DE102022110375A1 - Layer system, coated substrate comprising the layer system, method for coating the surface of a substrate with the layer system and use of the layer system - Google Patents

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Abstract

Beschrieben wird ein Schichtsystem umfassend eine DLC-Schicht a) mit einer Schichtdicke von ≥ 1,2 µm und eine Schicht b) zur Erzeugung einer Dickschichtinterferenz mit einer Schichtdicke von ≥ 2,6 µm. Ferner beschrieben wird ein beschichtetes Substrat, umfassend das Schichtsystem, sowie ein Verfahren zum Beschichten der Oberfläche eines Substrats mit einem erfindungsgemäßen Schichtsystem und die Verwendung eines erfindungsgemäßen Schichtsystems als Antireflexbeschichtung und/oder als Ersatz für eine Eloxal-Beschichtung.A layer system is described comprising a DLC layer a) with a layer thickness of ≥ 1.2 µm and a layer b) for generating a thick-film interference with a layer thickness of ≥ 2.6 µm. Also described is a coated substrate comprising the layer system, as well as a method for coating the surface of a substrate with a layer system according to the invention and the use of a layer system according to the invention as an anti-reflective coating and/or as a replacement for an anodized coating.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Schichtsystem umfassend eine DLC-Schicht a) mit einer Schichtdicke von ≥ 1,5 µm und eine Schicht b) zur Erzeugung einer Dickschichtinterferenz. Die Erfindung betrifft ferner ein beschichtetes Substrat, umfassend das Schichtsystem, sowie ein Verfahren zum Beschichten der Oberfläche eines Substrats mit einem erfindungsgemäßen Schichtsystem und die Verwendung eines erfindungsgemäßen Schichtsystems als Antireflexbeschichtung und/oder als Ersatz für eine Eloxal-Beschichtung.The present invention relates to a layer system comprising a DLC layer a) with a layer thickness of ≥ 1.5 μm and a layer b) for producing a thick-film interference. The invention further relates to a coated substrate comprising the layer system, as well as a method for coating the surface of a substrate with a layer system according to the invention and the use of a layer system according to the invention as an anti-reflective coating and/or as a replacement for an anodized coating.

Die Erfindung wird in den beigefügten Patentansprüchen definiert. Bevorzugte Aspekte der vorliegenden Erfindung ergeben sich überdies aus der nachfolgenden Beschreibung einschließlich der Beispiele.The invention is defined in the appended claims. Preferred aspects of the present invention also emerge from the following description including the examples.

Soweit für einen erfindungsgemäßen Aspekt bestimmte Ausgestaltungen als bevorzugt bezeichnet werden, gelten die entsprechenden Ausführungen jeweils auch für die anderen Aspekte der vorliegenden Erfindung, mutatis mutandis. Bevorzugte individuelle Merkmale erfindungsgemäßer Aspekte (wie in den Ansprüchen definiert und/oder in der Beschreibung offenbart) sind miteinander kombinierbar und werden vorzugsweise miteinander kombiniert, sofern sich im Einzelfall für den Fachmann aus dem vorliegenden Text nichts anderes ergibt.To the extent that certain embodiments are described as preferred for an aspect of the invention, the corresponding statements also apply to the other aspects of the present invention, mutatis mutandis. Preferred individual features of aspects of the invention (as defined in the claims and/or disclosed in the description) can be combined with one another and are preferably combined with one another, unless the person skilled in the art knows otherwise from the present text in the individual case.

Auf dem Markt besteht grundsätzlich ein Bedarf an Substraten - insbesondere nach Metallsubstraten aus Aluminium oder Aluminium-Legierungen - welche über eine dekorative schwarze Beschichtung verfügen, das heißt, ein schwarzes Erscheinungsbild aufweisen. Für Aluminium-Substrate lässt sich eine solche schwarze Beschichtung bzw. ein solches schwarzes Erscheinungsbild z.B. durch Anwendung eines Eloxal-Verfahrens und entsprechende Erzeugung einer Eloxalschicht auf der Oberfläche des Aluminium-Substrates realisieren.There is a fundamental need on the market for substrates - in particular metal substrates made of aluminum or aluminum alloys - which have a decorative black coating, that is, have a black appearance. For aluminum substrates, such a black coating or such a black appearance can be achieved, for example, by using an anodizing process and correspondingly creating an anodizing layer on the surface of the aluminum substrate.

Einige aluminiumhaltige Substrate, beispielsweise harte Aluminium-Legierungen wie EN AW-2024, EN AW-7022 oder EN AW-7075, können allerdings aufgrund ihres hohen Gehalts an Kupfer und Zink nicht dekorativ eloxiert werden.However, some aluminum-containing substrates, such as hard aluminum alloys such as EN AW-2024, EN AW-7022 or EN AW-7075, cannot be decoratively anodized due to their high copper and zinc content.

Eine Möglichkeit zur Farbbeschichtung von beliebigen aluminiumhaltigen Substraten (wie auch anderen Metall- und Nichtmetall-Substraten) ist die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PE-CVD). Wird eine schwarze Farbe gewünscht, so kann etwa eine Diamond-like-carbon (DLC)-Schicht mittels PE-CVD auf dem jeweiligen Substrat appliziert bzw. erzeugt werden.One option for color coating any aluminum-containing substrate (as well as other metal and non-metal substrates) is plasma-enhanced chemical vapor deposition (PE-CVD). If a black color is desired, a diamond-like carbon (DLC) layer can be applied or created on the respective substrate using PE-CVD.

DLC-Schichten sind aus dem Stand der Technik bekannt. Insofern sei auf US 2018/0299587 A1 verwiesen.DLC layers are known from the prior art. In this respect, be up US 2018/0299587 A1 referred.

DLC-Schichten absorbieren im ganzen sichtbaren Spektralbereich und weisen daher einen großen Brechungsindex auf. Dies führt zu einer großen optischen Reflexion. DLC-Schichten können so stark reflektierend sein wie Anthrazit. Die Dispersion (das heißt, die Abhängigkeit der Brechungsindices von der Wellenlänge) von DLC-Schichten ist so groß, dass das reflektierte Licht eine grünliche Farbe annehmen kann. Die durchschnittliche Reflexion im sichtbaren Bereich beträgt bis zu ca. 40 %, was zu einem metallischen Aussehen der Beschichtung führt, die sich deutlich von einer dekorativ eloxierten Oberfläche unterscheidet und daher nicht gewünscht ist.DLC layers absorb across the entire visible spectral range and therefore have a large refractive index. This leads to a large optical reflection. DLC layers can be as highly reflective as anthracite. The dispersion (that is, the dependence of the refractive indices on the wavelength) of DLC layers is so great that the reflected light can take on a greenish color. The average reflection in the visible range is up to approx. 40%, which leads to a metallic appearance of the coating, which differs significantly from a decorative anodized surface and is therefore undesirable.

Andere Methoden zur Erzeugung einer schwarzen dekorativen Schicht auf einem Substrat weisen ebenfalls, je nach Methode, unterschiedliche Nachteile auf. So könnte ein schwarzes Erscheinungsbild auch durch eine schwarze Lackierung realisiert werden. Optisch hochwertige Lacke erfordern allerdings viele Lackierzyklen (bis zu zwölf), um eine einwandfreie Oberfläche zu garantieren. Eine praktische Möglichkeit hierbei ist die Verwendung von Klavierlack. Allerdings sind häufig die geringe Korrosionsschutzwirkung und die geringe Abrasions- und UV-Beständigkeit ein großes Problem (Klavierlack-)lackierter Bauteile. Weiterhin können Lacke die Struktur der Substratoberfläche (z. B. eine Frässtruktur) in der Regel nicht erhalten.Other methods of producing a black decorative layer on a substrate also have different disadvantages depending on the method. A black appearance could also be achieved with a black paint finish. However, visually high-quality paints require many painting cycles (up to twelve) to guarantee a flawless surface. A practical option here is to use piano lacquer. However, the low corrosion protection effect and the low abrasion and UV resistance are often a major problem with (piano lacquer) painted components. Furthermore, paints generally cannot preserve the structure of the substrate surface (e.g. a milled structure).

