DE10204249A1

DE10204249A1 - Mirror facet for a faceted mirror

Info

Publication number: DE10204249A1
Application number: DE2002104249
Authority: DE
Inventors: Frank Melzer
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2002-02-02
Filing date: 2002-02-02
Publication date: 2003-08-14
Also published as: WO2003067288A1; AU2003205668A1

Abstract

Eine Spiegelfacette (11) dient zum Aufbau eines wenigstens einen dieser Spiegelfacetten (11) umfassenden Facettenspiegels (10). Der Facettenspiegel (10) ist für den Einsatz in Projektionsbelichtungsanlagen in der Mikrolithographie, insbesondere in der EUV-Lithographie, vorgesehen. Die Spiegelfacette (11) weist dabei folgende Eigenschaften auf: DOLLAR A - Eine Spiegeloberfläche (12) der Spiegelfacette (11) ist auf einem Trägerelement (14) angeordnet; DOLLAR A - das Trägerelement (14) weist eine kardanische Aufhängung für den Teil (17) des Trägerelements (14) auf, auf welchem die Spiegeloberfläche (12) angeordnet ist; DOLLAR A - über Stellmittel (19, 20, 25, 26) ist die Winkellage der Spiegeloberfläche (12) in einer Ebene wenigstens annähernd senkrecht zur optischen Achse (18) der Spiegeloberfläche (12) in wenigstens einer Raumrichtung einstellbar; DOLLAR A - die Stellmittel (19, 20, 25, 26) wirken über Getriebeelemente (21, 22, 24) auf wenigstens einen Teil (A) des Trägerelements (14); DOLLAR A - die Stellmittel (19, 20, 25, 26) sind von der der Spiegeloberfläche (12) abgewandten Seite der Spiegelfacette (11) aus zugänglich; und DOLLAR A - das Trägerelement (14), die Stellmittel (19, 20, 25, 26) und die Getriebeelemente (21, 22, 24) liegen alle unterhalb einer wenigstens annähernd senkrecht zur optischen Achse (18) der Spiegeloberfläche (12) stehenden Projektionsfläche des Trägerelements (14) im Bereich der Spiegeloberfläche (12).A mirror facet (11) is used to build up a facet mirror (10) comprising at least one of these mirror facets (11). The facet mirror (10) is intended for use in projection exposure systems in microlithography, in particular in EUV lithography. The mirror facet (11) has the following properties: DOLLAR A - A mirror surface (12) of the mirror facet (11) is arranged on a carrier element (14); DOLLAR A - the carrier element (14) has a gimbal for the part (17) of the carrier element (14) on which the mirror surface (12) is arranged; DOLLAR A - the angular position of the mirror surface (12) can be adjusted in at least approximately perpendicular to the optical axis (18) of the mirror surface (12) in at least one spatial direction via adjusting means (19, 20, 25, 26); DOLLAR A - the adjusting means (19, 20, 25, 26) act via gear elements (21, 22, 24) on at least one part (A) of the carrier element (14); DOLLAR A - the adjusting means (19, 20, 25, 26) are accessible from the side of the mirror facet (11) facing away from the mirror surface (12); and DOLLAR A - the carrier element (14), the adjusting means (19, 20, 25, 26) and the gear elements (21, 22, 24) are all below an at least approximately perpendicular to the optical axis (18) of the mirror surface (12) Projection surface of the carrier element (14) in the region of the mirror surface (12).

Description

Die Erfindung betrifft eine Spiegelfacette für einen wenigstens eine dieser Spiegelfacetten umfassenden Facettenspiegel zum Einsatz in Beleuchtungseinrichtungen für Projektionsbelichtungsanlagen in der Mikrolithographie, insbesondere in der Mikrolithographie unter Verwendung von Strahlung im Bereich des extremen Ultravioletts (EUV-Lithographie). The invention relates to a mirror facet for at least one one of these facet mirrors comprising facets Use in lighting equipment for Projection exposure systems in microlithography, especially in the Microlithography using radiation in the range of extreme ultraviolet (EUV lithography).

Aus der SU 653593 A ist eine Vorrichtung zum präzisen Justieren von optischen Spiegeln bekannt, bei welchem eine Plattform, welche den Spiegel trägt, über Festkörpergelenke kardanisch aufgehängt ist. Die Festkörpergelenke bewirken außer der weichen kardanischen Aufhängung in zwei orthogonalen Ebenen auch eine Vorspannung der beiden Ebenen gegen Stellmittel. Diese Stellmittel sind als Stellschrauben ausgebildet, welche jeweils auf schiefen Ebenen angreifen. Je eine dieser schiefen Ebenen ist dabei auf jeweils einer der beiden Ebenen, welche hier als ein Rahmen und als die Plattform ausgebildet sind, angeordnet. Der Aufbau erlaubt es aufgrund des Übersetzungsverhältnisses zwischen der Stellschraube und der zu bewegenden Ebene durch die schiefe Ebene eine sehr feine Justierung des optischen Elements, hier eines Spiegels für die Lasertechnologie, vorzunehmen. SU 653593 A is a device for precise adjustment known from optical mirrors, in which a platform, which carries the mirror, cardanic over solid-state joints is hung. The solid-state joints also cause soft gimbals in two orthogonal planes as well a preload of the two levels against actuating means. This Adjustment means are designed as set screws, each of which attack on inclined planes. One of these inclined levels is in each case on one of the two levels, which here as a frame and are formed as the platform. The structure allows it due to the gear ratio between the set screw and the plane to be moved the inclined plane a very fine adjustment of the optical Elements, here a mirror for laser technology, make.

Der Aufbau benötigt jedoch einen vergleichsweise großen Bauraum und weist den Nachteil auf, daß durch die Anlage der Stellmittel auf den schiefen Ebenen bei der Justage des optischen Elements durch die Stellmittel Ungenauigkeiten auftreten können. Diese Ungenauigkeiten liegen in der Reibung zwischen dem Stellmittel und der schiefen Ebene begründet, insbesondere in der Tatsache, daß hier durch den Wechsel von Haftreibung zu Gleitreibung während des Justagevorgangs ein Slip-Stick-Effekt auftreten wird. However, the structure requires a comparatively large installation space and has the disadvantage that the system of Adjustment device on the inclined planes when adjusting the optical Elements can cause inaccuracies due to the adjusting means. These inaccuracies lie in the friction between the Positioning means and the inclined plane, especially in the Fact that here by switching from static friction to Sliding stick effect during the adjustment process will occur.

Des weiteren ist aus der EP 0 726 479 A2 eine Kippspiegelanordnung bekannt, welche ebenfalls für die Lasertechnologie konzipiert ist. Bei dieser Kippspiegelanordnung ist die Konstruktion so ausgeführt, daß ein Basiskörper, in welchem der Kippspiegel gelagert ist, sämtliche für das Kippen benötigte Elemente und Aktuatoren aufweist, wobei der Basiskörper nicht oder nur unwesentlich über die Projektion der Spiegelfläche hinausragt. Der Aufbau des Spiegels soll dabei für Spiegelflächen mit einer charakteristischen Länge von weniger als 40 mm ausgebildet sein. Furthermore, EP 0 726 479 A2 describes one Tilting mirror arrangement known, which is also for laser technology is designed. The construction of this tilting mirror arrangement is executed so that a base body in which the tilting mirror is stored, all the elements required for tipping and Has actuators, the base body not or only extends slightly beyond the projection of the mirror surface. The Structure of the mirror is intended for mirror surfaces with a characteristic length of less than 40 mm his.

