DE102022000210A1

DE102022000210A1 - Sicherheitsmerkmal für Wertdokumente und Wertdokument mit Sicherheitsmerkmal

Info

Publication number: DE102022000210A1
Application number: DE102022000210.8A
Authority: DE
Inventors: Kathrin Hovestadt
Original assignee: Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
Current assignee: Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
Priority date: 2022-01-20
Filing date: 2022-01-20
Publication date: 2023-07-20
Also published as: EP4223550A1

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Sicherheitsmerkmal (1) für ein Wertdokument (10). Das Sicherheitsmerkmal umfasst ein in einer Hauptebene (E) des Sicherheitsmerkmals angeordnetes Feld (2). Das Feld (2) ist eingerichtet zum Darstellen von einem Schwebemotiv (4), das für den Betrachter außerhalb der Hauptebene (E) zu liegen scheint (SE), und das für den Betrachter mit einem Verkippen der Hauptebene (E) um mindestens eine erste Hauptebenen-Achse (3) in einem ersten Kippwinkelbereich erzeugt wird, und von einem Bewegungsmotiv (5), wobei für den Betrachter der Eindruck eines in der Hauptebene (E) oder parallel zur Hauptebene (E) verlaufenden Bewegungseffektes (BE) mit dem Verkippen der Hauptebene (E) um die mindestens eine erste Hauptebenen-Achse (3) in einem zweiten Kippwinkelbereich (Δα2) erzeugt wird. Der zweite Kippwinkelbereich (Δα2) überschneidet sich zumindest teilweise, in einem Überschneidungsbereich (Ü), mit dem ersten Kippwinkelbereich (Δα1). Das Bewegungsmotiv (5) überlappt flächig zumindest teilweise mit dem Schwebemotiv (4) und weist eine Motivstruktur (6) mit Unterbrechungen (8) auf, und/oder sein zweiter Kippwinkelbereich (Δα2) ist kleiner als der erste Kippwinkelbereich (Δα1) des Schwebemotivs (4).

Description

Die Erfindung betrifft ein Sicherheitsmerkmal für ein Wertdokument und Wertdokument mit Sicherheitsmerkmal.
Hintergrund
Sicherheitsmerkmale, die Bewegungseffekte mittels Mikroreflektoren zeigen, sind im Stand der Technik bekannt. Dabei wird beim Betrachter der Eindruck eines sich bewegenden Motivs erzeugt. Die Druckschriften WO 2015/078572 A1 und WO 2016/180522 A1 zeigen solche Bewegungseffekte mittels Mikroreflektoren. Ein Sicherheitsmerkmal weist Mikroreflektoren oder Mikrolinsen auf, die ein Mikrostrukturfeld bilden. Dabei umfasst das flächige Sicherheitsmerkmal eine Vielzahl von Pixeln mit jeweils mindestens einem oder einer der Mikroreflektoren oder Mikrolinsen. Das Sicherheitsmerkmal hat eine Fläche und definiert mit dieser Fläche eine Hauptebene. Die Mikroreflektoren oder Mikrolinsen werden dabei so gegenüber der Hauptebene angeordnet, dass das Motiv beim Kippen und/oder Drehen des Sicherheitselementes einen Bewegungseffekt aufweist.
Zusammenfassung der Erfindung
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Sicherheitsmerkmal mit erhöhter Sicherheit bereitzustellen.
Es ist eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Sicherheitsmerkmal mit hoher Fälschungssicherheit bereitzustellen.
Eine weitere Aufgabe besteht darin, dass für einen Betrachter des Sicherheitsmerkmals die Wahrnehmbarkeit erhöht und/oder die Prüfbarkeit verbessert wird, insbesondere soll für den Betrachter der erkennbare Effekt des Sicherheitsmerkmals besonders prägnant erscheinen.
Mindestens eine dieser Aufgaben wird durch den Gegenstand der unabhängigen Ansprüche gelöst.
Die abhängigen Ansprüche beschreiben bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung.
Vorliegend umfasst ein Sicherheitsmerkmal für ein Wertdokument:

