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet, wobei das Verhältnis des Halbmessers des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt.
Bevorzugt sind die Ausstoßbereiche des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck und sind in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet, wobei das Verhältnis der Seitenlänge des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt.
Bevorzugt weist das isolierende Medium eine erste Isolationsplattenschicht und eine zweite Isolationsplattenschicht auf, wobei die erste Isolationsplattenschicht die der Kathodenseite zugewandte Oberfläche der Anode abdeckt, und wobei die zweite Isolationsplattenschicht die der Anodenseite zugewandte Oberfläche der Kathode abdeckt.
Bevorzugt weist das isolierende Medium eine dritte Isolationsplattenschicht auf, wobei die dritte Isolationsplattenschicht die der Kathodenseite zugewandte Oberfläche der Anode oder die der Anodenseite zugewandte Oberfläche der Kathode abdeckt, oder die dritte Isolationsplattenschicht freihängend zwischen der Anode und der Kathode angeordnet ist.
Bevorzugt ist das isolierende Medium eine Vielzahl von isolierenden Partikeln, die zwischen die Anode und die Kathode gefüllt sind.
Um die obigen Probleme zu lösen, wird noch ein anderes technisches Schema bei der vorliegenden Erfindung verwendet: ein Herstellungsverfahren des Atmosphärendruckplasmagerätes wird bereitgestellt, aufweisend folgende Schritte: Vorbereitung der Anode, der Kathode und des isolierenden Mediums; Füllen eines ionisierbaren Gases zwischen die Anode und die Kathode; Anordnen des isolierenden Mediums zwischen der Anode und der Kathode; Ausbilden an der Kathode einer Vielzahl von gleichmäßig verteilten und identischen Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas, wobei jede Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas Erzeugungsbereiche des Plasmas und Ausstoßbereiche des Plasmas aufweist, und wobei die Erzeugungsbereiche des Plasmas und die Ausstoßbereiche des Plasmas eine identische Fläche haben, und wobei bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen des Plasmas identisch ist.
Bevorzugt weisen die Schritte, dass eine Vielzahl von gleichmäßig verteilten und identischen Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas an der Kathode ausgebildet ist, wobei jede Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas Erzeugungsbereiche des Plasmas und Ausstoßbereiche des Plasmas aufweist, und wobei die Erzeugungsbereiche des Plasmas und die Ausstoßbereiche des Plasmas eine identische Fläche haben, und wobei bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen des Plasmas identisch ist, auf: dass die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas als ein regelmäßiges Sechseck geformt wird, wobei eine Wabenstruktur aus der Vielzahl von Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas ausgebildet wird.
Bevorzugt sind die Ausstoßbereiche des Plasmas kreisförmig ausgebildet und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet, wobei das Verhältnis des Halbmessers des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt; oder die Ausstoßbereiche des Plasmas sind ein regelmäßiges Sechseck sind und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet, wobei das Verhältnis der Seitenlänge des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt.
Vorteilhafte Effekte der vorliegenden Erfindung: im Stand der Technik werden die kreisförmige Gestalt und die Gestaltung unterschiedlicher Flächen der Ausstoßbereiche des Plasmas und der Erzeugungsbereiche des Plasmas verwendet. Dies führt leicht dazu, dass das Plasma zwischen der Anode und der Kathode erhalten bleibt. Dadurch wird Korrosion der Kathode und des isolierenden Mediums verursacht, und die Lebensdauer des Gerätes wird reduziert; und im Stand der Technik wird die Anordnung von „Houndtooth” verwendet, die Position der Ausstoßbereiche des Plasmas und die Position der Erzeugungsbereiche des Plasmas haben keinen identischen Abstand, das Plasma in der Nähe der Ausstoßbereiche des Plasmas kann einfach ausgestoßen werden, allerdings kann das Plasma, das relativ weit von den Ausstoßbereichen des Plasmas liegt, nicht einfach ausgestoßen werden, so dass das Plasma in partiellen Bereichen leicht erhalten bleibt. An der Außenseite in der Nähe der Ausstoßbereiche des Plasmas hat das Plasma eine hohe Konzentration, bei der Position, die weit entfernt von den Ausstoßbereichen des Plasmas ist, hat das Plasma eine niedrige Konzentration, so dass eine ungleichmäßige Verteilung des Plasmas verursacht wird, was zu einer schlechten Einheitlichkeit der Oberflächenbehandlung führt. Im Vergleich zum Stand der Technik wird die Kathodenstruktur des Atmosphärendruckplasmagerätes gemäß der vorliegenden Erfindung verbessert, wobei die Kathode eine Vielzahl von gleichmäßig verteilten und identischen Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas aufweist, und wobei jede Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas Erzeugungsbereiche des Plasmas und Ausstoßbereiche des Plasmas aufweist, die eine identische Fläche haben, und wobei bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen des Plasmas identisch ist, so dass das erzeugte Plasma und das ausgetoßene Plasma zwischen der Anode und der Kathode immer eine ausgewogene Balance haben und identisch bleiben. Darüber hinaus kann das Plasma an beliebiger Position ausgetoßen werden, so dass die Korrosion der Kathode und des isolierenden Mediums durch das Plasma verringert werden kann, die Lebensdauer des Atmosphärendruckplasmagerätes wird erhöht, und darüber hinaus wird die Einheitlichkeit der Oberflächenreinigung des Substrates verbessert.
