DE10317275A1 - System for cleaning of equipment used manufacture of semiconductors, using liquid in treatment chamber for cleaning, followed by drying, treatment chamber contains members for moving gases in chamber - Google Patents

System for cleaning of equipment used manufacture of semiconductors, using liquid in treatment chamber for cleaning, followed by drying, treatment chamber contains members for moving gases in chamber Download PDF

Info

Publication number
DE10317275A1
DE10317275A1 DE2003117275 DE10317275A DE10317275A1 DE 10317275 A1 DE10317275 A1 DE 10317275A1 DE 2003117275 DE2003117275 DE 2003117275 DE 10317275 A DE10317275 A DE 10317275A DE 10317275 A1 DE10317275 A1 DE 10317275A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
treatment chamber
objects
cleaning
rotor
axis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE2003117275
Other languages
German (de)
Inventor
Thomas J. Moran
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Brooks CCS GmbH
Original Assignee
Dynamic Micro Systems Semiconductor Equipment GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dynamic Micro Systems Semiconductor Equipment GmbH filed Critical Dynamic Micro Systems Semiconductor Equipment GmbH
Priority to DE2003117275 priority Critical patent/DE10317275A1/en
Priority to EP04762977A priority patent/EP1614150B1/en
Priority to PCT/EP2004/003764 priority patent/WO2005001888A2/en
Priority to DE502004004812T priority patent/DE502004004812D1/en
Publication of DE10317275A1 publication Critical patent/DE10317275A1/en
Priority to US11/247,622 priority patent/US8161985B2/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/06—Cleaning involving contact with liquid using perforated drums in which the article or material is placed

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

Cleaning and decontamination appliance for equipment and semi-finished products from semiconductor manufacture comprises treatment chamber (40) using liquid for cleaning, followed by drying. Chamber contains members for moving gas round. Treatment chamber is en closable and members move gas round it. Treatment chamber comprises also condensation drier (64) for gas. Preferably heat exchanger is fitted next to treatment chamber and drier contains enclosed circuit, to which heat exchanger is coupled. Independent claims are included for cleaning method.

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Reinigen von bei der Herstellung von Halbleitern verwendeten Gegenständen, in der die Gegenstände in einer Behandlungskammer mittels einer Flüssigkeit gereinigt und anschließend getrocknet werden, und in der Behandlungskammer Mittel zum Bewegen eines Gases innerhalb der Behandlungskammer vorgesehen sind.The Invention relates to a device for cleaning during manufacture objects used by semiconductors, in which the objects in a Treatment chamber cleaned with a liquid and then dried and means for moving a gas in the treatment chamber are provided within the treatment chamber.

Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Reinigen von bei der Herstellung von Halbleitern verwendeten Gegenständen, bei dem die Gegenstände in einer Behandlungskammer mittels einer Flüssigkeit gereinigt und anschließend getrocknet werden, wobei innerhalb der Behandlungskammer ein Gas bewegt wird.The The invention further relates to a method for cleaning the Manufacture of semiconductors used articles, in which the articles in a Treatment chamber can be cleaned with a liquid and then dried, a gas being moved within the treatment chamber.

Eine Vorrichtung und ein Verfahren der vorstehend genannten Art sind aus der US 5 562 113 A bekannt.An apparatus and a method of the aforementioned type are known from the US 5,562,113 A known.

In der Halbleiterindustrie ist es notwendig, verschiedenartige Gegenstände, die bei der Herstellung von Halbleitern verwendet werden, vor, zwischen oder nach bestimmten Behandlungsschritten zu reinigen. Zu diesen Gegenständen zählen Hilfsmittel, bspw. Körbe, in denen Halbleitererzeugnisse, insbesondere Wafer, in größerer Zahl gehandhabt werden, aber auch Halbleitererzeugnisse selbst, also z.B. Wafer, LCD-Substrate oder Fotomasken.In the semiconductor industry, it is necessary to various objects used in the manufacture of semiconductors before, between or to clean after certain treatment steps. To this objects counting Aids, e.g. baskets, in which semiconductor products, especially wafers, in large numbers are handled, but also semiconductor products themselves, e.g. Wafers, LCD substrates or photo masks.

Da die Reinigung dieser Gegenstände mittels Flüssigkeit vorgenommen wird, ist innerhalb des Reinigungsprozesses auch ein Trocknen dieser Gegenstände erforderlich. Dabei ist von herausragender Bedeutung, dass die Gegenstände während der Reinigung tatsächlich vollkommen gereinigt und nicht etwa während des Trocknens wieder mit Fremdpartikeln kontaminiert werden.There cleaning these items by means of liquid is made within the cleaning process as well Drying these items required. It is of paramount importance that the items be cleaned during cleaning indeed completely cleaned and not again while drying be contaminated with foreign particles.

Es ist daher bekannt, die genannten Gegenstände in Vorrichtungen zu reinigen und zu trocknen, die eine Behandlungskammer für die Gegenstände aufweisen. In der Behandlungskammer werden die Gegenstände mittels einer Flüssigkeit gereinigt, indem die Gegenstände z.B. auf einem Rotor in der Behandlungskammer angeordnet und dann während der Reinigung gedreht werden. In der Behandlungskammer sind dann Sprühdüsen für eine Reinigungsflüssigkeit vorgesehen, um die Gegenstände während des Reinigungs vorganges mit einer Reinigungsflüssigkeit und ggf. mit einer Spülflüssigkeit zu besprühen.It is therefore known to clean the objects mentioned in devices and dry, which have a treatment chamber for the articles. In the treatment chamber, the objects are removed using a liquid cleaned by the objects e.g. placed on a rotor in the treatment chamber and then during the Cleaning can be turned. There are then spray nozzles for a cleaning liquid in the treatment chamber provided to the items while the cleaning process with a cleaning liquid and possibly with a rinse to spray.

Um die auf diese Weise gereinigten, jedoch nassen Gegenstände anschließend zu trocknen, sind verschiedene Vorgehensweisen bekannt.Around then clean the objects that have been cleaned in this way, but wet drying, various procedures are known.

Bei der aus der eingangs genannten US 5 562 113 bekannten Vorrichtung wird die Trocknung der Gegenstände über einen Heißluftstrom bewirkt. Zu diesem Zweck wird Umgebungsluft angesaugt, aufgeheizt, gefiltert und in die Behandlungskammer eingeleitet. Durch die Rotation der Gegenstände auf dem sich in der Behandlungskammer drehenden Rotor wird diese aufgeheizte Trocknungsluft in der Behandlungskammer umgewälzt. Sie wird anschließend aus der Behandlungskammer ausgeleitet.With the from the above US 5,562,113 known device, the drying of the objects is effected via a hot air stream. For this purpose, ambient air is drawn in, heated, filtered and introduced into the treatment chamber. By rotating the objects on the rotor rotating in the treatment chamber, this heated drying air is circulated in the treatment chamber. It is then discharged from the treatment chamber.

Diese Vorgehensweise hat den Nachteil, dass in Folge der externen Aufheizung der Trocknungsluft nur ein begrenzter Wirkungsgrad beim Trocknen erreicht werden kann. Weiterhin hat die Zufuhr von Außenluft immer den Nachteil, dass Fremdpartikel in den Behandlungsraum eingebracht werden können, obwohl die Luft gefiltert wird. Beim Filtern muss man nämlich immer einen Kompromiss zwischen der Wirksamkeit des Filters einerseits und der durchsetzbaren Luftmenge andererseits schließen.This Procedure has the disadvantage that as a result of external heating drying air has a limited drying efficiency can be achieved. Furthermore, the supply of outside air always the disadvantage that foreign particles are brought into the treatment room can be even though the air is filtered. You always have to filter a compromise between the effectiveness of the filter on the one hand and the enforceable amount of air on the other hand.

Bei anderen bekannten Vorrichtungen, wie sie von der Anmelderin unter den Typenbezeichnungen 300 und 310 vertrieben werden, wird Außenluft über einen entsprechenden Filter in die Behandlungskammer eingeleitet, ohne dass eine Aufheizung der Luft stattfindet. Stattdessen sind innerhalb der Behandlungskammer Infrarot-Strahler angeordnet, mit denen im Wesentlichen die zu reinigenden Gegenstände aufgeheizt werden, wodurch die Trocknungswirkung verbessert wird.at other known devices, as described by the applicant the type designations 300 and 310 are sold, outside air via a appropriate filter introduced into the treatment chamber without that the air heats up. Instead, are inside the treatment chamber arranged infrared emitters with which in the Essentially the objects to be cleaned are heated up, whereby the drying effect is improved.