Die Galvanisierung mit Schwarz-Ruthenium führt im Vergleich zur Eloxierung zu einem ähnlichen Aussehen der Oberfläche. Der Preis von Ruthenium (Element der Platingruppe) ist jedoch sehr hoch und stark volatil.Black ruthenium electroplating results in a similar surface appearance compared to anodizing. However, the price of ruthenium (platinum group element) is very high and highly volatile.

Vor diesem Hintergrund war es eine primäre Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine dekorative Beschichtung mit schwarzem Erscheinungsbild für Substrate, bevorzugt für Metallsubstrate wie aluminiumhaltige Substrate, bereitzustellen, welche die oben genannten Nachteile der aus dem Stand der Technik bekannten Beschichtungen überwindet, das heißt, eine widerstandsfähige und vorzugsweise möglichst kostengünstige Beschichtung schwarzen Erscheinungsbildes bereitzustellen, welche zudem im Vergleich zu aus dem Stand der Technik bekannten Schichten deutlich schwächere oder bevorzugt keine metallisch anmutenden Reflexionen zeigt.Against this background, it was a primary object of the present invention to provide a decorative coating with a black appearance for substrates, preferably for metal substrates such as aluminum-containing substrates, which overcomes the above-mentioned disadvantages of the coatings known from the prior art, that is to say a resistant one and preferably to provide the most cost-effective coating with a black appearance, which also shows significantly weaker or preferably no metallic-looking reflections compared to layers known from the prior art.

Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung bestand darin, ein beschichtetes Substrat mit der entsprechenden Beschichtung anzugeben.A further object of the present invention was to provide a coated substrate with the corresponding coating.

Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung bestand zudem in der Angabe eines Verfahrens zum Beschichten der Oberfläche eines Substrats mit einer entsprechenden Beschichtung.A further object of the present invention was to provide a method for coating the surface of a substrate with a corresponding coating.

Die vorliegende Erfindung sollte es außerdem ermöglichen, die bereitzustellenden Beschichtungen schwarzen Erscheinungsbildes als Antireflex-Beschichtungen bzw. als Ersatz für eine Eloxal-Beschichtung zu verwenden.The present invention should also make it possible to use the black appearance coatings to be provided as anti-reflective coatings or as a replacement for an anodized coating.

Weitere Aufgaben ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung und den Patentansprüchen.Further tasks result from the following description and the patent claims.

Die primäre Aufgabe der vorliegenden Erfindung wird gelöst durch ein Schichtsystem umfassend eine DLC-Schicht a) mit einer Schichtdicke von ≥ 1,5 µm und eine Schicht b) zur Erzeugung einer Dickschichtinterferenz mit einer Schichtdicke von ≥ 2,6 µm.The primary object of the present invention is achieved by a layer system comprising a DLC layer a) with a layer thickness of ≥ 1.5 µm and a layer b) for generating a thick-film interference with a layer thickness of ≥ 2.6 µm.

Bei einer Ex-post-facto-Analyse des Gegenstands der Erfindung fällt auf, dass bereits eine Reihe von Antireflex-Beschichtungen vorbekannt sind, welche eine DLC-Schicht umfassen und Interferenz-Eigenschaften aufweisen.In an ex post facto analysis of the subject matter of the invention, it is noticeable that a number of anti-reflective coatings are already known which include a DLC layer and have interference properties.

So offenbart etwa US 2017/0166753 A1 eine Antireflexbeschichtung für ein lichtdurchlässiges Substrat, wobei die Antireflexbeschichtung ein DLC-Material umfasst.So revealed, for example US 2017/0166753 A1 an anti-reflective coating for a light-transmissive substrate, the anti-reflective coating comprising a DLC material.

US 2001/0028956 A1 offenbart einen beschichteten Gegenstand, der ein Substrat und ein auf dem Substrat vorgesehenes Beschichtungssystem umfasst, wobei das hydrophobe Beschichtungssystem eine Antireflex-Schicht und eine DLC-Schicht umfasst. US 2001/0028956 A1 discloses a coated article comprising a substrate and a coating system provided on the substrate, the hydrophobic coating system comprising an anti-reflective layer and a DLC layer.

US 2016/0023941 A1 offenbart ein Glas zur Verwendung auf einem elektronischen Anzeigebildschirm, umfassend ein Glassubstrat, eine DLC-Schicht und eine Antireflex-Schicht. US 2016/0023941 A1 discloses a glass for use on an electronic display screen comprising a glass substrate, a DLC layer and an anti-reflective layer.

Sämtliche der vorstehend aufgeführten vorbekannten Beschichtungen haben gemein, dass sowohl die DLC-Schicht als auch die etwaige zusätzlich vorhandene Antireflex-Schicht jeweils extrem dünn sind und Dicken im Bereich von wenigen Nanometern bis maximal 100 Nanometer aufweisen. Aus der geringen Dicke der vorstehend aufgeführten vorbekannten Beschichtungen folgt zum einen, dass diese nicht zur Erzeugung eines dekorativen schwarzen Erscheinungsbildes geeignet sind, da die offenbarten Dicken der DLC-Schichten zur Erzeugung eines solchen schwarzen Erscheinungsbildes nicht ausreichen (die vorstehend aufgeführten vorbekannten Beschichtungen sind aufgrund ihres vorgesehenen Einsatzgebietes auf durchsichtigen Substraten wie Glas selbst lichtdurchlässig gestaltet). Zum anderen lässt sich durch die vorbekannten extrem dünnen (Antireflex)-Schichten bzw. -Beschichtungen keine Dickschichtinterferenz erzeugen. Durch die vorbekannten dünnen Beschichtungen lässt sich lediglich eine Dünnschichtinterferenz erzeugen. Die Erzeugung einer Dünnschichtinterferenz ist im Sinne der vorliegenden Erfindung nicht gewünscht, da eine Dünnschichtinterferenz, im Gegensatz zu einer Dickschichtinterferenz, zum Auftreten von Interferenzfarben (das heißt, zum Auftreten etwaiger farbiger Reflexion) führt, welche gerade durch vorliegende Erfindung unterdrückt bzw. vorzugsweise ganz verhindert werden sollen.All of the previously known coatings listed above have in common that both the DLC layer and any additional anti-reflective layer are extremely thin and have thicknesses in the range from a few nanometers to a maximum of 100 nanometers. From the small thickness of the previously known coatings listed above, it follows, on the one hand, that they are not suitable for producing a decorative black appearance, since the disclosed thicknesses of the DLC layers are not sufficient to produce such a black appearance (the previously known coatings listed above are due to their intended area of application on transparent substrates such as glass itself designed to be translucent). On the other hand, the previously known extremely thin (anti-reflective) layers or coatings cannot produce thick-film interference. The previously known thin coatings can only produce thin-film interference. The generation of a thin-film interference is not desired in the sense of the present invention, since a thin-film interference, in contrast to a thick-film interference, leads to the appearance of interference colors (that is, to the appearance of any colored reflection), which is suppressed or preferably completely prevented by the present invention should be.

Im Ergebnis hätte der Fachmann daher zur Lösung der vorstehend formulierten primären Aufgabe und der weiteren formulierten Aufgaben keine der vorstehend genannten Offenbarungen in Erwägung gezogen, da diese sich jeweils gerade nicht mit der Erzeugung einer schwarzen Schicht (sondern im Gegenteil mit der Erzeugung einer möglichst lichtdurchlässigen Schicht) beschäftigen und schon allein deshalb jeweils nicht dem vorliegenden technischen Gebiet der Erfindung zuzuordnen sind.As a result, the person skilled in the art would not have considered any of the above-mentioned disclosures in order to solve the primary task formulated above and the further tasks formulated, since these do not deal with the production of a black layer (but, on the contrary, with the production of a layer that is as translucent as possible ) and for this reason alone cannot be assigned to the present technical field of the invention.