Kurze Beschreibung der Zeichnung
1 ist ein Strukturdiagramm der Kathodenstruktur des Atmosphärendruckplasmagerätes aus dem Stand der Technik;
2 ist ein schematisches Strukturdiagramm des ersten Ausführungsbeispiels des Atmosphärendruckplasmagerätes gemäß der vorliegenden Erfindung;
3 ist eine erste schematische Darstellung der in 2 dargestellten Kathodenstruktur;
4 ist eine zweite schematische Darstellung der in 2 dargestellten Kathodenstruktur;
5 ist ein schematisches Strukturdiagramm der ersten Ausführungsform des zweiten Ausführungsbeispiels des Atmosphärendruckplasmagerätes;
6 ist ein schematisches Strukturdiagramm der zweiten Ausführungsform des zweiten Ausführungsbeispiels des Atmosphärendruckplasmagerätes;
7 ist ein schematisches Strukturdiagramm der dritten Ausführungsform des zweiten Ausführungsbeispiels des Atmosphärendruckplasmagerätes; und
8 ist ein Flussdiagramm des ersten Ausführungsbeispiels des Herstellungsverfahrens des Atmosphärendruckplasmagerätes gemäß der vorliegenden Erfindung.
Ausführliche Ausführungsform
Im Folgenden wird die Erfindung im Zusammenhang mit den Figuren und den Ausführungsbeispielen näher erläutert.
Siehe 2 im Zusammenhang mit 3: 2 ist ein schematisches Strukturdiagramm des ersten Ausführungsbeispiels des Atmosphärendruckplasmagerätes gemäß der vorliegenden Erfindung. Das Atmosphärendruckplasmagerät weist eine Anode 10, ein isolierendes Medium 12 und eine Kathode 14 auf. Die Kathode 14 bezieht sich auf den Teil, der dem trennenden isolierenden Medium 12 der Anode 10 exakt gegenüberliegt, wobei der Teil, der der Anode exakt gegenüberliegt, eine gleiche Fläche wie die Anode 10 hat.
Das isolierende Medium 12 ist zwischen der Anode 10 und der Kathode 14 angeordnet.
Ein ionisierbares Gas ist zwischen die Anode 10 und die Kathode 14 gefüllt.
Die Kathode 14 weist eine Vielzahl von gleichmäßig verteilten und identischen Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten 141 des Plasmas auf. Die Definition der Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten 141 des Plasmas dient zur Erleichterung der Beschreibung. Da die Kathode 14 eine Vielzahl von Erzeugungsbereichen des Plasmas und eine Vielzahl von Ausstoßbereichen des Plasmas aufweist, werden ein Ausstoßbereich des Plasmas und ein Erzeugungsbereich des Plasmas, dessen Mitte der Ausstoßbereich des Plasmas ist, als eine Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas betrachtet. Jede Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas weist einen Ausstoßbereich 1411 des Plasmas und einen Erzeugungsbereich 1413 des Plasmas auf, wobei der Ausstoßbereich 1411 des Plasmas und der Erzeugungsbereich 1413 des Plasmas eine identische Fläche haben, und wobei bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen 1411 des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen 1411 des Plasmas identisch ist. Wenn drei Ausstoßbereiche 1411 des Plasmas jeweils als X, Y und Z definiert werden, beziehen sich die drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereiche 1411 des Plasmas darauf, dass X und Y angrenzend sind, X und Z angrenzend sind und Y und Z angrenzend sind. Selbstverständlich weist der Ort, der die drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereiche 1411 des Plasmas aufweist, die Grenzgebiete der Kathode 14 nicht auf.