Der Aufbau ist vergleichsweise kompliziert, so daß eine derartige Kippspiegelanordnung aufwendig und teuer ist und daher nicht als Spiegelfacette für den Einsatz in einem Facettenspiegel mit einer Vielzahl von kippbaren Spiegelfacetten geeignet ist. Außerdem ist der Aufbau derart aufwendig hinsichtlich der eingesetzten Bauteile und Aktuatoren, daß eine weitere Verkleinerung der charakteristischen Länge hier nicht oder nur unter extrem hohem Aufwand möglich ist. The structure is comparatively complicated, so that a such a tilting mirror arrangement is complex and expensive and therefore not as a mirror facet for use in one Faceted mirror with a variety of tiltable mirror facets suitable is. In addition, the structure is so complex in terms of used components and actuators that another Reduction of the characteristic length here not or only under extremely high effort is possible.

Insbesondere beim Einsatz von derartigen Kippspiegeln oder justierbaren Spiegeln als Spiegelfacetten für mehrere dieser Spiegelfacetten aufweisende Facettenspiegel, wie er beispielsweise durch die nicht vorveröffentlichte DE 100 52 587.9 beschrieben ist, im Bereich der Mikrolithographie, und hier insbesondere im Bereich der EUV-Lithographie, stellen sich jedoch hohe Anforderungen an die einzelnen Spiegelfacetten, an die zu erzielende Auflösung, an die zu erzielende Oberflächenqualität der Spiegeloberfläche und an die geometrischen Abmessungen der Spiegel aufgrund einer sehr hohen geforderten Packungsdichte. Especially when using such tilting mirrors or adjustable mirrors as mirror facets for several of these Faceted mirrors with mirror facets, like him for example by the unpublished DE 100 52 587.9 is described in the field of microlithography, and here especially in the field of EUV lithography high demands on the individual mirror facets, on the achieved resolution, on the surface quality to be achieved the mirror surface and the geometric dimensions of the Mirror due to a very high required packing density.

Mit den oben beschriebenen Spiegeln, welche aus dem Stand der Technik bekannt sind, lassen sich derartige Anforderungen nicht realisieren. With the mirrors described above, which from the state of the Such requirements are not known in the art realize.

Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine Spiegelfacette für einen wenigstens eine dieser Spiegelfacetten umfassenden Facettenspiegel zum Einsatz Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithographie, und hier insbesondere für die EUV- Lithographie, zu schaffen, welche einen sehr einfachen Aufbau bei minimalen, insbesondere in radialer Richtung, beanspruchten Bauraum aufweist, und welcher darüber hinaus einfach und kostengünstig in der Herstellung ist. It is therefore an object of the invention to provide a mirror facet for comprising at least one of these mirror facets Faceted mirror for use in projection exposure systems for the Microlithography, especially for the EUV Lithography, creating a very simple structure at minimal, especially in the radial direction Has installation space, and which is also simple and is inexpensive to manufacture.

Erfindungsgemäße wird diese Aufgabe durch eine Spiegelfacette gelöst, welche die nachfolgenden Eigenschaften aufweist:

- Eine Spiegeloberfläche der Spiegelfacette ist auf einem Trägerelement angeordnet.
- Das Trägerelement weist eine kardanische Aufhängung für den Teil des Trägerelements auf, auf welchem die Spiegeloberfläche (12) angeordnet ist.
- Über Stellmittel ist die Winkellage der Spiegeloberfläche in einer Ebene wenigstens annähernd senkrecht zur optischen Achse der Spiegeloberfläche in wenigstens einer Raumrichtung einstellbar.
- Die Stellmittel wirken über Getriebeelemente auf wenigstens einen Teil des Trägerelements.
- Die Stellmittel sind von der der Spiegeloberfläche abgewandten Seite der Spiegelfacette aus zugänglich. Das Trägerelement, die Stellmittel und die Getriebeelemente liegen alle unterhalb einer wenigstens annähernd senkrecht zur optischen Achse der Spiegeloberfläche stehenden Projektionsfläche des Trägerelements im Bereich der Spiegeloberfläche.

This object is achieved according to the invention by a mirror facet which has the following properties:

- A mirror surface of the mirror facet is arranged on a carrier element.
- The carrier element has a gimbal for the part of the carrier element on which the mirror surface ( 12 ) is arranged.
- The adjusting position of the mirror surface in a plane can be set at least approximately perpendicular to the optical axis of the mirror surface in at least one spatial direction.
- The actuating means act on at least part of the carrier element via gear elements.
- The adjusting means are accessible from the side of the mirror facet facing away from the mirror surface. The carrier element, the adjusting means and the gear elements are all below an at least approximately perpendicular projection surface of the carrier element in the region of the mirror surface.

Ein derartiger Aufbau bietet den Vorteil, daß er sehr klein und platzsparend ausgeführt werden kann, da sich sämtliche Elemente unterhalb der Spiegelfläche befinden. Durch die Zugänglichkeit der Stellmittel von der der Spiegeloberfläche abgewandten Seite kann außerdem erreicht werden, daß die Spiegelfacetten beim Zusammensetzen zu einem Facettenspiegel sehr dicht gepackt werden können, ohne daß die Justierbarkeit darunter leidet. Such a structure has the advantage that it is very small and can be carried out in a space-saving manner since all the elements are located below the mirror surface. Because of the accessibility the actuating means from the side facing away from the mirror surface can also be achieved that the mirror facets at Put together to form a facet mirror very densely can without the adjustability suffers.

Eine derartiger Facettenspiegel kann dabei für sämtliche Aufgaben im Bereich der Projektionsbelichtungsanlage eingesetzt werde. Sein bevorzugter Einsatzzweck ist aber sicherlich im Bereich der Beleuchtungseinrichtung zu sehen. Der Facettenspiegel gemäß der Erfindung umfaßt dabei wenigstens eine Spiegelfacette. Im üblicherweise vorliegenden Aufbau wird er allerdings en Vielzahl derartiger Spiegelfacetten aufweisen. Bei einem Facettenspiegel, welcher aus einigen bis einigen hundert der Spiegelfacetten aufgebaut ist, wird dann jedoch die Bedeutung der oben genannten Vorteile besonders deutlich. Such a faceted mirror can be used for everyone Tasks used in the area of the projection exposure system will. Its preferred use is certainly in the To see the area of the lighting device. The faceted mirror according to the invention includes at least one Mirror facet. In the usual structure, however, it will be used Have a large number of such mirror facets. At a Faceted mirror, which consists of a few to a few hundred of Mirror facets is built, however, then the importance of above-mentioned advantages particularly clear.