Wie vorstehend bereits erwähnt, dient die vom erfindungsgemäßen Schichtsystem umfasste Schicht b) zur Erzeugung einer Dickschichtinterferenz, welche insbesondere durch die Dicke der Schicht b) von ≥ 2,6 µm erhalten wird. Eine Dickschichtinterferenz im Sinne der vorliegenden Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass unter keinem Einfallswinkel eine farbige Reflexion zu beobachten ist, wenn die verwendete Lichtquelle ein kontinuierliches Spektrum aufweist. Die Erzeugung einer Dickschichtinterferenz bewirkt, dass - im Gegensatz zu einer Dünnschichtinterferenz - keine Interferenzfarben erzeugt werden und so ein ansonsten zu erwartender, z. B. grünlicher, Schimmer unterdrückt bzw. ganz vermieden wird. Die Dicke der Schicht b) ist dabei so gewählt, dass sich die Reflexionsmaxima im blauen, roten und grünen Spektralbereich befinden, was dazu führt, dass eine etwaige Reflexion vom erfindungsgemäßen Schichtsystem für den Betrachter weiß bzw. farblos erscheint.As already mentioned above, layer b) included in the layer system according to the invention serves to generate a thick-film interference, which is obtained in particular by the thickness of layer b) of ≥ 2.6 μm. Thick-film interference in the sense of the present invention is characterized by the fact that no colored reflection can be observed at any angle of incidence if the light source used has a continuous spectrum. The generation of a thick-film interference means that - in contrast to a thin-film interference - no interference colors are generated and so an otherwise expected, e.g. B. greenish, shimmer is suppressed or avoided entirely. The thickness of layer b) is chosen so that the reflection maxima are in the blue, red and green spectral range, which means that any reflection from the layer system according to the invention appears white or colorless to the viewer.

Im Rahmen der vorliegenden Erfindung ist die Schicht b) immer über der DLC-Schicht a) angeordnet, wobei jedoch nicht ausgeschlossen ist, dass zwischen der DLC-Schicht a) und der Schicht b) noch ein oder mehrere weitere Schichten angeordnet sind. Auch können auf bzw. über der Schicht b) noch ein oder mehrere weitere Schichten angeordnet sein. So sind vom Gegenstand der vorliegenden Erfindung z. B. auch Schichtsysteme umfasst, wobei zwischen der DLC-Schicht a) und der Schicht b) und/oder auf (bzw. über) der Schicht b) ein oder mehrere weitere Schichten - wie etwa eine (beispielsweise 10 nm dicke) Titandioxid-Schicht oder eine (beispielsweise 10 nm dicke) Zinkoxid-Schicht - angeordnet sind.In the context of the present invention, layer b) is always arranged above the DLC layer a), although it cannot be ruled out that one or more further layers are arranged between the DLC layer a) and the layer b). One or more further layers can also be arranged on or above layer b). The subject of the present invention, for example: B. also includes layer systems, wherein between the DLC layer a) and the layer b) and / or on (or above) the layer b) one or more further layers - such as a (for example 10 nm thick) titanium dioxide layer or one (for example 10 nm thick) zinc oxide layer - are arranged.

Bevorzugt ist ein erfindungsgemäßes Schichtsystem, wobei zwischen der DLC-Schicht a) und der Schicht b) eine organische plasmapolymere Zwischenschicht c) angeordnet ist.A layer system according to the invention is preferred, with an organic plasma-polymer intermediate layer c) being arranged between the DLC layer a) and the layer b).

Durch eine solche Zwischenschicht c) lässt sich die mit 2,6 oder mehr µm vergleichsweise sehr dicke Schicht b) einfacher applizieren bzw. realisieren. Zum anderen wirkt sich eine solche Zwischenschicht c) vorteilhaft auf die Hafteigenschaften der Schicht b) aus. So neigt die Schicht b) bei Vorliegen einer Zwischenschicht c) weniger stark zum Abplatzen und hält stärkeren mechanischen wie thermischen Belastungen stand.Such an intermediate layer c) makes it easier to apply or implement the comparatively very thick layer b) of 2.6 or more µm. On the other hand, such an intermediate layer c) has an advantageous effect on the adhesive properties of layer b). In the presence of an intermediate layer c), layer b) is less prone to flaking and can withstand greater mechanical and thermal loads.

Bevorzugt erfolgt die Applikation der Zwischenschicht c) unter Ausschluss von Prozessgasen, die die DLC-Schicht oxidativ angreifen könnten. Besonders bevorzugt erfolgt die Applikation der Zwischenschicht c) unter Ausschluss von Sauerstoff und Distickstoffmonoxid als Prozessgase. Mit anderen Worten werden für die Herstellung der Zwischenschicht c) vorzugsweise keine oxidativen Gase eingesetzt. Weiter bevorzugt handelt es sich bei der Zwischenschicht c) um eine oxidationsstabile Schicht, welche beispielsweise bei einem oxidativen Angriff mechanisch stabil bleibt.The application of the intermediate layer c) is preferably carried out with the exclusion of process gases that could oxidatively attack the DLC layer. The intermediate layer c) is particularly preferably applied with the exclusion of oxygen and nitrous oxide as process gases. In other words, preferably no oxidative gases are used to produce the intermediate layer c). More preferably, the intermediate layer c) is an oxidation-stable layer which remains mechanically stable, for example in the event of an oxidative attack.

Wie weiter oben bereits erläutert, war es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die (metallische) Reflexion einer dekorativen Beschichtung mit schwarzem Erscheinungsbild zu vermindern bzw. komplett zu verhindern. In diesem Zusammenhang ist ein erfindungsgemäßes Schichtsystem bevorzugt, wobei das Schichtsystem im Vergleich zu einem (ansonsten identischen) Schichtsystem ohne die Schicht b)
bei einem Einfallswinkel von 0° eine um 30 % bis 50 % reduzierte mittlere Reflexion aufweist
und/oder
bei einem Einfallswinkel von 40° eine um 30 % bis 50 % reduzierte mittlere Reflexion von s- und p-polarisiertem Licht aufweist
und/oder
bei einem Einfallswinkel von 80° eine um 10 % bis 30 % reduzierte mittlere Reflexion von s-polarisiertem Licht und/oder eine um 20 % bis 50 % erhöhte mittlere Reflexion von p-polarisiertem Licht aufweist,
jeweils gemessen mit Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 380 bis 600 nm.
As already explained above, it was an object of the present invention to reduce or completely prevent the (metallic) reflection of a decorative coating with a black appearance. In this context, a layer system according to the invention is preferred, the layer system being compared to an (otherwise identical) layer system without layer b).
has a mean reflection reduced by 30% to 50% at an angle of incidence of 0°
and or
at an angle of incidence of 40°, the average reflection of s- and p-polarized light is reduced by 30% to 50%
and or
at an angle of incidence of 80°, the mean reflection of s-polarized light is reduced by 10% to 30% and/or the mean reflection of p-polarized light is increased by 20% to 50%,
each measured with light with a wavelength in the range of 380 to 600 nm.

Im Sinne der vorliegenden Erfindung ist die unter der mittleren der arithmetische Mittelwert der Reflexion im gesamten sichtbaren Spektralbereich zu verstehen.For the purposes of the present invention, the mean is to be understood as the arithmetic mean of the reflection in the entire visible spectral range.

In Untersuchungen hat sich gezeigt, dass sich beim Einstellen bzw. Erreichen vorstehend genannter Reflexionswerte ein deutlich dunklerer Schwarzton erreichen lässt und der für DLC-Schichten übliche metallische Look (vollständig bzw. fast vollständig) verschwindet. Studies have shown that when the above-mentioned reflection values are set or achieved, a significantly darker shade of black can be achieved and the metallic look usual for DLC layers disappears (completely or almost completely).