Das Arbeitsprinzip des Atmosphärendruckplasmagerätes ist: eine Hochspannung wird zwischen dem Erzeugungsbereich 1413 des Plasmas der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas und der Anode 10 erzeugt, so dass eine große Menge an Plasma erzeugt wird und der Ausstoßbereich 1411 des Plasmas zum Ausstoß des Plasmas dient. Dadurch, dass die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas als der Ausstoßbereich 1411 des Plasmas und der Erzeugungsbereich 1413 des Plasmas, die identische Fläche haben, ausgestaltet ist, und dass bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen 1411 des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen 1411 des Plasmas identisch ist, hat die Erzeugungs- und Ausstoßgeschwindigkeit des Plasmas zwischen der Anode 10 und der Kathode 14 immer eine ausgewogene Balance. Darüber hinaus kann das Plasma an beliebiger Position des Erzeugungsbereich 1413 des Plasmas ausgestoßen werden, so dass das zwischen der Anode 10 und der Kathode 14 erzeugte Plasma keine Anhäufung hat und schnell ausgestoßen werden kann.
Im vorliegenden Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung sind die Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten 141 des Plasmas an der Kathode 14 angeordnet, und die Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten 141 des Plasmas sind als der Ausstoßbereich 1411 des Plasmas und als der Erzeugungsbereich 1413 des Plasmas ausgestaltet, die gleichmäßig verteilt sind und identische Fläche haben. Darüber hinaus ist bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen 1411 des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen 1411 des Plasmas identisch. Dadurch kann die Korrosion der Kathode und des isolierenden Mediums durch das Plasma verringert werden, die Lebensdauer des Gerätes erhöht werden. Außerdem kann die Einheitlichkeit der Oberflächenreinigung des Substrates verbessert werden.
Wie in 3 dargestellt, ist die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas in einer anderen Ausführungsform des vorliegenden Ausführungsbeispiels ein regelmäßiges Sechseck, wobei die Vielzahl von Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten 141 des Plasmas eine Wabenstruktur bildet.
Bevorzugt weist die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas einen Ausstoßbereich 1411 des Plasmas und einen Erzeugungsbereich 1413 des Plasmas auf. Der Ausstoßbereich 1411 des Plasmas ist kreisförmig und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas angeordnet, wobei das Verhältnis des Halbmessers des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt.
Formel ableiten:
Es wird angenommen, dass die Kathode 14 des Atmosphärendruckplasmagerätes aus einer Vielzahl von Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten 141 des Plasmas besteht, dass die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck mit der Seitenlänge a ist, dass der Ausstoßbereich 1411 des Plasmas ein Kreis mit dem Radius r ist.
Die Fläche der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas beträgt:
Die Fläche des Ausstoßbereichs 1411 des Plasmas beträgt: πr².
Gemäß der Gestaltung, dass der Ausstoßbereich 1411 des Plasmas der Kathode 14 und der Erzeugungsbereich 1413 des Plasmas eine identische Fläche haben, ist die Fläche der Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten 141 des Plasmas = 2·Fläche des Ausstoßbereichs 1411 des Plasmas. Nämlich:
Daraus resultierend,
approximativ r = 0,4137a.
Gleichzeitig wird angenommen, dass in drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen 1411 des Plasmas in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten 141 des Plasmas gibt:
Der Abstand zwischen den Kreismittelpunkten von beliebigen zwei Ausstoßbereichen 1411 des Plasmas ist b, approximativ, b = 1,732a.
