DE10205425A1

DE10205425A1 - Facet mirror with several mirror facets has facets with spherical bodies with mirror surfaces in body openings, sides of spherical bodies remote from mirror surfaces mounted in bearer

Info

Publication number: DE10205425A1
Application number: DE10205425A
Authority: DE
Inventors: Hubert Holderer; Markus Weiss; Wolfgang Singer; Andreas Seifert; Andreas Heisler; Frank Melzer; Heinz Mann; Juergen Faltus
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2001-11-09
Filing date: 2002-02-09
Publication date: 2003-05-22

Abstract

The facet mirror with has several mirror facets (11), whereby at least some facets have a spherical body (17) with a mirror surface (12) in an opening in the body and the side of the spherical body remote from the mirror surface is mounted in a bearer. Lifting elements are arranged on the sides of at least some facets remote from the mirror surface. AN Independent claim is also included for the following: an arrangement for adjusting mirror facets of a facet mirror.

Description

Die Erfindung betrifft einen Facettenspiegel mit mehreren Spiegelfacetten, welcher in Beleuchtungseinrichtungen für Projektionsbelichtungsanlagen in der Mikrolithographie, insbesondere für in der Mikrolithographie unter Verwendung von Strahlung im Bereich des extremen Ultravioletts, einsetzbar ist. Außerdem beschreibt die Erfindung eine Vorrichtung zur Justage der Spiegelfacetten eines Facettenspiegels, welcher in Beleuchtungseinrichtungen für Projektionsbelichtungsanlagen in der Mikrolithographie, insbesondere in der Mikrolithographie unter Verwendung von Strahlung im Bereich des extremen Ultravioletts, eingesetzt ist. The invention relates to a facet mirror with several Mirror facets, which in lighting devices for Projection exposure systems in microlithography, in particular for in microlithography using radiation in Field of extreme ultraviolet, can be used. Moreover the invention describes a device for adjusting the Mirror facets of a facet mirror, which in Lighting equipment for projection exposure systems in the Microlithography, especially in microlithography using of radiation in the extreme ultraviolet range is.

Kippspiegel als Spiegelfacetten für mehrere dieser Spiegelfacetten umfassenden Facettenspiegeln sind aus dem Stand der Technik bekannt. Tilting mirror as mirror facets for several of these Facet mirrors comprising mirror facets are from the state of the art Technology known.

So beschreibt beispielsweise die GB 2 255 195 A derartige Facettenspiegel mit einzelnen Kippspiegeln und entsprechenden Lagerelementen für die Facettenspiegel, deren Einsatzzweck insbesondere im Bereich der solaren Energietechnik zu suchen ist. For example, GB 2 255 195 A describes such Faceted mirror with individual tilting mirrors and corresponding ones Bearing elements for the faceted mirror, their purpose in particular in the field of solar energy technology.

Jeder einzelne der Kippspiegel ist dabei so ausgebildet, daß er aus einer Spiegelfläche besteht, welche über einen Stab mit einer Kugel verbunden ist, welche in entsprechenden Lagereinrichtungen befestigt ist. Die Genauigkeit von derartigen Anordnungen hinsichtlich der Möglichkeit ihrer Justage oder dergleichen ist dabei äußerst beschränkt, da die Halterung der einzelnen Kippspiegel vergleichsweise lose ist und eine Dejustage sehr leicht und schnell erfolgen kann. Each of the tilting mirrors is designed so that it consists of a mirror surface, which with a rod is connected to a ball, which in corresponding Storage facilities is attached. The accuracy of such Arrangements regarding the possibility of their adjustment or the like is extremely limited because the bracket of each Tilting mirror is comparatively loose and very misaligned can be done easily and quickly.

Bei einem derartigen Aufbau lassen sich daher die bei der Justage erforderlichen Genauigkeiten, welche für den Anwendungsfall der oben genannten Erfindung in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, insbesondere für den Einsatz unter Strahlung im Bereich des extremen Ultravioletts (EUV), erforderlich sind, sicherlich nicht realisieren. Des weiteren kann bei der Justage der Zugriff auf die einzelnen Spiegelfacetten nur von der Seite ihrer Spiegeloberfläche her erfolgen, so daß ein Ausrichten der einzelnen Spiegel unter Beleuchtung vergleichsweise aufwendig und schwierig ist. With such a structure, the Precisions required for the adjustment Application of the above invention in one Projection exposure system for microlithography, especially for the Use under radiation in the area of extreme ultraviolet (EUV), are necessary, certainly not realize. Of Access to the individual can also be made during adjustment Mirror facets only from the side of their mirror surface take place so that an alignment of the individual mirrors under Lighting is comparatively complex and difficult.

Des weiteren ist durch die EP 0 726 479 A2 eine Kippspiegelanordnung beschrieben, welche mindestens einen Kippspiegel, einen Basiskörper und mindestens eine Spiegellagerung mit zumindest nahezu festem Drehpunkt zwischen dem Kippspiegel und der Basis besitzt. Gemäß der Schrift ist bei Spiegelflächen mit einer charakteristischen Länge kleiner als 40 mm, die Baugröße der gesamten Anordnung von Kippspiegellagerung und -gehäuse derart unterhalb der Spiegeloberfläche angeordnet, daß sie in der Projektion Spiegelebene nicht oder bei Auslenkung des Kippspiegels nur unwesentlich über diese hinausragt. Derartige Kippspiegel werden beispielsweise im Bereich der Lasertechnologie eingesetzt. Furthermore, EP 0 726 479 A2 describes one Tilting mirror arrangement described, which has at least one tilting mirror, a base body and at least one mirror bearing with at least almost fixed pivot point between the tilting mirror and the Owns base. According to the script, with mirror surfaces a characteristic length less than 40 mm, the size the entire arrangement of the tilting mirror bearing and housing so arranged below the mirror surface that they in the projection of the mirror plane is not or if the Tilting mirror protrudes only slightly beyond this. such Tilting mirrors are used, for example, in the area of Laser technology used.

Durch die Möglichkeit, den Basiskörper über die Spiegellagerung entsprechend zu lagern und gegebenenfalls nachzujustieren, wird bei derartigen Spiegeln die Justage auch unter Beleuchtung möglich. Allerdings ist der Aufbau sehr aufwendig, so daß bei Facettenspiegeln, welche aus diesen Kippspiegeln gebildet werden könnten, ein sehr hoher Aufwand hinsichtlich des Bauraums in axialer Richtung, den Justageelementen, den Kosten und dergleichen zu erwarten ist. Due to the possibility of the base body over the mirror bearing to store accordingly and readjust if necessary with mirrors of this type, the adjustment also under lighting possible. However, the structure is very complex, so that Faceted mirrors, which are formed from these tilting mirrors could, a very high effort in terms of space in axial direction, the adjustment elements, the costs and the like is to be expected.

Aus der DE 23 36 765 ist eine Lagerung für einen schwenkbaren Spiegel für kohärentoptische Systeme bekannt. Der Spiegel ist dabei auf der Kreisfläche eines Kugelabschnitts angeordnet, wobei das Zentrum der Kugel auf der Spiegeloberfläche liegt. Der Kugelabschnitt ist in einer Kugelpfanne bzw. -kalotte entsprechenden Durchmessers gelagert. Zur Bewegung und Steuerung ist der Kugelabschnitt mit einem hebelförmigen, radial zur Kugel angeordneten Fortsatz versehen. Dabei ist der Fortsatz mittels einer in einer zur Ebene der Nullstellung des Spiegels parallelen Ebene wirksamen Verstelleinrichtung bewegbar. DE 23 36 765 describes a mounting for a swivel Mirror known for coherent optical systems. The mirror is arranged on the circular surface of a spherical section, with the center of the sphere on the mirror surface. The Ball section is in a ball socket or spherical cap appropriate diameter stored. For movement and control the spherical section with a lever-shaped, radial to the ball arranged extension provided. The extension is by means of one in one to the level of the zero position of the mirror parallel plane effective adjustment device movable.