Die Einstellbarkeit in der Ebene senkrecht zur optischen Achse kann dabei entweder in einer Raumrichtung oder in besonders bevorzugter Weise in zwei Raumrichtungen erfolgen. Bei zwei Raumrichtungen werden diese im allgemeinen senkrecht aufeinander stehen, also zwei orthogonale Raumrichtungen darstellen. Bei entsprechenden optischen Anforderungen sind jedoch auch andere Winkel zwischen den beiden Raumrichtungen und/Oder eine andere Anzahl an Raumrichtungen in denen eine Einstellung erfolgen kann, denkbar. The adjustability in the plane perpendicular to the optical axis can either in one direction or in particular preferably take place in two spatial directions. With two These spatial directions are generally perpendicular to one another stand, i.e. represent two orthogonal spatial directions. at however, there are other corresponding optical requirements Angle between the two spatial directions and / or another Number of directions in which a setting is made can, conceivable.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen und anhand der Ausführungsbeispiele, welche nachfolgend unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher dargestellt sind. Further advantageous embodiments of the invention result from the subclaims and on the basis of the exemplary embodiments, which below with reference to the drawing are shown.

Es zeigt: It shows:

Fig. 1 eine prinzipmäßige Darstellung eines möglichen Aufbaus einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie; Figure 1 is a schematic representation of a possible structure of a projection exposure system for semiconductor lithography.

Fig. 2 ein Aufbau analog dem in Fig. 1 zur Verwendung mit Strahlung im Bereich des extremen Ultravioletts; FIG. 2 shows a structure analogous to that in FIG. 1 for use with radiation in the extreme ultraviolet range;

Fig. 3 einen Facettenspiegel in einer isometrischen Ansicht; Fig. 3 is a facet mirror in an isometric view;

Fig. 4 eine isometrische Ansicht einer einzelnen Spiegelfacette; Fig. 4 is an isometric view of a single mirror facet;

Fig. 5 eine Seitenansicht der Spiegelfacette gemäß Fig. 4; FIG. 5 shows a side view of the mirror facet according to FIG. 4;

Fig. 6 eine Prinzipdarstellung des Funktionsprinzip eines möglichen Hebelgetriebes; Fig. 6 is a schematic representation of the functional principle of a possible transmission lever;

Fig. 7 eine isometrische Ansicht einer alternativen Ausführungsform einer einzelnen Spiegelfacette; und Fig. 7 is an isometric view of an alternative embodiment of a single mirror facet; and

Fig. 8 eine Seitenansicht der Spiegelfacette gemäß Fig. 7; FIG. 8 shows a side view of the mirror facet according to FIG. 7;

In Fig. 1 ist eine Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithographie dargestellt. Diese dient zur Belichtung von Strukturen auf mit photosensitiven Materialien beschichtetes Substrat, welches im allgemeinen überwiegend aus Silizium besteht und als ein Wafer 2 bezeichnet wird, zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, wie z. B. Computerchips. In Fig. 1 is a projection exposure apparatus 1 is shown for microlithography. This is used to expose structures on a substrate coated with photosensitive materials, which generally consists predominantly of silicon and is referred to as a wafer 2 , for the production of semiconductor components, such as, for. B. Computer chips.

Die Projektionsbelichtungsanlage 1 besteht dabei im wesentlichen aus einer Beleuchtungseinrichtung 3, einer Einrichtung 4 zur Aufnahme und exakten Positionierung einer mit einer gitterartigen Struktur versehenen Maske, ein sogenanntes Reticle 5, durch welche die späteren Strukturen auf den Wafer 2 bestimmt werden, einer Einrichtung 6 zur Halterung, Fortbewegung und exakten Positionierung eben dieses Wafers 2 und einer Abbildungseinrichtung 7. The projection exposure system 1 essentially consists of an illumination device 3 , a device 4 for receiving and precisely positioning a mask provided with a lattice-like structure, a so-called reticle 5 , by means of which the later structures on the wafer 2 are determined, and a device 6 for holding , Locomotion and exact positioning of this wafer 2 and an imaging device 7 .

Das grundsätzliche Funktionsprinzip sieht dabei vor, daß die in das Reticle 5 eingebrachten Strukturen auf den Wafer 2 belichtet werden, insbesondere mit einer Verkleinerung der Strukturen auf ein Drittel oder weniger der ursprünglichen Größe. Die an die Projektionsbelichtungsanlage 1, insbesondere an die Abbildungseinrichtung 7, zu stellenden Anforderungen hinsichtlich der Auflösungen liegen dabei im Bereich von wenigen Nanometern. The basic functional principle provides that the structures introduced into the reticle 5 are exposed on the wafer 2 , in particular by reducing the structures to a third or less of the original size. The requirements regarding the resolutions to be imposed on the projection exposure system 1 , in particular on the imaging device 7 , are in the range of a few nanometers.

Nach einer erfolgten Belichtung wird der Wafer 2 weiterbewegt, so daß auf demselben Wafer 2 eine Vielzahl von einzelnen Feldern, jeweils mit der durch das Reticle 5 vorgegebenen Struktur, belichtet wird. Wenn die gesamte Fläche des Wafers 2 belichtet ist, wird dieser aus der Projektionsbelichtungsanlage 1 entnommen und einer Mehrzahl chemischer Behandlungsschritte, im allgemeinen einem ätzenden Abtragen von Material, unterzogen. Gegebenenfalls werden mehrere dieser Belichtungs- und Behandlungsschritte nacheinander durchlaufen, bis auf dem Wafer 2 eine Vielzahl von Computerchips entstanden ist. Aufgrund der schrittweisen Vorschubbewegung des Wafers 2 in der Projektionsbelichtungsanlage 1 wird diese häufig auch als Stepper bezeichnet. After exposure has taken place, the wafer 2 is moved on, so that a large number of individual fields, each with the structure predetermined by the reticle 5 , are exposed on the same wafer 2 . When the entire surface of the wafer 2 is exposed, it is removed from the projection exposure system 1 and subjected to a number of chemical treatment steps, generally an etching removal of material. If necessary, several of these exposure and treatment steps are carried out in succession until a large number of computer chips have been produced on the wafer 2 . Due to the gradual feed movement of the wafer 2 in the projection exposure system 1 , this is often also referred to as a stepper.

Die Beleuchtungseinrichtung 3 stellt eine für die Abbildung des Reticles 5 auf dem Wafer 2 benötigten Projektionsstrahl 8, beispielsweise Licht oder eine ähnliche elektromagnetische Strahlung, bereit. Als Quelle für diese Strahlung kann ein Laser oder dergleichen Verwendung finden. Die Strahlung wird in der Beleuchtungseinrichtung 3 über optische Elemente so geformt, daß der Projektionsstrahl 8 beim Auftreffen auf das Reticle 5 die gewünschten Eigenschaften hinsichtlich Durchmesser, Polarisation, Form der Wellenfront und dergleichen aufweist. The illumination device 3 provides a projection beam 8 , for example light or a similar electromagnetic radiation, required for imaging the reticle 5 on the wafer 2 . A laser or the like can be used as the source for this radiation. The radiation is shaped in the lighting device 3 via optical elements so that the projection beam 8 has the desired properties with regard to diameter, polarization, shape of the wavefront and the like when it hits the reticle 5 .