Der Abstand zwischen dem Kreismittelpunkt des beliebigen Ausstoßbereichs des Plasmas und dem Mittelpunkt der Verbindungslinie von anderen zwei Ausstoßbereichen des Plasmas ist c, c = 1,5a.
Bevorzugt beträgt der Halbmesser des Ausstoßbereichs 1411 des Plasmas r 0,2–5,0 mm, dementsprechend beträgt der Abstand zwischen Ausstoßbereichen 1411 des Plasmas (nämlich Abstand zwischen den Kreismittelpunkten von zwei Ausstoßbereichen 1411 des Plasmas) b 0,8372–20,93 mm. Darüber hinaus beträgt c 0,7252–18,13 mm.
Im Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung wird die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas als der Ausstoßbereich 1411 des Plasmas und der Erzeugungsbereich 1413 des Plasmas, die identische Fläche haben, gestaltet. Dadurch kann Korrosion der Kathode 14 und des isolierenden Mediums 12 durch das Plasma verringert werden, und die Lebensdauer Atmosphärendruckplasmagerätes wird erhöht. Darüber hinaus haben mit der Gestaltung der Wabenstruktur der Ausstoßbereich 1411 des Plasmas zum Ausstoß des Plasmas und der Erzeugungsbereich 1413 des Plasmas zur Erzeugung des Plasmas einen gleichen Abstand, so dass die gleichmäßige Verteilung des Plasmas an der Außenseite der Kathode 14 verbessert wird. Und die Behandlungsleistung des Plasmas wird stark verbessert, z. B. die Einheitlichkeit der Reinigung eines Substrats wird verbessert, so dass die Schleif-Probleme wegen ungleichmäßiger Beschichtung, die durch Unterschiede in der Einheitlichkeit der Substratreinigung verursacht wird, verringert und vermieden werden. Dadurch werden die Qualität und die Ausbeute der LCD-Produkte erhöht.
Wie in 4 dargestellt, ist die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas in einer anderen Ausführungsform des vorliegenden Ausführungsbeispiels ein regelmäßiges Sechseck, wobei die Vielzahl von Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten 141 des Plasmas eine Wabenstruktur bildet.
Bevorzugt weist die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas einen Ausstoßbereich 1415 des Plasmas und einen Erzeugungsbereich 1417 des Plasmas auf. Der Ausstoßbereich 1415 des Plasmas ist in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas angeordnet, die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas ist ein regelmäßiges Sechseck, und der Ausstoßbereich 1415 des Plasmas ist auch ein regelmäßiges Sechseck, wobei das Verhältnis der Seitenlänge des Ausstoßbereichs 1415 des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas
beträgt.
Formel ableiten:
Es wird angenommen, dass die Kathode 14 des Atmosphärendruckplasmagerätes aus einer Vielzahl von Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten 141 des Plasmas besteht, dass die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck mit der Seitenlänge a ist, dass der Ausstoßbereich 1415 des Plasmas auch ein regelmäßiges Sechseck mit der Seitenlänge d ist.
Die Fläche der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas beträgt:
Die Fläche des Ausstoßbereichs 1415 des Plasmas beträgt:
Gemäß der Gestaltung, dass der Ausstoßbereich 1415 des Plasmas und der Erzeugungsbereich 1417 des Plasmas der Kathode 14 eine identische Fläche haben, ist die Fläche der Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten 141 des Plasmas = 2·Fläche des Ausstoßbereichs 1415 des Plasmas. Nämlich:
Daraus resultierend,
approximativ d = 0,7071a.
Gleichzeitig wird angenommen, dass in drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen 1415 des Plasmas in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten 141 des Plasmas gibt:
Der Abstand zwischen den Mittelpunkten von zwei Ausstoßbereichen 1415 des Plasmas ist e, approximativ, e = 1,732a.
Der Abstand zwischen dem Mittelpunkt der beliebigen Ausstoßbereiche 1415 des Plasmas und dem Mittelpunkt der Verbindungslinie von anderen zwei Ausstoßbereichen 1415 des Plasmas ist f, f = 1,5a.
