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Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ätzen und Trocknen
von Substraten.
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Das naßchemische saure Ätzen von Substraten bzw. das
Phosphorglasätzen ist beispielsweise im Abschlußbericht SOLPRO
II, Fraunhofer IPT, Fraunhofer ISE beschrieben. Unter "saurem
Ätzen" versteht man einen Ätzvorgang, bei dem das Ätzmittel
eine Säure ist. Bei den angesprochenen Substraten kann es
sich um Wafer zur Herstellung von Chips oder um
Siliziumsubstrate für photovoltaische Elemente handeln. Bei den
bekannten Ätzverfahren wird in jedem Fall das Substrat nach dem
Herausheben aus dem Ätzbad nacheinander in eine Mehrzahl von
Spülbädern getaucht und schließlich durch langsames
Herausheben aus einem Trocknungsbad getrocknet. - Ein solches
Trocknungsbad enthält üblicherweise deionisiertes Wasser. Dem
deionisierten Wasser kann Flußsäure zugesetzt sein. Das dient
der Erzeugung einer hydrophoben Substratoberfläche. Ferner
kann das deionisierte Wasser mit Ozon gesättigt sein. Ein
entsprechendes Trocknungsverfahren ist z. B. in der DE 195 31 031 C2
beschrieben.
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Das bekannte saure Ätzverfahren ist wegen des Erfordernisses
nachgeschalteter Spül- und Trocknungsschritte Zeit- und damit
kostenaufwendig. Die dem Ätzschritt nachgeschalteten
Spülschritte werden nach dem Stand der Technik als unabdingbare
Voraussetzungen für eine ausreichende Reinigung und ein
vollständiges Trocknen der Substrate angesehen.
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Aufgabe der Erfindung ist es, die Nachteile nach dem Stand
der Technik zu beseitigen. Es soll insbesondere ein
effizientes Verfahren zum sauren Ätzen und Trocknen von Substraten
angegeben werden.
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Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruchs 1 gelöst.
Zweckmäßige Ausgestaltungen ergeben sich aus den Merkmalen
der Ansprüche 2 bis 24.
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Nach dem Gegenstand der Erfindung ist es überraschenderweise
möglich, Substrate unter Weglassung nachgeschalteter Spül-
und Trockenschritte in einem einzigen Schritt sauer zu ätzen
und zu trocknen. Durch die Erzeugung kontrollierter
Relativbewegungen zwischen den Substraten und der Oberfläche der
Ätzlösung ist es möglich, diese kontaminationsfreie und
trocken von der Äztlösung zu trennen. Die Substrate liegen dann
überraschenderweise in einer hervorragenden Qualität vor. Der
Schritt lit. c ermöglicht dabei die Übernahme der trockenen
Substrate in einen Träger oder mit einer Greifvorrichtung.
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Es hat sich als ausreichend erwiesen, daß die Substrate
vollständig untergetaucht für eine Zeit von 1 bis 10 Minuten in
der Ätzlösung gehalten werden. Mit den vorgeschlagenen
Parametern kann ein relativ schneller Ätzvorgang erreicht werden.
Zweckmäßigerweise werden beim Schritt lit, a 10 nm bis 100 nm
von der Oberfläche der Substrate abgetragen. Der
angesprochene Ätzabtrag beim Schritt lit. a dient zweckmäßigerweise der
Entfernung einer auf der Oberfläche der Substrate
befindlichen Phosphorglasschicht. Ein dem Schritt lit. c
nachgeschaltetes Spülen und ein dem Spülen nachgeschaltetes Trocknen der
Substrate kann vorteilhafterweise weggelassen werden.
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Als besonders vorteilhaft hat es sich erwiesen, daß die
Substrate beim Inkontaktbringen mit der Ätzlösung in einem
Träger aufgenommen sind. Auf diese Weise können gleichzeitig
eine Vielzahl von Substraten geätzt und unmittelbar nach dem
Ätzen getrocknet werden.
