DE1077458B - Vorrichtung zur Untersuchung der Gaszusammensetzung in Hochvakuumanlagen - Google Patents

Vorrichtung zur Untersuchung der Gaszusammensetzung in Hochvakuumanlagen

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DE1077458B
DE1077458B DES47266A DES0047266A DE1077458B DE 1077458 B DE1077458 B DE 1077458B DE S47266 A DES47266 A DE S47266A DE S0047266 A DES0047266 A DE S0047266A DE 1077458 B DE1077458 B DE 1077458B
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DE
Germany
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gas
vessel
electron source
light
emitted
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DES47266A
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Inventor
Dr Karl-Hans Reiss
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Siemens Reiniger Werke AG
Original Assignee
Siemens Reiniger Werke AG
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light

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  • Health & Medical Sciences (AREA)
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Description

  • Vorrichtung zur Untersuchung der Gaszusammensetzung in Hochvakuumanlagen Die deutsche Patentschrift 1026101 betrifft eine Vorrichtung zur Anzeige von Lecks in Hochvakuumanlagen mittels einer in der Anlage aufrechterhaltenen elektrischen Entladung, bei der eine fotoelektrische Anordnung zur Überwachung des Entladungsleuchtens auf solche Verschiebungen der spektralen Zusammensetzung des Leuchtens anspricht, die auf von außen in das Vakuumgefäß eindringende Gase oder Dämpfe zurückzuführen sind.
  • Bei dieser Vorrichtung hat es sich als nachteilig erwiesen, daß die zu untersuchenden Gase oder Dämpfe sich unter der Einwirkung eines elektrischen Feldes, das die gewünschte Entladung hervorruft, befinden.
  • Hierdurch werden nämlich die in der Entladung erzeugten Ionen auf die Gefäßwand und die Elektroden, von denen das elektrische Feld ausgeht, beschleunigt und dort teilweise adsorbiert, so daß die Zusammensetzung der untersuchten Gase oder Dämpfe nicht immer mit der Zusammensetzung der Gase übereinstimmt, die sich in der Hoehvakuumanlage befindet.
  • Die Erfindung sucht diesen Nachteil zu vermeiden und gestattet dadurch gleichzeitig, den Anwendungsbereich der Vorrichtung nach dem Hauptpatent zu erweitern, so daß die Untersuchung nicht auf solche Gase und Dämpfe beschränkt zu bleiben braucht, bei denen die vorerwähnte Gasaufzehrung nur geringfügig in Erscheinung tritt. Die Einrichtung nach der Erfindung soll vielmehr für die Untersuchung der Gas-und/oder Dampfzusammensetzung in Hochvakuumanlagen schlechthin verwendbar sein (im folgenden wird der Einfachheit halber nur von Gasuntersuchungen gesprochen).
  • Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Untersuchung der Gaszusammensetzung in Hochvakuumanlagen ist gekennzeichnet durch ein an die Hochvakuumanlage vakuumdicht anzuschließendes Gefäß (Gasuntersuchungsgefäß), durch eine Elektronenquelle, die in das Gasuntersuchungsgefäß Elektronen derart einschießt, daß die Elektronen das in dem Gasuntersuchungsgefäß befindliche Gas zum Leuchten anzuregen vermögen, wobei die Mittel zum Einschießen der Elektronen in das Gasuntersuchungsgefäß derart ausgebildet sind, daß der Gasuntersuchungsraum frei von elektromagnetischen Feldern ist, ferner durch eine fotoelektrische Anordnung zur Ermittlung der Intensität des Gasleuchtens in auswählbaren Spektralbereichen und durch Mittel, die bewirken, das ausschließlich das Gasleuchten auf das lichtempfindliche Aufnahmeorgan der fotoelektrischen Anordnung zu wirken vermag.
  • Bei Anwendung dieser erfindungsgemäßen Vorrichtung ist es also im Gegensatz zu der Vorrichtung nach dem Hauptpatent nicht möglich, daß eine unerwünschte Gas adsorption im Gasuntersuchungsgefäß eintritt, und daher stimmt die Zusammensetzung des untersuchten Gases mit der Zusammensetzung des Gases in der Hochvakuumanlage überein.
