DE10232663C1 - Kontinuierliche Herstellung von Organosilanen - Google Patents
Kontinuierliche Herstellung von OrganosilanenInfo
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 title claims abstract description 28
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 title claims abstract description 7
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 title abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title abstract description 4
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 title description 6
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 title description 2
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 title description 2
- -1 tri-substituted-silylhydride Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 9
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 10
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 1,5-cyclooctadiene Chemical compound C1CC=CCCC=C1 VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004912 1,5-cyclooctadiene Substances 0.000 claims description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 150000002504 iridium compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- LOTBYPQQWICYBB-UHFFFAOYSA-N methyl n-hexyl-n-[2-(hexylamino)ethyl]carbamate Chemical compound CCCCCCNCCN(C(=O)OC)CCCCCC LOTBYPQQWICYBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 abstract 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 abstract 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 19
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- BJLJNLUARMMMLW-UHFFFAOYSA-N chloro-(3-chloropropyl)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCCCl BJLJNLUARMMMLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 10
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 5
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-3-pentanone Chemical compound CC(C)C(=O)C(C)C HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 2
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 2
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDAXFOBOLVPGLV-UHFFFAOYSA-N ethyl isobutyrate Chemical compound CCOC(=O)C(C)C WDAXFOBOLVPGLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N (1z,3z)-cycloocta-1,3-diene Chemical compound C1CC\C=C/C=C\C1 RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N 0.000 description 1
- DNZZPKYSGRTNGK-PQZOIKATSA-N (1z,4z)-cycloocta-1,4-diene Chemical compound C1C\C=C/C\C=C/C1 DNZZPKYSGRTNGK-PQZOIKATSA-N 0.000 description 1
- AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N (3e)-hexa-1,3-diene Chemical compound CC\C=C\C=C AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N (4e)-hexa-1,4-diene Chemical compound C\C=C\CC=C PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexadiene Natural products CC=CCC=C PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethyl)isoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(CCS)C(=O)C2=C1 UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJSYPKWVIJGNLO-UHFFFAOYSA-N CCOClOC Chemical compound CCOClOC RJSYPKWVIJGNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGHUUVGIRWMJGE-UHFFFAOYSA-N chlorodimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)Cl YGHUUVGIRWMJGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cis-cyclohexene Natural products C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical compound C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009191 jumping Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009419 refurbishment Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 150000003738 xylenes Chemical class 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
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Abstract
Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Silan der allgemeinen Formel I DOLLAR A R·6·R·5·CH-R·4·CH-SiR·1·R·2·F·3·, DOLLAR A bei dem Silan der allgemeinen Formel II DOLLAR A HSiR·1·R·2·R·3· DOLLAR A mit Alken der allgemeinen Formel III DOLLAR A R·6·R·5·CH=CHR·4· DOLLAR A in Gegenwart von Iridiumverbindung der allgemeinen Formel IV als Katalysator DOLLAR A [(Dien)IrCL]¶2¶ DOLLAR A und freiem Dien als Cokatalysator kontinuierlich umgesetzt wird, wobei die Reaktionstemperatur 30-200 DEG C und der Reaktionsdruck 0,11-50,0 Mpa betragen und wobei R·1·, R·2·, R·3·, R·4·, R·5·, R·6·, R und Dien die Bedeutungen aus Anspruch 1 aufweisen.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur kontinuierlichen
Herstellung von Organosilanen über Hydrosilylierung in
Gegenwart einer Iridiumverbindung als Katalysator und freiem
Dien als Cokatalysator.
Substituierte Alkylsilane sind von enormem wirtschaftlichen
Interesse für eine Vielzahl von Bereichen. Sie werden
eingesetzt z. B. als Haftvermittler oder als Vernetzer.
Die Platin- bzw. Rhodium-katalysierte Hydrosilylierung von
ungesättigten Verbindungen ist bereits vielfach untersucht
worden. Die Produktausbeuten sind oft mit 20 bis 45% sehr
niedrig, was auf erhebliche Nebenreaktionen zurückzuführen ist.