Auch bei dieser bekannten Vorgehensweise wird jedoch Außenluft in die Behandlungskammer eingeleitet und nach dem Trocknungsvorgang wieder ausgeleitet, so dass sich auch hier die vorstehend erwähnten Probleme einstellen.Also with this known procedure, however, outside air introduced into the treatment chamber and after the drying process rejected again, so that here too the problems mentioned above to adjust.

Der Erfindung liegt demgegenüber die Aufgabe zu Grunde, eine Vorrichtung und ein Verfahren der eingangs genannten Art dahingehend weiterzubilden, dass die vorstehend genannten Nachteile vermieden werden. Insbesondere soll eine optimale Trocknung der Gegenstände ermöglicht werden, ohne dass eine Kontaminierung in Folge der Zufuhr von Außenluft stattfindet.The In contrast, invention lies the task is based on a device and a method of the beginning to further develop the type mentioned in such a way that the aforementioned Disadvantages are avoided. In particular, an optimal drying of objects allows without contamination as a result of the supply of outside air takes place.

Bei einer Vorrichtung der eingangs genannten Art wird diese Aufgabe erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass die Behandlungskammer abschließbar ist, dass die Mittel das Gas in der geschlossenen Behandlungskammer umwälzen, und dass in der Behandlungskammer ferner ein Kondensationstrockner für das Gas vorgesehen ist.at a device of the type mentioned this task according to the invention solved, that the treatment chamber is lockable, that the means that Circulate gas in the closed treatment chamber, and that in the treatment chamber a condensation dryer for the gas is also provided.

Bei dem Verfahren der eingangs genannten Art wird die Aufgabe erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass die Behandlungskammer abgeschlossen wird und dass das Gas innerhalb der geschlossenen Behandlungskammer umgewälzt und mittels Kondensation getrocknet wird.at According to the invention, the object of the invention is the method of the type mentioned at the beginning solved, that the treatment chamber is closed and that the gas is inside circulated in the closed treatment chamber and by means of condensation is dried.

Die der Erfindung zugrundeliegende Aufgabe wird auf diese Weise vollkommen gelöst.The The object underlying the invention is thus accomplished solved.

Dadurch, dass im Gegensatz zu den im Stand der Technik bekannten Vorgehensweisen der gesamte Trocknungsvorgang innerhalb der geschlossenen Behandlungskammer stattfindet, wird die Eintragung von Fremdpartikeln und damit eine Kontamination der zu trocknenden Gegenstände vollkommen vermieden. Dies wird erfindungsgemäß dadurch ermöglicht, dass in der geschlossenen Behandlungskammer ein Kondensationstrockner vorgesehen ist, der dem in der Behandlungskammer umgewälzten Gas die Feuchtigkeit entzieht, so dass die Gegenstände effektiv getrocknet werden.Thereby, that in contrast to the procedures known in the prior art the entire drying process within the closed treatment chamber takes place, the entry of foreign particles and thus contamination of the objects to be dried completely avoided. According to the invention, this is made possible by that a condensation dryer in the closed treatment chamber is provided, the gas circulated in the treatment chamber dehumidifies so that the items are effectively dried.

Bei einer bevorzugten Weiterbildung der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist neben der Behandlungskammer ein Wärmetauscher angeordnet und der Kondensationstrockner ist über einen geschlossenen Kreislauf an den Wärmetauscher angeschlossen.at a preferred development of the device according to the invention a heat exchanger is arranged next to the treatment chamber and the Condensation dryer is over a closed circuit connected to the heat exchanger.

Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass unter Inkaufnahme eines gewissen apparativen Mehraufwandes die Vorrichtung insgesamt autark arbeitet und nicht auf die Zu- und Abführung externer Kühlmittel angewiesen ist.This measure has the advantage that at the expense of a certain apparatus Additional effort, the device works autonomously and not on the supply and discharge external coolant is instructed.

Gemäß einer alternativen Ausführungsform der Erfindung kann jedoch der Kondensationstrockner auch über einen Zuleitungsanschluss mit einer externen Kühlmittelquelle verbunden sein.According to one alternative embodiment of the However, the condensation dryer can also be invented via a Supply line connection to an external coolant source.

Dies hat im Gegensatz zur vorgenannten Alternative den Vorteil, dass der apparative Aufwand minimal, andererseits aber eine externe Zufuhr von Kühlmittel erforderlich ist.This In contrast to the aforementioned alternative, it has the advantage that the outlay on equipment is minimal, but on the other hand an external supply of coolant is required.

Je nach Einsatzdauer und Kosten des zuzuführenden Kühlmittels (bspw. Kühlwasser) wird daher die eine oder die andere Variante im Einzelfall vorteilhafter sein.ever depending on the period of use and the cost of the coolant to be supplied (e.g. cooling water) Therefore, one or the other variant is more advantageous in individual cases his.

Bei weiteren Ausführungsbeispielen der Erfindung weist der Kondensationstrockner mindestens eine Kondensatorplatte auf.at other embodiments According to the invention, the condensation dryer has at least one capacitor plate on.

Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass die mit Feuchtigkeit beladene, umgewälzte Luft innerhalb der Behandlungskammer an einer relativ großen Fläche der Kondensatorplatte entlangstreichen kann, so dass eine effektive Kondensation und damit Trocknung möglich ist.This measure has the advantage that the circulating air is loaded with moisture within a relatively large area of the treatment chamber Can sweep capacitor plate, making an effective Condensation and drying is possible.

Bevorzugt ist dabei, wenn mehrere Kondensatorplatten verwendet werden, die in Parallelschaltung an eine Zuleitung bzw. an eine Ableitung für ein Kühlmittel angeschlossen sind.Prefers is there when multiple capacitor plates are used, the in parallel connection to a supply line or a discharge line for a coolant are connected.

Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass einerseits eine größere Kondensationsfläche zur Verfügung steht, andererseits in Folge der Parallelschaltung alle Kondensatorplatten gleichermaßen gekühlt werden.This measure has the advantage that on the one hand a larger condensation area for disposal stands, on the other hand, due to the parallel connection of all capacitor plates equally be cooled.

In diesem Zusammenhang wird ferner eine gute Wirkung dadurch erzielt, dass die Gegenstände in der Behandlungskammer auf einem um eine Achse drehbaren Rotor angeordnet sind, und die mindestens eine Kondensatorplatte um einen vorbestimmten Winkel zu einer Radialebene der Achse geneigt angeordnet ist.In In this context, a good effect is also achieved by that the objects in the treatment chamber is arranged on a rotor rotatable about an axis are, and the at least one capacitor plate by a predetermined Angle is inclined to a radial plane of the axis.

Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass dem in der Behandlungskammer umgewälzten Gas eine schraubenförmige Bewegung aufgeprägt wird, so dass eine definierte Zirkulation entsteht. Diese kann je nach räumlicher Anordnung der Kondensatorplatten zu einer laminaren Strömung über die zu trocknenden Gegenstände hinweg führen, bspw. dann, wenn die schräg angeordneten Kondensatorplatten sich im Bandbereich der Behandlungskammer befinden.This measure has the advantage that the gas circulated in the treatment chamber a helical one Imprinted movement so that a defined circulation is created. This can ever according to spatial Arrangement of the capacitor plates to a laminar flow over the objects to be dried lead away For example, if the sloping arranged capacitor plates in the band area of the treatment chamber are located.

Bei einer bevorzugten Weiterbildung dieser Variante können zusätzlich auf einer Innenwand der Behandlungskammer zu der Radialebene geneigte Leitelemente angeordnet sein.at a preferred further development of this variant can additionally an inner wall of the treatment chamber to the radial plane inclined guide elements be arranged.

Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass die gesamte Innenwand der Behandlungskammer durch die geneigten Kondensatorplatten und die geneigten Leitelemente gewindeartig ausgebildet sein kann. Dies bewirkt eine schraubenförmige Gasströmung im Bereich der Kammer, die sich über eine im Zentrum der Kammer axial gerichtete Gegenströmung schließt.This measure has the advantage that the entire inner wall of the treatment chamber through the inclined capacitor plates and the inclined guide elements can be thread-like. This causes a helical gas flow in the area the chamber that is over a counterflow axially directed in the center of the chamber closes.