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Zur Erzeugung der Relativbewegung beim Schritt lit. b ist
zweckmäßigerweise eine den Träger tragende zweite
Hubeinrichtung vorgesehen und mittels der zweiten Hubeinrichtung wird
der Träger mit dem darin auf dem Trägerelement abgestützten
Substraten angehoben, bis ein Trägergegenelement sich
vollständig oberhalb einer Oberfläche der Ätzlösung befindet und
das Trägerelement noch vollständig in die Ätzlösung
eingetaucht ist. Anschließend können die Substrate vom
eingetauchten Trägerelement mittels der relativ zum Träger bewegbaren
ersten Hubeinrichtung abgehoben werden, so daß die Substrate
im Träger in einer am Trägerelement vorgesehenen
Haltevorrichtung von einer ersten Position in eine zweite Position
verschoben werden. Diese Maßnahme stellt sicher, daß die
Substrate beim Herausheben aus der Ätzlösung jederzeit
voneinander beabstandet gehalten werden. Es kann nicht zu einem
unerwünschten Aneinanderliegen der Substrate kommen. Ein solches
Aneinanderliegen der Substrate kann zum Herausschleppen von
Ätzlösung aus dem Behandlungsbad und damit zu einem
unvollständigen Trocknen der Substrate führen.
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Nach einem weiteren Ausgestaltungsmerkmal ist vorgesehen, daß
der Träger mittels der zweiten Hubeinrichtung weiter gehoben
wird, bis das Trägerelement sich vollständig oberhalb der
Oberfläche der Ätzlösung befindet. Diese Maßnahme stellt
sicher, daß das Trägerelement beim erneuten Abstützen der
Substrate darauf vollständig getrocknet ist.
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Die Substrate werden zweckmäßigerweise beim Abstützen auf das
oberhalb der Oberfläche der Ätzlösung befindliche
Trägerelement in der am Trägerelement vorgesehenen Haltevorrichtung
von der zweiten Position wieder in die erste Position
verschoben werden. Zweckmäßigerweise sind das Trägerelement und
die Haltevorrichtung beim Verschieben der Substrate in die
zweite Position trocken.
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Nach einer Ausgestaltung wird die Bewegung der zweiten
Hubeinrichtung relativ zur ersten Hubeinrichtung mittels einer
Steuereinrichtung gesteuert, die eine fest am
Behandlungsbecken angebrachte Kulissenführung aufweist. Die erste
Hubeinrichtung weist zweckmäßigerweise zwei parallel zu einem an
der zweiten Hubeinrichtung vorgesehenen Hubarm verlaufende
Wellen auf, an denen endständig jeweils ein Hebel vorgesehen
ist, der zum Drehen der Wellen um einen vorgegebenen Winkel
mit daran vorgesehenen Zapfen in die Kulissenführung
eingreift. Eine solche mechanische Steuerung der ersten
Hubeinrichtung ist besonders einfach realisierbar. Sie ist
reparaturunanfällig.
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Die erste Hubeinrichtung kann eine Aufnahme für den Träger
aufweisen, wobei die Aufnahme an den Wellen befestigte
Aufnahmehebel zum Heben und Senken des darauf aufgenommenen
Trägers aufweisen kann. Die erste Hubeinrichtung kann ferner
eine fest am Hubarm angebrachte Substratstützleiste aufweisen,
auf der die Substrate bei relativ zum Hubarm abgesenktem
Träger abgestützt werden. Zweckmäßigerweise können die Substrate
mittels der ersten Hubeinrichtung zwischen der ersten und der
zweiten Position um höchstens 10 mm, vorzugsweise 3-5 mm,
verschoben werden. Die Substrate werden vorteilhafterweise
kontinuierlich angehoben. Mit den vorerwähnten Merkmalen kann
das Verfahren besonders störungsfrei und effizient geführt
werden.