Bevorzugt beträgt die Seitenlänge des Ausstoßbereichs 1415 des Plasmas d 0,1–0,5 mm, dementsprechend beträgt der Abstand zwischen Ausstoßbereichen 1415 des Plasmas (nämlich Abstand zwischen den Kreismittelpunkten von zwei Ausstoßbereichen 1415 des Plasmas) e 0,4923–24,615 mm, darüber hinaus beträgt f 0,4264–21,32 mm.
Im Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung wird die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit 141 des Plasmas als der Ausstoßbereich 1415 des Plasmas und der Erzeugungsbereich 1417 des Plasmas, die identische Fläche haben, gestaltet. Dadurch kann die Korrosion der Kathode 14 und des isolierenden Mediums 12 durch das Plasma verringert werden, und die Lebensdauer des Atmosphärendruckplasmagerätes wird erhöht. Darüber hinaus haben mit der Gestaltung der Wabenstruktur der Ausstoßbereich 1415 des Plasmas zum Ausstoß des Plasmas und der Erzeugungsbereich 1417 des Plasmas zur Erzeugung des Plasmas einen gleichen Abstand, so dass die gleichmäßige Verteilung des Plasmas an der Außenseite der Kathode 14 verbessert wird. Und die Behandlungsleistung des Plasmas wird stark verbessert. Z. B. wird die Einheitlichkeit der Reinigung eines Substrats verbessert, so dass die Schleif-Probleme wegen ungleichmäßiger Beschichtung, die durch Unterschiede in der Einheitlichkeit der Substratreinigung verursacht wird, verringert und vermieden werden. Dadurch werden die Qualität und die Ausbeute der LCD-Produkte erhöht.
In der obengenannten Ausführungsform kann der Ausstoßbereich des Plasmas selbstverständlich nicht nur ein Kreis oder ein regelmäßiges Sechseck, sondern auch ein Rechteck oder ein gleichseitiges Dreieck sein, solange die Erzeugungsbereiche des Plasmas und die Ausstoßbereiche des Plasmas eine identische Fläche haben und bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen des Plasmas identisch ist. Deshalb kann das zwischen der Anode und der Kathode erzeugte Plasma völlig ausgestoßen werden, und das erzeugte Plasma und das ausgestoßene Plasma immer eine ausgewogene Balance haben, so dass der Zweck der vorliegenden Erfindung realisiert wird.
5 ist ein schematisches Strukturdiagramm der ersten Ausführungsform des zweiten Ausführungsbeispiels des Atmosphärendruckplasmagerätes gemäß der vorliegenden Erfindung. Das isolierende Medium 12 weist eine erste Isolationsplattenschicht 121 und eine zweite Isolationsplattenschicht 123 auf, wobei die erste Isolationsplattenschicht 121 die der Kathodenseite 14 zugewandte Oberfläche der Anode 10 abdeckt, und wobei die zweite Isolationsplattenschicht 123 die der Anodenseite 10 zugewandte Oberfläche der Kathode 14 abdeckt.
6 bis 7 sind jeweils ein schematisches Strukturdiagramm der zweiten und dritten Ausführungsform des zweiten Ausführungsbeispiels des Atmosphärendruckplasmagerätes gemäß der vorliegenden Erfindung. Das isolierende Medium 12 weist eine dritte Isolationsplattenschicht 125 auf, wobei die dritte Isolationsplattenschicht 125 die der Kathodenseite 14 zugewandte Oberfläche der Anode 10 oder die der Anodenseite 10 zugewandte Oberfläche der Kathode 14 abdeckt, oder die dritte Isolationsplattenschicht 125 freihängend zwischen der Anode 10 und der Kathode 14 angeordnet ist. Selbstverständlich kann das isolierende Medium eine Vielzahl von isolierenden Partikeln sein, die zwischen die Anode 10 und die Kathode 14 gefüllt sind.