Iridium-Katalysatoren mit Dienliganden werden gemäss US-A-4658050
bei der Hydrosilylierung von Allylverbindungen mit
Alkoxy-substituierten Silanen verwendet. JP-A-07126271
beschreibt die Hydrosilylierung von Allylhalogeniden mit
Chlorodimethylsilan in Anwesenheit von Iridium-Katalysatoren
mit Dienliganden. Nachteile dieser Verfahren sind entweder
mäßige Ausbeuten, eine unwirtschaftlich hohe Katalysator-
Konzentration und/oder eine sehr kurze Lebensdauer des
Katalysators. In EP-A-1156052 und DE-C-100 53 037 wird zwar der
Zusatz von zusätzlichen Dienliganden zur Verlängerung der
Katalysator-Lebensdauer beschrieben, doch handelt es sich in
allen genannten Fällen um diskontinuierliche Prozesse, die
sowohl wirtschaftlich als auch aufgrund des stark exothermen
Charakters von Hydrosilylierungsreaktionen verfahrens- und
sicherheitstechnisch (Gefahr des "Einschlafens" der Reaktion
und späterem "Wiederanspringens" unter plötzlicher extrem hoher
Wärme- und Druckentwicklung) sehr ungünstige Voraussetzungen
beinhalten.
Die Aufgabe war es daher, ein Verfahren zu entwickeln, welches
neben hohen Produktausbeuten und -reinheiten insbesondere den
Aspekten der ökonomischen und vor allem verfahrens- und
sicherheitstechnischen Belangen Rechnung trägt. Diese Aufgabe
konnte durch die vorliegende Erfindung gelöst werden.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur kontinuierlichen
Herstellung von Silan der allgemeinen Formel I
R6R5CH-R4CH-SiR1R2R3 (I),
bei dem Silan der allgemeinen Formel II
HSiR1R2R3 (II),
mit Alken der allgemeinen Formel III
R6R5CH=CHR4 (III),
in Gegenwart von Iridiumverbindung der allgemeinen Formel IV
als Katalysator
[(Dien)IrCl]2 (IV),
und freiem Dien als Cokatalysator kontinuierlich umgesetzt
wird, wobei
R1, R2, R3 einen einwertigen Si-C gebundenen, gegebenenfalls halogensubstituierten C1-C18-Kohlenwasserstoff-, Chlor-, oder C1-C19-Alkoxyrest,
R4, R5, R6 ein Wasserstoffatom, einen einwertigen gegebenenfalls mit F, Cl, OR, NR2, CN oder NCO substituierten C1-C18-Kohlenwasserstoff-, Chlor-, Fluor- oder C1-C18-Alkoxyrest, wobei jeweils 2 Reste von R4, R5, R6 gemeinsam mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen cyclischen Rest bilden können,
R ein Wasserstoffatom, einen einwertigen C1-C18- Kohlenwasserstoffrest und
Dien eine gegebenenfalls mit F, Cl, OR, NR2, CN oder NCO substituierte C4-C50-Kohlenwasserstoffverbindung, die mindestens zwei ethylenische C=C Doppelbindungen aufweist, bedeuten,
wobei die Reaktionstemperatur 30-200°C und der Reaktionsdruck 0,11-50,0 Mpa betragen.
R1, R2, R3 einen einwertigen Si-C gebundenen, gegebenenfalls halogensubstituierten C1-C18-Kohlenwasserstoff-, Chlor-, oder C1-C19-Alkoxyrest,
R4, R5, R6 ein Wasserstoffatom, einen einwertigen gegebenenfalls mit F, Cl, OR, NR2, CN oder NCO substituierten C1-C18-Kohlenwasserstoff-, Chlor-, Fluor- oder C1-C18-Alkoxyrest, wobei jeweils 2 Reste von R4, R5, R6 gemeinsam mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen cyclischen Rest bilden können,
R ein Wasserstoffatom, einen einwertigen C1-C18- Kohlenwasserstoffrest und
Dien eine gegebenenfalls mit F, Cl, OR, NR2, CN oder NCO substituierte C4-C50-Kohlenwasserstoffverbindung, die mindestens zwei ethylenische C=C Doppelbindungen aufweist, bedeuten,
wobei die Reaktionstemperatur 30-200°C und der Reaktionsdruck 0,11-50,0 Mpa betragen.
Das kontinuierliche Verfahren liefert das Silan der allgemeinen
Formel I in hohen Ausbeuten und hervorragender Reinheit.