Über den Projektionsstrahl 8 wird ein Bild des Reticles 5 erzeugt und von der Abbildungseinrichtung 7 entsprechend verkleinert auf den Wafer 2 übertragen, wie bereits vorstehend erläutert wurde. Die Abbildungseinrichtung 7, welche auch als Objektiv bezeichnet werden könnte, besteht dabei aus einer Vielzahl von einzelnen refraktiven und/oder diffraktiven optischen Elementen, wie z. B. Linsen, Spiegeln, Prismen, Abschlußplatten und dergleichen. An image of the reticle 5 is generated via the projection beam 8 and transferred to the wafer 2 by the imaging device 7 in a correspondingly reduced size, as has already been explained above. The imaging device 7 , which could also be called an objective, consists of a large number of individual refractive and / or diffractive optical elements, such as, for. B. lenses, mirrors, prisms, end plates and the like.

Fig. 2 zeigt eine prinzipmäßige Darstellung eines Aufbaus analog zu Fig. 1, hier jedoch für die Verwendung mit einem Projektionsstrahl 8, dessen Wellenlänge im Bereich des extremen Ultravioletts (EUV) liegt. Bei diesen Wellenlängen, im allgemeinen ca. 13 nm, ist die Verwendung von diffraktiven optischen Elementen nicht mehr möglich, so daß sämtliche Elemente als reflektierende Elemente ausgebildet sein müssen. Dies wird hier durch die zahlreichen Spiegel 9 dargestellt. Mit Ausnahme des Verlaufs des Projektionsstrahls 8 ist die hier dargestellte Projektionsbelichtungsanlage 1, wie sie für die EUV-Lithographie Verwendung finden kann, vergleichbar zu der in Fig. 1 bereits beschriebenen Projektionsbelichtungsanlage 1 aufgebaut. Die gleichen Vorrichtungselemente weisen dabei die gleichen Bezugszeichen auf, so daß auf nähere Erläuterungen an dieser Stelle verzichtet werden soll. Fig. 2 shows a basic representation of a structure analogous to Fig. 1, but here for use with a projection beam 8 , the wavelength of which is in the range of extreme ultraviolet (EUV). At these wavelengths, generally approx. 13 nm, the use of diffractive optical elements is no longer possible, so that all elements must be designed as reflecting elements. This is represented here by the numerous mirrors 9 . With the exception of course of the projection beam 8, the projection exposure apparatus shown here 1, as it can be used for EUV lithography, is constructed similar to that already described in FIG. 1, the projection exposure apparatus 1. The same device elements have the same reference numerals, so that more detailed explanations should be omitted here.

Im Bereich der hier durch die strichpunktierte Linie angedeuteten Beleuchtungseinrichtung 3 ist dabei ein Facettenspiegel 10 angeordnet, welcher eine entscheidende Bedeutung für die Qualität und die Homogenität des Projektionsstrahls 8 hat. Die nachfolgenden Erläuterungen beziehen sich auf den Aufbau eines derartigen Facettenspiegels 10, wie er ganz allgemein in der Mikrolithographie, insbesondere jedoch in dem Beleuchtungssystem 3 für die EUV-Lithographie eingesetzt werden kann. In the area of the illumination device 3 indicated here by the dash-dotted line, a facet mirror 10 is arranged, which has a decisive importance for the quality and the homogeneity of the projection beam 8 . The following explanations relate to the construction of such a facet mirror 10 , as can be used quite generally in microlithography, but in particular in the illumination system 3 for EUV lithography.

Fig. 3 zeigt beispielhaft einen möglichen Aufbau des Facettenspiegels 10 mit einzelnen Spiegelfacetten 11. Jede der Spiegelfacetten 11 weist eine Spiegeloberfläche 12 auf, welche zur Reflexion von Strahlung, geeignet ist. Je nach Typ der eingesetzten Strahlung, wie z. B. Licht, UV-Strahlung, Röntgenstrahlung oder dergleichen kann der Aufbau der Spiegeloberfläche 12 variieren. Denkbar sind hier verschiedene Aufbauten aus zum Teil vielen auf eine Substrat aufgebrachten, z. B. aufgedampften, Multilayer-Schichten. Die Spiegeloberfläche 12 kann dabei direkt auf die Spiegelfacette 11 oder auch auf ein Zwischenelement 29 (hier nicht dargestellt, in Fig. 7 und 8 erkennbar), welches dann mit der Spiegelfacette verbunden wird, aufgebracht werden. Die Verwendung des Zwischenelements ist dabei insbesondere beim Einsatz mit sehr kurzwelliger Strahlung, z. B. der Strahlung im Bereich des extremen Ultravioletts (EUV), sehr günstig, da hier sehr hohe Anforderungen an die Oberflächenqualität der Spiegeloberfläche 12 und damit auch der Oberfläche unter dieser Spiegeloberfläche 12 gestellt werden müssen. Bei der Verwendung des Zwischenelements entfällt dann aber der Aufwand, die gesamte Spiegelfacette 11 aus einem Material zu fertigen, welches eine derart gute Bearbeitung seiner Oberfläche erlaubt, wie die, die für die Reflexion von EUV-Strahlung erforderlich ist. Fig. 3 shows an example of a possible structure of the facet mirror 10 with individual reflector facets 11. Each of the mirror facets 11 has a mirror surface 12 which is suitable for reflecting radiation. Depending on the type of radiation used, such as. B. light, UV radiation, X-rays or the like, the structure of the mirror surface 12 may vary. Various constructions are conceivable, some of which are applied to a substrate, e.g. B. evaporated, multilayer layers. The mirror surface 12 can be applied directly to the mirror facet 11 or also to an intermediate element 29 (not shown here, recognizable in FIGS. 7 and 8), which is then connected to the mirror facet. The use of the intermediate element is particularly useful when using very short-wave radiation, e.g. B. the radiation in the area of extreme ultraviolet (EUV), very cheap, since very high demands must be placed on the surface quality of the mirror surface 12 and thus also the surface under this mirror surface 12 . When using the intermediate element, however, there is no need to produce the entire mirror facet 11 from a material which allows the surface to be processed as well as that required for the reflection of EUV radiation.

Als Materialien bei der Verwendung der Spiegelfacetten 11 im Bereich der EUV-Lithographie wären beispielsweise Zwischenelemente aus kristallinen Substraten denkbar, welche hinsichtlich ihrer Oberflächenqualität sehr gut auf die entsprechenden Erfordernisse bearbeitbar sind. Derartige Substrate könnten beispielsweise aus Silizium bestehen. Bei der Verwendung von Spiegelfacetten 11, welche einstückig ausgebildet sind, wäre es beispielsweise denkbar, diese aus hochlegierten Stählen zu fertigen, wobei die Spiegeloberfläche dann über einer Zwischenschicht aus Nickel, welche die gute Bearbeitbarkeit der Spiegeloberfäche sicherstellt, aufgebracht werden kann. As materials when using the mirror facets 11 in the field of EUV lithography, intermediate elements made of crystalline substrates, for example, would be conceivable, which can be processed very well in terms of their surface quality to the corresponding requirements. Such substrates could consist of silicon, for example. When using mirror facets 11 , which are formed in one piece, it would be conceivable, for example, to manufacture them from high-alloy steels, the mirror surface then being able to be applied over an intermediate layer made of nickel, which ensures the good machinability of the mirror surface.