Bei Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Vorrichtung sind an einer Innenwand der Behandlungskammer Sprühdüsen für eine Reinigungs- oder Spülflüssigkeit angeordnet.at embodiments the device according to the invention are spray nozzles for cleaning or on an inner wall of the treatment chamber rinse arranged.

Diese an sich bekannte Maßnahme hat den Vorteil, dass die Gegenstände in der Behandlungskammer effektiv gereinigt werden können.This measure known per se has the advantage that the items in the treatment chamber can be cleaned effectively.

Bei einer Behandlungskammer, die im Wesentlichen quaderförmig ausgebildet ist, sind die Sprühdüsen vorzugsweise im Bereich von Ecken der Behandlungskammer angeordnet.at a treatment chamber, which is essentially cuboid the spray nozzles are preferred arranged in the area of corners of the treatment chamber.

Wenn in weiter bevorzugter, ebenfalls an sich bekannter Weise die Gegenstände in der Behandlungskammer auf einem um eine Achse drehbaren Rotor angeordnet sind und die Achse im Wesentlichen im Zentrum der Behandlungskammer verläuft, sind die Sprühdüsen vorzugsweise auf die Achse gerichtet.If in a further preferred, also known per se, the objects in the Treatment chamber arranged on a rotor rotatable about an axis and the axis is essentially at the center of the treatment chamber runs, are the spray nozzles are preferred aimed at the axis.

Bei einer erfindungsgemäßen Weiterbildung der letztgenannten Variante ist mindestens eine weitere Sprühdüse vorgesehen, die bei rotierendem Rotor in einer zurückgezogenen Stellung außerhalb des Rotors gehalten und bei stillstehendem Rotor in Radialrichtung in eine vorgefahrene Stellung im Bereich der im Rotor gehaltenen Gegenstände hinein verfahrbar ist.at a development of the invention the last-mentioned variant, at least one further spray nozzle is provided, those with the rotor rotating in a retracted position outside of the rotor and in the radial direction when the rotor is stationary in an advanced position in the area of those held in the rotor objects can be moved into it.

Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass auch bei sehr großvolumigen Gegenständen eine perfekte Reinigung möglich ist. Dies gilt bspw. bei sogenannten „Körben", wie sie bei der Halbleiterfertigung zum Transportieren einer Vielzahl von Wafers oder anderen Halbleitererzeugnissen benutzt werden. Diese „Körbe" sind auf ihrer Innenfläche nicht so einfach mittels einer Sprühdüse erreichbar, wenn sich die Körbe auf einem Rotor an mehreren stationären Sprühdüsen vorbeibewegen. Wenn jedoch bei stillstehendem Rotor die weitere Sprühdüse in den Korb hinein verfahren wird, so kann die gesamte Innenfläche des Korbes wirksam gereinigt werden.This measure has the advantage that even with very large objects perfect cleaning possible is. This applies, for example, to so-called “baskets”, such as those used in semiconductor production to transport a variety of wafers or other semiconductor products to be used. These "baskets" are not on their inner surface so easy to reach using a spray nozzle, when the baskets move past several stationary spray nozzles on a rotor. But when with the rotor stationary, move the additional spray nozzle into the basket the entire inner surface of the basket can be effectively cleaned become.

Bei weiteren Ausführungsformen der Erfindung sind in an sich bekannter Weise in der Behandlungskammer Infrarot-Strahler zum Trocknen der Gegenstände vorgesehen.at further embodiments the invention are in a conventional manner in the treatment chamber Infrared heater provided for drying the objects.

Alternativ oder nebeneinander können ein oder mehrere Infrarot-Strahler im Zentrum der Behandlungskammer oder an einer Innenwand der Behandlungskammer angeordnet sein.alternative or side by side one or more infrared emitters in the center of the treatment chamber or on an inner wall of the treatment chamber be arranged.

Bevorzugt ist jedenfalls, wenn die Infrarot-Strahler nicht auf den Kondensationstrockner gerichtet sind.Prefers is in any case if the infrared emitter is not on the condensation dryer are directed.

Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass eine unnötige Aufheizung des Kondensationstrockners vermieden wird, die zu einer Verminderung von dessen Wirkungsgrad führen würde.This measure has the advantage of being an unnecessary one Heating of the condensation dryer is avoided, which leads to a Would reduce its efficiency.

Bei weiteren bevorzugten Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist der Behandlungsraum im Horizontalschnitt im Wesentlichen rechteckförmig und über zwei, in einander gegenüberliegenden Seitenwänden angeordnete Türen zugänglich.at further preferred embodiments the device according to the invention the treatment room is essentially rectangular in horizontal section and over two, in opposite one another sidewalls arranged doors accessible.

Diese Maßnahme hat den an sich bekannten Vorteil, dass die Gegenstände von der einen Seite der Vorrichtung hin beladen und von der anderen Seite der Vorrichtung her entladen werden können.This measure has the known advantage that the objects of loaded on one side of the device and from the other Side of the device can be discharged here.

Alternativ dazu ist es aber auch möglich, dass der Behandlungsraum im Horizontalschnitt im Wesentlichen rechteckförmig und nur über eine, in einer Seitenwand angeordnete Tür zugänglich ist.alternative but it is also possible that the treatment room is essentially rectangular in horizontal section and only over a door arranged in a side wall is accessible.

Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass ein geringerer apparativer Aufwand bei der Vorrichtung erforderlich ist.This measure has the advantage that less equipment is required Device is required.

Wie bereits erwähnt wurde, lässt sich die erfindungsgemäße Vorrichtung zum Reinigen unterschiedlicher Gegenstände einsetzen. Bevorzugt sind dabei Körbe für Halbleitererzeugnisse oder Halbleitererzeugnisse selbst zu nennen. Halbleitererzeugnisse sind dabei vorzugsweise Wafer, LCD-Substrate oder Fotomasken, ohne dass die Anwendung der Erfindung auf diese speziellen Halbleitererzeugnisse beschränkt ist.How already mentioned was left the device according to the invention use for cleaning different objects. Are preferred Baskets for semiconductor products or to name semiconductor products themselves. Semiconductor products are preferably wafers, LCD substrates or photomasks without that the application of the invention is limited to these special semiconductor products.

Weitere Vorteile ergeben sich aus der Beschreibung und der beigefügten Zeichnung.Further Advantages result from the description and the attached drawing.

Es versteht sich, dass die vorstehend genannten und die nachstehend noch zu erläuternden Merkmale nicht nur in der jeweils angegebenen Kombination, sondern auch in anderen Kombinationen oder in Alleinstellung verwendbar sind, ohne den Rahmen der vorliegenden Erfindung zu verlassen.It it is understood that the above and the following Features to be explained not only in the specified combination, but also in other combinations or alone can be used without to leave the scope of the present invention.

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigensembodiments the invention are shown in the drawing and are in the following description in more detail explained. It shows

1 ein erstes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Vorrichtung, in einer Seitenansicht, und zwar einer Schnittdarstellung entlang der Linie I-I von 3; 1 a first embodiment of a device according to the invention, in a side view, namely a sectional view along the line II of 3 ;

2 die Vorrichtung gemäß 1 in einer 90°-gedrehten Seitenansicht, ebenfalls im Schnitt, entlang der Linie II-II von 3; 2 the device according to 1 in a 90 ° rotated side view, also in section, along the line II-II of 3 ;

3 eine Draufsicht auf die Vorrichtung gemäß 1 und 2, gleichfalls im Schnitt, entlang der Linie III-III von 2; 3 a plan view of the device according to 1 and 2 , also on average, along the line III-III of 2 ;

4 eine Darstellung ähnlich 3, jedoch für ein zweites Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Vorrichtung. 4 a representation similar 3 , but for a second embodiment of a device according to the invention.

In den 1 bis 3 bezeichnet 10 insgesamt eine Reinigungsvorrichtung für Gegenstände, wie sie in der Halbleiterindustrie beim Herstellen von Halbleitern verwendet werden.In the 1 to 3 designated 10 Overall, a cleaning device for objects, such as those used in the semiconductor industry in the manufacture of semiconductors.