Es ist die Aufgabe der Erfindung, die oben genannten Nachteile des Standes der Technik zu vermeiden und einen Facettenspiegel mit mehreren Spiegelfacetten zu schaffen, welcher einen sehr einfachen Aufbau hat, und welcher den sehr hohen Anforderungen hinsichtlich der optischen Qualität und hinsichtlich der Auflösung der Justage der einzelnen Spiegelfacetten, wie sie in der Mikrolithographie, insbesondere in der EUV-Lithographie auftreten, genügen kann. It is the object of the invention to overcome the disadvantages mentioned above to avoid the state of the art and a faceted mirror to create with several mirror facets, which is a very simple structure, and which the very high requirements in terms of optical quality and in terms of Resolution of the adjustment of the individual mirror facets, as in the Microlithography, especially in EUV lithography occur, can suffice.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß jede der Spiegelfacetten einen Kugelkörper aufweist, wobei eine Spiegeloberfläche in einer Ausnehmung des Kugelkörpers angeordnet ist, und wobei die der Spiegeloberfläche abgewandte Seite des Kugelkörpers in einer Lagereinrichtung gelagert ist. According to the invention this object is achieved in that each of the Mirror facets has a spherical body, one Mirror surface is arranged in a recess of the spherical body, and the side of the mirror facing away from the mirror surface Ball body is stored in a storage facility.

Die Spiegeloberfläche ist einstückig oder auf einem Zwischenelement in den Kugelkörper eingebracht, welcher gleichzeitig als Lagerkörper für die Lagerung der Spiegelfacette in der Lagereinrichtung dient. Somit ist ein Aufbau geschaffen, welcher es erlaubt, daß jede Spiegelfacette frei und unabhängig von den anderen Spiegelfacetten einjustiert werden kann. Der Aufbau aus der einen Kugel als Spiegel- und Lagerkörper ist dabei sehr einfach und kostengünstig. The mirror surface is in one piece or on one Intermediate element introduced into the spherical body, which at the same time as a bearing body for the storage of the mirror facet in the Storage facility serves. This creates a structure which allows each mirror facet to be free and independent can be adjusted by the other mirror facets. The Structure from one ball as a mirror and bearing body very simple and inexpensive.

Außerdem wird die oben genannte Aufgabe durch eine Vorrichtung zur Justage eines derartigen Facettenspiegels für denselben Einsatzzweck gelöst, wobei an jeder der Spiegelfacetten auf der der Spiegeloberfläche abgewandten Seite des Kugelkörpers ein Hebelelement angeordnet ist, und an dem Hebelelement in einem dem Kugelkörper abgewandten Bereich Stellmittel angreifen, durch welche eine Bewegung des Kugelkörpers um seinen Mittelpunkt erzielbar ist. In addition, the above object is achieved by a device for adjusting such a facet mirror for the same Purpose solved, with each of the mirror facets on the the side of the spherical body facing away from the mirror surface Lever element is arranged, and on the lever element in one attack actuating means facing away from the spherical body, through which a movement of the spherical body around its Center is achievable.

Durch die Möglichkeit der Justage an dem Hebelelement wird im Bereich der optisch wirksamen Frontseite des Facettenspiegels keinerlei zusätzliche Aktuatorik oder Sensorik notwendig, welche den Belastungen durch die Strahlung ausgesetzt wäre. Jegliche Stellmittel lassen sich im Bereich des Hebelelements auf der der Spiegelfacette abgewandten Seite des Facettenspiegels anordnen. Neben einer reinen Dejustage ermöglichen die Stellmittel, je nach Ausführung auch ein sicheres Halten der Spiegelfacetten in ihrer vorgegebenen Position bzw. in der vorgegebenen Ausrichtung der Oberflächennormalen der Spiegeloberfläche jeder der Spiegelfacetten. Damit läßt sich mit einfachen und platzsparend konstruierbaren Ausgestaltungen ein Aufbau erreichen, welcher die oben genannten Anforderungen voll erfüllt, und welcher darüber hinaus eine hohe Langzeitstabilität und eine hohe Sicherheit gegenüber mechanischer Beeinträchtigung durch Stöße, Schwingungen und dergleichen aufweist, da über die Stellmittel das Hebelelement und damit die Spiegelfacette nicht nur justiert sondern auch festgehalten werden kann. The possibility of adjustment on the lever element is in Area of the optically effective front of the facet mirror no additional actuators or sensors required, which would be exposed to the radiation. Any adjustment means can be in the area of the lever element the side of the facet mirror facing away from the mirror facet Arrange. In addition to a pure misalignment, the Adjusting means, depending on the design, also a secure hold of the Mirror facets in their specified position or in the predetermined orientation of the surface normal of the mirror surface each of the mirror facets. It can be used with simple and A construction that can be constructed to save space achieve, which fully meets the above requirements, and which in addition a high long-term stability and a high security against mechanical impairment by shocks, vibrations and the like, because of the Adjustment means not the lever element and thus the mirror facet can only be adjusted but also held.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den restlichen Unteransprüchen sowie aus den anhand der Zeichnung nachfolgend dargestellten Ausführungsbeispielen. Es zeigt: Further advantageous embodiments of the invention result from the remaining subclaims and from those based on the Drawing shown below embodiments. It shows:

Fig. 1 eine Prinzipdarstellung einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, welche zur Belichtung von Strukturen auf mit photosensitiven Materialien beschichtete Wafer verwendbar ist; Fig. 1 is a schematic illustration of a projection exposure apparatus for microlithography, which is usable for the exposure of structures coated with photosensitive materials wafer;

Fig. 2 eine Prinzipdarstellung einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, wie sie bei der Verwendung mit Strahlung im Bereich des extremen Ultraviolett einsetzbar ist; Figure 2 is a schematic diagram of a projection exposure apparatus for microlithography, as is used for use with radiation in the extreme ultraviolet.

Fig. 3 einen möglichen Aufbau eines Facettenspiegels gemäß der Erfindung; FIG. 3 shows a possible structure of a facet mirror according to the invention;

Fig. 4 einen Querschnitt durch einen prinzipmäßigen, möglichen alternativen Aufbau eines Facettenspiegels gemäß der Erfindung; Fig. 4 is a cross-section through a moderate principle, possible alternative construction of a facet mirror of the invention;

Fig. 5 einen Querschnitt durch eine alternative Ausführungsform einer Spiegelfacette in einer alternativ ausgebildeten Lagereinrichtung; 5 shows a cross section through an alternative embodiment of a mirror facet in an alternatively constructed bearing device.

Fig. 6 eine Draufsicht auf die Spiegelfacette gemäß Fig. 5; FIG. 6 shows a top view of the mirror facet according to FIG. 5;

Fig. 7 eine Vorrichtung zur Justage der Lage einer der Spiegelfacetten in einer weiteren alternativ ausgebildeten Lagereinrichtung; Figure 7 shows a device for adjusting the position of one of the mirror facets in a further alternatively constructed bearing device.

Fig. 8 eine Ansicht eines Teils der Vorrichtung gemäß Fig. 7 von unten; Fig. 8 is a bottom view of part of the device of Fig. 7;

Fig. 9 einen Teil einer alternativen Ausgestaltung einer Vorrichtung zur Justage der Lage einer der Spiegelfacetten; Fig. 9 shows a part of an alternative embodiment of a device for adjusting the position of one of the mirror facets;

Fig. 10 einen Teil einer weiteren alternativen Ausgestaltung einer Vorrichtung zur Justage der Lage einer der Spiegelfacetten; FIG. 10 is a part of a further alternative embodiment of a device for adjusting the position of one of the mirror facets;

Fig. 11 eine Ansicht eines Teils der Vorrichtung gemäß Fig. 10 von unten; FIG. 11 is a bottom view of part of the device according to FIG. 10;

Fig. 12 eine zusätzliche alternative Ausgestaltung einer Vorrichtung zur Justage der Lage einer der Spiegelfacetten; Figure 12 is an additional alternative embodiment of a device for adjusting the position of one of the mirror facets.

Fig. 13 eine prinzipmäßige Schnittdarstellung gemäß der Linie XIII-XIII in Fig. 12; Figure 13 shows a basic section according to the line XIII-XIII in Fig. 12.;

Fig. 14 eine alternative Ausführung eines Details der Ausgestaltung der Vorrichtung gemäß Fig. 12; und FIG. 14 shows an alternative embodiment of a detail of the configuration of the device according to FIG. 12; and

Fig. 15 eine Prinzipdarstellung einer möglichen Einrichtung zur Erhöhung der Reibung der Spiegelfacette in der Lagereinrichtung. Fig. 15 is a schematic representation of a possible means for increasing the friction of the mirror facet in the bearing device.

In Fig. 1 ist eine Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithographie dargestellt. Diese dient zur Belichtung von Strukturen auf mit photosensitiven Materialien beschichtetes Substrat, welches im allgemeinen überwiegend aus Silizium besteht und als ein Wafer 2 bezeichnet wird, zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, wie z. B. Computerchips. In Fig. 1 is a projection exposure apparatus 1 is shown for microlithography. This is used to expose structures on a substrate coated with photosensitive materials, which generally consists predominantly of silicon and is referred to as a wafer 2 , for the production of semiconductor components, such as, for. B. Computer chips.