Zur Bildung des Facettenspiegels 10 sind die einzelnen Spiegelfacetten 11 auf einer Grundplatte 13 angeordnet. Der exakte Aufbau der Spiegelfacetten 11 ist in Fig. 3 nicht detailliert dargestellt. Dieser Aufbau soll jedoch der Schwerpunkt der nachfolgenden Erläuterungen und Ausführungen sein. To form the facet mirror 10 , the individual mirror facets 11 are arranged on a base plate 13 . The exact structure of the mirror facets 11 is not shown in detail in FIG. 3. However, this structure should be the focus of the explanations and explanations below.

In Fig. 4 ist ein möglicher Aufbau eines Trägerelements 14 der Spiegelfacette 11 mit der Spiegeloberfläche 12 und einer kardanischen Aufhängung näher dargestellt. Die kardanische Aufhängung ist dabei aus zwei orthogonal zueinander wirksamen Festkörpergelenken 15, 16 so ausgebildet, daß ein Teil 17 des Trägerelements 14, auf welchem die Spiegeloberfläche 12 angeordnet ist, über die kardanische Aufhängung bzw. die Festkörpergelenke 15, 16 in zwei orthogonale Raumrichtungen verkippt werden kann. FIG. 4 shows a possible construction of a carrier element 14 of the mirror facet 11 with the mirror surface 12 and a gimbal suspension. The gimbal is formed from two mutually orthogonally effective solid joints 15 , 16 so that a part 17 of the support element 14 , on which the mirror surface 12 is arranged, are tilted in two orthogonal spatial directions via the gimbal or the solid joints 15 , 16 can.

Um das Verkippen der Spiegeloberfläche 12 in einer Ebene senkrecht zu ihrer optischen Achse 18 bzw. der korrespondierenden Achse 18 in der Nullstellung der Spiegeloberfläche 12 zu erreichen, weist die Spiegelfacette 11 zwei Stellmittel 19, 20 auf. In order to achieve the tilting of the mirror surface 12 in a plane perpendicular to its optical axis 18 or the corresponding axis 18 in the zero position of the mirror surface 12 , the mirror facet 11 has two adjusting means 19 , 20 .

Diese Stellmittel 19, 20 sind jeweils über Getriebeelemente 21, 22 mit dem Teil 17 des Trägerelements 14 verbunden. In dem in Fig. 4 dargestellten Ausführungsbeispiel sind diese Getriebeelemente 21, 22 als schiefe Ebenen ausgebildet. Die Stellmittel 19, 20, welche hier insbesondere als Stellschrauben ausgebildet sind, welche in dem Trägerelement 14 parallel zur optischen Achse 18 in der Neutralstellung der Spiegeloberfläche 12 verlaufen, berühren die schiefen Ebenen 21, 22 dabei zur Minimierung der Reibung nach Möglichkeit nur punktuell. Die Stellmittel 19, 20 weisen dazu an ihrem der Spiegeloberfläche 12 zugewandten Ende eine ballige Ausführung auf. These adjusting means 19 , 20 are each connected to part 17 of the carrier element 14 via gear elements 21 , 22 . In the embodiment shown in Fig. 4, these gear elements 21 , 22 are formed as inclined planes. The adjusting means 19 , 20 , which are designed here in particular as adjusting screws which run in the carrier element 14 parallel to the optical axis 18 in the neutral position of the mirror surface 12 , only touch the inclined planes 21 , 22 selectively to minimize the friction, if possible. For this purpose, the adjusting means 19 , 20 have a spherical design at their end facing the mirror surface 12 .

Des weiteren ist in Fig. 4 ein Federmittel 23 zu erkennen, welches die beiden schiefen Ebenen 21, 22, welche mit dem Teil 17 des Trägerelements 14 verbunden sind, unter Vorspannung gegen die Stellmittel 19, 20 drückt. Das Federmittel 23 ist dabei nicht unbedingt notwendig. Prinzipiell wäre es auch denkbar, das Teil 17 des Trägerelements 14 unter einer gewissen Vorspannung zu fertigen, so daß aufgrund dieser fertigungsbedingten Vorspannung die schiefen Ebenen 21, 22 jeweils gegen die Stellmittel 22, 23 gedrückt werden. Furthermore, a spring means 23 can be seen in FIG. 4, which presses the two inclined planes 21 , 22 , which are connected to the part 17 of the carrier element 14 , against the actuating means 19 , 20 under prestress. The spring means 23 is not absolutely necessary. In principle, it would also be conceivable to manufacture part 17 of carrier element 14 under a certain pretension, so that, due to this pretension caused by production, the inclined planes 21 , 22 are each pressed against actuating means 22 , 23 .

Der eben beschriebene Aufbau der Spiegelfacette 11 ist dabei anhand der Seitenansicht gemäß Fig. 5 nochmals detailliert zu erkennen. The structure of the mirror facet 11 just described can be seen again in detail on the basis of the side view according to FIG .

Wird nun das in Fig. 5 mit "20" bezeichnete Stellmittel bewegt, beispielsweise in Richtung der Spiegeloberfläche 12 geschraubt, so wird dessen balliges Ende auf der schiefen Ebene 22 verschoben, wodurch es zu einem Verkippen des Teils 17 um das Festkörpergelenk 15 kommt. Als Übersetzung zwischen den einzelnen Bewegungen fungiert dabei der Winkel der schiefen Ebene 22. Vergleichbares gilt für das Zusammenspiel des Stellmittels 19 mit der schiefen Ebene 21, welche das Teil 17 des Trägerelements 14 entsprechend um das Festkörpergelenk 16 verkippt. Da beide schiefen Ebenen 21, 22 direkt an dem Teil 17 des Trägerelements 14 angebracht sind, können die Bewegungen in die beiden orthogonalen Raumrichtungen nicht vollkommen unabhängig voneinander eingestellt werden. If the adjusting means designated "20" in FIG. 5 is now moved, for example screwed in the direction of the mirror surface 12 , its crowned end is displaced on the inclined plane 22 , which causes the part 17 to tilt about the solid-state joint 15 . The angle of the inclined plane 22 acts as a translation between the individual movements. The same applies to the interaction of the adjusting means 19 with the inclined plane 21 , which correspondingly tilts the part 17 of the carrier element 14 about the solid-state joint 16 . Since both inclined planes 21 , 22 are attached directly to the part 17 of the carrier element 14 , the movements in the two orthogonal spatial directions cannot be set completely independently of one another.