Bevorzugt ist ein erfindungsgemäßes Schichtsystem, wobei das (vorzugsweise auf einem Aluminiumsubstrat, besonders vorzugsweise einem Aluminiumsubstrat der Spezifikation EN 6060 T66, abgeschiedene) Schichtsystem
den Sandrieseltest, durchgeführt nach DIN 52348:1985-02, besteht
und/oder
beim Mohshärte-Test, durchgeführt nach DIN-Norm DIN-EN-15771 , eine Mohshärte im Bereich von 4 bis 5 erzielt
und/oder
eine mittels Nanoindentation gemessene Härte im Bereich von 4 bis 6 GPa aufweist.
A layer system according to the invention is preferred, wherein the layer system (preferably deposited on an aluminum substrate, particularly preferably an aluminum substrate of the EN 6060 T66 specification).
passes the sand trickle test, carried out in accordance with DIN 52348:1985-02
and or
In the Mohs hardness test, carried out according to the DIN standard DIN-EN-15771, a Mohs hardness in the range of 4 to 5 was achieved
and or
has a hardness measured by nanoindentation in the range of 4 to 6 GPa.

Der Sandrieseltest bzw. das Sandriesel-Verfahren, durchgeführt nach DIN 52348:1985-02, gilt im Sinne der vorliegenden Erfindung dann als bestanden, wenn nach dem Berieseln mit des Schichtsystems mit dem Sand - z. B. anhand von mikroskopischen Aufnahmen - kein Abplatzen bzw. Abblättern der Schicht b) verzeichnet werden kann, die Schicht b) also einer Berieselung mit dem Sand standhält.The sand trickle test or the sand trickle method, carried out according to DIN 52348:1985-02, is considered to have been passed in the sense of the present invention if, after sprinkling the layer system with the sand - e.g. B. based on microscopic photographs - no flaking or flaking of layer b) can be recorded, so layer b) can withstand being sprinkled with the sand.

Bevorzugt wird die mittels Nanoindentation (Nanoindentierung) gemessene Härte wie in den Beispielen von WO 2009/056635 A2 erläutert, bestimmt.The hardness measured by means of nanoindentation (nanoindentation) is preferred, as in the examples of WO 2009/056635 A2 explained, determined.

Entsprechend bevorzugt sind erfindungsgemäße Schichtsysteme, welche eine gewisse Härte aufweisen bzw. eine gewisse Mindesthaftung für die Schicht b) des Schichtsystems aufweisen, da hierdurch die Widerstandsfähigkeit des Schichtsystems gegenüber äußeren (mechanischen) Einflüssen erhöht wird.Correspondingly preferred are layer systems according to the invention which have a certain hardness or a certain minimum adhesion for layer b) of the layer system, since this increases the resistance of the layer system to external (mechanical) influences.

Bevorzugt ist ein erfindungsgemäßes Schichtsystem, wobei
die DLC-Schicht a) eine Schichtdicke im Bereich von 1,2 bis 5 µm aufweist, besonders bevorzugt eine Schichtdicke im Bereich von 1,4 bis 4 µm,
und/oder
die organische plasmapolymere Zwischenschicht c) eine Zwischenschicht im Bereich von 5 bis 20 nm aufweist, bevorzugt im Bereich von 10 bis 20 nm,
und/oder
die Schicht b) eine Schichtdicke im Bereich von 2,6 bis 3,5 µm aufweist, bevorzugt im Bereich von 2,6 bis 3,0 µm.
A layer system according to the invention is preferred, wherein
the DLC layer a) has a layer thickness in the range from 1.2 to 5 μm, particularly preferably a layer thickness in the range from 1.4 to 4 μm,
and or
the organic plasma polymer intermediate layer c) has an intermediate layer in the range from 5 to 20 nm, preferably in the range from 10 to 20 nm,
and or
the layer b) has a layer thickness in the range from 2.6 to 3.5 μm, preferably in the range from 2.6 to 3.0 μm.

Mit diesen Schichtdicken lassen sich zum einen Schichtsysteme mit einem besonders vorteilhaften (i) tiefschwarzen Erscheinungsbild, (ii) Haftanbindungswert der Schicht b) auf den übrigen Schichten, bzw. (iii) mit einer besonders schwach ausgeprägten bzw. nicht vorhandenen farblichen (metallisch anmutenden) Reflexion erhalten. Zum anderen wird durch die Wahl vorstehend genannter Schichtdicken ein besonders stabiles Schichtverbundsystem erhalten.With these layer thicknesses, layer systems with a particularly advantageous (i) deep black appearance, (ii) adhesion value of layer b) on the other layers, or (iii) with a particularly weak or non-existent color (with a metallic appearance) can be created. Receive reflection. On the other hand, the choice of the above-mentioned layer thicknesses results in a particularly stable layer composite system.

Auch lassen sich die angestrebten Reflexionseigenschaften des erfindungsgemäßen Schichtsystems durch Wahl bzw. Einstellung eines bestimmten Brechungsindex für die Schicht b) weiter begünstigen. In diesem Zusammenhang ist ein erfindungsgemäßes Schichtsystem bevorzugt, wobei die Schicht b) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm einen Brechungsindex im Bereich von 1,35 bis 1,8 besitzt.The desired reflection properties of the layer system according to the invention can also be further promoted by selecting or setting a specific refractive index for layer b). In this context, a layer system according to the invention is preferred, with layer b) having a refractive index in the range from 1.35 to 1.8 at a wavelength of 380 to 780 nm.

Bevorzugt ist ein erfindungsgemäßes Schichtsystem, wobei die Herstellung der Schichten a) bis c) mittels PE-CVD unter jeweiligem Einsatz von Precursor-Zusammensetzungen umfassend jeweils eine oder mehrere Precursor-Verbindungen erfolgt, wobei vorzugsweise die Precursor-Zusammensetzungen für die Herstellung der Schichten a) bis c) jeweils mindestens eine Precursor-Verbindung des gleichen Typs umfassen, besonders vorzugsweise jeweils mindestens eine gemeinsame Precursor-Verbindung umfassen.A layer system according to the invention is preferred, wherein the layers a) to c) are produced by means of PE-CVD using precursor compositions each comprising one or more precursor compounds, the precursor compositions preferably being used for the production of layers a). to c) each comprise at least one precursor compound of the same type, particularly preferably each comprise at least one common precursor compound.

Hierbei sind insbesondere solche Schichtsysteme weiter bevorzugt, wobei die Precursor-Zusammensetzungen für die Herstellung der Schichten a) bis c) als Precursor-Verbindung des gleichen Typs jeweils mindestens eine siliciumorganische Precursor-Verbindung umfassen, bevorzugt eine siliciumorganische Precursor-Verbindung ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Hexamethyldisiloxan und Tetramethylsilan, wobei die Precursor-Zusammensetzungen für die Herstellung der Schichten a) bis c) vorzugsweise als gemeinsame Precursor-Verbindung jeweils Hexamethyldisiloxan umfassen.In particular, such layer systems are further preferred, the precursor compositions for the production of layers a) to c) each comprising at least one organosilicon precursor compound as a precursor compound of the same type, preferably an organosilicon precursor compound selected from the group consisting from hexamethyldisiloxane and tetramethylsilane, the precursor compositions for the production of layers a) to c) preferably each comprising hexamethyldisiloxane as a common precursor compound.

Indem für die Herstellung der Schichten a) bis c) Precursor-Zusammensetzungen mit teilweise übereinstimmenden/ähnlichen Precursor-Verbindungen verwendet werden, lässt sich - wie Untersuchungen gezeigt haben - der Haftverbund zwischen den einzelnen Schichten des Schichtsystems weiter in vorteilhafter Weise steigern. Der Einsatz von insbesondere Hexamethyldisiloxan und Tetramethylsilan als „überlappende“ Verbindungen in den Precursor-Zusammensetzungen für die Herstellung der Schichten a) bis c) hat sich dabei als besonders geeignet erwiesen.By using precursor compositions with partially identical/similar precursor compounds to produce layers a) to c), studies have shown that the adhesive bond between the individual layers of the layer system can be further increased in an advantageous manner. The use of in particular hexamethyldisiloxane and tetramethylsilane as “overlapping” compounds in the precursor compositions for the production of layers a) to c) has proven to be particularly suitable.