Bei dem Verfahren werden die Zielprodukte der allgemeinen
Formel I beim Einsatz von sehr geringen Katalysatormengen in
Ausbeuten von mindestens 95% bis zu 98% erhalten. Je nach
Anwendungsgebiet kann deshalb auf eine destillative
Aufarbeitung verzichtet werden.
Das Verfahren ist leicht zu kontrollieren und sicher
durchzuführen.
Als technische Ausführungen zur Durchführung des Verfahrens
eignen sich alle üblichen Reaktoren zur kontinuierlichen
Reaktionsführung, also z. B. Rohr- und Schleifen-Reaktoren
sowie kontinuierlich betriebene Rühr-Reaktoren.
Bei der Reihenfolge der Dosierung der Reaktionskomponenten sind
alle denkbaren Kombinationen möglich, insbesondere können die
Komponenten teilweise vorgemischt in den Reaktor eingebracht
werden. Vorzugsweise liegt der Katalysator nicht in einer
Umgebung von Überschuß an Silan der allgemeinen Formel II
gegenüber dem Alken der allgemeinen Formel III vor, da dieser
sonst Deaktivierung zeigen kann.
C1-C18-Kohlenwasserstoffreste R1, R2, R3 bedeuten vorzugsweise
Alkyl-, Alkenyl-, Cycloalkyl- oder Arylreste. Vorzugsweise
weisen R1, R2, R3 höchstens 10, insbesondere höchstens 6
Kohlenstoffatome auf. Vorzugsweise sind R1, R2, R3 geradkettige
oder verzweigte C1-C6-Alkylreste oder C1-C6-Alkoxyreste.
Bevorzugte Halogensubstituenten sind Fluor und Chlor. Besonders
bevorzugt als R1, R2, R3 sind die Reste Methyl, Ethyl, Methoxy,
Ethoxy, Chlor, Phenyl und Vinyl.
Kohlenwasserstoffreste R4, R5, R6 bedeuten vorzugsweise Alkyl-,
Alkenyl-, Cycloalkyl- oder Arylreste. Vorzugsweise ist
höchstens einer von R4, R5, R6 ein Alkoxyrest. Vorzugsweise
weisen R5, R6 höchstens 10, insbesondere höchstens 6
Kohlenstoffatome auf. Vorzugsweise weisen R5, R6 höchstens 10,
insbesondere höchstens 6 Kohlenstoffatome auf. Vorzugsweise
sind R5, R6 geradkettige oder verzweigte C1-C6-Alkylreste oder
C1-C6-Alkoxyreste. Besonders bevorzugt als R5, R6 sind die
Reste Wasserstoff, Methyl, Ethyl, Chlor und Phenyl.
Vorzugsweise weist Kohlenwasserstoffrest R4 höchstens 6,
insbesondere höchstens 2 Kohlenstoffatome auf. Besonders
bevorzugt als R4 sind die Reste Wasserstoff, Methyl, Ethyl.
Vorzugsweise weist Kohlenwasserstoffrest R höchstens 6,
insbesondere höchstens 2 Kohlenstoffatome auf.
Die als Dien eingesetzten Kohlenwasserstoffverbindungen können
neben den die ethylenischen C=C Doppelbindungen aufweisenden
Moleküleinheiten noch Alkyl-, Cycloalkyl- oder Aryleinheiten
aufweisen. Vorzugsweise weisen die Diene 6 bis 12
Kohlenstoffatome auf. Bevorzugt sind mono- oder bicyclische
Diene. Bevorzugte Beispiele für Diene sind Butadien, 1,3-
Hexadien, 1,4-Hexadien, 1,5-Hexadien, Isopren, 1,3-
Cyclohexadien, 1,3-Cyclooctadien, 1,4-Cyclooctadien, 1,5-
Cyclooctadien und Norbornadien.
Das Dien im Katalysator der allgemeinen Formel IV und das freie
als Cokatalysator dienende Dien können gleich oder
unterschiedlich sein. Vorzugsweise sind beide Diene gleich.
In einem besonders bevorzugten Fall wird als Katalysator der
allgemeinen Formel IV [(Cycloocta-1c,5c-dien)IrCl]2 und als
Cokatalysator 1,5-Cyclooctadien verwendet.