Die Reinigungsvorrichtung 10 weist ein quaderförmiges Gehäuse 12 auf, das über Füße 14 auf einem Boden 16 angeordnet ist. Das Gehäuse 12 erstreckt sich in Vertikalrichtung entlang einer Achse 17. Es weist eine vordere Seitenwand 18, eine hintere Seitenwand 20, eine rechte Seitenwand 22 sowie eine linke Seitenwand 24 auf. Innen ist das Gehäuse 12 durch eine obere Zwischenwand 26 sowie eine untere Zwischenwand 28 unterteilt. Hierdurch entsteht ein oberer Gehäuseteil 30, ein mittlerer Gehäuseteil 32 sowie ein unterer Gehäuseteil 34. Die Darstellung in den Figuren ist dabei selbstverständlich nur schematisch zu verstehen. Die Einzelheiten des Gehäuses 12, Verbindungsmittel und dergleichen sind der Übersichtlichkeit halber nicht dargestellt.The cleaning device 10 indicates a qua deriform housing 12 on that over feet 14 on a floor 16 is arranged. The housing 12 extends vertically along an axis 17 , It has a front side wall 18 , a rear side wall 20 , a right side wall 22 as well as a left side wall 24 on. Inside is the case 12 through an upper partition 26 and a lower partition 28 divided. This creates an upper housing part 30 , a middle part of the housing 32 as well as a lower housing part 34 , The representation in the figures is of course to be understood only schematically. The details of the housing 12 , Connecting means and the like are not shown for the sake of clarity.

Beim Ausführungsbeispiel gemäß den 1 bis 3 ist das Gehäuse 12 mit zwei Türen versehen, nämlich mit einer rechten Tür 36 in der rechten Seitenwand 22 sowie einer gegenüberliegenden linken Tür 38 in der linken Seitenwand 24. Mit Pfeilen 37 und 39 ist angedeutet, dass bei geöffneten Türen, wie mit 36' und 38' für den Zustand teilweiser Öffnung angedeutet, eine Beladung der Reinigungsvorrichtung 10 im Durchsatzverfahren möglich ist. Hierzu werden bspw. die zu reinigenden Gegenstände in Richtung des Pfeils 37 durch die geöffnete Tür 36 zugeführt und die gereinigten Gegenstände in Richtung des Pfeils 39 durch die geöffnete Tür 38 abgeführt.In the embodiment according to the 1 to 3 is the housing 12 provided with two doors, namely a right door 36 in the right side wall 22 and an opposite left door 38 in the left side wall 24 , With arrows 37 and 39 is indicated that when the doors are open, as with 36 ' and 38 ' indicated for the state of partial opening, a loading of the cleaning device 10 throughput is possible. For this purpose, for example, the objects to be cleaned are in the direction of the arrow 37 through the open door 36 fed and the cleaned objects in the direction of the arrow 39 through the open door 38 dissipated.

Der mittlere Gehäuseteil 32 umgibt eine Behandlungskammer 40. In der Behandlungskammer 40 befindet sich ein Rotor 42, der mittels einer Welle 44 antreibbar ist. Die Welle 44 erstreckt sich entlang der Vertikalachse 17. Der Rotor 42 weist einen oberen Halter 46 sowie einen unteren Halter 48 auf, zwischen denen die zu reinigenden Gegenstände mittels geeigneter Haltemittel gehalten werden.The middle part of the housing 32 surrounds a treatment chamber 40 , In the treatment room 40 there is a rotor 42 by means of a wave 44 is drivable. The wave 44 extends along the vertical axis 17 , The rotor 42 has an upper holder 46 as well as a lower holder 48 on, between which the objects to be cleaned are held by means of suitable holding means.

Im dargestellten Ausführungsbeispiel sind drei Ebenen von Körben 50 zwischen den Haltern 46 und 48 gehalten. In jeder Ebene sind insgesamt vier Körbe 50 vorgesehen, die jeweils um 90° versetzt um die Welle 44 herum angeordnet sind. Bei den Körben 50 handelt es sich um solche Körbe, wie sie zum Handhaben und Transportieren von Wafern oder anderen Halbleitererzeugnissen verwendet werden.In the illustrated embodiment, there are three levels of baskets 50 between the holders 46 and 48 held. There are a total of four baskets on each level 50 provided, each offset by 90 ° around the shaft 44 are arranged around. With the baskets 50 are baskets such as those used to handle and transport wafers or other semiconductor products.

Wie mit einem Pfeil 52 angedeutet, kann der Rotor 42 in Rotation versetzt werden. Hierzu ist er über eine Antriebswelle 54 mit einem Motor 56 verbunden, der sich in einem Antriebsraum 58 im oberen Gehäuseteil 30 befindet. Die Drehrichtung des Motors 56 ist vorzugsweise umschaltbar.Like an arrow 52 indicated, the rotor can 42 are set in rotation. For this purpose it is via a drive shaft 54 with an engine 56 connected who is in a drive room 58 in the upper part of the housing 30 located. The direction of rotation of the motor 56 is preferably switchable.

Wie man deutlich aus 3 erkennen kann, ist das Gehäuse 12 zumindest im Bereich der Behandlungskammer 40 im Wesentlichen rechteckig bzw. quadratisch. In den Ecken 61a, 61b, 61c, 61d der Behandlungskammer 40, im dargestellten Ausführungsbeispiel in den drei Ecken 61a, 61b und 61c, befinden sich Sprühdüsen 60a, 60b und 60c. Die Sprühdüsen 60a bis 60c sind zum Zentrum der Behandlungskammer 40 hin gerichtet, also zu Achse 17 bzw. zur Welle 44. Die Zuleitungen und Versorgungseinrichtungen der Sprühdüsen 60a bis 60c sind an sich bekannt und der Übersichtlichkeit halber nicht dargestellt.How to make it clear 3 can see is the housing 12 at least in the area of the treatment chamber 40 essentially rectangular or square. In the corners 61a . 61b . 61c . 61d the treatment chamber 40 , in the illustrated embodiment in the three corners 61a . 61b and 61c , there are spray nozzles 60a . 60b and 60c , The spray nozzles 60a to 60c are to the center of the treatment chamber 40 directed towards the axis 17 or to the wave 44 , The supply lines and supply devices for the spray nozzles 60a to 60c are known per se and are not shown for the sake of clarity.

Weiterhin befinden sich innerhalb der Behandlungskammer 40 Infrarot-Strahler 62a, 62b, 62c. Der Infrarot-Strahler 62a ist dabei im Bereich der Welle 44 angeordnet, während die Infrarot-Strahler 62b und 62c sich an der vorderen Seitenwand 18 befinden. Die Infrarot-Strahler 62a bis 62c sind ebenfalls an sich bekannt und daher nicht in weiteren Einzelheiten dargestellt.Also located inside the treatment chamber 40 Infrared heaters 62a . 62b . 62c , The infrared heater 62a is in the area of the wave 44 arranged while the infrared emitter 62b and 62c on the front side wall 18 are located. The infrared emitter 62a to 62c are also known per se and are therefore not shown in further details.

Erfindungsgemäß ist nun in der Behandlungskammer 40, und zwar im Bereich der hinteren Seitenwand 20, ein Kondensationstrockner 64 vorgesehen. Der Kondensationstrockner 64 enthält vorzugsweise mehrere Kondensatorplatten, im dargestellten Ausführungsbeispiel insgesamt neun Kondensatorplatten 66a, 66b, 66c, 66d, 66e, 66f, 66g, 66h und 66i. Die Kondensatorplatten 66a bis 66i sind bezüglich einer Radialebene zur Achse 17 unter einem vorbestimmten Winkel α geneigt angeordnet, wie deutlich aus 2 erkennbar ist. Der Winkel α liegt bspw. zwischen 10° und 30°, vorzugsweise bei 20°.According to the invention is now in the treatment chamber 40 , in the area of the rear side wall 20 , a condensation dryer 64 intended. The condensation dryer 64 preferably contains several capacitor plates, in the illustrated embodiment a total of nine capacitor plates 66a . 66b . 66c . 66d . 66e . 66f . 66g . 66h and 66i , The capacitor plates 66a to 66i are with respect to a radial plane to the axis 17 arranged inclined at a predetermined angle α, as clearly shown 2 is recognizable. The angle α is, for example, between 10 ° and 30 °, preferably 20 °.