In den obengenannten Ausführungsformen handelt es sich um eine Gasentladung im Nicht-Gleichgewichtszustand. Das isolierende Medium 12 wird in den Entladungsraum eingebracht. Sie wird auch als Koronaentladung der dielektrischen Barriere oder stille Entladung bezeichnet. Die dielektrische Barrierenentladung kann in einem Hochdruck und einem sehr breiten Frequenzbereich arbeiten, in der Regel beträgt der Arbeitsdruck 104 bis 106 Pa, und die Netzfrequenz kann 50 Hz bis 1 MHz betragen. Zwischen zwei Entladungselektroden wird ein bestimmtes Arbeitsgas gefüllt, und das isolierende Medium 12 deckt eine oder zwei Elektrode(n) ab, oder das Medium 12 kann direkt im Entladungsraum freiaufgehängt werden oder der Entladungsraum wird mit teilchenförmigem Medium gefüllt. Wenn eine relativ höhere Wechselhochspannung zwischen beiden Elektroden angelegt wird, wird das Gas zwischen den Elektroden einen Durchschlag haben, so dass die dielektrische Barrierenentladung erzeugt wird.
8 ist ein Flussdiagramm des ersten Ausführungsbeispiels des Herstellungsverfahrens des Atmosphärendruckplasmagerätes gemäß der vorliegenden Erfindung. Das Verfahren weist folgende Schritte auf:
Schritt S1, Vorbereitung der Anode, des isolierendes Mediums und der Kathode.
Z. B. eine Anode und eine Kathode, die Anzahl des isolierenden Mediums kann 1 oder 2 betragen.
Schritt S2, ein ionisierbares Gas wird zwischen der Anode und der Kathode hinzugefügt.
Das ionisierbare Gas kann Edelgase wie Helium, Argon, Xenon aufweisen, sowie ein Gas, das unter hohem Druck ionisiert werden kann.
Schritt S3, das isolierende Medium wird zwischen der Anode und der Kathode angeordnet.
Z. B. kann das isolierende Medium eine Plattenschicht sein, die optional die der Kathodenseite zugewandte Oberfläche der Anode oder die der Anodenseite zugewandte Oberfläche der Kathode abdeckt. Selbstverständlich kann das isolierende Medium auch freihängend zwischen der Anode und der Kathode angeordnet werden. Darüber hinaus kann das isolierende Medium eine Vielzahl von isolierenden Partikeln sein, die zwischen die Anode und die Kathode gefüllt sind.
Schritt S4, an der Kathode wird eine Vielzahl von gleichmäßig verteilten und identischen Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas ausgebildet, wobei jede Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas Erzeugungsbereiche des Plasmas und Ausstoßbereiche des Plasmas aufweist, und wobei die Erzeugungsbereiche des Plasmas und die Ausstoßbereiche des Plasmas eine identische Fläche haben, und wobei bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen des Plasmas identisch ist.
Z. B. wird eine Hochspannung zwischen dem Ausstoßbereich des Plasmas der Kathode und der Anode erzeugt, eine große Menge an Plasma wird erzeugt, und der Ausstoßbereich des Plasmas der Kathode dient zum Ausstoß des Plasmas. Der Ausstoßbereich des Plasmas und der Erzeugungsbereich des Plasmas haben eine identische Fläche, und bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen des Plasmas ist der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen des Plasmas identisch, so dass die Erzeugung und der Ausstoß des Plasmas an beliebiger Position eine ausgewogene Balance erhalten.
In den obengenannten Ausführungsbeispielen können der Schritt S2 und der Schritt S3 untereinander ausgetauscht werden.
Im vorliegenden Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung sind die Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas an der Kathode angeordnet, an den Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas sind der Ausstoßbereich des Plasmas und der Erzeugungsbereich des Plasmas gleichmäßig angeordnet, die eine identische Fläche haben. Darüber hinaus ist bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen des Plasmas identisch. Dadurch kann die Korrosion der Kathode und des isolierenden Mediums durch das Plasma verringert werden, die Lebensdauer des Gerätes erhöht werden, außerdem die Einheitlichkeit der Oberflächenreinigung des Substrates verbessert werden.
In einer anderen Ausführungsform des vorliegenden Ausführungsbeispiels weist der Schritt S4 ferner auf:
Die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas wird als ein regelmäßiges Sechseck gestaltet, wobei die Vielzahl von Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas eine Wabenstruktur bildet.
Ferner werden die Ausstoßbereiche des Plasmas kreisförmig ausgebildet und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet, wobei das Verhältnis des Halbmessers des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt.
Oder die Ausstoßbereiche des Plasmas werden als ein regelmäßiges Sechseck ausgebildet und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet, wobei das Verhältnis der Seitenlänge des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt.