Die Projektionsbelichtungsanlage 1 besteht dabei im wesentlichen aus einer Beleuchtungseinrichtung 3, einer Einrichtung 4 zur Aufnahme und exakten Positionierung einer mit einer gitterartigen Struktur versehenen Maske, ein sogenanntes Reticle 5, durch welche die späteren Strukturen auf den Wafer 2 bestimmt werden, einer Einrichtung 6 zur Halterung, Fortbewegung und exakten Positionierung eben dieses Wafers 2 und einer Abbildungseinrichtung 7. The projection exposure system 1 essentially consists of an illumination device 3 , a device 4 for receiving and precisely positioning a mask provided with a lattice-like structure, a so-called reticle 5 , by means of which the later structures on the wafer 2 are determined, and a device 6 for holding , Locomotion and exact positioning of this wafer 2 and an imaging device 7 .

Das grundsätzliche Funktionsprinzip sieht dabei vor, daß die in das Reticle 5 eingebrachten Strukturen auf den Wafer 2 belichtet werden, insbesondere mit einer Verkleinerung der Strukturen auf ein Drittel oder weniger der ursprünglichen Größe. Die an die Projektionsbelichtungsanlage 1, insbesondere an die Abbildungseinrichtung 7, zu stellenden Anforderungen hinsichtlich der Auflösungen liegen dabei im Bereich von wenigen Nanometern. The basic functional principle provides that the structures introduced into the reticle 5 are exposed on the wafer 2 , in particular by reducing the structures to a third or less of the original size. The requirements regarding the resolutions to be imposed on the projection exposure system 1 , in particular on the imaging device 7 , are in the range of a few nanometers.

Nach einer erfolgten Belichtung wird der Wafer 2 weiterbewegt, so daß auf demselben Wafer 2 eine Vielzahl von einzelnen Feldern, jeweils mit der durch das Reticle 5 vorgegebenen Struktur, belichtet wird. Wenn die gesamte Fläche des Wafers 2 belichtet ist, wird dieser aus der Projektionsbelichtungsanlage 1 entnommen und einer Mehrzahl chemischer Behandlungsschritte, im allgemeinen einem ätzenden Abtragen von Material, unterzogen. Gegebenenfalls werden mehrere dieser Belichtungs- und Behandlungsschritte nacheinander durchlaufen, bis auf dem Wafer 2 eine Vielzahl von Computerchips entstanden ist. Aufgrund der schrittweisen Vorschubbewegung des Wafers 2 in der Projektionsbelichtungsanlage 1 wird diese häufig auch als Stepper bezeichnet. After exposure has taken place, the wafer 2 is moved on, so that a large number of individual fields, each with the structure predetermined by the reticle 5 , are exposed on the same wafer 2 . When the entire surface of the wafer 2 is exposed, it is removed from the projection exposure system 1 and subjected to a number of chemical treatment steps, generally an etching removal of material. If necessary, several of these exposure and treatment steps are carried out in succession until a large number of computer chips have been produced on the wafer 2 . Due to the gradual feed movement of the wafer 2 in the projection exposure system 1 , this is often also referred to as a stepper.

Die Beleuchtungseinrichtung 3 stellt eine für die Abbildung des Reticles 5 auf dem Wafer 2 benötigten Projektionsstrahl 8, beispielsweise Licht oder eine ähnliche elektromagnetische Strahlung, bereit. Als Quelle für diese Strahlung kann ein Laser oder dergleichen Verwendung finden. Die Strahlung wird in der Beleuchtungseinrichtung 3 über optische Elemente so geformt, daß der Projektionsstrahl 8 beim Auftreffen auf das Reticle 5 die gewünschten Eigenschaften hinsichtlich Durchmesser, Polarisation, Form der Wellenfront und dergleichen aufweist. The illumination device 3 provides a projection beam 8 , for example light or a similar electromagnetic radiation, required for imaging the reticle 5 on the wafer 2 . A laser or the like can be used as the source for this radiation. The radiation is shaped in the lighting device 3 via optical elements so that the projection beam 8 has the desired properties with regard to diameter, polarization, shape of the wavefront and the like when it hits the reticle 5 .

Über den Projektionsstrahl 8 wird eine Bild des Reticles 5 erzeugt und von der Abbildungseinrichtung 7 entsprechend verkleinert auf den Wafer 2 übertragen, wie bereits vorstehend erläutert wurde. Die Abbildungseinrichtung 7, welche auch als Objektiv bezeichnet werden könnte, besteht dabei aus einer Vielzahl von einzelnen refraktiven und/oder diffraktiven optischen Elementen, wie z. B. Linsen, Spiegeln, Prismen, Abschlußplatten und dergleichen. An image of the reticle 5 is generated via the projection beam 8 and transferred to the wafer 2 by the imaging device 7 in a correspondingly reduced size, as has already been explained above. The imaging device 7 , which could also be called an objective, consists of a large number of individual refractive and / or diffractive optical elements, such as, for. B. lenses, mirrors, prisms, end plates and the like.

Fig. 2 zeigt eine prinzipmäßige Darstellung eines Aufbaus analog zu Fig. 1, hier jedoch für die Verwendung mit einem Projektionsstrahl 8, dessen Wellenlänge im Bereich des extremen Ultraviolett (EUV) liegt. Bei diesen Wellenlängen, im allgemeinen ca. 13 nm, ist die Verwendung von refraktiven optischen Elementen nicht mehr möglich, so daß sämtliche Elemente als reflektierende Elemente ausgebildet sein müssen. Dies wird hier durch die zahlreichen Spiegel 9 dargestellt. Mit Ausnahme des Verlaufs des Projektionsstrahls 8 ist die hier dargestellte Projektionsbelichtungsanlage 1, wie sie für die EUV- Lithographie Verwendung finden kann, vergleichbar zu der in Fig. 1 bereits beschriebenen Projektionsbelichtungsanlage 1 aufgebaut. Die gleichen Vorrichtungselemente weisen dabei die gleichen Bezugszeichen auf, so daß auf nähere Erläuterungen an dieser Stelle verzichtet werden soll. Fig. 2 shows a basic representation of a structure analogous to Fig. 1, but here for use with a projection beam 8 , the wavelength of which is in the range of extreme ultraviolet (EUV). At these wavelengths, generally approx. 13 nm, the use of refractive optical elements is no longer possible, so that all elements must be designed as reflecting elements. This is represented here by the numerous mirrors 9 . With the exception of course of the projection beam 8, the projection exposure apparatus shown here 1, as it can be used for EUV lithography, is constructed similar to that already described in FIG. 1, the projection exposure apparatus 1. The same device elements have the same reference numerals, so that more detailed explanations should be omitted here.

Im Bereich der hier durch die strichpunktierte Linie angedeuteten Beleuchtungseinrichtung 3 ist dabei ein Facettenspiegel 10angeordnet, welcher eine entscheidende Bedeutung für die Qualität und die Homogenität des Projektionsstrahls 8 hat. Die nachfolgenden Erläuterungen beziehen sich auf den Aufbau eines derartigen Facettenspiegels 10, wie er ganz allgemein in der Mikrolithographie, insbesondere jedoch in dem Beleuchtungssystem 3 für die EUV-Lithographie eingesetzt werden kann. In the area of the illumination device 3 indicated here by the dash-dotted line, a facet mirror 10 is arranged, which has a decisive importance for the quality and the homogeneity of the projection beam 8 . The following explanations relate to the construction of such a facet mirror 10 , as can be used quite generally in microlithography, but in particular in the illumination system 3 for EUV lithography.