Beim bevorzugten Einsatzzweck im Bereich der Beleuchtungseinrichtung 3 für die EUV-Lithographie spielt dies jedoch praktisch keine Rolle, da die Facettenspiegel 10 für einen derartigen Einsatzzweck im allgemeinen unter Beleuchtung einjustiert werden, so daß auf den hinsichtlich des Projektionsstrahls 8 zu erzielenden Effekt sofort reagiert werden kann. Die Einstellbarkeit der jeweiligen Spiegelfacette 11 wird dadurch nicht nennenswert verschlechtert. In the preferred application in the area of the illumination device 3 for the EUV lithography however, this practically does not matter, because the facet mirror are adjusted 10 for such a purpose generally under illumination, so that the projection beam may regard to react 8 effect to be achieved immediately on the , The adjustability of the respective mirror facet 11 is not significantly deteriorated thereby.

Grundsätzlich ist jedoch auch ein anderes Konzept denkbar, welches durch die Prinzipdarstellung gemäß Fig. 6 gekennzeichnet ist. Der Aufbau sieht anstatt der schiefen Ebenen 21, 22 als Getriebeelemente ein Hebelgetriebe 24 vor. Die prinzipielle Funktionsweise des Hebelgetriebes 24 ist durch die Fig. 6 beschrieben, wobei hier bereits eine Besonderheit integriert ist. Das Hebelgetriebe 24 soll über zwei hier prinzipmäßig angedeutete Stellmittel S_f und S_g betätigt werden. Für den Fall, daß das eine Stellmittel S_f betätigt wird, dient das andere Stellmittel S_g als Auflage und Drehpunkt; und umgekehrt. In principle, however, another concept is also conceivable, which is characterized by the basic illustration according to FIG. 6. Instead of the inclined planes 21 , 22, the construction provides a lever gear 24 as gear elements. The basic mode of operation of the lever gear 24 is described by FIG. 6, a special feature being already integrated here. The lever mechanism 24 is to be actuated via two actuating means S _f and S _g , which are indicated here in principle. In the event that one adjusting means S _{f is} actuated, the other adjusting means S _g serves as a support and fulcrum; and vice versa.

Dieser Aufwand mit den beiden Stellmitteln ist für eine derartige Anordnung prinzipiell nicht notwendig. Um jedoch entsprechende Übersetzungsverhältnisse und besonders große Verhältnisse von Verstellbereich zu Auflösung, hier sind bei den dargestellten Ausführungsbeispielen Verhältnisse von ca. 100 bis 500 möglich, realisieren zu können, würden die beiden aktiven Hebelelemente 11 und 12 des hier dargestellten Hebelgetriebes 24 in ihrem Verhältnis zueinander bei entsprechend kleiner Auflösung sehr groß werden, so daß nur mit erheblichen Mühen die Anforderungen hinsichtlich des Bauraums realisiert werden können. Wird nun dagegen entsprechend der Darstellung in Fig. 6 die Verwendung von zwei Stellmitteln S_g, S_f in Kauf genommen, so läßt sich der Bauraum erheblich reduzieren. Im hier dargestellten Ausführungsbeispiel ist es nun so, daß das Stellmittel S_g für große Verstellwege dient, da dieses über die Hebelanordnung 24 unmittelbar auf das Teil 17 wirkt. Das Stellmittel S_g dient also einer Grobeinstellung. Bei festgehaltenem Stellmittel S_g kann nun über das Stellmittel S_f und die entsprechend wirksame Hebellänge l₂-l₁ mit dem durch diese Hebellänge vorgegebenen Übersetzungsverhältnis auf das Teil 17 eingewirkt werden. Das Stellmittel S_f dient also in dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel zur Feineinstellung. In principle, this effort with the two adjusting means is not necessary for such an arrangement. However, in order to be able to implement corresponding transmission ratios and particularly large ratios of adjustment range to resolution, here ratios of approximately 100 to 500 are possible in the illustrated exemplary embodiments, the two active lever elements 11 and 12 of the lever gear 24 shown here would contribute in their relationship to one another correspondingly small resolution become very large, so that the requirements with regard to the installation space can only be realized with considerable effort. If, on the other hand, the use of two adjusting means S _g , S _{f is accepted as shown} in FIG. 6, the installation space can be reduced considerably. In the exemplary embodiment shown here, it is now the case that the adjusting means S _g serves for large adjustment paths, since this acts directly on the part 17 via the lever arrangement 24 . The actuating means S _g thus serves a rough setting. With the actuating means S _g held firm, the actuating means S _f and the correspondingly effective lever length l ₂ -l ₁ can now act on the part 17 with the transmission ratio predetermined by this lever length. The adjusting means S _f is used in the exemplary embodiment shown here for fine adjustment.

In Fig. 7 ist nun ein derartiger Aufbau dargestellt, welcher über zwei der Hebelgetriebe 24 verfügt, welche beide nach dem Funktionsprinzip arbeiten, das in Fig. 6 dargestellt wurde. Dabei ist in der isometrischen Ansicht gemäß der Fig. 7 wiederum erkennbar, daß zwei der Getriebeeinrichtungen bzw. Hebelgetriebe 24 orthogonal zueinander angeordnet sind. Beide haben jedoch die gleiche Funktionsweise, so daß zur Erläuterung derselben insbesondere auf Fig. 8 Bezug genommen werden soll, in welcher die Spiegelfacette 11 der Fig. 7 in einer Seitenansicht dargestellt ist. Such a structure is now shown in FIG. 7, which has two of the lever gears 24 , both of which operate according to the functional principle that was shown in FIG. 6. It is again evident in the isometric view according to FIG. 7 that two of the gear devices or lever gears 24 are arranged orthogonally to one another. However, both have the same mode of operation, so that in order to explain the same reference should be made in particular to FIG. 8, in which the mirror facet 11 of FIG. 7 is shown in a side view.

Ansonsten weisen die beiden Fig. 7 und 8 vergleichbare Elemente auf, wie die, die in den Fig. 4 und 5 bereits erläutert wurden. Vergleichbare Funktionselemente sind dabei mit denselben Bezugszeichen versehen. Otherwise, the two FIGS. 7 and 8 have comparable elements to those that have already been explained in FIGS. 4 and 5. Comparable functional elements are provided with the same reference symbols.