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Die Geschwindigkeit beim Herausheben der Substrate beträgt
zweckmäßigerweise zwischen 0,1 mm/sec und 20 mm/sec,
vorzugsweise zwischen 0,5 mm/sec und 3,0 mm/sec. In dem angegebenen
Geschwindigkeitsbereich kann eine vollständige Trocknung der
Substrate erreicht werden.
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Die Substrate werden zweckmäßigerweise mittels der ersten
Hubeinrichtung vollständig aus der Ätzlösung herausgehoben.
Nach einem weiteren Ausgestaltungsmerkmal ist vorgesehen, daß
das Trägergegenelement eine weitere Haltevorrichtung
aufweist. Die Substrate können beim Abheben vom Trägerelement in
der weiteren Haltevorrichtung von einer ersten in eine zweite
Position und beim Abstützen der Substrate auf dem
Trägergegenelement von der zweiten in die erste Position verschoben
werden. Durch das Vorsehen einer weiteren Haltevorrichtung am
Trägergegenelement wird gewährleistet, daß die Substrate
jederzeit vertikal parallel und voneinander beabstandet
gehalten werden. Die Haltevorrichtung und/oder die weitere
Haltevorrichtung können aus nebeneinander liegenden Zähnen oder
schlitzartigen Ausnehmungen gebildet sein.
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Zur Sicherstellung einer vollständigen Trocknung ist es
zweckmäßig, daß das Trägergegenelement und ggf. die daran
vorgesehene weitere Haltevorrichtung beim Abheben der
Substrate vom Trägerelement trocken ist/sind. Zur Unterstützung
der Trocknung können nach einem weiteren
Ausgestaltungsmerkmal an einer Unterkante der Substrate eventuell hängende
Tropfen mittels eines von einer an der zweiten Hubeinrichtung
vorgesehenen Substratstützleiste erstreckenden
Tropfenableitelements abgeleitet werden. Bei dem Tropfenableitelement kann
es sich um einen Steg oder eine Klinge handeln, welche an den
tiefsten Punkt der Unterkante der Substrate beim Herausheben
anliegt.
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Die Relativbewegung beim Schritt lit. b kann auch durch
Absenken der Oberfläche der Ätzlösung erfolgen. In diesem Fall
sind die Substrate zweckmäßigerweise in einem auf dem Boden
des Behandlungsbeckens abgestützten Träger aufgenommen. Im
Bereich des Bodens ist in diesem Fall die erste
Hubeinrichtung vorgesehen. Mittels der ersten Hubeinrichtung können die
Substrate bei einem vorgegebenen Pegel der Ätzlösung relativ
zu deren Oberfläche angehoben werden. Danach wird die
Oberfläche der Ätzlösung weiter abgesenkt, bis der Träger
vollständig trocken ist. Anschließend werden die trockenen
Substrate wieder im vollständig trockenen Träger abgestützt.
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Nachfolgend werden anhand von Ausführungsbeispielen das
erfindungsgemäße Verfahren und eine zu dessen Durchführung
geeignete Vorrichtung näher erläutert. Es zeigen:
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Fig. 1 eine Ansicht auf die Längsseite einer
Vorrichtung,
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Fig. 2 die Ansicht A gemäß Fig. 1,
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Fig. 3 die Ansicht B gemäß Fig. 1,
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Fig. 4 eine schematische Querschnittsansicht eines
Trägerelements bzw. eines Trägergegenelements,
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Fig. 5 eine Seitenansicht auf die Längsseite einer
Vorrichtung mit darauf aufgenommenem Träger,
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Fig. 6 eine Draufsicht auf die Vorrichtung gemäß Fig.
5 ohne Träger,
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Fig. 7 eine Querschnittsansicht gemäß der
Schnittlinie A-A' in Fig. 5 und
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Fig. 8a-d den Verfahrensablauf beim Herausheben der
Substrate.