Die Kondensatorplatten 66a bis 66i sind auf der einen Seite, im dargestellten Ausführungsbeispiel auf ihrer jeweils unteren Seite, an eine gemeinsame Zuleitung 68 sowie an ihrer gegenüberliegenden Seite an eine gemeinsame Ableitung 70 angeschlossen, so dass sie strömungstechnisch parallel geschaltet sind.The capacitor plates 66a to 66i are on one side, in the illustrated embodiment on their respective lower side, to a common supply line 68 and on their opposite side to a common derivative 70 connected so that they are connected in parallel in terms of flow.

Gemäß einer ersten Variante sind die Zuleitung 68 und die Ableitung 70 im geschlossenen Kreislauf mit einem Wärmetauscher 72 verbunden. Gemäß einer zweiten Variante sind die Zuleitung 68 und die Ableitung 70 jeweils an einen externen Zuleitungsanschluss 74 bzw. einen Ableitungsanschluss 76 angeschlossen, so dass das Kühlmittel extern zugeführt bzw. abgeführt werden kann.According to a first variant, the supply line 68 and the derivative 70 in a closed circuit with a heat exchanger 72 connected. According to a second variant, the supply line 68 and the derivative 70 each to an external supply connection 74 or a discharge connection 76 connected so that the coolant can be supplied or removed externally.

Die Wirkungsweise der Reinigungsvorrichtung 10 ist wie folgt:
Zu Beginn des Reinigungsverfahrens wird der leere Rotor 42 über die rechte Tür 36 beladen. Hierzu wird der Rotor 42 zweckmäßigerweise in vier Schritten zu je 90° gedreht, so dass jeweils drei Körbe 50 übereinander geladen werden können. Dies kann manuell oder über eine entsprechende Handhabungsvorrichtung geschehen, bis schließlich alle drei Ebenen mit je vier Körben bestückt sind. Es versteht sich dabei, dass selbstverständlich auch andere Gegenstände als Körbe 50 geladen werden können, oder dass eine Mischladung vorgesehen werden kann, bei der z.B. die beiden unteren Ebenen mit Körben und die obere Ebene mit flächigen Gegenständen beladen wird.How the cleaning device works 10 is as follows:
At the beginning of the cleaning process, the empty rotor 42 over the right door 36 loaded. For this the rotor 42 expediently rotated in four steps of 90 °, so that three baskets each 50 can be loaded on top of each other. This can be done manually or using an appropriate handling device until finally all three levels are each equipped with four baskets. It goes without saying that, of course, other items than baskets 50 can be loaded, or that a Mixed loading can be provided in which, for example, the two lower levels are loaded with baskets and the upper level with flat objects.

Nach Abschluss des Beladungsvorganges wird die rechte Tür 36 geschlossen. Der Rotor 42 wird nun durch Einschalten des Motors 56 in Rotation versetzt. Gleichzeitig wird über die Sprühdüsen 60a bis 60c eine Reinigungsflüssigkeit auf die zu reinigenden Gegenstände, bspw. die Körbe 50, gerichtet. An diesen Reinigungsvorgang kann sich ein Spülvorgang anschließen, in dem über die Sprühdüsen 60a bis 60c eine Spülflüssigkeit zugesprüht wird. Es versteht sich, dass für die Zuführung der Reinigungsflüssigkeit und einer Spülflüssigkeit auch unterschiedliche Sprühdüsen eingesetzt werden können.After the loading process is complete, the right door 36 closed. The rotor 42 is now switched on by the motor 56 set in rotation. At the same time, the spray nozzles 60a to 60c a cleaning liquid on the objects to be cleaned, e.g. the baskets 50 , directed. This cleaning process can be followed by a rinsing process in which the spray nozzles 60a to 60c a rinsing liquid is sprayed on. It goes without saying that different spray nozzles can also be used for supplying the cleaning liquid and a rinsing liquid.

Bei einem praktischen Ausführungsbeispiel weist die erfindungsgemäße Reinigungsvorrichtung 10 eine quaderförmige Behandlungskammer 40 mit einer Kantenlänge 125 cm auf. Das Reinigen/Spülen vollzieht sich in zwei Schritten von z.B. 20 und 40 Sekunden Dauer, wobei gereinigtes Wasser mit einer Temperatur von 50° verwendet und der Rotor 42 mit 20 min–1 gedreht wird.In a practical embodiment, the cleaning device according to the invention 10 a cuboid treatment chamber 40 with an edge length of 125 cm. The cleaning / rinsing takes place in two steps of, for example, 20 and 40 seconds, using purified water at a temperature of 50 ° and the rotor 42 is rotated at 20 min -1 .

An den vorstehend erläuterten Reinigungs- und ggf. Spülvorgang schließt sich nur der im vorliegenden Zusammenhang besonders interessierende Trocknungsvorgang an.On those explained above Cleaning and rinsing if necessary includes only the drying process of particular interest in the present context on.

Um die Körbe 50 in der Behandlungskammer 40 effektiv zu trocknen, wird der Rotor 42 zunächst in schnelle Rotation von z.B. 200 min–1 versetzt, und zwar während zweier Intervalle von jeweils 30 Sekunden Dauer. Diese schnelle Rotation des Rotors 42 bewirkt, dass die auf den Körben 50 befindliche Reinigungs- oder Spülflüssigkeit durch Fliehkraft teilweise abgeschleudert wird.Around the baskets 50 in the treatment chamber 40 the rotor will dry effectively 42 first set in a fast rotation of, for example, 200 min −1 , specifically during two intervals of 30 seconds each. This fast rotation of the rotor 42 causes that on the baskets 50 cleaning or rinsing liquid is partially thrown off by centrifugal force.

Es schließen sich nun mehrere Intervalle an, während derer der Rotor 42 mit verminderter Drehzahl zwischen 30 und 60 min–1 gedreht wird. Dies geschieht während aufeinander folgender Interwalle von bspw. sechzig Sekunden Dauer, wobei zwischen den einzelnen Intervallen die Drehrichtung des Rotors 42 umgekehrt wird. Insgesamt können z.B. zwölf derartige Intervalle vorgesehen werden, wobei die Drehzahl des Rotors 42 zwischenzeitlich je nach Bedarf auch angehoben oder abgesenkt werden kann. Während dieser Intervalle werden die Infrarot-Strahler 62a, 62b und 62c eingeschaltet. Diese sind vorzugsweise so ausgerichtet, dass sie nicht auf den Kondensationstrockner 64 strahlen und somit nicht aufwärmen. Die Infrarot-Strahlung bewirkt eine Aufheizung der Körbe 50, die dadurch effektiv getrocknet werden.There are now several intervals during which the rotor 42 is rotated at a reduced speed between 30 and 60 min -1 . This takes place during successive intervals of, for example, sixty seconds, with the direction of rotation of the rotor between the individual intervals 42 is reversed. A total of twelve such intervals can be provided, for example, the speed of the rotor 42 can also be raised or lowered as required. During these intervals, the infrared emitters 62a . 62b and 62c switched on. These are preferably aligned so that they are not on the condensation dryer 64 radiate and therefore do not warm up. The infrared radiation heats up the baskets 50 which are effectively dried as a result.

Die Temperatur in der Behandlungskammer 40 wird während des gesamten Reinigungs- und Trocknungsvorganges vorzugsweise auf konstanter Temperatur gehalten, bspw. auf 55°C. Die Gesamtdauer des Vorganges liegt vorzugsweise bei zehn bis zwölf Minuten.The temperature in the treatment chamber 40 is preferably kept at a constant temperature, for example at 55 ° C., during the entire cleaning and drying process. The total duration of the process is preferably ten to twelve minutes.

Während des Trocknungsvorganges bewirkt die Rotation des Rotors 42, dass das Gas, bspw. die Luft, innerhalb der geschlossenen Behandlungskammer 40 umgewälzt wird. Durch die Schrägstellung der Kondensatorplatten 66a bis 66i (vgl. 2) wird der Gasströmung im Bereich der hinteren Seitenwand 20 eine schraubenförmige Bewegungskomponente aufgeprägt. Dies ist in 2 mit Pfeilen 80 angedeutet. Diese schraubenförmige Bewegung des Gases im Wandbereich führt zu einer radial gerichteten Strömung im Boden- und Deckenbereich, wie mit einem Pfeil 82 in 1 angedeutet. Die Strömung schließt sich dann durch eine axiale Strömung im Bereich der Welle 44, wie in 1 mit einem Pfeil 84 verdeutlicht.During the drying process, the rotor rotates 42 that the gas, e.g. the air, within the closed treatment chamber 40 is circulated. By tilting the capacitor plates 66a to 66i (see. 2 ) the gas flow in the area of the rear side wall 20 imprinted a helical motion component. This is in 2 with arrows 80 indicated. This helical movement of the gas in the wall area leads to a radially directed flow in the floor and ceiling area, as with an arrow 82 in 1 indicated. The flow then closes by an axial flow in the area of the shaft 44 , as in 1 with an arrow 84 clarified.