In den obengenannten Ausführungsformen wird eine Wabenstruktur gebildet, so dass der Ausstoßbereich des Plasmas zum Ausstoß des Plasmas und der Erzeugungsbereich des Plasmas zur Erzeugung des Plasmas einen gleichen Abstand haben, damit die gleichmäßige Verteilung des Plasmas an der Außenseite der Kathode verbessert wird. Und die Behandlungsleistung des Plasmas wird stark verbessert, z. B. die Einheitlichkeit der Reinigung eines Substrats wird verbessert, so dass die Schleif-Probleme wegen ungleichmäßiger Beschichtung, die durch Unterschiede in der Einheitlichkeit der Substratreinigung verursacht wird, verringert und vermieden werden. Daduch werden die Qualität und die Ausbeute der LCD-Produkte erhöht.
Das obige sind nur Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung und keine Begrenzung des Patentschutzbereichs der vorliegenden Erfindung. Gemäß der Beschreibung und Figuren der vorliegenden Erfindung vorgenommene äquivalente Strukturen oder äquivalente Verfahrensmodifikationen, oder die direkte oder indirekte Verwendung in anderen technischen Gebieten sollen auch im Patentschutzbereich der vorliegenden Erfindung enthalten sein.

Claims

Atmosphärendruckplasmagerät, dadurch gekennzeichnet, dass es eine Anode, eine Kathode und ein isolierendes Medium aufweist, das zwischen der Anode und der Kathode angeordnet ist, wobei ein ionisierbares Gas zwischen die Anode und die Kathode gefüllt ist; und wobei die Kathode eine Vielzahl von gleichmäßig verteilten und identischen Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas aufweist, und wobei jede Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas einen Erzeugungsbereich des Plasmas und einen Ausstoßbereich des Plasmas aufweist, und wobei der Erzeugungsbereich des Plasmas und der Ausstoßbereich des Plasmas eine identische Fläche haben, und wobei bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen des Plasmas identisch ist; und wobei die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck ist, und wobei die Vielzahl von Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas eine Wabenstruktur bildet; und wobei der Ausstoßbereich des Plasmas kreisförmig ist und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet ist, und wobei das Verhältnis des Halbmessers des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt; oder wobei der Ausstoßbereich des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck ist und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet ist, und wobei das Verhältnis der Seitenlänge des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt.
Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das isolierende Medium eine erste Isolationsplattenschicht und eine zweite Isolationsplattenschicht aufweist, wobei die erste Isolationsplattenschicht die der Kathodenseite zugewandte Oberfläche der Anode abdeckt, und wobei die zweite Isolationsplattenschicht die der Anodenseite zugewandte Oberfläche der Kathode abdeckt.
Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das isolierende Medium eine dritte Isolationsplattenschicht aufweist, wobei die dritte Isolationsplattenschicht die der Kathodenseite zugewandte Oberfläche der Anode oder die der Anodenseite zugewandte Oberfläche der Kathode abdeckt, oder die dritte Isolationsplattenschicht freihängend zwischen der Anode und der Kathode angeordnet ist.
Atmosphärendruckplasmagerät, dadurch gekennzeichnet, dass es eine Anode, eine Kathode und ein isolierendes Medium aufweist, das zwischen der Anode und der Kathode angeordnet ist; wobei ein ionisierbares Gas zwischen die Anode und die Kathode gefüllt ist; und wobei die Kathode eine Vielzahl von gleichmäßig verteilten und identischen Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas aufweist, und wobei jede Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas einen Erzeugungsbereich des Plasmas und einen Ausstoßbereich des Plasmas aufweist, und wobei der Erzeugungsbereich des Plasmas und der Ausstoßbereich des Plasmas eine identische Fläche haben, und wobei bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen des Plasmas identisch ist; und wobei die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck ist, und wobei die Vielzahl von Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas eine Wabenstruktur bildet; und wobei das isolierende Medium eine erste Isolationsplattenschicht und eine zweite Isolationsplattenschicht aufweist, und wobei die erste Isolationsplattenschicht die der Kathodenseite zugewandte Oberfläche der Anode abdeckt, und wobei die zweite Isolationsplattenschicht die der Anodenseite zugewandte Oberfläche der Kathode abdeckt; und wobei der Ausstoßbereich des Plasmas kreisförmig ist und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet ist, und wobei das Verhältnis des Halbmessers des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt.