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In den Fig. 1-4 ist ein Träger zur Aufnahme von Substraten
und dgl. in verschiedenen Ansichten gezeigt. Mit dem Träger
können gleichzeitig eine Vielzahl von Substraten geätzt und
durch Herausheben aus dem Ätzbad getrocknet werden. Zwei
Wände 1 sind unlösbar verbunden mit zwei unteren Trägerelementen
2, zwei oberen Trägerelementen 3 sowie einem
Trägergegenelement 4. Die unteren 2 und oberen Trägerelemente 3 sind
bezüglich einer Symmetrieebene E symmetrisch angeordnet. Das
Trägergegenelement 4 ist bezüglich der Symmetrieebene E versetzt
angeordnet. Es ist ebenfalls unlösbar mit den Wänden 1
verbunden. Es kann aber auch sein, dass das Trägergegenelement 4
lösbar mit den Wänden z. B. mittels einer Schraub-, Klemm-
oder Rastverbindung verbunden ist.
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Wie insbesondere aus den Fig. 2 und 3 ersichtlich ist, sind
die Wände 1 spiegelbildlich ausgebildet. Ein in der
Vorrichtung aufgenommenes Substrat ist mit S bezeichnet. Das
Substrat S ist abgestützt auf den unteren 2 und den oberen
Trägerelementen 3. Eine Bewegung des Substrats S in eine mit V
bezeichnete Vertikalrichtung wird durch das
Trägergegenelement 4 begrenzt. Dagegen ist ein Be- bzw. Entladen der
Vorrichtung in einer mit SR bezeichneten Schrägrichtung möglich.
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Auf den Trägerelementen 2, 3 sind als Haltemittel Zähne 5
vorgesehen. Die Zähne 5 sind hier vertikal nach oben
angeordnet. Es ist aber auch möglich, daß die Zähne 5 in Richtung in
einer mit ZA bezeichneten Zentralachse weisen. Die an den
Trägergegenelementen 4 vorgesehenen Zähne 5 weisen vertikal
nach unten. Auch hier ist es möglich, daß die Zähne 5 in
Richtung der Zentralachse ZA weisen. Ein durch zwei
nebeneinanderliegende Zähne 5 gebildeter Schlitz verjüngt sich in
Richtung des Trägerelements 2, 3 bzw. des Trägerelements 4.
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Die an den Wänden 1 befindlichen umlaufenden Kanten sind mit
Abschrägungen 6 versehen.
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Die Trägerelemente 2, 3 weisen jeweils vertikal nach unten
sich erstreckende Ablaufstege 7a, das Trägergegenelement 4
einen sich vertikal nach oben erstreckenden weiteren
Ablaufsteg 7b auf. Eine Breite bzw. Höhe der Ablaufstege 7a, 7b
nimmt zur Mitte der Trägerelemente 2, 3 bzw. des
Trägergegenelements 4 zu.
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Unterkanten 8 der Wände 1 weisen mittig eine U-förmige erste
Ausnehmung 9 auf. Die Unterkanten 8 fallen beidseits der U-
förmigen ersten Ausnehmung 9 nach außen hin ab.
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Seitenkanten 10 verlaufen im wesentlichen vertikal, d. h.
parallel zur Vertikalrichtung V. Sie weisen in einem oberen
Abschnitt zweite Ausnehmungen 11 zum Eingriff einer (hier nicht
gezeigten) Greifeinrichtung zum Greifen der Vorrichtung auf.
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An einer Oberkante 12 der Wände 1 ist außerdem eine dritte
Ausnehmung 13. Die dritte Ausnehmung 13 ermöglicht das
Eingreifen eines Greifarms zum Be- und Entladen der Vorrichtung
mit Substraten S. Mindestens zwei der die dritte Ausnehmung
begrenzenden Ausnehmungskanten 14a, 14b verlaufen schräg zu
den Seitenkanten 10. Die so gebildete schräge dritte
Ausnehmung 13 ermöglicht ein Be- und Entladen der Vorrichtung mit
Substraten S in der Schrägrichtung SR.