Das Alken der allgemeinen Formel III wird bevorzugt im
Überschuß von 0,01 bis 100 Mol-% II, besonders bevorzugt 0,1
bis 10 Mol-%, bezogen auf die Silankomponente der allgemeinen
Formel II eingesetzt. Die Iridium-Verbindung der allgemeinen
Formel IV liegt vorzugsweise in einer Konzentration von 1 × 10-6
bis 1 × 10-1 mol-%, insbesondere 1 × 10-4 bis 1 × 10-2 mol-%, bezogen
auf die Silankomponente der allgemeinen Formel II vor. Dien
wird vorzugsweise in einer Konzentration von 1 × 10-6 bis 1 mol-%,
insbesondere 1 × 10-3 bis 1 × 10-1 mol-%, bezogen auf die
Silankomponente der allgemeinen Formel II als Cokatalysator
zugesetzt.
Das Verfahren kann in Anwesenheit oder in Abwesenheit von
aprotischen Lösungsmitteln durchgeführt werden. Falls aproti
sche Lösungsmittel verwendet werden, sind Lösungsmittel oder
Lösungsmittelgemische mit einem Siedepunkt bzw. Siedebereich
von bis zu 120°C bei 0,1 MPa bevorzugt. Beispiele für solche
Lösungsmittel sind Ether, wie Dioxan, Tetrahydrofuran, Diethyl
ether, Diisopropylether, Diethylenglycoldimethylether;
chlorierte Kohlenwasserstoffe, wie Dichlormethan, Trichlor
methan, Tetrachlormethan, 1,2-Dichlorethan, Trichlorethylen;
Kohlenwasserstoffe, wie Pentan, n-Hexan, Hexan-Isomerenge
mische, Heptan, Oktan, Waschbenzin, Petrolether, Benzol,
Toluol, Xylole; Ketone, wie Aceton, Methylethylketon, Di
isopropylketon, Methylisobutylketon (MIBK); Ester, wie
Ethylacetat, Butylacetat, Propylpropionat, Ethylbutyrat, Ethyl
isobutyrat; Schwefelkohlenstoff und Nitrobenzol, oder Gemische
dieser Lösungsmittel.
Als aprotisches Lösungsmittel kann im Verfahren auch das
Zielprodukt der allgemeinen Formel I eingesetzt werden. Diese
Verfahrensvariante ist bevorzugt.
Vorzugsweise wird das Verfahren bei einer Reaktionstemperatur
von 60-100°C, besonders bevorzugt bei 75-85°C durchgeführt.
Der Reaktionsdruck beträgt bevorzugt 0,2-1,5 MPa, besonders
bevorzugt 0,4-0,5 MPa.
Beispielsweise werden die Reaktionskomponenten der allgemeinen
Formel II einerseits und die Reaktionskomponenten der
allgemeinen Formel III zusammen mit Iridium-Katalysator der
allgemeinen Formel IV und gegebenfalls im Gemisch mit dem Dien
andererseits kontinuierlich in einen Schleifenreaktor
zudosiert. In einer anderen Variante wird zum Einfahren des
Reaktors das Zielprodukt der allgemeinen Formel I oder ein
zuvor genanntes Lösungsmittel zusammen mit Katalysator der
allgemeinen Formel IV und gegebenenfalls Dien vorgelegt und
eine Mischung aus Komponenten III und gegebenenfalls Dien
einerseits sowie die Komponente der Formel II andererseits
kontinuierlich zudosiert. Die gemittelten Verweilzeiten der
Reaktorinhalte liegen vorzugsweise bei 5 bis 60 Minuten,
insbesondere bei 10 bis 40 Minuten, besonders bevorzugt 25 bis
30 Minuten.
Alle vorstehenden Symbole der vorstehenden Formeln weisen ihre
Bedeutungen jeweils unabhängig voneinander auf.
In den folgenden Beispielen sind, falls jeweils nicht anders
angegeben, alle Mengen- und Prozentangaben auf das Gewicht
bezogen, alle Drücke 0,10 MPa (abs.) und alle Temperaturen 20°C.