Ebenfalls bevorzugt ist ein erfindungsgemäßes Schichtsystem, wobei
der Silicium-Anteil der Schicht a) und/oder der Schicht b) und/oder der Schicht c) mindestens 1,5 Atom-% beträgt, jeweils bestimmt mittels XPS,
und/oder
die organische plasmapolymere Zwischenschicht c) eine siliciumorganische Schicht ist, vorzugsweise hergestellt aus ein oder mehreren Precursor-Verbindungen ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Hexamethyldisiloxan und Tetramethylsilan, besonders vorzugsweise hergestellt aus Hexamethyldisiloxan,
und/oder
die Schicht b) eine SiOx-Schicht ist, wobei x eine Zahl im Bereich von 1,3 bis 2 ist.
A layer system according to the invention is also preferred, wherein
the silicon content of layer a) and/or layer b) and/or layer c) is at least 1.5 atomic percent, each determined using XPS,
and or
the organic plasma polymer intermediate layer c) is an organosilicon layer, preferably made from one or more precursor compounds selected from the group consisting of hexamethyldisiloxane and tetramethylsilane, particularly preferably made from hexamethyldisiloxane,
and or
the layer b) is an SiO x layer, where x is a number in the range from 1.3 to 2.

Bevorzugt liegt eine Anreicherung des, eines oder der Siliciumgehalte im Grenzbereich der Schichten a) und c) und/oder b) und c) oder a) und b) vor. Dies unterstützt die Anbindung der jeweiligen Schichten aneinander.There is preferably an enrichment of one or more silicon contents in the boundary region of layers a) and c) and/or b) and c) or a) and b). This supports the connection of the respective layers to one another.

Eine weitere der vorstehend beschriebenen Aufgaben wird gelöst durch ein beschichtetes Substrat, umfassend das erfindungsgemäße oder bevorzugt erfindungsgemäße Schichtsystem (wie oben und in den Ansprüchen definiert).Another of the tasks described above is achieved by a coated substrate comprising the layer system according to the invention or preferably according to the invention (as defined above and in the claims).

Bevorzugt ist ein erfindungsgemäßes beschichtetes Substrat, wobei zwischen der Oberfläche des Substrats und der DLC-Schicht a) eine als Haftvermittler dienende plasmapolymere Schicht d) angeordnet ist, wobei die plasmapolymere Schicht d) vorzugsweise eine siliciumorganische Schicht ist, vorzugsweise hergestellt aus ein oder mehreren Precursor-Verbindungen ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Hexamethyldisiloxan und Tetramethylsilan, besonders vorzugsweise hergestellt aus Hexamethyldisiloxan.A coated substrate according to the invention is preferred, with a plasma polymer layer d) serving as an adhesion promoter being arranged between the surface of the substrate and the DLC layer a), the plasma polymer layer d) preferably being an organosilicon layer, preferably made from one or more precursors -Compounds selected from the group consisting of hexamethyldisiloxane and tetramethylsilane, particularly preferably produced from hexamethyldisiloxane.

Eine solche, zwischen der Oberfläche des Substrats und der DLC-Schicht a) angeordnete plasmapolymere Schicht d) verbessert die Haftung zwischen dem Substrat und dem Schichtsystem in vorteilhafter Weise.Such a plasma polymer layer d) arranged between the surface of the substrate and the DLC layer a) advantageously improves the adhesion between the substrate and the layer system.

Ebenfalls bevorzugt ist ein erfindungsgemäßes beschichtetes Substrat, wobei das Substrat ein Metallsubstrat ist, vorzugsweise ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Aluminium, Aluminium-Legierungen, Zinkdruckgusslegierungen und Magnesiumlegierungen, besonders vorzugsweise ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus EN AW-2024, EN AW-7019, EN AW-7021, EN AW-7022, EN AW-7075, Z 400, Z 410, Z 430 und Z 610, wobei das Substrat vorzugsweise eine Metall-Legierung mit einer Brinellhärte im Bereich von HB 80 bis HB190 ist.Also preferred is a coated substrate according to the invention, the substrate being a metal substrate, preferably selected from the group consisting of aluminum, aluminum alloys, zinc die-cast alloys and magnesium alloys, particularly preferably selected from the group consisting of EN AW-2024, EN AW-7019, EN AW-7021, EN AW-7022, EN AW-7075, Z 400, Z 410, Z 430 and Z 610, wherein the substrate is preferably a metal alloy with a Brinell hardness in the range of HB 80 to HB190.

Die vorliegende Erfindung erlaubt es somit, auch harte Aluminium-Legierungen - die einem Eloxalprozess verschlossen bleiben - mit einer tiefschwarzen Farbe zu versehen. Die Verwendung einer harten Aluminium-Legierung als Substrat hat insoweit den Vorteil, dass harte Aluminium-Legierungen etwa bei höheren Geschwindigkeiten gefräst, gebohrt, etc. (das heißt, bearbeitet) werden können. Dies wiederum erlaubt ein deutlich wirtschaftlicheres Herstellen von Aluminium-Bauteilen. Durch die Kombination einer (harten) DLC-Schicht mit einem harten Aluminium-Substrat wird außerdem die Kratzbeständigkeit und die Haltbarkeit von Aluminium-Bauteilen in vorteilhafter Weise erhöht.The present invention therefore also makes it possible to use hard aluminum alloys - which have an Elo xal process remain closed - to be given a deep black color. The use of a hard aluminum alloy as a substrate has the advantage that hard aluminum alloys can be milled, drilled, etc. (that is, processed) at higher speeds. This in turn allows aluminum components to be manufactured much more economically. The combination of a (hard) DLC layer with a hard aluminum substrate also advantageously increases the scratch resistance and durability of aluminum components.

Vorstehend beschriebene Aufgaben werden ebenfalls gelöst durch ein Verfahren zum Beschichten der Oberfläche eines Substrats mit einem erfindungsgemäßen oder bevorzugt erfindungsgemäßen Schichtsystem (wie oben und in den Ansprüchen definiert), wobei das Verfahren folgende Schritte umfasst:

  1. I) Bereitstellen des Substrates und gegebenenfalls Säubern der zu beschichtenden Substratoberfläche,
  2. II) Applizieren einer DLC-Schicht a), wie oben und in den Ansprüchen definiert,
  3. III) ggf. Applizieren einer organischen plasmapolymeren Zwischenschicht c), wie oben und in den Ansprüchen definiert, auf die in Schritt II) erhaltene DLC-Schicht a),
  4. IV) Applizieren einer Schicht b), wie oben und in den Ansprüchen definiert, wobei das Applizieren der Schichten a) bis c) mittels PE-CVD unter jeweiligem Einsatz von Precursor-Zusammensetzungen umfassend jeweils ein oder mehrere Precursor-Verbindungen erfolgt.
The tasks described above are also achieved by a method for coating the surface of a substrate with a layer system according to the invention or preferably according to the invention (as defined above and in the claims), the method comprising the following steps:
  1. I) preparing the substrate and, if necessary, cleaning the substrate surface to be coated,
  2. II) applying a DLC layer a) as defined above and in the claims,
  3. III) optionally applying an organic plasma polymer intermediate layer c), as defined above and in the claims, to the DLC layer a) obtained in step II).
  4. IV) Applying a layer b) as defined above and in the claims, wherein the layers a) to c) are applied by means of PE-CVD with the respective use of precursor compositions each comprising one or more precursor compounds.