Eine Stellschraube 25 soll in dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel nun in jeder der beiden senkrecht aufeinander stehenden Raumrichtungen die Grobeinstellung S_g übernehmen, während eine weitere Stellschraube 26 jeweils die Feineinstellung S_f erlaubt. Die kardanische Aufhängung des Teils 17 des Trägerelements 14 gegenüber dem Rest des Trägerelements 14 ist dabei in ähnlicher Weise ausgeführt wie dies in den Fig. 4 und 5 bereits dargestellt wurde. Lediglich ist anstatt eines über den größten Teil des Durchmessers durchgängiges Festkörpergelenk 15 bzw. 16 ein Aufbau gewählt worden, bei dem eine Anbindung als Festköpergelenk genau mittig unter der Spiegeloberfläche 12 plaziert ist. Dieser Teil des Festkörpergelenks ist in den Figuren nicht erkennbar, er wird in Fig. 8 durch das hier mit "16" bezeichnete Festkörpergelenk verdeckt. Dieser nicht dargestellte Teil des Festkörpergelenks und das Festkörpergelenk 16, welche fluchtend zueinander angeordnet sind, bilden das Festkörpergelenk für die Kippung des Teils 17 in der einen der Raumrichtungen. In der senkrecht dazu stehenden Raumrichtung erfolgt die Kippung wiederum über das nicht dargestellte Teil des Festkörpergelenks und das in den Fig. 7 und 8 mit "15" bezeichnete Teil des Festkörpergelenks. In the exemplary embodiment shown here, a set screw 25 is now to take over the coarse setting S _g in each of the two mutually perpendicular spatial directions, while a further set screw 26 permits fine adjustment S _{f in} each case. The cardanic suspension of the part 17 of the carrier element 14 with respect to the rest of the carrier element 14 is carried out in a similar manner as has already been shown in FIGS. 4 and 5. Instead of a solid-state joint 15 or 16 that is continuous over the largest part of the diameter, a structure has been chosen in which a connection as a solid-body joint is placed exactly in the center under the mirror surface 12 . This part of the solid-state joint cannot be seen in the figures, it is covered in FIG. 8 by the solid-state joint designated here with "16". This part of the solid body joint , not shown, and the solid body joint 16 , which are arranged in alignment with one another, form the solid body joint for the tilting of the part 17 in one of the spatial directions. In the direction perpendicular to it, the tilting again takes place via the part of the solid-state joint, not shown, and the part of the solid-state joint designated "15" in FIGS. 7 and 8.

Nachfolgend soll das Verkippen der Spiegeloberfläche 12 in der Fig. 8 erläutert werden. Dafür wird das Teil 17, auf welchem die Spiegeloberfläche 12 angeordnet ist, um das Festkörpergelenk 16 und das mit ihm fluchtend angeordnete Teil des Festkörpergelenks, welches nicht dargestellt ist, verkippt bzw. gedreht. The tilting of the mirror surface 12 in FIG. 8 will be explained below. For this purpose, the part 17 , on which the mirror surface 12 is arranged, is tilted or rotated around the solid body joint 16 and the part of the solid body joint which is aligned with it, which is not shown.

Für die Rückstellung des Teils 17 bzw. die Anpressung auf die beiden Stellmittel 25 und 26 sorgt dabei wiederum ein Federmittel 23', welches jeweils in die Hebelgetriebe 24 über Festkörpergelenke bzw. als Festkörperfeder integriert ist. The resetting of the part 17 or the pressure on the two adjusting means 25 and 26 is in turn provided by a spring means 23 ', which is integrated in each case in the lever mechanism 24 via solid-state joints or as a solid-state spring.

Soll nun eine Grobverstellung der Spiegeloberfläche 12 in der Darstellung gemäß Fig. 8 erfolgen, so wird die Stellschraube 25 betätigt. Über die Verbindung zwischen der Stellschraube 25 und dem Teil 17 über das Festkörpergelenk 15 wird diese Bewegung der Stellschraube 25 direkt auf das Teil 17 übertragen, wobei es zu einer Drehung des Teils 17 um das Festkörpergelenk 16 kommt. If a rough adjustment of the mirror surface 12 in the illustration according to FIG. 8 is now to take place, the adjusting screw 25 is actuated. Via the connection between the adjusting screw 25 and the part 17 via the solid body joint 15 , this movement of the adjusting screw 25 is transmitted directly to the part 17 , whereby the part 17 rotates about the solid body joint 16 .

Soll nun eine Feinjustage der Spiegeloberfläche 12 erfolgen, so kann dies über die Stellschraube 26 realisiert werden. Die Stellschraube 26 wirkt dabei über ein Hebelelement 27, welches sich im Auflagepunkt 28 auf dem Stellmittel 25 abstützt, und den zuvor bereits beschriebenen Weg über das Festkörpergelenk 15 in der Art auf das Teil 17 des Trägerelements 14, daß es zu einem Verkippen der Spiegeloberfläche 12 kommt. Durch die Länge des Hebelelementes 27 sowie die Steigung der Stellschraube 26 kann ein derartiger Aufbau den Anforderungen entsprechend ausgelegt werden, so daß über die Kombination aus Feineinstellung und Grobeinstellung ein sehr großer Stellbereich von +/-5° bei einer sehr guten Winkelauflösung von unter 1" realisiert werden kann. Diese Daten stammen von dem hier dargestellten Aufbau, welcher einen charakteristischen Durchmesser von 10 mm aufweist. Für andere größere oder kleinere Aufbauten können diese Werte entsprechend variieren. If a fine adjustment of the mirror surface 12 is now to be carried out, this can be achieved using the adjusting screw 26 . The adjusting screw 26 acts via a lever element 27 , which is supported at the support point 28 on the actuating means 25 , and the previously described path via the solid-state joint 15 in such a way that the part 17 of the carrier element 14 tilts the mirror surface 12 comes. Due to the length of the lever element 27 and the pitch of the adjusting screw 26 , such a structure can be designed according to the requirements, so that the combination of fine adjustment and coarse adjustment enables a very large adjustment range of +/- 5 ° with a very good angular resolution of less than 1 ". These data come from the structure shown here, which has a characteristic diameter of 10 mm. For other larger or smaller structures, these values can vary accordingly.

Wie bereits oben erwähnt wurde ist der Aufwand hinsichtlich der beiden Stellmittel nicht unbedingt erforderlich. Es wäre auch denkbar, daß nur die Feinverstellung eingesetzt werden würde. Der Auflagepunkt 28 am Stellmittel 25 könne dann durch eine weiteres Gelenk, insbesondere eine Festkörpergelenk, ersetzte werden. Die hochgenaue Feinjustage stünde dann, allerdings bei kleinerem möglichen Verstellweg, weiterhin zur Verfügung. As already mentioned above, the effort with regard to the two adjusting means is not absolutely necessary. It would also be conceivable that only the fine adjustment would be used. The support point 28 on the actuating means 25 can then be replaced by a further joint, in particular a solid-state joint. The high-precision fine adjustment would then still be available, albeit with a smaller possible adjustment path.

Außerdem ist in den Fig. 7 und 8 erkennbar, daß die Spiegeloberfläche 12 auf einem Zwischenelement 29 angeordnet ist, welches auf das Trägerelement 14 aufgesetzt und mit diesem verbunden ist. Als Verbindungstechniken lassen sich hier beispielsweise die klassischen Verbindungstechniken der Mikromechanik, wie Kleben, Ansprengen oder dergleichen, nennen, es sind jedoch auch feinmechanische Verbindungstechniken, wie Verschrauben, Klemmen oder dergleichen, denkbar. Für die Funktionsweise der Spiegelfacette 11 spielt dies keine oder nur eine untergeordnete Rolle, da die Verbindung lediglich so ausgeführt sein sollte, daß von der Spiegeloberfläche 12 absorbierte Wärme über die Spiegelfacette 11 an die Grundplatte 13 des Facettenspiegels 10 abgeleitet werden kann. 7 and 8 also is shown in Figs. Recognized that the mirror surface 12 is arranged on an intermediate member 29 which is mounted on the support member 14 and connected thereto. The classic micromechanical joining techniques, such as gluing, wringing or the like, can be mentioned here as joining techniques, however, fine mechanical joining techniques, such as screwing, clamping or the like, are also conceivable. For the functioning of the mirror facet 11 , this plays no or only a subordinate role, since the connection should only be carried out in such a way that heat absorbed by the mirror surface 12 can be dissipated via the mirror facet 11 to the base plate 13 of the facet mirror 10 .