Eine Umkehrung der Drehrichtung des Rotors 42 hat dabei auch eine Umkehrung der Strömungsrichtung (Pfeile 80, 82 und 84) zur Folge. Die Umkehrung der Drehrichtung des Rotors 42 bewirkt insbesondere auch, dass während des momentanen Stillstandes des Rotors 42 im Nulldurchgang der Bewegung diejenigen Flüssigkeitsanteile, die sich in Ecken, Sackbohrungen und dergleichen der Körbe 50 befinden, durch Schwerkrafteinfluss auslaufen können, um dann im anschließenden Trocknungsintervall abgetrocknet zu werden.A reversal of the direction of rotation of the rotor 42 also has a reversal of the flow direction (arrows 80 . 82 and 84 ) result. Reversing the direction of rotation of the rotor 42 causes in particular that during the current standstill of the rotor 42 in the zero crossing of the movement those liquid components that are in corners, blind holes and the like of the baskets 50 are able to run out due to the influence of gravity, in order then to be dried off in the subsequent drying interval.

In 1 ist mit 86 noch angedeutet, dass eine Innenwand 85 der vorderen Seitenwand 18 mit Leitelementen 86 versehen sein kann, um die schraubenförmige Leitung des Gases innerhalb der Behandlungskammer 40 zu unterstützen. Derartige Leitelemente 86 können selbstverständlich auch auf den anderen Innenwänden der Behandlungskammer 40 vorgesehen sein.In 1 is with 86 still hinted that an inner wall 85 the front side wall 18 with guiding elements 86 can be provided to the helical line of gas within the treatment chamber 40 to support. Such guidance elements 86 can of course also on the other inner walls of the treatment chamber 40 be provided.

4 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung mit einer Reinigungsvorrichtung 90 und einer in der Draufsicht rechteckigen Behandlungskammer 91. Auch hier ist ein Rotor 92 für Körbe 94 vorgesehen, ebenso wie ein Kondensationstrockner 95 in der Behandlungskammer 91. Insofern besteht Übereinstimmung mit dem Ausführungsbeispiel gemäß den 1 bis 3. 4 shows a further embodiment of the invention with a cleaning device 90 and a treatment chamber rectangular in plan view 91 , Here is a rotor too 92 for baskets 94 provided, as well as a condensation dryer 95 in the treatment chamber 91 , In this respect, there is agreement with the embodiment according to the 1 to 3 ,

Das Besondere beim Ausführungsbeispiel gemäß 4 besteht in Folgendem:
Zum einen ist die Reinigungsvorrichtung 90 mit einer weiteren Sprühdüse 96 versehen. Diese Sprühdüse 96 befindet sich in der in 4 durchgezogen eingezeichneten Stellung in einer zurückgezogenen Position außerhalb der Bewegungsbahn des Rotors 92, so dass dieser ungestört von der Sprühdüse 96 rotieren kann.The special feature of the embodiment according to 4 consists of the following:
Firstly, there is the cleaning device 90 with another spray nozzle 96 Mistake. This spray nozzle 96 is in the in 4 solid position in a retracted position outside the path of movement of the rotor 92 so that this is undisturbed by the spray nozzle 96 can rotate.

Um nun auch Innenseiten 98 der Körbe 94 effektiv reinigen zu können, kann der Rotor 92 während oder am Ende des Reinigungsvorganges angehalten werden, und zwar in einer Drehlage, in der jeweils ein Korb 94 oder mehrere übereinander angeordnete Körbe 94 sich unmittelbar vor der Sprühdüse 96 bzw. mehreren übereinander angeordneten Sprühdüsen 96 befindet. Die Sprühdüse 96 fährt nun in die in 4 strichpunktiert eingezeichnete vorgefahrene Stellung vor, um bei stillstehendem Rotor 92 die Innenseite 98 des Korbes 94 auszusprühen. Die Sprühdüse 96 fährt dann wieder zurück, der Rotor 92 dreht sich um 90° und die Sprühdüse 96 fährt wieder vor, um den nächsten Korb 94 derselben Ebene auf dessen Innenseite auszusprühen, usw.Now also on the inside 98 the baskets 94 The rotor can be able to clean effectively 92 be stopped during or at the end of the cleaning process, in a rotational position, in each of which a basket 94 or several baskets arranged one above the other 94 immediately in front of the spray nozzle 96 or several spray nozzles arranged one above the other 96 located. The spray nozzle 96 now drives into the 4 Forward-drawn position shown in dash-dotted lines in order to with the rotor at a standstill 92 the inside 98 of the basket 94 to spray. The spray nozzle 96 then drives back again, the rotor 92 rotates 90 ° and the spray nozzle 96 drives back to the next basket 94 spray on the same level on the inside, etc.

Auf diese Weise werden daher die Körbe 94 nicht nur außen, sondern auch innen höchst effektiv gereinigt und ggf. gespült.In this way, therefore, the baskets 94 not only on the outside, but also on the inside cleaned and rinsed very effectively.

Die zweite Besonderheit beim Ausführungsbeispiel gemäß 4 besteht darin, dass lediglich eine Tür 100 in einer Seitenwand vorgesehen ist. Ein Doppelpfeil 102 symbolisiert in 4, dass sowohl die Beladung wie auch die Entladung der Körbe 94 in diesem Fall durch dieselbe Tür 100 in deren geöffnetem Zustand 100' geschieht.The second peculiarity in the embodiment according to 4 is just a door 100 is provided in a side wall. A double arrow 102 symbolizes in 4 that both the loading and the unloading of the baskets 94 in this case through the same door 100 in their open state 100 ' happens.

Es versteht sich, dass die Erfindung nicht auf die vorstehend dargelegten Ausführungsbeispiele beschränkt ist.It it is understood that the invention is not limited to those set forth above Embodiments is limited.

So kann alternativ vorgesehen sein, den Kondensationstrockner nicht in einer Seitenwand unterzubringen, sondern z.B. am Boden oder der Decke der Behandlungskammer. Ferner ist nicht zwingend, dass der Rotor um eine vertikale Achse drehbar ist, weil auch horizontale Drehachsen denkbar sind.So can alternatively be provided, but not the condensation dryer to accommodate in a side wall, but e.g. on the ground or the Treatment chamber ceiling. Furthermore, it is not mandatory that the Rotor is rotatable about a vertical axis because it is also horizontal Axes of rotation are conceivable.

Claims (26)