Bevorzugt ist ein erfindungsgemäßes Verfahren, wobei die in den Schritten II) bis IV) eingesetzten Precursor-Zusammensetzungen jeweils mindestens eine Precursor-Verbindung des gleichen Typs umfassen, vorzugsweise jeweils mindestens eine gemeinsame Precursor-Verbindung umfassen wobei vorzugsweise die mindestens eine Precursor-Verbindung des gleichen Typs in den Schritten II) bis IV) eine siliciumorganische Precursor-Verbindung ist, bevorzugt eine siliciumorganische Precursor-Verbindung ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Hexamethyldisiloxan und Tetramethylsilan, wobei besonders vorzugsweise die Precursor-Zusammensetzungen in den Schritten II) bis IV) als gemeinsame Precursor-Verbindung jeweils Hexamethyldisiloxan umfassen.Preference is given to a method according to the invention, wherein the precursor compositions used in steps II) to IV) each comprise at least one precursor compound of the same type, preferably each comprising at least one common precursor compound, preferably the at least one precursor compound of the same type Type in steps II) to IV) is an organosilicon precursor compound, preferably an organosilicon precursor compound selected from the group consisting of hexamethyldisiloxane and tetramethylsilane, with particularly preferably the precursor compositions in steps II) to IV) as common precursors -Compound each include hexamethyldisiloxane.

Ebenfalls bevorzugt sind erfindungsgemäße Verfahren,
wobei das Substrat ein Metallsubstrat ist, vorzugsweise ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Aluminium, Aluminium-Legierungen, Zinkdruckgusslegierungen und Magnesiumlegierungen, besonders vorzugsweise ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus EN AW-2024, EN AW-7019, EN AW-7021, EN AW-7022, EN AW-7075, Z 400, Z 410, Z 430 und Z 610
wobei das Substrat vorzugsweise eine Metall-Legierung mit einer Brinellhärte im Bereich von HB 80 bis HB 190 ist.
und/oder
umfassend zwischen den Schritten I) und II) einen Schritt I.a) Applizieren einer plasmapolymere Schicht d) vorzugsweise einer siliciumorganische Schicht, vorzugsweise hergestellt aus einen oder mehreren Precursor-Verbindungen ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Hexamethyldisiloxan und Tetramethylsilan, besonders vorzugsweise hergestellt aus Hexamethyldisiloxan.
Also preferred are methods according to the invention,
wherein the substrate is a metal substrate, preferably selected from the group consisting of aluminum, aluminum alloys, zinc die-cast alloys and magnesium alloys, particularly preferably selected from the group consisting of EN AW-2024, EN AW-7019, EN AW-7021, EN AW- 7022, EN AW-7075, Z 400, Z 410, Z 430 and Z 610
wherein the substrate is preferably a metal alloy with a Brinell hardness in the range of HB 80 to HB 190.
and or
comprising between steps I) and II) a step Ia) applying a plasma polymer layer d) preferably an organosilicon layer, preferably made from one or more precursor compounds selected from the group consisting of hexamethyldisiloxane and tetramethylsilane, particularly preferably made from hexamethyldisiloxane.

Ein Teil der Erfindung ist auch die Verwendung eines erfindungsgemäßen oder bevorzugt erfindungsgemäßen Schichtsystems (wie oben und in den Ansprüchen definiert, als Antireflexbeschichtung und/oder als Ersatz für eine Eloxal-Beschichtung, insbesondere als Beschichtung für Fahrzeugteile (zum Beispiel als Beschichtung für die Rückseite von Motorradspiegeln), Uhren, Schmuck und/oder Messer.Part of the invention is also the use of a layer system according to the invention or preferably according to the invention (as defined above and in the claims, as an anti-reflective coating and / or as a replacement for an anodized coating, in particular as a coating for vehicle parts (for example as a coating for the back of motorcycle mirrors), watches, jewelry and/or knives.

Beispiele:Examples:

Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Beispielen näher erläutert. Die nachstehend angegebenen Beispiele sollen die Erfindung dabei näher beschreiben und erklären, ohne ihren Umfang zu beschränken.The invention is explained in more detail below using examples. The examples given below are intended to describe and explain the invention in more detail without limiting its scope.

Beispiel 1 (erfindungsgemäß):Example 1 (according to the invention):

Ein Aluminiumsubstrat wurde mit Hilfe eines PE-CVD-Prozesses mit einer DLC-Schicht beschichtet. Der verwendete Reaktor hatte ein Volumen von 360 L und eine Plasmaentladungsfrequenz von 13,56 MHz.An aluminum substrate was coated with a DLC layer using a PE-CVD process. The reactor used had a volume of 360 L and a plasma discharge frequency of 13.56 MHz.

Für die Beschichtung wurde das Aluminiumsubstrat auf die 32 cm × 32 cm große Plasmaelektrode gelegt und das Aluminiumsubstrat wurde somit als Kathode geschaltet. Nach dem Abpumpen des Reaktors auf einen Basisdruck von 5*10-3 mbar, wurde Argon mit einem Fluss von 5 sccm (Standardkubikzentimeter pro Minute) eingegeben. Die Plasmaleistung wurde so eingestellt, dass sich eine Self-Bias-Spannung von 850 V auf dem Aluminiumsubstrat einstellte.For the coating, the aluminum substrate was placed on the 32 cm × 32 cm plasma electrode and the aluminum substrate was thus switched as a cathode. After pumping down the reactor to a base pressure of 5*10 -3 mbar, argon was introduced at a flow of 5 sccm (standard cubic centimeters per minute). The plasma power was adjusted to produce a self-bias voltage of 850 V on the aluminum substrate.

Nach 5 Minuten Prozesszeit wurde Tetramethylsilan (TMS) mit einem Fluss von 20 sccm in den Reaktor eingelassen und gleichzeitig der Argon-Fluss auf 0 gesetzt. Nach 2 Minuten hatte sich eine als Haftvermittler dienende plasmapolymere Schicht auf dem Substrat abgeschieden.After a process time of 5 minutes, tetramethylsilane (TMS) was admitted into the reactor at a flow of 20 sccm and at the same time the argon flow was set to 0. After 2 minutes one had plasma polymer layer serving as an adhesion promoter is deposited on the substrate.

Anschließend wurde die Self-Bias-Spannung auf 600 V gesenkt, der TMS-Fluss auf 0 gesetzt und Toluol mit einem Fluss von 110 sccm eingelassen. Zusätzlich wurde Hexamethyldisiloxan (HMDSO) mit 5 sccm eingelassen. Nach 20 Minuten hatte sich eine Toluolbasierte DLC-Schicht mit einer Schichtdicke von 2,4 µm abgeschieden.The self-bias voltage was then lowered to 600 V, the TMS flow was set to 0, and toluene was admitted at a flow of 110 sccm. Additionally, hexamethyldisiloxane (HMDSO) was admitted at 5 sccm. After 20 minutes, a toluene-based DLC layer with a layer thickness of 2.4 µm was deposited.

Die Self-Bias-Spannung wurde auf 450 V reduziert, der Toluol-Fluss auf 0 gesetzt und Sauerstoff wurde mit einem Fluss von 120 sccm eingelassen. Nach 20 Sekunden wurde der HMDSO-Fluss auf 12 sccm gesteigert. Nach 45 Minuten Prozesszeit hatte sich auf der DLC-Schicht eine SiOx-Schicht mit einer Schichtdicke von 3,5 µm gebildet.The self-bias voltage was reduced to 450 V, the toluene flow was set to 0, and oxygen was admitted at a flow of 120 sccm. After 20 seconds, the HMDSO flow was increased to 12 sccm. After a process time of 45 minutes, an SiO x layer with a layer thickness of 3.5 µm had formed on the DLC layer.

Beispiel 2 (nicht-erfindunqsqemäß):Example 2 (not according to the invention):

Ein Aluminiumsubstrat wurde wie im vorstehenden Beispiel 1 beschrieben mit einer DLC-Schicht beschichtet, wobei der Beschichtungsvorgang nach Abscheidung der DLC-Schicht beendet (das heißt keine SiOx-Schicht auf der DLC-Schicht abgeschieden) wurde.An aluminum substrate was coated with a DLC layer as described in Example 1 above, with the coating process being ended after the DLC layer had been deposited (i.e. no SiO x layer was deposited on the DLC layer).