Fig. 3 zeigt beispielhaft einen möglichen Aufbau des Facettenspiegels 10 mit einzelnen Spiegelfacetten 11. Jede der Spiegelfacetten 11 weist eine Spiegeloberfläche 12 auf, welche zur Reflexion von Strahlung geeignet ist. Je nach Typ der eingesetzten Strahlung, wie z. B. Licht, UV-Strahlung, Röntgenstrahlung oder dergleichen, kann der Aufbau der Spiegeloberfläche 12 variieren. Denkbar sind hier verschiedene Aufbauten aus zum Teil vielen auf eine Substrat aufgebrachten, z. B. aufgedampften, Multilayer-Schichten. Die Spiegeloberfläche 12 kann dabei direkt auf die Spiegelfacette 11 oder auch auf ein Zwischenelement 13 (hier nicht dargestellt; in Fig. 6 erkennbar) aufgebracht werden. Die Verwendung des Zwischenelements 13 ist dabei insbesondere beim Einsatz mit sehr kurzwelliger Strahlung, z. B. der Strahlung im Bereich des extremen Ultravioletts (EUV), sehr günstig, da hier sehr hohe Anforderungen an die Oberflächenqualität der Spiegeloberfläche 12 und damit auch der Oberfläche unter dieser Spiegeloberfläche 12 gestellt werden müssen. Bei der Verwendung des Zwischenelements 13 entfällt dann aber der Aufwand, die gesamte Spiegelfacette 11 aus einem Material zu fertigen, welches eine derart gute Bearbeitung seiner Oberfläche erlaubt, wie die, die für die Reflexion von EUV-Strahlung erforderlich ist. Fig. 3 shows an example of a possible structure of the facet mirror 10 with individual reflector facets 11. Each of the mirror facets 11 has a mirror surface 12 which is suitable for reflecting radiation. Depending on the type of radiation used, such as. B. light, UV radiation, X-rays or the like, the structure of the mirror surface 12 may vary. Various constructions are conceivable, some of which are applied to a substrate, e.g. B. evaporated, multilayer layers. The mirror surface 12 can be applied directly to the mirror facet 11 or to an intermediate element 13 (not shown here; can be seen in FIG. 6). The use of the intermediate element 13 is particularly useful when used with very short-wave radiation, e.g. B. the radiation in the area of extreme ultraviolet (EUV), very cheap, since very high demands must be placed on the surface quality of the mirror surface 12 and thus also the surface under this mirror surface 12 . When using the intermediate element 13 , however, there is no need to manufacture the entire mirror facet 11 from a material which allows the surface to be processed as well as that required for the reflection of EUV radiation.

Zur Bildung des Facettenspiegels 10 sitzt dabei jede einzelne der Spiegelfacetten 11 in einer Aufnahmeöffnung 14 als Lagereinrichtung 15 für die Spiegelfacetten 11. Die Aufnahmeöffnungen 14 sind dabei in einer Trägerplatte 16 angeordnet. Die einzelnen Spiegelfacetten 11, von welchen hier nur einige dargestellt sind, haben zumindest im Bereich ihrer Auflage auf den Lagereinrichtungen 15 die Form eines Kugelkörpers 17, welcher in einer Ausnehmung 18 (hier nicht erkennbar; in Fig. 4 dargestellt) die Spiegeloberfläche 12 direkt oder auf dem Zwischenelement 13 trägt. To form the facet mirror 10 , each of the mirror facets 11 is seated in a receiving opening 14 as a bearing device 15 for the mirror facets 11 . The receiving openings 14 are arranged in a carrier plate 16 . The individual mirror facets 11, some of which are shown here only have, at least, which in a recess 18 of a spherical body 17 in the region of their support on the support means 15, the mold (not visible here; in Fig. 4 shown), the reflecting surface 12 directly or carries on the intermediate element 13 .

In Fig. 4 ist ein Teil des Facettenspiegels 10 in einer alternativen Ausführungsform dargestellt. Insbesondere die Ausgestaltung der Spiegelfacetten 11 ist hier deutlicher zu erkennen. Der Facettenspiegel 10 weist in dem hier dargestellten Ausschnitt des Ausführungsbeispiels drei der Spiegelfacetten 11 auf. Jede der Spiegelfacetten 11 ist wiederum als Kugelkörper 17 ausgebildet. In jedem der Kugelkörper 17 befindet sich die Ausnehmung 18, welche hier nur an einem der Kugelkörper 17, welcher mit einer gestrichelten Linie auf die Querschnittsform einer Kugel ergänzt wurde, mit einem Bezugszeichen versehen ist. Die verbleibende Fläche des Kugelkörpers 17 im Bereich dieser Ausnehmung 18 bildet dann die Spiegeloberfläche 12, welche in Fig. 4 jeweils zusätzlich durch ihre Oberflächennormale n symbolisiert ist. Die Ausgestaltung der Spiegeloberfläche 12 kann je nach Einsatzzweck des Facettenspiegels 10 als sphärische, plane oder asphärische Spiegeloberfläche 12 erfolgen. Für den bevorzugten Einsatzzweck in der EUV-Lithographie wird die Spiegeloberfläche 12 im allgemeinen sphärisch ausgebildet sein, wobei der Radius der Spiegeloberfläche 12 sehr viel größer als der Radius des Kugelkörpers 17 ist. In FIG. 4, a part of the facet mirror is shown in an alternative embodiment 10.. In particular, the design of the mirror facets 11 can be seen more clearly here. The facet mirror 10 has three of the mirror facets 11 in the section of the exemplary embodiment shown here. Each of the mirror facets 11 is in turn designed as a spherical body 17 . In each of the spherical bodies 17 there is the recess 18 , which here is provided with a reference symbol only on one of the spherical bodies 17 , which has been supplemented with a dashed line on the cross-sectional shape of a spherical. The remaining surface of the spherical body 17 in the region of this recess 18 then forms the mirror surface 12 , which is additionally symbolized in FIG. 4 by its surface normal n. Depending on the intended use of the facet mirror 10, the mirror surface 12 can be designed as a spherical, flat or aspherical mirror surface 12 . For the preferred application in EUV lithography, the mirror surface 12 will generally be spherical, the radius of the mirror surface 12 being very much larger than the radius of the spherical body 17 .

Jede der Spiegelfacetten 11 ist in der Lagereinrichtung 15 gelagert. Die Lagereinrichtung 15 besteht in dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel aus einer konischen Bohrung 19, die in die Trägerplatte 16 eingebracht ist. Der Kugelkörper 17 liegt in dieser konischen Bohrung 19, deren größerer Öffnungsdurchmesser dabei so angeordnet ist, daß der Kugelkörper 17 in der konischen Bohrung 19 liegt, durch diese jedoch nicht hindurchfallen kann. Im Bereich der konischen Bohrung 19 bzw. der Lagereinrichtung 15 kommt es somit zu einer kreisringförmigen Auflagefläche 20 zwischen dem Kugelkörper 17 und der Trägerplatte 16. Each of the mirror facets 11 is stored in the storage device 15 . The bearing device 15 in the exemplary embodiment shown here consists of a conical bore 19 which is introduced into the carrier plate 16 . The spherical body 17 lies in this conical bore 19 , the larger opening diameter of which is arranged such that the spherical body 17 lies in the conical bore 19 , but cannot fall through it. In the area of the conical bore 19 or the bearing device 15 , an annular support surface 20 thus occurs between the spherical body 17 and the carrier plate 16 .

Des weiteren weist der Facettenspiegel 10 in dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel Einrichtungen zum sicheren Festhalten der Kugelkörper 17 auf. Diese Einrichtungen sind gemäß dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel als eine weitere konische Bohrung 21 ausgebildet, welche in eine Halteplatte 22 eingebracht ist. Der größere Öffnungsdurchmesser der weiteren konischen Bohrung 21 ist so angeordnet, daß er der Trägerplatte 16 zugewandt ist. Furthermore, the facet mirror 10 in the exemplary embodiment shown here has devices for securely holding the spherical bodies 17 . According to the exemplary embodiment shown here, these devices are designed as a further conical bore 21 which is introduced into a holding plate 22 . The larger opening diameter of the further conical bore 21 is arranged so that it faces the carrier plate 16 .

Für die ideale Funktionsweise ist es nun besonders günstig, wenn an jeder der Spiegelfacetten 11 auf ihrer der Spiegeloberfläche 12 abgewandten Seite eine Justageeinrichtung angebracht ist. Diese Justageeinrichtung kann beispielsweise als ein mit dem Kugelkörper 17 verbundenes Hebelelement 23 ausgebildet sein. Über ein derartiges Hebelelement 23, welches durch die konische Bohrung 19 in der Trägerplatte 16 hindurchragt, kann der Facettenspiegel 10 so von hinten, also von seiner der Beleuchtung abgewandten Seite, unter Beleuchtung, also unter den bestimmungsgemäßen Betrieb vorgesehenen Bedingungen, einjustiert werden. Durch die Länge des Hebelelements 23 kann dabei das Übersetzungsverhältnis zwischen der Bewegung der Spiegeloberfläche 12 bzw. ihrer Oberflächennormalen n und der Auslenkung des Hebelelements 23 eingestellt werden. Besonders sinnvoll ist es dabei, wenn das Hebelelement 23 fluchtend mit der Oberflächennormalen n der Spiegeloberfläche 12 ausgebildet ist, so daß die Bewegungsrichtungen der Oberflächennormalen n und des Hebelelements 23 entgegengesetzt parallel verlaufen. Eine sehr einfache und leicht zu verstehende Einstellbarkeit ist damit gewährleistet. Die dabei erreichte Stellgenauigkeit für die Kippwinkel der Spiegelfacetten liegt im Sekundenbereich. For the ideal mode of operation, it is now particularly favorable if an adjustment device is attached to each of the mirror facets 11 on its side facing away from the mirror surface 12 . This adjustment device can be designed, for example, as a lever element 23 connected to the spherical body 17 . Via such a guide member 23 which extends through the conical bore 19 in the support plate 16, the facet mirror 10 can be adjusted so from the rear, ie from its lighting side facing away, under illumination, provided so under the intended operating conditions. The length of the lever element 23 can be used to set the transmission ratio between the movement of the mirror surface 12 or its surface normal n and the deflection of the lever element 23 . It is particularly useful if the lever element 23 is in alignment with the surface normal n of the mirror surface 12 , so that the directions of movement of the surface normal n and the lever element 23 run in parallel in opposite directions. A very simple and easy to understand adjustability is guaranteed. The positioning accuracy achieved for the tilt angle of the mirror facets is in the range of seconds.