Des weiteren sind auch Ausführungsformen denkbar, bei denen die Stellmittel nicht, wie hier jeweils dargestellt, axial angeordnet sind, sondern bei denen die Mittelachsen der Stellmittel 19, 20, 25, 26 in einem von 180° verschiedenen Winkel, also schräg, zu der optischen Achse 18 stehen. Dies ist bei beiden dargestellten Ausgestaltungen der Getriebeelemente 21, 22,24 möglich. Der schräge Anordnung der Stellmittel 19, 20, 25, 26 kann dabei sowohl aus konstruktiven Gründen als auch aus Gründen der einstellbaren Übersetzungsverhältnisse bzw. Hebellängen sinnvoll sein. Dadurch, daß auch weiterhin die Zugänglichkeit von der der Spiegeloberfläche 12 abgewandten Seite aus gewährleistet bleiben soll, sind die Winkel gegenüber der optischen Achse in der Praxis dabei auf 1° bis ca. 35° eingeschränkt. Furthermore, embodiments are also conceivable in which the adjusting means are not arranged axially, as shown here in each case, but in which the central axes of the adjusting means 19 , 20 , 25 , 26 are at an angle different from 180 °, ie obliquely, to the optical one Stand axis 18 . This is possible in the two illustrated configurations of the gear elements 21 , 22 , 24 . The oblique arrangement of the adjusting means 19 , 20 , 25 , 26 can be useful both for constructional reasons and for reasons of the adjustable transmission ratios or lever lengths. Because the accessibility from the side facing away from the mirror surface 12 should continue to be guaranteed, the angles with respect to the optical axis are in practice restricted to 1 ° to approx. 35 °.

Außerdem können die beiden jeweils orthogonale Verstellungen bewirkenden Kombinationen aus Stellmitteln 19, 20,25, 26 und Getriebemittel 21, 22,24 natürlich auch in einem anderen Winkel zueinander angeordnet sein, wenn dies die Verstellung, z. B. aus optischen Gründen, erforderlich machen sollte. In addition, the two orthogonal adjustments causing combinations of adjusting means 19 , 20 , 25 , 26 and gear means 21 , 22 , 24 can of course also be arranged at a different angle to each other if this is the adjustment, z. B. for optical reasons.

Claims

1. Mirror facet for a facet mirror comprising at least one of these mirror facets for use in projection exposure systems in microlithography, in particular for microlithography using radiation in the area of extreme ultraviolet (EUV), with the following properties:

1. 1.1 a mirror surface ( 12 ) of the mirror facet ( 11 ) is arranged on a carrier element ( 14 );

2. 1.2 the carrier element ( 14 ) has a gimbal for the part ( 17 ) of the carrier element ( 14 ) on which the mirror surface ( 12 ) is arranged;

3. 1.3 using adjusting means ( 19 , 20 , 25 , 26 ), the angular position of the mirror surface ( 12 ) can be adjusted in at least one direction in at least approximately perpendicular to the optical axis ( 18 ) of the mirror surface ( 12 ) in at least one spatial direction;

4. 1.4 the adjusting means ( 19 , 20 , 25 , 26 ) act via gear elements ( 21 , 22 , 24 ) on at least one part (A) of the carrier element ( 14 );

5. 1.5 the adjusting means ( 19 , 20 , 25 , 26 ) are accessible from the side of the mirror facet ( 11 ) facing away from the mirror surface ( 12 ); and

6. 1.6 the carrier element ( 14 ), the adjusting means ( 19 , 20 , 25 , 26 ) and the gear elements ( 21 , 22 , 24 ) are all below an at least approximately perpendicular to the optical axis ( 18 ) of the mirror surface ( 12 ) projection surface of the carrier element ( 14 ) in the region of the mirror surface ( 12 ).

2. mirror facet according to claim 1, characterized in that the gimbal is formed in the monolithically formed support element ( 14 ) integrated solid joints ( 15 , 16 ).

3. mirror facet according to claim 1 or 2, characterized in that the mirror surface ( 12 ) is applied directly to the carrier element ( 14 ).

4. mirror facet according to claim 1 or 2, characterized in that the mirror surface ( 12 ) is applied to an intermediate element ( 29 ) which is placed on the carrier element ( 14 ) and connected thereto.

5. mirror facet according to one of claims 1 to 4, characterized in that the at least approximately perpendicular to the optical axis ( 18 ) of the mirror surface ( 12 ) standing projection surface of the carrier element ( 14 ) in the region of the mirror surface ( 12 ) has a characteristic length of less than 30 mm, in particular a characteristic diameter of less than 15 mm.

6. mirror facet according to one of claims 1 to 5, characterized in that the adjusting means ( 19 , 20 , 25 , 26 ) are formed with their central axes at least approximately in the axial direction to the optical axis ( 18 ) of the mirror surface ( 12 ) arranged adjusting screws are.

7. mirror facet according to one of claims 1 to 5, characterized in that the adjusting means ( 19 , 20 , 25 , 26 ) as arranged with their central axes at an angle different from 180 ° to the optical axis ( 18 ) of the mirror surface ( 12 ) Set screws are formed.

8. mirror facet according to one of claims 1 to 7, characterized in that the part of the carrier element ( 14 ), on which the mirror surface ( 12 ) is arranged, by at least one spring means ( 23 , 23 ') against the adjusting means ( 19 , 20th , 25 , 26 ) is biased.

9. mirror facet according to one of claims 1 to 8, characterized in that the gear elements as inclined planes ( 21 , 22 ), on which crowned ends of the adjusting means ( 19 , 20 ) are formed.

10. mirror facet according to claim 9, characterized in that the inclined planes ( 21 , 22 ) are formed orthogonally to one another, the inclined planes ( 21 , 22 ) both fixed to the part of the carrier element ( 14 ) on which the mirror surface ( 12 ) is arranged, are connected.

11. mirror facet according to one of claims 1 to 8, characterized in that the gear elements as a lever gear ( 24 ) are integrally formed with the carrier element ( 14 ).

12. Mirror facet according to claim 11, characterized in that each of the lever gears ( 24 ) has two adjusting means ( 25 , 26 ) which have levers ( 11 , 12 , 27 ) of different lengths on the part ( 17 ) of the carrier element ( 14 ), on which the mirror surface ( 12 ) is arranged.

13. Mirror facet according to claim 11, characterized in that each of the lever gears ( 24 ) has an adjusting means ( 26 ) which, via a lever supported on a joint ( 11 , 12 , 27 ) on the part ( 17 ) of the carrier element ( 14 ) on which the mirror surface ( 12 ) is arranged.

14. Mirror facet according to claim 11, 12 or 13, characterized in that the spring means ( 23 ') are integrated in the connection of the lever mechanism ( 24 ) on the carrier element ( 14 ).