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In Fig. 4 ist ein Querschnitt durch ein unteres Trägerelement
2 gezeigt. Das untere Trägerelement 2 ist gebildet aus einer
zentralen Versteifungsstruktur 15, die zweckmäßigerweise aus
einem mit Kohlefaser verstärkten zweiten Kunststoff
hergestellt ist. Selbstverständlich kann die Versteifungsstruktur
auch aus anderen Materialien hergestellt sein, wobei
nichtmetallische Materialien bevorzugt sind. Die
Versteifungsstruktur 15 weist eine aus einem ersten Kunststoff hergestellte
Ummantelung 16 auf. Der erste Kunststoff ist
zweckmäßigerweise resistent gegen Säuren und Basen. Es kann sich dabei
beispielsweise handeln um PFA, PTFE, PVDF, PEEK oder dgl.
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Die Zähne 5 und die Ablaufstege 7a, 7b sind zweckmäßigerweise
in einstückiger Ausbildung mit der Ummantelung 16
hergestellt. Mit 17 ist ein oberer Scheitelpunkt des hier
zylindrisch ausgebildeten unteren Trägerelements 2 bezeichnet. Ein
Zahngrund 18 ist im Querschnitt die hier kreissegmentförmige
ausgebildete Kontaktlinie zwischen dem Zahn 5 und dem unteren
Trägerelement 2. Damit stets ein vollständiger Ablauf von
Reinigungsflüssigkeit gewährleistet ist, sind die Zähne 5 so
anzuordnen, daß der obere Scheitelpunkt 17 Bestandteil des
Zahngrunds 18 ist.
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Die gezeigte Anordnungen der Zähne 5 gilt in gleicher Weise
für die oberen Trägerelemente 3. Sie gilt in analoger Weise
für das Trägergegenelement 4, wobei hier bezüglich der
Anordnung der Zähne 5 auf einem unteren Scheitelpunkt abzustellen
ist, der in Fig. 4 mit dem Bezugszeichen 19 angedeutet ist.
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Im Rahmen der vorliegenden Erfindung ist es
selbstverständlich möglich, die Anzahl und Ausbildung der Trägerelemente 2,
3 sowie des Trägergegenelements 4 zu ändern, insbesondere an
die Geometrie des jeweils zu transportierenden Substrats S
anzupassen. So ist es beispielsweise auch möglich, statt der
im vorliegenden Ausführungsbeispiel beschriebenen vier
Trägerelemente nur zwei oder ein Trägerelemente zu verwenden.
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Mit dem im Rahmen der vorliegenden Erfindung vorgeschlagenen
Träger wird auf einfache Weise eine unerwünschte
Vertikalbewegung von Substraten S in einem Behandlungsbad unterbunden.
Gleichzeitig ist ein einfaches Be- und Entladen der
Vorrichtung möglich, ohne daß dazu ein Niederhalteelement, wie das
Trägergegenelement 4, von der Vorrichtung entfernt werden
muß.
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Fig. 5 bis 7 zeigen eine Vorrichtung zum Ätzen und Trocknen
von Substraten S. Eine zweite Hubeinrichtung weist einen im
wesentlichen horizontal verlaufenden Hubarm 20, der mittels
einer vertikalen Hubstange 21 mit einem (hier nicht
gezeigten) Hubantrieb verbunden ist. Bei dem Hubantrieb kann es
sich um einen herkömmlichen elektrisch, hydraulisch,
mechanisch oder pneumatisch betreibbaren Hubantrieb handeln. Auf
dem Hubarm 20 ist eine erste Hubeinrichtung aufgenommen. Dazu
sind Lagerhalter 22 vorgesehen, welche fest mit dem Hubarm
verbunden sind. In den Lagerhaltern 22 sind beidseits des
Hubarms 20 drehbar Wellen 23 gehalten. Wie insbesondere aus
Fig. 6 gut ersichtlich ist, erstrecken sich von den
Lagerhaltern 22 vertikal nach oben Führungsnasen 24, in denen die
Träger T mit ihrer ersten U-förmigen Ausnehmung 9 gleitend
geführt sind.