Sehr günstig ist es dann, wenn über entsprechende Kräfte auf der dem Kugelkörper 17 abgewandten Seite des Hebelelements 23 eine Justage der Lage der Spiegeloberfläche 12 erfolgt. Diese Kräfte können beispielsweise über Aktuatoren, welche hier durch die Pfeile A prinzipmäßig angedeutet sind, auf das Hebelelement 23 aufgebracht werden. Als Aktuatoren sind dabei alle bekannten Formen von Aktuatoren bzw. aktiven oder passiven Stellmitteln, welche beispielsweise pneumatische, hydraulische, piezoelektrische, magnetische oder mechanische Kräfte nutzen, denkbar. It is very favorable if the position of the mirror surface 12 is adjusted via corresponding forces on the side of the lever element 23 facing away from the spherical body 17 . These forces can be applied to the lever element 23 , for example, via actuators, which are indicated here in principle by the arrows A. All known forms of actuators or active or passive actuators, which use, for example, pneumatic, hydraulic, piezoelectric, magnetic or mechanical forces, are conceivable as actuators.

Bei der Montage und Justage eines derartigen Facettenspiegels 10 wird nun so vorgegangen, daß die Spiegelfacetten 11 in die konischen Bohrungen 19 der Trägerplatte 16 eingelegt werden. Danach wird die Halteplatte 22 mit ihren konischen Bohrungen 21 über den Spiegelfacetten 11 positioniert und abgesenkt. Die beiden Platten 16, 22 liegen dann lose aufeinander, so daß die Spiegelfacetten 11 über die Hebelelemente 23 hinsichtlich der Ausrichtung der Oberflächennormalen n der Spiegeloberfläche 12 noch verändert werden können. Unter Beleuchtung des gesamten Facettenspiegels 10 wird dann die Justage jeder einzelnen Spiegeloberfläche 12 des Facettenspiegels 10 über entsprechende Krafteinwirkungen auf das Hebelelement 23 durchgeführt. Sobald die Lage aller Spiegelfacetten 11 in der gewünschten Art und Weise einjustiert ist, wird durch ein Gegeneinanderdrücken der ersten und der zweiten Platte 16, 22 diese Lage fixiert. Besonders günstig ist es dabei, wenn die Trägerplatte 16 aus einem Material ausgebildet ist, welches deutlich weicher als das Material der Kugelkörper 17 ist. Beispielsweise wäre hier eine Materialkombination aus einem keramischen oder kristallinen Material für die Kugelkörper 17 und einem weichen Metall, wie Messing, Kupfer oder Aluminium, für die Trägerplatte 16 denkbar. Im Vergleich dazu sollte die Halteplatte 22 aus einem Material bestehen, welches etwas härter als das Material der Trägerplatte 16 ist, welches jedoch auch deutlich weicher als das Material der Kugelkörper 17 ausgebildet ist. So wird beim Zusammendrücken der beiden Platten 16, 22 sichergestellt, daß die Kugelkörper 17 leicht in die Trägerplatte 16 eingedrückt werden, und daß durch Reibungskräfte dann die Fixierung ihrer Position (auch bei Vibrationen, Schock oder dergleichen) sichergestellt ist. When assembling and adjusting such a facet mirror 10 , the procedure is now such that the mirror facets 11 are inserted into the conical bores 19 of the carrier plate 16 . Thereafter, the holding plate 22 with its conical bores 21 is positioned over the mirror facets 11 and lowered. The two plates 16, 22 then lie loosely on one another, so that the mirror facets 11 on the lever members 23 with respect to the orientation of the surface normal n of the mirror surface 12 can still be changed. Under illumination of the entire facet mirror 10, the adjustment of each mirror surface is then carried out for 12 of the facet mirror 10 via respective forces acting on the lever member 23rd As soon as the position of all mirror facets 11 has been adjusted in the desired manner, this position is fixed by pressing the first and second plates 16 , 22 against one another. It is particularly advantageous if the carrier plate 16 is made of a material that is significantly softer than the material of the spherical bodies 17 . For example, a material combination of a ceramic or crystalline material for the spherical bodies 17 and a soft metal, such as brass, copper or aluminum, would be conceivable for the carrier plate 16 . In comparison, the holding plate 22 should consist of a material which is somewhat harder than the material of the carrier plate 16 , but which is also significantly softer than the material of the spherical bodies 17 . Thus, when the two plates 16 , 22 are pressed together, it is ensured that the spherical bodies 17 are pressed slightly into the carrier plate 16 , and that their position (also in the case of vibrations, shock or the like) is then ensured by frictional forces.

Sollte die endgültige Position der Spiegelfacette 11 bzw. die Ausrichtung ihrer Oberflächennormalen n beim Zusammenpressen der Platten 16, 22, welches beispielsweise durch ein Verschrauben der beiden Platten 16, 23 miteinander erfolgen kann, eine Dejustage erfahren haben, so kann durch ein Lösen dieser Verschraubung und durch ein Auseinanderdrücken der beiden Platten 16, 22, z. B. durch dazwischen eingebrachte Druckluft, ein Zustand erreicht werden, in dem die Reibung zwischen der Trägerplatte 16 und den Kugelkörpern 17 so weit verringert wird, daß eine erneute Justage möglich ist, ehe die beiden Platten 16, 22 dann nach der erfolgten Justage wieder gegeneinander gedrückt bzw. miteinander verschraubt werden. If the final position of the mirror facet 11 or the orientation of its surface normal n has been misaligned when the plates 16 , 22 are pressed together, which can be done, for example, by screwing the two plates 16 , 23 together, then loosening this screw and by pushing the two plates 16 , 22 , e.g. B. by intervening compressed air, a state can be achieved in which the friction between the support plate 16 and the spherical bodies 17 is reduced so much that a new adjustment is possible before the two plates 16 , 22 then again against each other after the adjustment be pressed or screwed together.

Zur Sicherung der endgültig eingestellten Position der einzelnen Spiegelfacetten könnten diese auch zusätzlich noch mit zumindest einer der Platten 16, 22 verklebt oder verlötet werden. To secure the finally set position of the individual mirror facets, these could additionally be glued or soldered to at least one of the plates 16 , 22 .

In Fig. 5 ist eine alternative Ausführungsform der Spiegelfacette 11 sowohl hinsichtlich der Spiegelfacette 11 selbst als auch hinsichtlich der Lagereinrichtungen 15 dargestellt. Die Spiegelfacette 11 besteht auch hier wieder aus dem Kugelkörper 17 und ist mit dem Hebelelement 23 zur Justage versehen. Im Gegensatz zu den bisher dargestellten Spiegelfacetten 11 ist hier jedoch das oben bereits erwähnte Zwischenelement 13 zu erkennen, welches die Spiegeloberfläche 12 trägt, und welches in die Ausnehmung 18 des Kugelkörpers 17 eingebracht ist. Das Zwischenelement 13, welches im allgemeinen aus einem Spiegelsubstrat bestehen wird, kann dabei über herkömmliche Verfahren in den Bereich der Ausnehmung 18 in dem Kugelkörper 17 eingebracht werden. Besonders sinnvoll wären sicherlich solche Verfahren, wie Ansprengen, Verkleben oder Verlöten, so daß von der Spiegeloberfläche 12 nicht reflektierte und im Bereich des Zwischenelements 13 absorbierte Strahlung, welche sich in Wärme umwandelt, ideal an den Kugelkörper 17 abgeführt werden kann. Dadurch wird eine Beeinträchtigung der Form der Spiegeloberfläche 12 durch thermische Spannungen und dergleichen minimiert. In Fig. 5, an alternative embodiment of the mirror facet 11 of the mirror facet 11 itself shown and with respect to the bearing means 15 with respect to both. The mirror facet 11 again consists of the spherical body 17 and is provided with the lever element 23 for adjustment. In contrast to the mirror facets 11 shown so far, however, the above-mentioned intermediate element 13 can be seen here, which carries the mirror surface 12 and which is introduced into the recess 18 of the spherical body 17 . The intermediate element 13 , which will generally consist of a mirror substrate, can be introduced into the region of the recess 18 in the spherical body 17 using conventional methods. Methods such as wringing, gluing or soldering would certainly be particularly useful, so that radiation which is not reflected by the mirror surface 12 and is absorbed in the area of the intermediate element 13 and converts to heat can be ideally dissipated to the spherical body 17 . As a result, impairment of the shape of the mirror surface 12 by thermal stresses and the like is minimized.