In 1 sind sich die in den Beispielen 1 und 2 hergestellten beschichteten gegenübergestellt (links: beschichtetes Substrat aus Beispiel 1, rechts: beschichtetes Substrat aus Beispiel 2).In 1 the coated ones produced in Examples 1 and 2 are compared (left: coated substrate from Example 1, right: coated substrate from Example 2).

Wie anhand von 1 erkennbar ist, erzeugt das in Beispiel 1 applizierte Schichtsystem (welches neben der DLC-Schicht zusätzlich eine 3,5 µm dicke SiOx-Schicht aufweist) im Vergleich zu der in Beispiel 2 applizierten DLC-Schicht (ohne SiOx-Schicht) ein deutlich tieferes Schwarz. Darüber hinaus zeigt die in Beispiel 2 applizierte DLC-Schicht eine grünliche - metallisch anmutende - Reflexion, welche bei dem in Beispiel 1 applizierten Schichtsystem nicht erkennbar ist.Like based on 1 can be seen, the layer system applied in Example 1 (which, in addition to the DLC layer, also has a 3.5 µm thick SiO x layer) produces a significant difference compared to the DLC layer applied in Example 2 (without SiO x layer). deeper black. In addition, the DLC layer applied in Example 2 shows a greenish - metallic-looking - reflection, which is not visible in the layer system applied in Example 1.

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

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  • WO 2009/056635 A2 [0033]WO 2009/056635 A2 [0033]

Claims (15)