Gerät nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass das isolierende Medium eine dritte Isolationsplattenschicht aufweist, wobei die dritte Isolationsplattenschicht die der Kathodenseite zugewandte Oberfläche der Anode oder die der Anodenseite zugewandte Oberfläche der Kathode abdeckt, oder die dritte Isolationsplattenschicht freihängend zwischen der Anode und der Kathode angeordnet ist.
Gerät nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Ausstoßbereich des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck ist und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet ist, wobei das Verhältnis der Seitenlänge des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt.
Atmosphärendruckplasmagerät, dadurch gekennzeichnet, dass es eine Anode, eine Kathode und ein isolierendes Medium aufweist, das zwischen der Anode und der Kathode angeordnet ist; wobei ein ionisierbares Gas zwischen die Anode und die Kathode gefüllt ist; und wobei die Kathode eine Vielzahl von gleichmäßig verteilten und identischen Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas aufweist, und wobei jede Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas einen Erzeugungsbereich des Plasmas und einen Ausstoßbereich des Plasmas aufweist, und wobei der Erzeugungsbereich des Plasmas und der Ausstoßbereich des Plasmas eine identische Fläche haben, und wobei bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen des Plasmas identisch ist.
Gerät nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck ist, wobei die Vielzahl von Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas eine Wabenstruktur bildet.
Gerät nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Ausstoßbereich des Plasmas kreisförmig ist und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet ist, wobei das Verhältnis des Halbmessers des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt.
Gerät nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Ausstoßbereich des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck ist und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet ist, wobei das Verhältnis der Seitenlänge des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt.
Gerät nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das isolierende Medium eine erste Isolationsplattenschicht und eine zweite Isolationsplattenschicht aufweist, wobei die erste Isolationsplattenschicht die der Kathodenseite zugewandte Oberfläche der Anode abdeckt, und wobei die zweite Isolationsplattenschicht die der Anodenseite zugewandte Oberfläche der Kathode abdeckt.
Gerät nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das isolierende Medium eine dritte Isolationsplattenschicht aufweist, wobei die dritte Isolationsplattenschicht die der Kathodenseite zugewandte Oberfläche der Anode oder die der Anodenseite zugewandte Oberfläche der Kathode abdeckt, oder die dritte Isolationsplattenschicht freihängend zwischen der Anode und der Kathode angeordnet ist.
Herstellungsverfahren des Atmosphärendruckplasmagerätes, dadurch gekennzeichnet, dass es folgende Schritte aufweist: Vorbereiten der Anode, der Kathode und des isolierenden Mediums; Füllen eines ionisierbaren Gases zwischen die Anode und die Kathode; Anordnen des isolierenden Mediums zwischen der Anode und der Kathode; wobei an der Kathode eine Vielzahl von gleichmäßig verteilten und identischen Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas ausgebildet ist, wobei jede Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas einen Erzeugungsbereich des Plasmas und einen Ausstoßbereich des Plasmas aufweist, und wobei der Erzeugungsbereich des Plasmas und der Ausstoßbereich des Plasmas eine identische Fläche haben, und wobei bei drei aneinander angrenzenden Ausstoßbereichen des Plasmas der Mittenabstand zwischen zwei jeweiligen Ausstoßbereichen des Plasmas identisch ist.
Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas als ein regelmäßiges Sechseck geformt wird, wobei eine Wabenstruktur aus der Vielzahl von Erzeugungs- und Ausstoßeinheiten des Plasmas ausgebildet wird.
Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass der Ausstoßbereich des Plasmas kreisförmig ausgebildet ist und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet ist, wobei das Verhältnis des Halbmessers des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt; oder dass der Ausstoßbereich des Plasmas ein regelmäßiges Sechseck ist und in der Mitte der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas angeordnet ist, wobei das Verhältnis der Seitenlänge des Ausstoßbereichs des Plasmas zur Seitenlänge der Erzeugungs- und Ausstoßeinheit des Plasmas
beträgt.