Der Kugelkörper 17 der Spiegelfacette 11 liegt in dem in Fig. 5 dargestellten Ausführungsbeispiel nun auf einer Lagereinrichtung 15 auf, mit welcher der Kugelkörper 17 einen wenigstens annähernd punktförmigen Kontakt im Bereich von drei Lagerelementen 24, welche beispielsweise als Kugeln ausgebildet sein können, ausbildet. In the exemplary embodiment shown in FIG. 5, the spherical body 17 of the mirror facet 11 now rests on a bearing device 15 , with which the spherical body 17 forms an at least approximately point-like contact in the region of three bearing elements 24 , which can be designed, for example, as spheres.

In Fig. 6 ist gemäß einer Draufsicht dieselbe Spiegelfacette 11 nochmals dargestellt. Hier ist deutlich zu erkennen, daß die drei Auflagekörper 24 als echte Dreipunktlagerung ausgebildet und in einem Winkel von jeweils 120° zueinander angeordnet sind. Die besonders günstigen Eigenschaften derartiger Dreipunktlagerungen sind dabei an sich bekannt und werden bei der durch die Fig. 5 und 6 dargestellten Ausführungsform analog zu bekannten derartigen Lagereinrichtungen 15 genutzt. In Fig. 6 a plan view of the same mirror facet 11 is shown again in accordance with. It can be clearly seen here that the three support bodies 24 are designed as real three-point bearings and are arranged at an angle of 120 ° to one another. The particularly favorable properties of such three-point bearings are known per se and are used in the embodiment shown by FIGS. 5 and 6 analogously to known bearing devices 15 of this type.

In der Fig. 7 ist eine Vorrichtung 25 zur Justage der Lage einer der Spiegelfacetten 11 in der Trägerplatte 16 dargestellt. Außerdem ist in der Fig. 7 eine weitere Ausführungsform der Lagereinrichtungen 15 zu erkennen. Die Aufnahmeöffnung 14 ist in dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel als Kugelkalotte 26 ausgebildet, welche in ihrem Durchmesser dem Durchmesser des Kugelkörpers 17 der Spiegelfacette 11 entspricht. In FIG. 7 shows a device 25 for adjusting the position of one of the mirror facets 11 in the support plate 16. A further embodiment of the bearing devices 15 can also be seen in FIG. 7. In the exemplary embodiment shown here, the receiving opening 14 is designed as a spherical cap 26 whose diameter corresponds to the diameter of the spherical body 17 of the mirror facet 11 .

Des weiteren sind die bisher nur über die Pfeile A prinzipmäßig angedeuteten Aktuatoren in den nun folgenden Ausführungsbeispielen als die konkreten Stellmittel 27 dargestellt. Die Vorrichtung 25 umfaßt gemäß dem Ausführungsbeispiel der Fig. 7 und 8 eines der, hier als Schraube ausgebildetes Stellmittel 27, ein als Hebel 28 ausgebildetes Getriebeelement sowie ein Federmittel 29. Dieser soeben beschriebene Aufbau aus Stellmittel 27, Hebel 28 und Federmittel 29 ist dabei gemäß dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel dreifach vorhanden, wie dies in der Ansicht gemäß Fig. 8 zu erkennen ist. Furthermore, the actuators hitherto only indicated in principle by the arrows A are shown in the following exemplary embodiments as the concrete actuating means 27 . According to the exemplary embodiment in FIGS. 7 and 8, the device 25 comprises one of the adjusting means 27 , here designed as a screw, a gear element designed as a lever 28 , and a spring means 29 . This structure of actuating means 27 , lever 28 and spring means 29 just described is present in triplicate according to the exemplary embodiment shown here, as can be seen in the view according to FIG. 8.

In Fig. 7 ist die Kraftwirkung des Stellmittels über den Kraftpfeil F_s dargestellt. Diese Stellkraft s wirkt auf den Hebel 28; in dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel auf den längeren Arm des Hebels 28. Der Hebel 28 kann sich dabei um einen Drehpunkt 30, welcher gegenüber der Trägerplatte 16 feststehend ist, drehen. Der kürzere Schenkel des Hebels 28, welcher mit dem Federmittel 29 verbunden ist wird daraufhin eine Bewegung ausführen, welche das Federmittel spannt, so daß sich das Hebelelement 23 der Spiegelfacette 11 in Richtung des Hebels 28 bewegt. Die Spiegelfacette 11 wird also ausgelenkt. In Fig. 7, the force effect of the actuator via the force arrow F _s is shown. This actuating force s acts on the lever 28 ; in the embodiment shown here on the longer arm of the lever 28 . The lever 28 can rotate about a pivot point 30 , which is fixed relative to the support plate 16 . The shorter leg of the lever 28 , which is connected to the spring means 29 , will then execute a movement which tensions the spring means, so that the lever element 23 of the mirror facet 11 moves in the direction of the lever 28 . The mirror facet 11 is thus deflected.

Dieser Aufbau ist in Fig. 8 nochmals besser zu erkennen. Hier sind die jeweiligen Kräfte F₁, F₂ und F₃ eingezeichnet welche sich aufgrund einer wie in dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 7 angreifenden Stellkraft F_s einstellen werden. Durch die Betätigung der Stellmittel 27, welche ebenfalls dreimal vorhanden sind, kann dann die exakte Position der Spiegelfacette 11 hinsichtlich der Ausrichtung der Oberflächennormalen n der Spiegeloberfläche 12 erreicht werden. This structure can be seen better in FIG. 8. The respective forces F ₁ , F ₂ and F _{3 are} shown here, which will occur due to an actuating force F _s acting as in the exemplary embodiment according to FIG. 7. By actuating the adjusting means 27 , which are also provided three times, the exact position of the mirror facet 11 with respect to the alignment of the surface normals n of the mirror surface 12 can then be achieved.

In Fig. 9 ist in einer stark vereinfachten und schematisierten Darstellung ein weiteres Funktionsprinzip einer alternativen Ausführungsform der Vorrichtung 25 zu erkennen. Auch hier ist ein Hebel 28 vorhanden, welcher sich um einen gegenüber der nicht dargestellten Trägerplatte 16 festen Drehpunkt 30 drehen kann. Der Hebel 28 wird wiederum durch ein an sich beliebiges Stellmittel 27, welches hier lediglich durch die Stellkraft F_s angedeutet ist betätigt. Der Hebel dreht sich, wie bereits erwähnt, um den Drehpunkt 30 und rückt mit einem in dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel als Druckfedermittel realisierten Federmittel 29 gegen das Hebelelement 23 des Facettenspiegels 11. Durch den Aufbau kann dabei eine vergleichbare Justagemöglichkeit erzielt werden, wie dies oben bei der Beschreibung der Fig. 7 und 8 bereits dargestellt wurde. A further simplified operating principle of an alternative embodiment of the device 25 can be seen in FIG. 9 in a highly simplified and schematic representation. Here, too, there is a lever 28 which can rotate about a pivot point 30 which is fixed with respect to the carrier plate 16 , which is not shown. The lever 28 is in turn actuated by an actuating means 27 which is arbitrary per se and which is only indicated here by the actuating force F _s . As already mentioned, the lever rotates about the pivot point 30 and, with a spring means 29 implemented in the exemplary embodiment shown here as a compression spring means, moves against the lever element 23 of the facet mirror 11 . A comparable adjustment possibility can be achieved by the construction, as was already shown above in the description of FIGS. 7 and 8.