  • Um zu vermeiden, daß von der Elektronenquelle ausgehendes Licht auf das lichtempfindliche Aufnahmeorgan der fotoelektrischen Anordnung zu wirken vermag und hierdurch fehlerhafte Meßergebnisse bewirkt werden, sind geeignete Mittel zur Abschirmung dieses Lichts vorzusehen. Im einfachsten Fall verwendet man allerdings eine Oxydkathode als Elektronenquelle, die derart schwach leuchtet, daß das im Betrieb von ihr ausgehende Glühlicht nicht auf die fotoelektrische Anordnung wirkt. Insbesondere sind hierfür an sich bekannte :E:lektronenquellen mit gesinterter Kathode geeignet.
  • Besonders vorteilhaft hat sich hinsichtlich der zu erreichenden hohen Eldftronenstromdichte die Verwendung einer flächenhaften Elektronenquelle erwiesen, der eine Elektronenoptik vorgeschaltet ist, die die aus der Quelle austretenden Elektronen bündelt.
  • Um das Einwirken des- Leuchtens der - Elektronenquelle auf das lichtempfindliche Aufnahmeorgan der fotoelektrischen Anordnung zu unterbinden, hat es sich als wirksam erwiesen, dieElektronenquelleauBerhalb des Gasuntersuchungsgefäßes in einem weiteren Vakuumgefäß anzuordnen und beide Gefäße durch einen engen Kanal derart miteinander zu verbinden, daß die von der Elektronenquelle ausgesandten Elektronen durch diesen Kanal in das Gasuntersuchungsgefäß einzuschließen-sind. Dabei wird zweckmäßig das Gasuntersuchungsgefäß allein über diesen engen Kanal und über das Vakuutgefäß, in dem die Elektronenquelle enthalten ist, ausgepumpt.
  • Eine einfache Messung des von der fotoelektrischen Anordnung gelieferten elektrischen Stromes, soweit er proportional zur Intensität des ausgewählten Spektralbereiches des Gasleuchtens ist, wird in Ausbildung der Erfindung dadurch ermöglicht, daß das Gasleuchten nur intermittierend erregt wird, so daß also allein der von der fotoeiektrischen Anordnung gelieferte Weçhselstrom zu messen ist und ein etwa durch FremdlichtbewirkterGleichspannungsanteil unterdrückt wird.
  • Um ein derart intermittierendes Gasleuchten zu bewirken, wird die Elektronenquelle an eine Wechselspannung angeschlossen.
  • Vielfach ist es wünschenswert, den Elektronenstrom im Gasuntersuchungsgefäß zu messen, da diesem Elektronenstrom die Intensität des Gasleuchtens annähernd proportional ist. Es ist daher in weiterer Ausbildung der Erfindung in dem Gasuntersuchungsgefäß eine Auffangelektrode für die von der Elektronenquelle ausgesandten Elektronen vorgesehen, an die ein Gerät zur Messung des EIektronenstromes anschließbar ist.
  • Um die Intensität des Gasleuchtens, das auf das lichtempfindliche Aufnahmeorgan der fotoelektrischen Anordnung trifft, zu erhöhen, ist die Wand des Gasuntersuchungsgefäßes vorteilhaft mit einer lichtreflektierenden leitfähigen Schicht abgedeckt, die nur den Bereich frei läßt, durch den das von dem Gas ausgesandte Licht auf das lichtempfindliche Aufnahmeorgan trifft.
  • Zur Auswahl des Spektralbereiches des Gasleuchtens, der von dem lichtempfindlichen Aufnahmeorgan der fotoelektrischen Anordnung aufgenommen werden soll, ist zwischen dem Gasuntersuchungsgefäß und dem lichtempfindlichen Aufnahmeorgan in weiterer Ausbildung der Erfindung ein Filter angeordnet, das nur für einen auswählbaren Spektralbereich des von dem Gas ausgesandten Lichts durchlässig ist. Insbesondere hat sich als ein für diesen Zweck geeignetes Filter ein an sich bekanntes - Interferenzverlauffilter erwiesen.
  • Fig. 1 zeigt einen Schnitt durch die erfindungsgemäße Einrichtung, aus dem die wesentlichen Merkmale erkennbar sind; Fig. 2 gibt einen weiteren Schnitt in Richtung II-II durch die Einrichtung nach Fig. 1 wieder.
  • Das Gasuntersuchungsgefäß 1 in Fig. 1 ist über einen Stutzen 2 mit einem Dosierhahn 3 verbunden, der zweckmäßig an das Vorvakuumgefäß der Hochvakuumanlage angeschlossen wird, deren Gaszusammensetzung zu untersuchen ist. Die Innenwand des Gasuntersuchungsgefäßes ist mit Ausnahme eines Bereiches 4, durch den das von dem Gas ausgesandte Licht auf das lichtempfindliche Aufnahmeorgan 33 eines Fotovervielfachers 5 fällt, mit einem Platinbelag 6 abgedeckt. Dieser PIatinbelag 6 ist durch Kathodenzerstäubung hergestellt.