In einen auf 80°C temperierten und unter 0,4 MPa
Druck stehenden Schleifenreaktor mit einem Reaktorvolumen von
1,4 l werden über jeweils eine Dosierpumpe Dimethylchlorsilan
einerseits und eine Mischung von 2,7 × 10-3 mol-% Di-µ-chloro-
bis-[(cycloocta-1c,5c-dien)-iridium(I)] und 7× 10-1 mol-% 1,5-
Cyclooctadien in Allylchlorid andererseits im molaren
Verhältnis 1 : 1,05 Silan : Allylchlorid-Mischung mit einer
Geschwindigkeit von 2,8 l/h (bezogen auf das Gesamt-Volumen der
dosierten Komponenten) zudosiert. Nach destillativer
Aufarbeitung der Roh-Mischung mittels Dünnschichtverdampfer zur
Abtrennung des Katalysators sowie des Allylchlorid-Überschusses
wurde Chloro(3-chlorpropyl)dimethylsilan entsprechend einer
Ausbeute von 95% in einer Reinheit von < 99% bezogen auf das
Silan erhalten.
Beispiel 1 wurde mit der Abänderung wiederholt, daß der Reaktor
bei 50°C und einem Druck von 0,2 MPa betrieben und die
Reaktanden in einer Menge von 2,1 l/h (bezogen auf das Gesamt-
Volumen der dosierten Komponenten) zudosiert wurden. Nach
destillativer Aufarbeitung der Roh-Mischung mittels
Dünnschichtverdampfer zur Abtrennung des Katalysators sowie des
Allylchlorid-Überschusses wurde Chloro(3-
chlorpropyl)dimethylsilan entsprechend einer Ausbeute von 95%
in einer Reinheit von < 99% bezogen auf das Silan erhalten.
Beispiel 1 wurde mit der Abänderung wiederholt, daß der Reaktor
bei 100°C und einem Druck von 1,0 MPa betrieben und die
Reaktanden in einer Menge von 5,6 l/h (bezogen auf das Gesamt-
Volumen der dosierten Komponenten) zudosiert wurden. Nach
destillativer Aufarbeitung der Roh-Mischung mittels
Dünnschichtverdampfer zur Abtrennung des Katalysators sowie des
Allylchlorid-Überschusses wurde Chloro(3-
chlorpropyl)dimethylsilan entsprechend einer Ausbeute von 95%
in einer Reinheit von < 99% bezogen auf das Silan erhalten.
Beispiel 1 wurde mit der Abänderung wiederholt, daß der Reaktor
bei 130°C und einem Druck von 1,0 MPa betrieben und die
Reaktanden in einer Menge von 5,6 l/h (bezogen auf das Gesamt-
Volumen der dosierten Komponenten) zudosiert wurden. Nach
destillativer Aufarbeitung der Roh-Mischung mittels
Dünnschichtverdampfer zur Abtrennung des Katalysators sowie des
Allylchlorid-Überschusses wurde Chloro(3-
chlorpropyl)dimethylsilan entsprechend einer Ausbeute von 95%
in einer Reinheit von < 99% bezogen auf das Silan erhalten.
Beispiel 1 wurde mit der Abänderung wiederholt, daß die
Reaktanden im molaren Verhältnis 1 : 1 Silan : Allylchlorid-
Mischung zudosiert wurden. Nach destillativer Aufarbeitung der
Roh-Mischung mittels Dünnschichtverdampfer zur Abtrennung des
Katalysators wurde Chloro(3-chlorpropyl)dimethylsilan
entsprechend einer Ausbeute von 95% in einer Reinheit von < 99%
bezogen auf das Silan erhalten.
Beispiel 1 wurde mit der Abänderung wiederholt, daß die
Reaktanden im molaren Verhältnis 1 : 1,3 Silan : Allylchlorid-
Mischung zudosiert wurden. Nach destillativer Aufarbeitung der
Roh-Mischung mittels Dünnschichtverdampfer zur Abtrennung des
Katalysators sowie des Allylchlorid-Überschusses wurde
Chloro(3-chlorpropyl)dimethylsilan entsprechend einer Ausbeute
von 95% in einer Reinheit von < 99% bezogen auf das Silan
erhalten.
Beispiel 1 wurde mit der Abänderung wiederholt, daß 1 × 10-4 mol-%
Di-µ-chloro-bis-[(cycloocta-1c,5c-dien)-iridium(I)] und
1 × 10-3 mol-% 1,5-Cyclooctadien eingesetzt wurden. Nach
destillativer Aufarbeitung der Roh-Mischung mittels
Dünnschichtverdampfer zur Abtrennung des Katalysators sowie des
Allylchlorid-Überschusses wurde Chloro(3-
chlorpropyl)dimethylsilan entsprechend einer Ausbeute von 95%
in einer Reinheit von < 99% bezogen auf das Silan erhalten.