In Fig. 10 ist eine weitere alternative Ausführungsform des Aufbaus gemäß Fig. 9 dargestellt, wobei hier zusätzlich auf eine Miniaturisierung der gesamten Vorrichtung 25 geachtet wurde. Auch hier ist der Aufbau den oben beschriebenen Ausführungsformen vergleichbar, wobei die Ausführung des Hebels 28 als rechteckiger Block realisiert ist. Dieser rechteckige Block, welcher den Hebel 28 darstellt, läßt sich dabei so klein ausbilden, daß er unter die Projektionsfläche des größten Durchmessers der Spiegelfacette 11 paßt, die Vorrichtung 25 also einen extrem kleinen Bauraum benötigt. FIG. 10 shows a further alternative embodiment of the structure according to FIG. 9, with miniaturization of the entire device 25 also being taken into account here. Here, too, the structure is comparable to the above-described embodiments, the lever 28 being embodied as a rectangular block. This rectangular block, which represents the lever 28 , can be made so small that it fits under the projection surface of the largest diameter of the mirror facet 11 , so that the device 25 requires an extremely small installation space.

Der Aufbau gemäß Fig. 10 gehorcht dabei demselben Funktionsprinzip, wie der oben bereits beschriebene Aufbau gemäß Fig. 9, da auch dieser über ein als Druckfedermittel ausgebildetes Federmittel 29 verfügt. The structure according to FIG. 10 obeys the same functional principle as the structure according to FIG. 9 already described above, since this also has a spring means 29 designed as a compression spring means.

Prinzipiell ist es jedoch denkbar, daß beim Einsatz eines derartigen Aufbaus, wie er in Fig. 9 und 10 dargestellt ist, mit lediglich zwei Stellmitteln bzw. Stellkräften F_s auszukommen ist. Fig. 11 zeigt einen derartigen Aufbau. In der Ansicht gemäß dem Pfeil XI in Fig. 10 sind in Fig. 11 wieder die beiden Hebel 28 zu erkennen. Da die Kraftwirkung der Stellkraft F_s senkrecht auf der Zeichenebene steht, werden hier die daraus resultierenden Kräfte F_X und F_Y, welche durch den Hebel 28 auf das Hebelelement 23 ausgeübt werden, dargestellt. Die Wirkungen dieser beiden Kräfte stehen aufgrund der Ausrichtung der Hebel 28 in einem Winkel von 90° zueinander, so daß mit dem einen Stellmittel 27 (hier nicht dargestellt) eine Bewegung des Hebelelements 23 in x-Richtung (F_X) und mit dem anderen der Stellmittel 27 (hier nicht dargestellt) eine Bewegung des Hebelelements 23 in y-Richtung (F_Y) realisiert werden kann. In principle, however, it is conceivable that when using such a construction, as shown in FIGS. 9 and 10, only two adjusting means or adjusting forces F _s can be used. Fig. 11 shows such a structure. In the view according to arrow XI in FIG. 10, the two levers 28 can again be seen in FIG. 11. Since the force effect of the actuating force F _{s is} perpendicular to the plane of the drawing, the resulting forces F _X and F _Y , which are exerted on the lever element 23 by the lever 28 , are shown here. The effects of these two forces are due to the alignment of the levers 28 at an angle of 90 ° to each other, so that with one adjusting means 27 (not shown here) a movement of the lever element 23 in the x direction (F _X ) and with the other the Adjustment means 27 (not shown here) a movement of the lever element 23 in the y direction (F _Y ) can be realized.

Auf das Druckfedermittel 29 könnte dabei bei dem hier dargestellten Aufbau auch verzichtet werden, so daß es auch denkbar wäre, daß anstatt des Hebels 28 in Richtung der dargestellten Kräfte F_X und F_Y mit eigenen Stellmitteln angegriffen werden könnte. In einem Winkel von jeweils 135° zu den Kräften F_X und F_Y befindet sich bei dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel ein Federmittel 31, welches eine Kraftwirkung F_V in Richtung des Mittelpunkts des Hebelelements 23 ausübt. Bei diesem Federmittel 31 könnte es sich beispielsweise um eine Stabfeder handeln, welche in einem leichten Winkel gegen die Parallele zu dem Hebelelement 23 gekippt verläuft, und welche das Hebelelement 23 so gegen die beiden Hebel 28 drückt. Bei einen derartigen Aufbau aus den als Stellkräfte dienenden Kräften F_X und F_Y und der Vorspannkraft F_V durch das Federmittel 31 entsteht ein Aufbau, bei welchem die Stellmittel 27 eine Verstellung des Hebelelements 23 direkt in kartesischen Koordinaten erlauben. The compression spring means 29 could also be dispensed with in the construction shown here, so that it would also be conceivable that instead of the lever 28 in the direction of the forces F _X and F _{Y shown} , it could be attacked with its own adjusting means. At an angle of 135 ° to the forces F _X and F _Y there is a spring means 31 in the embodiment shown here, which exerts a force effect F _V in the direction of the center of the lever element 23 . This spring means 31 could, for example, be a bar spring which is tilted at a slight angle against the parallel to the lever element 23 and which thus presses the lever element 23 against the two levers 28 . With such a structure consisting of the forces F _X and F _Y serving as actuating forces and the preload force F _V by the spring means 31 , a structure is created in which the actuating means 27 allow the lever element 23 to be adjusted directly in Cartesian coordinates.

In Fig. 12 ist eine weitere alternative Ausführungsform der Vorrichtung 25 dargestellt. Bei diesem Aufbau der Vorrichtung 25 ist das der Spiegeloberfläche 12 abgewandte Ende des Hebelelements 23 mit einem Konus 32 versehen, welcher sich in dem hier dargestellten Fall in Richtung der Spiegeloberfläche 12 verjüngt. Parallel zu dem Hebelelement 23 des Facettenspiegels 11 verläuft hier eine Stellschraube 33 welche im Bereich ihres Schraubenkopfes 34 ballig ausgestaltet ist. Die ballige Fläche des Schraubenkopfes 34 steht dabei in Kontakt mit dem Konus 32, welcher auf dem Hebelelement 23 des Facettenspiegels 11 angeordnet ist. Durch ein Verstellen der Stellschraube 33 wandert die Anlagefläche zwischen dem balligen Schraubenkopf 34 und dem Konus 32 an dem Konus entlang in Richtung der Spiegeloberfläche 12 oder in die entgegengesetzte Richtung. A further alternative embodiment of the device 25 is shown in FIG . In this construction of the device 25 , the end of the lever element 23 facing away from the mirror surface 12 is provided with a cone 32 , which tapers in the direction shown here in the direction of the mirror surface 12 . Parallel to the lever element 23 of the facet mirror 11 here is an adjusting screw 33 which is spherical in the area of its screw head 34 . The spherical surface of the screw head 34 is in contact with the cone 32 , which is arranged on the lever element 23 of the facet mirror 11 . By adjusting the set screw 33 , the contact surface moves between the spherical screw head 34 and the cone 32 along the cone in the direction of the mirror surface 12 or in the opposite direction.

Um mit möglichst wenig Bauteilen auszukommen wird zum Einstellen der Position der Spiegelfacette 11 bzw. der Oberflächennormalen n ihrer Spiegeloberfläche 12 ein Aufbau gewählt, welcher prinzipiell dem in Fig. 11 gezeigten Aufbau entspricht. Dieser ist in der Fig. 13 angedeutet und weist zwei der Stellschrauben 33 auf. Diesen Stellschrauben 33 ist dann ein entsprechendes Federmittel 31 zur Erzeugung einer Vorspannkraft F_V auf das Hebelelement 23 entgegengesetzt. Die Wirkungsweise und die Anordnung ist vergleichbar zu der Wirkungsweise in Fig. 11. Mit einem minimalen Aufwand an Bauteilen läßt sich so eine direkte Einstellung in kartesischen Koordinaten bewirken. In order to get by with as few components as possible, to set the position of the mirror facet 11 or the surface normal n of its mirror surface 12, a structure is selected which corresponds in principle to the structure shown in FIG. 11. This is indicated in FIG. 13 and has two of the set screws 33 . These adjusting screws 33 are then opposed by a corresponding spring means 31 for generating a pretensioning force F _V on the lever element 23 . The mode of operation and the arrangement are comparable to the mode of operation in FIG. 11. A direct setting in Cartesian coordinates can thus be effected with a minimal expenditure on components.

Es ist dabei unerheblich inwieweit die Schraube 33 den balligen Schraubenkopf 34 trägt und der Konus 32 an dem Hebelelement 23 angebracht ist. Es wäre durchaus auch denkbar dies umzukehren, so daß an dem Hebelelement 23 eine ballig ausgebildete Fläche 32' auf eine korrespondierende konische Fläche 34' im Bereich der Stellschraube 33 trifft, wie dies in Fig. 14 prinzipmäßig angedeutet ist. Auch die Ausrichtung des Konus 32 bzw. 34', also die Tatsache, daß sich dieser in Richtung der Spiegeloberfläche 12 verjüngt oder verbreitert spielt für die Funktionsweise prinzipiell keine Rolle. It is irrelevant to what extent the screw 33 carries the spherical screw head 34 and the cone 32 is attached to the lever element 23 . It would also be conceivable to reverse this, so that a spherical surface 32 'on the lever element 23 meets a corresponding conical surface 34 ' in the area of the adjusting screw 33 , as is indicated in principle in FIG. 14. The orientation of the cone 32 or 34 ', that is to say the fact that it tapers or widens in the direction of the mirror surface 12 , is in principle irrelevant to the mode of operation.