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An den einen Enden sind die Wellen 20 fest mit Hebeln 25
verbunden, die mit daran vorgesehenen Zapfen 26 in eine
Kulissenführung 27 eingreifen. Die Kulissenführung 27 ist hier als
Schlitz in einer Kulissenführungsplatte 28 ausgebildet. Die
Kulissenführungsplatte 28 ist fest an einer Wand eines
Behandlungsbeckens angebracht (hier nicht gezeigt). Fest mit
den Wellen 23 verbunden sind Aufnahmehebel 29, die zur
Aufnahme des Trägers T dienen. Die Aufnahmehebel 29 können mit
Führungsrollen 30 versehen sein.
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Auf den Lagerhaltern 22 sind ferner Substratstützleisten 31
montiert, die im Querschnitt U-förmig ausgebildet sind. Von
einem Boden 31a erstrecken sich zwei parallel zueinander
angeordnete Stützschenkel 31b. Der Boden 31a weist eine
Vielzahl von Durchbrüchen auf.
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Ein Behandlungsbecken ist in Fig. 7 mit B angedeutet. Es ist
erkennbar, daß der Träger T so nahe an den Wänden des
Behandlungsbeckens B vorbeigeführt wird, daß bei einer schräg
aufwärts gerichteten Bewegung der Substrate 5 diese an der Wand
des Behandlungsbeckens B anstoßen. Sie können während des
Heraushebens aus dem Behandlungsbad nicht aus dem Träger T
entweichen.
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Die Funktion der Vorrichtung wird nun in Zusammensicht mit
den Fig. 8a-d näher erläutert. In Fig. 8a-d sind der
Übersichtlichkeit halber lediglich die unteren Trägerelemente
2 und das Trägergegenelement 4 des Trägers T dargestellt.
Ebenfalls der Übersichtlichkeit halber sind in Fig. 8b-c
die Wand 1 des Trägers weggelassen worden.
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Zum Ätzen der Substrate werden diese zweckmäßigerweise in
eine wäßrige Ätzlösung getaucht, mit einer HF-Konzentration von
0,5 bis 50,0 Gew.-%. Die Ätzlösung ist zweckmäßigerweise auf
eine Temperatur von 40°C bis 70°C erwärmt. Bei einer
Haltezeit von etwa 1 bis 10 Minuten kann ein Phosphorglasätzen
erfolgen. Die Ätzgeschwindigkeit kann durch die Temperatur die
Konzentration und die Haltezeit in der Ätzlösung beeinflußt
werden.
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Die Trocknung erfolgt erfindungsgemäß unmittelbar durch
langsames Herausheben der Substrate aus dem Ätzbad: In einer
ersten Phase des Trocknungsverfahrens sind die Substrate S
vollständig unterhalb der Flüssigkeitsoberfläche FO
untergetaucht. Die Stützschenkel 31a der Substratstützleiste 31 sind
nicht im Kontakt mit den Substraten S. Die Substrate S sind
abgestützt auf den Trägerelementen 2, 3. Der Träger T
wiederum ist abgestützt auf den Aufnahmehebeln 29.
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In einer zweiten Phase des Trocknungsverfahrens wird der
Hubarm 20 angehoben. Der Träger T mit den darin aufgenommenen
Substraten S wird über die Flüssigkeitsoberfläche FO
herausgehoben (Fig. 8a).
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Sobald das Trägergegenelement 4 vollständig über die
Flüssigkeitsoberfläche FO herausgehoben worden ist, beginnen die
Aufnahmehebel 29 entgegen der Hubrichtung nach unten zu
rotieren. Die Rotationsbewegung der Aufnahmehebel 29 wird
gesteuert über die an den Wellen 23 angebrachten Hebel 25,
deren Stellung durch die Kulissenführung 27 in Abhängigkeit des
jeweiligen Hubs bestimmt wird. Wie aus Fig. 8b ersichtlich
ist, wird der Träger T mit den Trägerelementen 2, 3 gegenüber
dem Hubarm bzw. der fest damit verbundenen
Substratstützleiste 31 soweit abgesenkt, daß die Substrate S auf den
Stützschenkeln 31a der Substratstützleiste 31 abgestützt werden.