  • In das Gasuntersuchungsgefäß 1 ist als Auffangelektrode für die in das Gasuntersuchungsgefäß geschossenen Elektronen ein Faradaykäfig 7 vorgesehen.
  • Die Elektronenquelle 10 ist außerhalb des Gasuntersuchungsgefäßes 1 in einem weiteren Vakuumgefäß 8 angeordnet; beide Gefäße stehen durch einen engen Kanal 9 miteinander in Verbindung. Als Elektronenquelle 10 dient eine flächenhafte Oxydkathode 11, die von dem Widerstand 12 erhitzt wird. Die Oxydkathode hesteht aus einer bei 900 bis 10000 C im Hochvakuum oder unter Wasserstoffgas gesinterten, vorgepreßten Mischung aus Nickelpulver und Barium- bzw. Strontiumcarbonat im Mischungsverhältnis 3:1. Die Zuführungen 13 und 14 zu dem Widerstand 12 sind durch die Keramikscheibe 15 und über isolierende Durchfüh- rungen 16 und 17, die in einer Keramikscheibe 18 ein--gelassen sind, ins Freie geführt. Die Keramikscheibe 18 schließt das Vakuumgefäß 8 ab. Zwischen derWandung 19 des Vakuumgefäßes 8 und der Keramikscheibe 18 ist daher eine Gummidichtung 20 vorgesehen.
  • Zur Bündelung des von der flächenhaften Kathode 11 ausgehenden Elektronenstrahles dient ein Wehneltzylinder 21, der mit der Anode 22 zur Beschleunigung der Elektronen zusammenwirkt. Der Wehneltzvlinder 21 ist auf der Keramikscheibe 15 mittels Stützen 23 befestigt. Seine elektrische Zuleitung 24 geht durch die isolierende Durchführung 25 ins Freie. Entsprechend ist die Kathodenzuführung 26 durch die Durchführung 27 gelegt. Die Anode 22 ist an Trägern 34 befestigt und befindet sich auf Erdpotential.
  • Das Vakuumgefäß 8 weist einen Ansatzstutzen 28 auf, der an eine. Diffusionspumpe anzuschließen ist.
  • Die von der Kathode 11 ausgesandten Elektronen treten durch den Kanal in das Gasuntersuchungsgefäß 1, das frei von elektrischen Feldern ists und erregen das in diesem Gasuntersuchungsgefäß 1 befindliche Gas zum Leuchten. Das aus der Öffnung4 austretende Licht wird durch eine Zylinderlinse 29 gesammelt und durchtritt ein Interferenzverlauffilter 30, das je nach seiner wählbar einzustellenden Lage einen auswählbaren Spektralbereich auf das lichtempfindliche Aufnahmeorgan des Fotovervielfachers 5 fallen läßt. Von diesem Fotovervielfacher 5 führt eine Zuleitung 31 zu einem Verstärker- und Anzeigegerät.
  • Das Gasuntersuchungsgefäß 1 und der Fotovervielfacher 5 sind mit einer lichtdichten Abschirmung 32 umkleidet.
  • Da das Gasuntersuchungsgefäß 1 über eine Gummidichtung38 mit dem Vakuumgefäß 8 verbutfden ist und dieses Gummi Gas adsorbieren kann, ist diese Gummidichtung 38 von dem eigentlichen Gasuntersuchungsraum 1 durch eine Wand 39 getrennt; der dadurch abgegrenzte Raum 35 wird über die Bohrungen 36 und 37 von der an dem Stutzen 28 angeschlossenen Diffusionspumpe evakuiert.
  • PATENTANSPRUCEXE 1. Vorrichtung zur Untersuchung der Gaszusammensetzung in Hochvakuumanlagen mittels einer in der Anlage aufrechterhaltenen elektrischen Entlandung, deren Leuchten durch eine fotoelektrische Anordnung auf solche Verschiebungen der spektralen Zusammensetzung überwacht wird, die auf von außen in das Vakuumgefäß eindringende Gase oder Dämpfe zurückzuführen sind, gekennzeichnet durch ein an die Hochvakuumanlage vakuumdicht anzuschließendes Gefäß (Gasuntersuchungsgefäß), durch eine Elektronenquelle, die in das Gasuntersuchungsgefäß Elektronen derart einschießt, daß die Elektronen das in dem Gasuntersuchungsgefäß befindliche Gas zum Leuchten anzuregen vermögen, wobei die Mittel zum Einschießen der Elektronen in den Gasuntersuchungsraum derart ausgebildet sind, daß der Gasuntersuchungsraum frei von elektromagnetischen Feldern ist, ferner durch eine fotoelektrische Anordnung zur Ermittlung der Intensität des Gasleuchtens in auswählbaren Spektralbereichen und durch Mittel, die bewirken, daß ausschließlich das Gasleuchten auf das lichtempfindliche Aufnahmeorgan der fotoelektrischen Anordnung zu wirken vermag.