Vorrichtung zum Reinigen von bei der Herstellung von Halbleitern verwendeten Gegenständen, in der die Gegenstände in einer Behandlungskammer (40; 91) mittels einer Flüssigkeit gereinigt und anschließend getrocknet werden, und in der Behandlungskammer (40; 91) Mittel zum Bewegen eines Gases innerhalb der Behandlungskammer (40; 91) vorgesehen sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Behandlungskammer (40; 91) abschließbar ist, dass die Mittel das Gas in der geschlossenen Behandlungskammer (40; 91) umwälzen, und dass in der Behandlungskammer (40; 91) ferner ein Kondensationstrockner (64; 95) für das Gas vorgesehen ist.Device for cleaning objects used in the production of semiconductors, in which the objects are placed in a treatment chamber ( 40 ; 91 ) can be cleaned with a liquid and then dried, and in the treatment chamber ( 40 ; 91 ) Means for moving a gas within the treatment chamber ( 40 ; 91 ) are provided, characterized in that the treatment chamber ( 40 ; 91 ) it is lockable that the agent the gas in the closed treatment chamber ( 40 ; 91 ) circulate, and that in the treatment chamber ( 40 ; 91 ) also a condensation dryer ( 64 ; 95 ) is intended for the gas. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass neben der Behandlungskammer (40) ein Wärmetauscher (72) angeordnet ist, und dass der Kondensationstrockner (64) über einen geschlossenen Kreislauf an den Wärmetauscher (72) angeschlossen ist.Device according to claim 1, characterized in that in addition to the treatment chamber ( 40 ) a heat exchanger ( 72 ) is arranged, and that the condensation dryer ( 64 ) via a closed circuit to the heat exchanger ( 72 ) connected. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Kondensationstrockner (64; 95) über einen Zuleitungsanschluss (74) mit einer externen Kühlmittelquelle verbunden ist.Device according to claim 1, characterized in that the condensation dryer ( 64 ; 95 ) via a supply connection ( 74 ) is connected to an external coolant source. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Kondensationstrockner (64; 95) mindestens eine Kondensatorplatte (66a–66i) aufweist.Device according to one or more of claims 1 to 3, characterized in that the condensation dryer ( 64 ; 95 ) at least one capacitor plate ( 66a-66i ) having. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Kondensatorplatten (66a–66i) in Parallelschaltung an eine Zuleitung (68) bzw. an eine Ableitung (70) für ein Kühlmittel angeschlossen sind.Apparatus according to claim 4, characterized in that a plurality of capacitor plates ( 66a-66i ) connected in parallel to a supply line ( 68 ) or to a derivative ( 70 ) are connected for a coolant. Vorrichtung nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenstände in der Behandlungskammer (40; 91) auf einem um eine Achse (17) drehbaren Rotor (42) angeordnet sind, und dass die mindestens eine Kondensatorplatte (66a–66i) um einen vorbestimmten Winkel (α) zu einer Radialebene der Achse (17) geneigt angeordnet ist.Apparatus according to claim 4 or 5, characterized in that the objects in the treatment chamber ( 40 ; 91 ) on an axis ( 17 ) rotatable rotor ( 42 ) are arranged, and that the at least one capacitor plate ( 66a-66i ) by a predetermined angle (α) to a radial plane of the axis ( 17 ) is arranged inclined. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass auf einer Innenwand (85) der Behandlungskammer (40; 91) zu der Radialebene geneigte Leitelemente (86) angeordnet sind.Apparatus according to claim 6, characterized in that on an inner wall ( 85 ) the treatment chamber ( 40 ; 91 ) guide elements inclined to the radial plane ( 86 ) are arranged. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass an einer Innenwand (85) der Behandlungskammer (40; 91) Sprühdüsen (60a–60c) für eine Reinigungs- oder Spülflüssigkeit angeordnet sind.Device according to one or more of claims 1 to 7, characterized in that on an inner wall ( 85 ) the treatment chamber ( 40 ; 91 ) Spray nozzles ( 60a-60c ) are arranged for a cleaning or rinsing liquid. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Behandlungskammer (40; 91) im Wesentlichen quaderförmig ausgebildet ist, und dass die Sprühdüsen (60a–60c) im Bereich von Ecken (61a–61c) der Behandlungskammer (40; 91) angeordnet sind.Apparatus according to claim 8, characterized in that the treatment chamber ( 40 ; 91 ) is essentially cuboid, and that the spray nozzles ( 60a-60c ) in the area of corners ( 61a-61c ) the treatment chamber ( 40 ; 91 ) are arranged. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenstände in der Behandlungskammer (40; 91) auf einem um eine Achse (17) drehbaren Rotor (42; 92) angeord net sind, dass die Achse (17) im Wesentlichen im Zentrum der Behandlungskammer (40; 91) verläuft, und dass die Sprühdüsen (60a–60c) auf die Achse (17) gerichtet sind.Apparatus according to claim 9, characterized in that the objects in the treatment chamber ( 40 ; 91 ) on an axis ( 17 ) rotatable rotor ( 42 ; 92 ) are arranged that the axis ( 17 ) essentially in the center of the treatment chamber ( 40 ; 91 ) and that the spray nozzles ( 60a-60c ) on the axis ( 17 ) are directed. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine weitere Sprühdüse (96) vorgesehen ist, die bei rotierendem Rotor (92) in einer zurückgezogenen Stellung (92) außerhalb des Rotors (92) gehalten und bei stillstehendem Rotor (92) in Radialrichtung in eine vorgefahrene Stellung (92') im Bereich der im Rotor (92) gehaltenen Gegenstände hinein verfahrbar ist.Apparatus according to claim 10, characterized in that at least one further spray nozzle ( 96 ) is provided, which with rotating rotor ( 92 ) in a retracted position ( 92 ) outside the rotor ( 92 ) held and with the rotor stationary ( 92 ) in the radial direction into an advanced position ( 92 ' ) in the range of in the rotor ( 92 ) objects can be moved into it. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass in der Behandlungskammer (40; 91) Infrarot-Strahler (62a–62c) zum Trocknen der Gegenstände vorgesehen sind.Device according to one or more of claims 1 to 11, characterized in that in the treatment chamber ( 40 ; 91 ) Infrared heater ( 62a-62c ) are provided for drying the objects. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Infrarot-Strahler (62a) im Zentrum der Behandlungskammer (40; 91) vorgesehen ist.Device according to claim 12, characterized in that at least one infrared radiator ( 62a ) in the center of the treatment chamber ( 40 ; 91 ) is provided. Vorrichtung nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Infrarot-Strahler (62b, 62c) an einer Innenwand (85) der Behandlungskammer (40; 91) vorgesehen ist.Device according to claim 12 or 13, characterized in that at least one infrared emitter ( 62b . 62c ) on an inner wall ( 85 ) the treatment chamber ( 40 ; 91 ) is provided. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 12 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Infrarot-Strahler (62a–62c) nicht auf den Kondensationstrockner (64; 95) gerichtet sind.Device according to one or more of claims 12 to 14, characterized in that the infrared radiators ( 62a-62c ) not on the condensation dryer ( 64 ; 95 ) are directed. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass der Behandlungsraum (40) im Horizontalschnitt im Wesentlichen rechteckförmig und über zwei, in einander gegenüberliegenden Seitenwänden (22, 24) angeordnete Türen (36, 38) zugänglich ist.Device according to one or more of claims 1 to 15, characterized in that the treatment room ( 40 ) in horizontal section essentially rectangular and over two, in opposite side walls ( 22 . 24 ) arranged doors ( 36 . 38 ) is accessible. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass der Behandlungsraum (91) im Horizontalschnitt im Wesentlichen rechteckförmig und nur über eine, in einer Seitenwand angeordnete Tür (100) zugänglich ist.Device according to one or more of claims 1 to 15, characterized in that the treatment room ( 91 ) essentially rectangular in horizontal section and only via a door arranged in a side wall ( 100 ) is accessible. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenstände Körbe (50; 94) für Halbleitererzeugnisse sind.Device according to one or more of claims 1 to 17, characterized in that the objects are baskets ( 50 ; 94 ) for semiconductor products. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenstände Halbleitererzeugnisse sind.Device according to one or more of claims 1 to 17, characterized in that the objects are semiconductor products. Vorrichtung nach Anspruch 18 oder 19 , dadurch gekennzeichnet, dass die Halbleitererzeugnisse Wafer sind.Device according to claim 18 or 19, characterized in that that the semiconductor products are wafers. Vorrichtung nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, dass die Halbleitererzeugnisse LCD-Substrate sind.Device according to claim 18 or 19, characterized in that that the semiconductor products are LCD substrates. Vorrichtung nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, dass die Halbleitererzeugnisse Fotomasken sind.Device according to claim 18 or 19, characterized in that that the semiconductor products are photomasks. Verfahren zum Reinigen von bei der Herstellung von Halbleitern verwendeten Gegenständen, bei dem die Gegenstände in einer Behandlungskammer (40; 91) mittels eine Flüssigkeit gereinigt und anschließend getrocknet werden, wobei innerhalb der Behandlungskammer (40; 91) ein Gas bewegt wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Behandlungskammer (40; 91) abgeschlossen wird, und dass das Gas innerhalb der geschlossenen Behandlungskammer (40; 91) umgewälzt und mittels Kondensation getrocknet wird.Process for cleaning objects used in the manufacture of semiconductors, in which the objects are placed in a treatment chamber ( 40 ; 91 ) are cleaned with a liquid and then dried, whereby within the treatment chamber ( 40 ; 91 ) a gas is moved, characterized in that the treatment chamber ( 40 ; 91 ) and that the gas inside the closed treatment chamber ( 40 ; 91 ) is circulated and dried by means of condensation. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenstände in der Behandlungskammer (40; 91) um eine Achse (17) gedreht werden und dass das Gas in einer Richtung geleitet wird, die zu einer Radialebene der Achse (17) um einen vorbestimmten Winkel (α) geneigt ist.A method according to claim 23, characterized in that the objects in the treatment chamber ( 40 ; 91 ) around an axis ( 17 ) and that the gas is directed in a direction that is towards a radial plane of the axis ( 17 ) is inclined by a predetermined angle (α). Verfahren nach Anspruch 23 oder 24, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenstände in der Behandlungskammer (40; 91) um eine Achse (17) gedreht und besprüht werden.A method according to claim 23 or 24, characterized in that the objects in the treatment chamber ( 40 ; 91 ) around an axis ( 17 ) are rotated and sprayed. Verfahren nach Anspruch 23 oder 24, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenstände in der Behandlungskammer (40; 91) raumfest gehalten und auf einer Innenseite (98) besprüht werden.A method according to claim 23 or 24, characterized in that the objects in the treatment chamber ( 40 ; 91 ) held in place and on the inside ( 98 ) are sprayed.
DE2003117275 2003-04-11 2003-04-11 System for cleaning of equipment used manufacture of semiconductors, using liquid in treatment chamber for cleaning, followed by drying, treatment chamber contains members for moving gases in chamber Withdrawn DE10317275A1 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2003117275 DE10317275A1 (en) 2003-04-11 2003-04-11 System for cleaning of equipment used manufacture of semiconductors, using liquid in treatment chamber for cleaning, followed by drying, treatment chamber contains members for moving gases in chamber
EP04762977A EP1614150B1 (en) 2003-04-11 2004-04-08 Device and method for cleaning and drying objects used to produce semiconductors, especially transport and cleaning containers for wafers
PCT/EP2004/003764 WO2005001888A2 (en) 2003-04-11 2004-04-08 Device and method for cleaning objects used to produce semiconductors, especially transport and cleaning containers for wafers
DE502004004812T DE502004004812D1 (en) 2003-04-11 2004-04-08 DEVICE AND METHOD FOR CLEANING AND DRYING OF OBJECTS USED IN THE MANUFACTURE OF SEMICONDUCTORS, IN PARTICULAR OF WAFER SHEET AND CLEANING CONTAINERS
US11/247,622 US8161985B2 (en) 2003-04-11 2005-10-10 Method and apparatus for cleaning articles used in the production of semiconductors