Beispiel 1 wurde mit der Abänderung wiederholt, daß Toluol als
Lösungsmittel vor Dosierbeginn in den Reaktor vorgelegt wurde.
Nach destillativer Aufarbeitung der Roh-Mischung mittels
Dünnschichtverdampfer zur Abtrennung des Katalysators sowie des
Allylchlorid-Überschusses wurde Chloro(3-
chlorpropyl)dimethylsilan entsprechend einer Ausbeute von 95%
in einer Reinheit von < 99% bezogen auf das Silan erhalten.
Beispiel 1 wurde mit der Abänderung wiederholt, daß anstelle
des Schleifenreaktors ein Rohrreaktor eingesetzt wurde. Nach
destillativer Aufarbeitung der Roh-Mischung mittels
Dünnschichtverdampfer zur Abtrennung des Katalysators sowie des
Allylchlorid-Überschusses wurde Chloro(3-
chlorpropyl)dimethylsilan entsprechend einer Ausbeute von 95%
in einer Reinheit von < 99% bezogen auf das Silan erhalten.
Beispiel 1 wurde mit der Abänderung wiederholt, daß anstelle
eines frisch zubereiteten Katalysator-/Cokatalysator-Gemischs
der bei der Abtrennung des Produkt erhaltene hochsiedende
Rückstand eingesetzt wurde. Nach destillativer Aufarbeitung der
Roh-Mischung mittels Dünnschichtverdampfer zur Abtrennung des
Katalysators sowie des Allylchlorid-Überschusses wurde
Chloro(3-chlorpropyl)dimethylsilan entsprechend einer Ausbeute
von 95% in einer Reinheit von < 99% bezogen auf das Silan
erhalten.
Claims (8)
1. Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Silan der
allgemeinen Formel I
R6R5CH-R4CH-SiR1R2R3 (I),
bei dem Silan der allgemeinen Formel II
HSiR1R2R3 (II),
mit Alken der allgemeinen Formel III
R6R5CH=CHR4 (III),
in Gegenwart von Iridiumverbindung der allgemeinen Formel IV als Katalysator
[(Dien)IrCl]2 (IV),
und freiem Dien als Cokatalysator kontinuierlich umgesetzt wird, wobei
R1, R2, R3 einen einwertigen Si-C gebundenen, gegebenenfalls halogensubstituierten C1-C18-Kohlenwasserstoff-, Chlor-, oder C1-C18-Alkoxyrest,
R4, R5, R6 ein Wasserstoffatom, einen einwertigen gegebenenfalls mit F, Cl, OR, NR2, CN oder NCO substituierten C1-C18-Kohlenwasserstoff-, Chlor-, Fluor- oder C1-C18-Alkoxyrest, wobei jeweils 2 Reste von R4, R5, R6 gemeinsam mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen cyclischen Rest bilden können,
R ein Wasserstoffatom, einen einwertigen C1-C18- Kohlenwasserstoffrest und
Dien eine gegebenenfalls mit F, Cl, OR, NR2, CN oder NCO substituierte C4-C50-Kohlenwasserstoffverbindung, die mindestens zwei ethylenische C=C Doppelbindungen aufweist, bedeuten,
wobei die Reaktionstemperatur 30-200°C und der Reaktionsdruck 0,11-50,0 Mpa betragen.
