DE10321598A1 - Beleuchtungssystem mit Axikon-Modul - Google Patents

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1744187A1 (fr) * 2005-07-15 2007-01-17 Vrije Universiteit Brussel Polariseur Brewster radial à pliage
EP1959302A2 (fr) 2007-02-14 2008-08-20 Carl Zeiss SMT AG Procédé de fabrication d'un élément optique diffractif et élément optique diffractif fabriqué selon un tel procédé
CN103884295A (zh) * 2014-03-24 2014-06-25 中国科学院上海光学精密机械研究所 轴锥镜锥角检测装置及其检测方法
US9086509B2 (en) 2010-02-25 2015-07-21 The United States Of America As Represented By The Secretary, Department Of Health And Human Services Azicon beam polarization devices
CN103884295B (zh) * 2014-03-24 2016-11-30 中国科学院上海光学精密机械研究所 轴锥镜锥角检测装置及其检测方法
DE102017116477A1 (de) * 2017-07-21 2019-01-24 Asphericon Gmbh Polarisationswandler mit reflektiver Axikonoptik

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101295439B1 (ko) 2004-01-16 2013-08-09 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 편광변조 광학소자
US20070019179A1 (en) 2004-01-16 2007-01-25 Damian Fiolka Polarization-modulating optical element
US7324280B2 (en) 2004-05-25 2008-01-29 Asml Holding N.V. Apparatus for providing a pattern of polarization
DE102007042047A1 (de) 2006-09-06 2008-03-27 Carl Zeiss Smt Ag Teilsystem einer Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102009037646A1 (de) 2008-10-02 2010-08-05 Carl Zeiss Smt Ag System und Verfahren zur Beleuchtung eines Retikels in einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
CN103292743B (zh) * 2013-05-24 2016-03-09 中国科学院上海光学精密机械研究所 轴锥镜锥角的检测方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3523641C1 (de) * 1985-07-02 1986-12-18 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V., 3400 Göttingen Einrichtung zum Selektieren von rotationssymmetrischen Polarisationskomponenten einesLichtbuendels und Verwendung einer solchen Einrichtung
DE19535392A1 (de) * 1995-09-23 1997-03-27 Zeiss Carl Fa Radial polarisationsdrehende optische Anordnung und Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage damit
KR980005334A (ko) * 1996-06-04 1998-03-30 고노 시게오 노광 방법 및 노광 장치
WO2000070660A1 (fr) * 1999-05-18 2000-11-23 Nikon Corporation Procede et dispositif d'exposition, et dispositif d'eclairage
DE19829612A1 (de) * 1998-07-02 2000-01-05 Zeiss Carl Fa Beleuchtungssystem der Mikrolithographie mit Depolarisator
EP1367446A1 (fr) * 2002-05-31 2003-12-03 ASML Netherlands B.V. Appareil lithographique

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1744187A1 (fr) * 2005-07-15 2007-01-17 Vrije Universiteit Brussel Polariseur Brewster radial à pliage
EP1959302A2 (fr) 2007-02-14 2008-08-20 Carl Zeiss SMT AG Procédé de fabrication d'un élément optique diffractif et élément optique diffractif fabriqué selon un tel procédé
DE102007007907A1 (de) * 2007-02-14 2008-08-21 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Herstellung eines diffraktiven optischen Elements, nach einem derartigen Verfahren hergestelltes diffraktives optisches Element, Beleuchtungsoptik mit einem derartigen diffratkiven optischen Element, Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, Verfahren zum Herstellen eines mikroelektronischen Bauelements unter Verwendung einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage sowie mit einem solchen Verfahren hergestelltes Bauelement
DE102007007907A8 (de) * 2007-02-14 2008-12-18 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Herstellung eines diffraktiven optischen Elements, nach einem derartigen Verfahren hergestelltes diffraktives optisches Element, Beleuchtungsoptik mit einem derartigen diffraktiven optischen Element, Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, Verfahren zum Herstellen eines mikroelektronischen Bauelements unter Verwendung einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage sowie mit einem solchen Verfahren hergestelltes Bauelement
US8259392B2 (en) 2007-02-14 2012-09-04 Carl Zeiss Smt Gmbh Method of producing a diffractive optical element and diffractive optical element produced by such a method
US9086509B2 (en) 2010-02-25 2015-07-21 The United States Of America As Represented By The Secretary, Department Of Health And Human Services Azicon beam polarization devices
CN103884295A (zh) * 2014-03-24 2014-06-25 中国科学院上海光学精密机械研究所 轴锥镜锥角检测装置及其检测方法
CN103884295B (zh) * 2014-03-24 2016-11-30 中国科学院上海光学精密机械研究所 轴锥镜锥角检测装置及其检测方法
DE102017116477A1 (de) * 2017-07-21 2019-01-24 Asphericon Gmbh Polarisationswandler mit reflektiver Axikonoptik
DE102017116477B4 (de) 2017-07-21 2021-08-19 Asphericon Gmbh Polarisationswandler mit reflektiver Axikonoptik, Laseroptik, und Verfahren zur Herstellung eines Polarisationswandlers

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