Schichtsystem umfassend eine DLC-Schicht a) mit einer Schichtdicke von ≥ 1,2 µm und eine Schicht b) zur Erzeugung einer Dickschichtinterferenz mit einer Schichtdicke von ≥ 2,6 µm.Comprehensive shift system a DLC layer a) with a layer thickness of ≥ 1.2 µm and a layer b) to generate a thick-film interference with a layer thickness of ≥ 2.6 µm. Schichtsystem nach Anspruch 1, wobei zwischen der DLC-Schicht a) und der Schicht b) eine organische plasmapolymere Zwischenschicht c) angeordnet ist.Shift system Claim 1 , wherein an organic plasma polymer intermediate layer c) is arranged between the DLC layer a) and the layer b). Schichtsystem nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei das Schichtsystem im Vergleich zu einem Schichtsystem ohne die Schicht b) bei einem Einfallswinkel von 0° eine um 30% bis 50% reduzierte mittlere Reflexion aufweist und/oder bei einem Einfallswinkel von 40° eine um 30% bis 50% reduzierte mittlere Reflexion von s- und p-polarisiertem Licht aufweist und/oder bei einem Einfallswinkel von 80° eine um 10% bis 30% reduzierte mittlere Reflexion von s-polarisiertem Licht und/oder eine um 20% bis 50% erhöhte mittlere Reflexion von p-polarisiertem Licht aufweist, jeweils gemessen mit Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 380 bis 600 nm.Layer system according to one of the preceding claims, wherein the layer system is compared to a layer system without layer b) has a mean reflection reduced by 30% to 50% at an angle of incidence of 0° and/or at an angle of incidence of 40°, the average reflection of s- and p-polarized light is reduced by 30% to 50% and or at an angle of incidence of 80°, the mean reflection of s-polarized light is reduced by 10% to 30% and/or the mean reflection of p-polarized light is increased by 20% to 50%, each measured with light with a wavelength in the range of 380 to 600 nm. Schichtsystem nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei das Schichtsystem den Sandrieseltest, durchgeführt nach DIN 52348:1985-02, besteht und/oder beim Mohshärte-Test, durchgeführt nach DIN-Norm DIN-EN-15771, eine Mohshärte im Bereich von 4 bis 5 erzielt und/oder eine mittels Nanoindentation gemessene Härte im Bereich von 4 bis 6 GPa aufweist.Layer system according to one of the preceding claims, wherein the layer system passes the sand trickle test, carried out in accordance with DIN 52348:1985-02 and or In the Mohs hardness test, carried out according to the DIN standard DIN-EN-15771, a Mohs hardness in the range of 4 to 5 was achieved and or has a hardness measured by nanoindentation in the range of 4 to 6 GPa. Schichtsystem nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die DLC-Schicht a) eine Schichtdicke im Bereich von 1,2 bis 5 µm aufweist, besonders bevorzugt eine Schichtdicke im Bereich von 1,4 bis 4 µm, und/oder die organische plasmapolymere Zwischenschicht c) eine Schichtdicke im Bereich von 5 bis 20 nm aufweist, bevorzugt im Bereich von 10 bis 20 nm, und/oder die Schicht b) eine Schichtdicke im Bereich von 2,6 bis 3,5 µm aufweist, bevorzugt im Bereich von 2,6 bis 3,0 µm, und/oder die Schicht b) bei einer Wellenlänge von 380 bis 780 nm einen Brechungsindex im Bereich von 1,35 bis 1,8 besitzt.Layer system according to one of the preceding claims, wherein the DLC layer a) has a layer thickness in the range from 1.2 to 5 μm, particularly preferably a layer thickness in the range from 1.4 to 4 μm, and or the organic plasma polymer intermediate layer c) has a layer thickness in the range from 5 to 20 nm, preferably in the range from 10 to 20 nm, and or the layer b) has a layer thickness in the range from 2.6 to 3.5 µm, preferably in the range from 2.6 to 3.0 µm, and or the layer b) has a refractive index in the range from 1.35 to 1.8 at a wavelength of 380 to 780 nm. Schichtsystem nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die Herstellung der Schichten a) bis c) mittels PE-CVD unter jeweiligem Einsatz von Precursor-Zusammensetzungen umfassend jeweils eine oder mehrere Precursor-Verbindungen erfolgt, wobei vorzugsweise die Precursor-Zusammensetzungen für die Herstellung der Schichten a) bis c) jeweils mindestens eine Precursor-Verbindung des gleichen Typs umfassen, besonders vorzugsweise jeweils mindestens eine gemeinsame Precursor-Verbindung umfassen.Layer system according to one of the preceding claims, wherein the production of the layers a) to c) takes place by means of PE-CVD with the respective use of precursor compositions each comprising one or more precursor compounds, the precursor compositions preferably being used for the production of the layers a ) to c) each comprise at least one precursor compound of the same type, particularly preferably each comprise at least one common precursor compound. Schichtsystem nach Anspruch 6, wobei die Precursor-Zusammensetzungen für die Herstellung der Schichten a) bis c) als Precursor-Verbindung des gleichen Typs jeweils mindestens eine siliciumorganische Precursor-Verbindung umfassen, bevorzugt eine siliciumorganische Precursor-Verbindung ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Hexamethyldisiloxan und Tetramethylsilan, wobei die Precursor-Zusammensetzungen für die Herstellung der Schichten a) bis c) vorzugsweise als gemeinsame Precursor-Verbindung jeweils Hexamethyldisiloxan umfassen.Shift system Claim 6 , wherein the precursor compositions for the production of layers a) to c) each comprise, as a precursor compound of the same type, at least one organosilicon precursor compound, preferably an organosilicon precursor compound selected from the group consisting of hexamethyldisiloxane and tetramethylsilane, whereby the Precursor compositions for the production of layers a) to c) preferably each comprise hexamethyldisiloxane as a common precursor compound. Schichtsystem nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei der Silicium-Anteil der Schicht a) und/oder der Schicht b) und/oder der Schicht c) mindestens 1,5 Atom-% beträgt, jeweils bestimmt mittels XPS, und/oder die organische plasmapolymere Zwischenschicht c) eine siliciumorganische Schicht ist, vorzugsweise hergestellt aus ein oder mehreren Precursor-Verbindungen ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Hexamethyldisiloxan und Tetramethylsilan, besonders vorzugsweise hergestellt aus Hexamethyldisiloxan, und/oder die Schicht b) eine SiOx-Schicht ist, wobei x eine Zahl im Bereich von 1,3 bis 2 ist.Layer system according to one of the preceding claims, wherein the silicon content of layer a) and/or layer b) and/or layer c) is at least 1.5 atomic percent, in each case determined by means of XPS, and/or the organic plasma polymers Intermediate layer c) is an organosilicon layer, preferably made from one or more precursor compounds selected from the group consisting of hexamethyldisiloxane and tetramethylsilane, particularly preferably made from hexamethyldisiloxane, and / or layer b) is an SiO x layer, where x is one Number is in the range of 1.3 to 2. Beschichtetes Substrat, umfassend das Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 8 als Beschichtung.Coated substrate, comprising the layer system according to one of Claims 1 until 8th as a coating. Beschichtetes Substrat nach Anspruch 9, wobei zwischen der Oberfläche des Substrats und der DLC-Schicht a) eine als Haftvermittler dienende plasmapolymere Schicht d) angeordnet ist, wobei die plasmapolymere Schicht d) vorzugsweise eine siliciumorganische Schicht ist, vorzugsweise hergestellt aus ein oder mehreren Precursor-Verbindungen ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Hexamethyldisiloxan und Tetramethylsilan, besonders vorzugsweise hergestellt aus Hexamethyldisiloxan.Coated substrate after Claim 9 , wherein between the surface of the substrate and the DLC layer a) a plasma polymer layer d) serving as an adhesion promoter is arranged, the plasma polymer layer d) preferably being an organosilicon layer, preferably made from one or more precursor compounds selected from the group consisting of hexamethyldisiloxane and tetramethylsilane, particularly preferably made from hexamethyldisiloxane. Beschichtetes Substrat nach Anspruch 9 oder 10, wobei das Substrat ein Metallsubstrat ist, vorzugsweise ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Aluminium, Aluminium-Legierungen, Zinkdruckgusslegierungen und Magnesiumlegierungen, besonders vorzugsweise ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus EN AW-2024, EN AW-7019, EN AW-7021, EN AW-7022, EN AW-7075, Z 400, Z 410, Z 430 und Z 610, wobei das Substrat vorzugsweise eine Metall-Legierung mit einer Brinellhärte im Bereich von HB 80 bis HB 190 ist.Coated substrate after Claim 9 or 10 , where the substrate is a metal substrate, preferably selected from the group consisting of aluminum, aluminum alloys, zinc die-cast alloys and magnesium alloys, particularly preferably selected from the group consisting of EN AW-2024, EN AW-7019, EN AW-7021, EN AW-7022, EN AW-7075, Z 400, Z 410, Z 430 and Z 610, wherein the substrate is preferably a metal alloy with a Brinell hardness in the range of HB 80 to HB 190. Verfahren zum Beschichten der Oberfläche eines Substrats mit einem Schichtsystem, wie in einem der Ansprüche 1 bis 8 definiert, wobei das Verfahren folgende Schritte umfasst: I) Bereitstellen des Substrates und gegebenenfalls Säubern der zu beschichtenden Substratoberfläche, II) Applizieren einer DLC-Schicht a), wie in einem der Ansprüche 1 bis 8 definiert, III) ggf. Applizieren einer organischen plasmapolymeren Zwischenschicht c), wie in einem der Ansprüche 1 bis 8 definiert, auf die in Schritt II) erhaltene DLC-Schicht a), IV) Applizieren einer Schicht b), wie in einem der Ansprüche 1 bis 8 definiert, wobei das Applizieren der Schichten a) bis c) mittels PE-CVD unter jeweiligem Einsatz von Precursor-Zusammensetzungen umfassend jeweils ein oder mehrere Precursor-Verbindungen erfolgt.Method for coating the surface of a substrate with a layer system, as in one of Claims 1 until 8th defined, the method comprising the following steps: I) preparing the substrate and optionally cleaning the substrate surface to be coated, II) applying a DLC layer a), as in one of Claims 1 until 8th defined, III) optionally applying an organic plasma polymer intermediate layer c), as in one of Claims 1 until 8th defined, to the DLC layer a) obtained in step II), IV) applying a layer b), as in one of Claims 1 until 8th defined, wherein the layers a) to c) are applied by means of PE-CVD using precursor compositions each comprising one or more precursor compounds. Verfahren nach Anspruch 12, wobei die in den Schritten II) bis IV) eingesetzten Precursor-Zusammensetzungen jeweils mindestens eine Precursor-Verbindung des gleichen Typs umfassen, vorzugsweise jeweils mindestens eine gemeinsame Precursor-Verbindung umfassen wobei vorzugsweise die mindestens eine Precursor-Verbindung des gleichen Typs in den Schritten II) bis IV) eine siliciumorganische Precursor-Verbindung ist, bevorzugt eine siliciumorganische Precursor-Verbindung ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Hexamethyldisiloxan und Tetramethylsilan, wobei besonders vorzugsweise die Precursor-Zusammensetzungen in den Schritten II) bis IV) als gemeinsame Precursor-Verbindung jeweils Hexamethyldisiloxan umfassen.Procedure according to Claim 12 , wherein the precursor compositions used in steps II) to IV) each comprise at least one precursor compound of the same type, preferably each comprising at least one common precursor compound, preferably the at least one precursor compound of the same type in steps II ) to IV) is an organosilicon precursor compound, preferably an organosilicon precursor compound selected from the group consisting of hexamethyldisiloxane and tetramethylsilane, with particularly preferably the precursor compositions in steps II) to IV) each comprising hexamethyldisiloxane as the common precursor compound . Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, wobei das Substrat ein Metallsubstrat ist, vorzugsweise ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Aluminium, Aluminium-Legierungen, Zinkdruckgusslegierungen und Magnesiumlegierungen, besonders vorzugsweise ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus EN AW-2024, EN AW-7019, EN AW-7021, EN AW-7022, EN AW-7075, Z 400, Z 410, Z 430 und Z 610 wobei das Substrat vorzugsweise eine Metall-Legierung mit einer Brinellhärte im Bereich von HB 80 bis HB 190 ist. und/oder umfassend zwischen den Schritten I) und II) einen Schritt I.a) Applizieren einer plasmapolymere Schicht d) vorzugsweise einer siliciumorganische Schicht, vorzugsweise hergestellt aus einen oder mehreren Precursor-Verbindungen ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Hexamethyldisiloxan und Tetramethylsilan, besonders vorzugsweise hergestellt aus Hexamethyldisiloxan.Procedure according to Claim 12 or 13 , wherein the substrate is a metal substrate, preferably selected from the group consisting of aluminum, aluminum alloys, zinc die-cast alloys and magnesium alloys, particularly preferably selected from the group consisting of EN AW-2024, EN AW-7019, EN AW-7021, EN AW -7022, EN AW-7075, Z 400, Z 410, Z 430 and Z 610, where the substrate is preferably a metal alloy with a Brinell hardness in the range of HB 80 to HB 190. and/or comprising between steps I) and II) a step Ia) applying a plasma polymer layer d) preferably an organosilicon layer, preferably made from one or more precursor compounds selected from the group consisting of hexamethyldisiloxane and tetramethylsilane, particularly preferably made from Hexamethyldisiloxane. Verwendung eines Schichtsystems, wie in einem der Ansprüche 1 bis 8 definiert, als Antireflexbeschichtung und/oder als Ersatz für eine Eloxal-Beschichtung, insbesondere als Beschichtung für Fahrzeugteile, Uhren, Schmuck und/oder Messer.Using a layering system, as in one of the Claims 1 until 8th defined as an anti-reflective coating and/or as a replacement for an anodized coating, in particular as a coating for vehicle parts, watches, jewelry and/or knives.
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