R6R5CH-R4CH-SiR1R2R3 (I),
bei dem Silan der allgemeinen Formel II
HSiR1R2R3 (II),
mit Alken der allgemeinen Formel III
R6R5CH=CHR4 (III),
in Gegenwart von Iridiumverbindung der allgemeinen Formel IV als Katalysator
[(Dien)IrCl]2 (IV),
und freiem Dien als Cokatalysator kontinuierlich umgesetzt wird, wobei
R1, R2, R3 einen einwertigen Si-C gebundenen, gegebenenfalls halogensubstituierten C1-C18-Kohlenwasserstoff-, Chlor-, oder C1-C18-Alkoxyrest,
R4, R5, R6 ein Wasserstoffatom, einen einwertigen gegebenenfalls mit F, Cl, OR, NR2, CN oder NCO substituierten C1-C18-Kohlenwasserstoff-, Chlor-, Fluor- oder C1-C18-Alkoxyrest, wobei jeweils 2 Reste von R4, R5, R6 gemeinsam mit den Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen cyclischen Rest bilden können,
R ein Wasserstoffatom, einen einwertigen C1-C18- Kohlenwasserstoffrest und
Dien eine gegebenenfalls mit F, Cl, OR, NR2, CN oder NCO substituierte C4-C50-Kohlenwasserstoffverbindung, die mindestens zwei ethylenische C=C Doppelbindungen aufweist, bedeuten,
wobei die Reaktionstemperatur 30-200°C und der Reaktionsdruck 0,11-50,0 Mpa betragen.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem R1, R2 und R3 C1-C6-
Alkylreste oder C1-C6-Alkoxyreste sind.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem R5, R6 C1-C6-
Alkylreste oder C1-C6-Alkoxyreste.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, bei dem R4 ausgewählt wird
aus den Resten Wasserstoff, Methyl, Ethyl.
5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, beidem Dien in einer
Konzentration von 1 × 10-6 bis 1 mol-%, bezogen auf die
Silankomponente der allgemeinen Formel II als Cokatalysator
zugesetzt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, bei dem die
Reaktionstemperatur 60-100°C beträgt.
7. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, bei dem als Katalysator
der allgemeinen Formel IV [(Cycloocta-1c,5c-dien)IrCl]2
eingesetzt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 1 bis 7, bei dem als Cokatalysator
1,5-Cyclooctadien eingesetzt wird.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10232663A DE10232663C1 (de) | 2002-07-18 | 2002-07-18 | Kontinuierliche Herstellung von Organosilanen |
JP2004522176A JP2005533123A (ja) | 2002-07-18 | 2003-06-12 | オルガノシランの連続的製造 |
CN03817180.5A CN1668624A (zh) | 2002-07-18 | 2003-06-12 | 有机硅烷的连续制备方法 |
EP03735613A EP1530575A1 (de) | 2002-07-18 | 2003-06-12 | Kontinuierliche herstellung von organosilanen |
US10/521,377 US7208618B2 (en) | 2002-07-18 | 2003-06-12 | Continuous production of organosilanes |
PCT/EP2003/006204 WO2004009607A1 (de) | 2002-07-18 | 2003-06-12 | Kontinuierliche herstellung von organosilanen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10232663A DE10232663C1 (de) | 2002-07-18 | 2002-07-18 | Kontinuierliche Herstellung von Organosilanen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10232663C1 true DE10232663C1 (de) | 2003-10-16 |
Family
ID=28051351
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10232663A Expired - Fee Related DE10232663C1 (de) | 2002-07-18 | 2002-07-18 | Kontinuierliche Herstellung von Organosilanen |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7208618B2 (de) |
EP (1) | EP1530575A1 (de) |
JP (1) | JP2005533123A (de) |
CN (1) | CN1668624A (de) |
DE (1) | DE10232663C1 (de) |
WO (1) | WO2004009607A1 (de) |
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WO2019040383A1 (en) | 2017-08-22 | 2019-02-28 | Dow Silicones Corporation | DOUBLE CURING ADHESIVE COMPOSITION AND METHODS OF PREPARATION AND USE |
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-
2002
- 2002-07-18 DE DE10232663A patent/DE10232663C1/de not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-06-12 WO PCT/EP2003/006204 patent/WO2004009607A1/de not_active Application Discontinuation
- 2003-06-12 JP JP2004522176A patent/JP2005533123A/ja not_active Withdrawn
- 2003-06-12 US US10/521,377 patent/US7208618B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-06-12 CN CN03817180.5A patent/CN1668624A/zh active Pending
- 2003-06-12 EP EP03735613A patent/EP1530575A1/de not_active Ceased
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1530575A1 (de) | 2005-05-18 |
WO2004009607A1 (de) | 2004-01-29 |
US20050240043A1 (en) | 2005-10-27 |
JP2005533123A (ja) | 2005-11-04 |
CN1668624A (zh) | 2005-09-14 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
8100 | Publication of patent without earlier publication of application | ||
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8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
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