Die Substrate S werden somit von den Trägerelementen 2, 3
abgehoben. Sie werden jedoch nur um etwa 3 bis 5 mm von den
Trägerelementen 2, 3 abgehoben, so daß die Substrate S auch
im abgehobenen Zustand noch in den durch die Zähne 5
gebildeten Schlitzen geführt sind. Die Substrate S werden also von
einer ersten auf den Trägerelementen 2, 3 abgestützten
Position in eine zweite Position verschoben, in der sie nicht
mehr auf den Trägerelementen 2, 3 abgestützt sind. Die
Verschiebung der Substrate S erfolgt in analoger Weise
entsprechend in den durch die Zähne 5 gebildeten Schlitzen am
Trägergegenelement 4.
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Während des Durchtritts der Trägerelemente 2, 3 durch die
Flüssigkeitsoberfläche FO sind die Substrate S nicht auf die
Trägerelemente 2, 3 abgestützt. Das ermöglicht ein
vollständiges Ablaufen von Ätzlösung von den Trägerelementen 2, 3.
Sobald die Trägerelemente zu einem wesentlichen Teil über die
Flüssigkeitsoberfläche FO herausgehoben worden sind, wird der
Träger T mittels der Aufnahmehebel 29 gegenüber der
Substratstützleiste 31 wieder angehoben. Die Substrate S werden
wieder auf die Trägerelemente 2, 3 abgestützt, d. h. sie
werden in den durch die Zähne 5 gebildeten Schlitzen wieder von
der zweiten in die erste Position verschoben. Dieser
Verfahrensschritt ist in Fig. 8c gezeigt.
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Anschließend wird der noch in die Ätzlösung eintauchende
restliche Abschnitt des Substrats S mittels der
Trägerelemente 2, 3 aus dem Behandlungsbad herausgehoben.
Zweckmäßigerweise werden die Substrate S erst dann wieder auf die
Trägerelemente 2, 3 aufgesetzt, wenn sie vollständig aus der
Ätzlösung herausgehoben worden sind.
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Mit dem vorgeschlagenen Verfahren wird beim Durchtritt des
Trägergegenelements 4 sowie der Trägerelemente 2, 3 durch die
Flüssigkeitsoberfläche FO stets vermieden, daß zu diesem
Zeitpunkt die Substrate S am Trägergegenelement 4 oder den
Trägerelementen 2, 3 anliegen. Beim Durchtritt durch die
Flüssigkeitsoberfläche ist stets die Kante des Substrats
beabstandet vom Trägergegenelement 4 bzw. den Trägerelementen
2, 3. Diese Maßnahme gewährleistet ein vollständiges
Abfließen von Ätzlösung, welche sich beim Herausheben in dem
zwischen zwei benachbarten Zähnen 5 gebildeten Schlitz befindet.
Bezugszeichenliste
1 Wand
2 unteres Trägerelement
3 oberes Trägerelement
4 Trägergegenelement
5 Zahn
6 Abschrägung
7a, b Ablaufsteg
8 Unterkante
9 erste Ausnehmung
10 Seitenkante
11 zweite Ausnehmung
12 Oberkante
13 dritte Ausnehmung
14a, b Ausnehmungskanten
15 Versteifungsstruktur
16 Ummantelung
17 oberer Scheitelpunkt
18 Zahngrund
19 unterer Scheitelpunkt
20 Hubarm
21 Hubstange
22 Lagerhalter
23 Welle
24 Führungsnase
25 Hebel
26 Zapfen
27 Kulissenführung
28 Kulissenführungsplatte
29 Aufnahmehebel
30 Führungsrolle
31 Substratstützleiste
31a Boden
31b Stützschenkel
V Vertikalrichtung
SR Schrägrichtung
S Substrat
E Symmetrieebene
ZA Zentralachse
T Träger
FO Flüssigkeitsoberfläche