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2003117275 DE10317275A1 (en) 2003-04-11 2003-04-11 System for cleaning of equipment used manufacture of semiconductors, using liquid in treatment chamber for cleaning, followed by drying, treatment chamber contains members for moving gases in chamber

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10317275A1 true DE10317275A1 (en) 2004-11-11

Family

ID=33154226

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2003117275 Withdrawn DE10317275A1 (en) 2003-04-11 2003-04-11 System for cleaning of equipment used manufacture of semiconductors, using liquid in treatment chamber for cleaning, followed by drying, treatment chamber contains members for moving gases in chamber

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE10317275A1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10347464B4 (en) * 2003-10-02 2010-05-12 Dynamic Microsystems Semiconductor Equipment Gmbh Apparatus and method for cleaning and drying semiconductor products or handling baskets used in the manufacture of semiconductor products
US8161985B2 (en) 2003-04-11 2012-04-24 Dynamic Microsystems Semiconductor Equipment Gmbh Method and apparatus for cleaning articles used in the production of semiconductors

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US454873A (en) * 1891-06-30 Carbon for electric-arc lamps
DE3339565A1 (en) * 1983-11-02 1985-05-09 Pero KG - P. Erbel, 8901 Königsbrunn Process for drying goods cleaned by means of a liquid solvent
EP0405941A2 (en) * 1989-06-28 1991-01-02 Damaso Coindreau-Palau Method and system for the recovering of solvents in dry cleaning machines
DE4208665A1 (en) * 1992-03-18 1993-09-23 Maerkische Oberflaechenanlagen Washing and drying plant for cleaning oil-contaminated machined parts - has distillation cycle in which used rinsing water is converted to steam and, after heating drying air, is condensed, heating fluid tanks and recirculated
WO1995029276A1 (en) * 1994-04-23 1995-11-02 Yule Catto & Co. Plc Article cleaning
US5499642A (en) * 1992-01-22 1996-03-19 Japan Field Co., Ltd. Washing apparatus
US5562113A (en) * 1992-06-15 1996-10-08 Semitool, Inc. Centrifugal wafer carrier cleaning apparatus

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US454873A (en) * 1891-06-30 Carbon for electric-arc lamps
DE3339565A1 (en) * 1983-11-02 1985-05-09 Pero KG - P. Erbel, 8901 Königsbrunn Process for drying goods cleaned by means of a liquid solvent
EP0405941A2 (en) * 1989-06-28 1991-01-02 Damaso Coindreau-Palau Method and system for the recovering of solvents in dry cleaning machines
US5499642A (en) * 1992-01-22 1996-03-19 Japan Field Co., Ltd. Washing apparatus
DE4208665A1 (en) * 1992-03-18 1993-09-23 Maerkische Oberflaechenanlagen Washing and drying plant for cleaning oil-contaminated machined parts - has distillation cycle in which used rinsing water is converted to steam and, after heating drying air, is condensed, heating fluid tanks and recirculated
US5562113A (en) * 1992-06-15 1996-10-08 Semitool, Inc. Centrifugal wafer carrier cleaning apparatus
WO1995029276A1 (en) * 1994-04-23 1995-11-02 Yule Catto & Co. Plc Article cleaning

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8161985B2 (en) 2003-04-11 2012-04-24 Dynamic Microsystems Semiconductor Equipment Gmbh Method and apparatus for cleaning articles used in the production of semiconductors
DE10347464B4 (en) * 2003-10-02 2010-05-12 Dynamic Microsystems Semiconductor Equipment Gmbh Apparatus and method for cleaning and drying semiconductor products or handling baskets used in the manufacture of semiconductor products

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1614150B1 (en) Device and method for cleaning and drying objects used to produce semiconductors, especially transport and cleaning containers for wafers
DE60114490T2 (en) box dryer
DE4244880C2 (en) Cleaning device for transport cases for industrial components
DE202009009982U1 (en) Device for cleaning laundry
DE10317275A1 (en) System for cleaning of equipment used manufacture of semiconductors, using liquid in treatment chamber for cleaning, followed by drying, treatment chamber contains members for moving gases in chamber
DE3046542A1 (en) MIXING DEVICE AND METHOD FOR CLEANING THE SAME
EP3249095B1 (en) Washing device for a closed clean-room
WO2022198253A1 (en) Device and method for removing auxiliary material of 3d-printed workpieces
DE102010038799A1 (en) Device for drying workpieces after a cleaning process
DE20104204U1 (en) Hot air dryer for a coating system
DE10347464B4 (en) Apparatus and method for cleaning and drying semiconductor products or handling baskets used in the manufacture of semiconductor products
WO2008025415A2 (en) Apparatus for cleaning metal workpieces
EP2676681B1 (en) Device for cleaning and disinfecting a material to be cleaned
DE2244860A1 (en) DEVICE FOR TREATING PHOTOGRAPHIC DEVELOPMENT GOODS
DE19853304C2 (en) Process for drying a workpiece
DE19602374A1 (en) Transport system for handling unit for handled objects with gaseous or fluid media
DE2553714A1 (en) Hospital bed disinfection chamber - has rotating brush in addition to low pressure water sprays
DE10064548A1 (en) Washing and drying machine has at least three nozzle elements distributed in container via which washing solution and/or air can be simultaneously fed into container to rotate wash
DE3143005A1 (en) Cleaning machine
DE3429369A1 (en) Liquid cleaning system
DE102015121603A1 (en) Apparatus and method for cleaning dry ice objects
DE3012878C2 (en) Method for preventing the re-flying of coating material in the spray booth of a powder coating plant
DE2016478A1 (en) Totally enclosed, machine part degreasingappts
CH499308A (en) Dish washing machine
AT524915A2 (en) Device and method for removing auxiliary material from 3D printed workpieces

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8130 Withdrawal