Claims (1)

  1. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Oxydkathode als Elektronenquelle, die derart schwach leuchtet, daß das im Betrieb von ihr ausgehende Glühlicht nicht auf die fotoelektrische Anordnung wirkt.
    3. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine flächenhafte Elektronenquelle und durch eine Elektronenoptik, die die aus der Elektronenquelle austretenden Elektronen bündelt.
    4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektronenquelle außerhalb des Gasuntersuchungsgefäßes in einem weiteren Vakuumgefäß angeordnet ist und beide Gefäße durch einen engen Kanal derart miteinander in Verbindung stehen, daß die von der Elektronenquelle ausgesandten Elektronen durch den Kanal in das Gasuntersuchungsgefäß einzuschießen sind.
    5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Gasuntersuchungsgefäß allein über den Kanal mit dem Vakuumgefäß, in dem die Elektronenquelle enthalten ist, in Verbindung steht und daß an diesem Vakuumgefäß eine Vakuumpumpe anschließbar ist.
    6. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektronenquelle an eine Wechselspannung angeschlossen ist.
    7. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- kennzeichnet, daß in dem Gasuntersuchungsgefäß eine Auffangelektrode für die von der Elektronenquelle ausgesandten Elektronen vorgesehen ist.
    8. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Wand des Gasuntersuchungsgefäßes mit Ausnahme eines Bereichs, durch den das von dem Gas ausgesandte Licht auf das lichtempfindliche Aufnahmeorgan fällt - mit einer lichtreflektierenden leitfähigen Schicht abgedeckt ist.
    9. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem Gasuntersuchungsgefäß und dem lichtempfindlichen Aufnahmeorgan ein Filter angeordnet ist, das nur für einen auswählbaren Spektralbereich des von dem Gas ausgesandten Lichts durchlässig ist.
    10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß als Filter ein Interferenzverlauffilter vorgesehen ist.
    11. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Oxydkathode eine bei 900 bis .11000 C im Hochvakuum oder in Wasserstoffgas gesinterte, vorgepreßte Mischung aus Nickelpulver und Barium- bzw. Strontiumcarbonat im Mischungsverhältnis 3 :1 verwendet wird.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0396843A3 (de) * 1989-05-08 1991-08-07 Leybold Inficon Inc. Fühler des Teildrucks eines Gases in einer Vakuumkammer

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP0396843A3 (de) * 1989-05-08 1991-08-07 Leybold Inficon Inc. Fühler des Teildrucks eines Gases in einer Vakuumkammer

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