Der Aufbau gemäß den Fig. 12, 13 und 14 ist dabei ebenso wie der Aufbau gemäß Fig. 10 extrem platzsparend, so daß die einzelnen Spiegelfacetten 11 in dem Facettenspiegel 10 trotz freier Justierbarkeit Ihrer Oberflächennormalen n sehr direkt plaziert werden können. The structure according to FIGS. 12, 13 and 14, like the structure according to FIG. 10, is extremely space-saving, so that the individual mirror facets 11 can be placed very directly in the faceted mirror 10 despite the free adjustability of their surface normals n.

In Fig. 15 ist nun eine prinzipmäßig angegebene Möglichkeit dargestellt, mittels welcher dafür gesorgt werden kann, daß die zwischen dem Kugelkörper 17 und der Lagereinrichtung 15, in den zuletzt dargestellten Ausführungsbeispielen jeweils der Kugelkalotte 26 eine etwas höhere Reibung einstellt, so daß die einmal eingestellte Position jeder der Spiegelfacetten 11 sicher gehalten wird. In dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel ist als derartige Einrichtung zum Festhalten der Spiegelfacette 11 ein Federmittel 35 zwischen dem Konus 32 und der Trägerplatte 16 angebracht. Durch dieses Federmittel 35, welches hier als Druckfedermittel ausgebildet ist, wird der Konus 32 und damit das mit ihm verbundene Hebelelement 23 mit einer Kraft beaufschlagt, so daß sich der Kugelkörper 17 fest gegen die Kugelkalotte 26 preßt und die zwischen diesen beiden Elementen auftretende Reibung entsprechend erhöht wird. Die Spiegelfacette 11 wird so auch bei Schwingungen und/oder Stößen sicher in ihrer Position gehalten. In Fig. 15, a possibility is shown in principle, by means of which it can be ensured that the spherical cap 26 between the spherical body 17 and the bearing device 15 , in the last illustrated exemplary embodiments, sets a somewhat higher friction, so that the once set Position of each of the mirror facets 11 is held securely. In the exemplary embodiment shown here, a spring means 35 is attached between the cone 32 and the carrier plate 16 as such a device for holding the mirror facet 11 . By this spring means 35 , which is designed here as a compression spring means, the cone 32 and thus the lever element 23 connected to it is subjected to a force so that the spherical body 17 presses firmly against the spherical cap 26 and the friction occurring between these two elements accordingly is increased. The mirror facet 11 is thus securely held in its position even in the event of vibrations and / or shocks.

Claims

1. facet mirror ( 10 ) with a plurality of mirror facets ( 11 ), which is used in lighting devices ( 3 ) for projection exposure systems ( 1 ) in microlithography, in particular in microlithography using radiation in the range of extreme ultraviolet, at least some of which Mirror facets ( 11 ) has a spherical body ( 17 ), a mirror surface ( 12 ) being arranged in a recess ( 18 ) of the spherical body ( 17 ), and the side of the spherical body ( 17 ) facing away from the mirror surface ( 12 ) in a bearing device ( 15 ) is stored.

2. Facet mirror according to claim 1, characterized in that a lever element ( 23 ) is arranged on at least part of the mirror facets ( 11 ) on the side of the spherical body ( 17 ) facing away from the mirror surface ( 12 ).

3. facet mirror according to claim 2, characterized in that the lever element ( 23 ) and the spherical body ( 17 ) are integrally formed.

4. facet mirror according to claim 2 or 3, characterized in that the lever element ( 23 ) with the surface normal (s) of the mirror surface ( 12 ) is formed in alignment.

5. faceted mirror according to one of claims 1 to 4, characterized in that the mirror surface ( 12 ) is introduced directly into the recess of the spherical body ( 17 ).

6. faceted mirror according to one of claims 1 to 4, characterized in that the mirror surface ( 12 ) is applied to an intermediate element ( 13 ) made of substrate, which is inserted into the recess ( 18 ) of the spherical body ( 17 ) and connected to it.

7. facet mirror according to claim 6, characterized in that the intermediate element ( 13 ) in the recess ( 18 ) of the spherical body ( 17 ) on the spherical body ( 17 ) is blasted.

8. faceted mirror according to one of claims 1 to 7, characterized in that the bearing device ( 15 ) as a diameter with the diameter of the spherical body ( 17 ) corresponding spherical cap ( 26 ) is formed.

9. facet mirror according to one of claims 1 to 7, characterized in that the bearing device is designed such that the spherical body ( 17 ) with the bearing device ( 15 ) forms an at least approximately annular bearing surface ( 20 ).

10. faceted mirror according to claim 9, characterized in that the bearing device ( 15 ) as a conical opening in the direction of the mirror surface ( 12 ) opening ( 19 ) is formed in a carrier plate ( 16 ).

11. facet mirror according to one of claims 1 to 7, characterized in that the bearing device is designed such that the spherical body ( 17 ) with the bearing device ( 15 ) forms exactly three at least approximately punctiform support surfaces (support elements 24 ).

12. Facet mirror according to one of claims 1 to 11, characterized characterized in that each of the spherical bodies via spring means with a force towards the bearing device is acted upon.

13. Device ( 15 ) for adjusting the mirror facets ( 11 ) of a facet mirror ( 10 ), which is used in lighting devices ( 3 ) for projection exposure systems ( 1 ) in microlithography, in particular in microlithography using radiation in the range of extreme ultraviolet Each of the mirror facets ( 11 ) consists of a spherical body ( 17 ), a mirror surface ( 12 ) being arranged in a recess ( 18 ) in the spherical body ( 17 ), the side of the spherical body ( 17 ) facing away from the mirror surface ( 12 ). is mounted in a bearing device ( 15 ), a lever element ( 23 ) being arranged on each of the mirror facets ( 11 ) on the side of the spherical body ( 17 ) facing away from the mirror surface ( 12 ), and wherein on one side of the lever element ( 23 ) spherical bodies (17) facing away from the area detecting means (a, 27) engage, by means of which ore movement of the spherical body (17) about its center is playable.

14. The apparatus according to claim 13, characterized in that the adjusting means ( 27 ) on gear elements (lever 28 ) on the lever element ( 23 ) attack.

15. The apparatus according to claim 14, characterized in that the gear elements are designed as levers ( 28 ).

16. The apparatus according to claim 13, 14 or 15, characterized in that the actuating means ( 27 ) via spring means ( 29 ) act on the lever element ( 23 ).

17. The apparatus according to claim 16, characterized in that three adjusting means ( 27 ) act on the lever element ( 23 ) that their force effects (F ₁ , F ₂ , F ₃ ) at an angle of 120 ° to each other and at least approximately perpendicular to a longitudinal axis of the (in a neutral position) lever element ( 23 ).

18. Device according to one of claims 13 to 16, characterized in that two adjusting means ( 27 ) act on the lever element ( 23 ) so that their force effects (F _X , F _Y ) at an angle of 90 ° to each other and at least approximately perpendicular to the longitudinal axis of the (in a neutral position) lever element ( 23 ), the lever element ( 23 ) being pressed by a spring means ( 31 ) at an angle of 135 ° to the force effects (F _X , F _Y ) against their points of attack is.

19. Device according to one of claims 13 to 18, characterized in that the adjusting means (A, 27 ) are designed as adjusting screws.

20. Device according to one of claims 13 to 18, characterized in that the adjusting means (A, 27 ) are designed as actuators.

21. Device according to one of claims 13 to 18, characterized in that the adjusting means are movable in one direction at least approximately parallel to the lever element ( 23 ) aligned in the basic position, and via a contact between a spherical surface and a conical surface on the lever element ( 23 ) attack.

22. The apparatus according to claim 21, characterized in that the adjusting means are designed as adjusting screws ( 33 ) which are spherical in the area in which they are in contact with the lever element ( 23 ), the lever element ( 23 ) in the contact area has a cone ( 32 ) tapering in the direction of the mirror.

23. The device according to claim 21, characterized in that the adjusting means are designed as adjusting screws ( 33 ) which, in the region in which they are in contact with the lever element ( 23 ), have a cone ( 34 ') which tapers in the direction of the mirror. ), the lever element ( 23 ) being spherical in the contact area.