ein in einer Hauptebene des Sicherheitsmerkmals angeordnetes Feld, das eingerichtet ist zum Darstellen von
einem Schwebemotiv, das für den Betrachter außerhalb der Hauptebene zu liegen scheint, und das für den Betrachter mit einem Verkippen der Hauptebene um mindestens eine erste Hauptebenen-Achse in einem ersten Kippwinkelbereich erzeugt wird, und
einem Bewegungsmotiv, wobei für den Betrachter der Eindruck eines in der Hauptebene oder parallel zur Hauptebene verlaufenden Bewegungseffektes mit dem Verkippen der Hauptebene um die mindestens eine erste Hauptebenen-Achse in einem zweiten Kippwinkelbereich erzeugt wird; und
wobei der zweite Kippwinkelbereich sich zumindest teilweise, in einem Überschneidungsbereich, mit dem ersten Kippwinkelbereich überschneidet.

Das Bewegungsmotiv hat seinen zweiten Kippwinkelbereich, der kleiner ist als der erste Kippwinkelbereich des Schwebemotivs; und/oder das Bewegungsmotiv überlappt flächig zumindest teilweise mit dem Schwebemotiv und weist eine Motivstruktur mit Unterbrechungen auf.
Die beiden Eigenschaften des Bewegungsmotivs ermöglichen einzeln oder gemeinsam eine verbesserte Prüfbarkeit des Sicherheitsmerkmals mit hoher Sicherheit. Das Schwebemotiv und das Bewegungsmotiv bleiben auch in überlappenden Anteilen für den Betrachter gut und realitätsnah sichtbar. Das höher liegende Motiv (Schwebe- oder Bewegungsmotiv) muss das tiefer liegende Motiv in der überlappenden Fläche nicht verdecken, um einen realen Eindruck zu erwecken. Zudem können beide Motive in der überlappenden Fläche besser gleichzeitig wahrgenommen werden, als es ohne Unterbrechungen möglich wäre. Der größere erste Kippwinkelbereich, erhöht die Prüfbarkeit, da das schwieriger wahrnehmbare Motiv, das Schwebemotiv, in einem größeren Kippwinkelbereich sichtbar ist. Dies gilt insbesondere, falls das Bewegungsmotiv in einem Überlappungskippwinkelbereich flächig zumindest teilweise mit dem Schwebemotiv überlappt.
Vorzugsweise umfasst der erste Kippwinkelbereich einen Nicht-Überschneidungsbereich umfasst, in welchem für den Betrachter das Bewegungsmotiv nicht sichtbar ist oder ohne den Bewegungseffekt, insbesondere nicht mit dem Schwebemotiv überlappend, sichtbar ist. Im Nicht-Überschneidungsbereich ist somit nur das Schwebemotiv sichtbar oder ein unbewegtes - nur im zweiten Kippwinkelbereich bewegtes - Bewegungsmotiv sichtbar, das zudem vorzugsweise nicht überlappend angeordnet ist. Der Betrachter kann das Schwebemotiv somit ungestört von der Bewegung bzw. dem Bewegungsmotiv sehen. Wenn er das Schwebemotiv einmal wahrgenommen hat, ist es für den Betrachter leichter das Schwebemotiv trotz der Bewegung des Bewegungsmotivs und/oder der Überlappung mit dem Bewegungsmotiv wahrzunehmen. Dies gilt insbesondere selbst dann, wenn er den Kippwinkel unabsichtlich variiert (minimale Bewegungen von Hand oder Wertdokument).
Der erste Kippwinkelbereich kann innerhalb von 10° bis 170°, insbesondere innerhalb von zwischen 20° bis 160° und bevorzugt innerhalb von 30° bis 150° liegen, also nur beispielsweise 30° bis 80°, 40° bis 140° oder 90° bis 150° betragen. Der erste Kippwinkelbereich kann 90° als Kippwinkel umfassen. Der zweite Kippwinkelbereich umfasst bevorzugt 90°. Der zweite Kippwinkelbereich kann innerhalb von 45° bis 135°, insbesondere innerhalb von 55° bis 125° und bevorzugt innerhalb von 65° bis 115° liegen. Der erste Kippwinkelbereich kann (in diesen Fällen) den zweiten Kippwinkelbereich umfassen. Alternativ kann der erste Kippwinkelbereich den zweiten Kippwinkelbereich schneiden, wobei sich die beiden Kippwinkelbereiche nicht vollständig überlappen, also der erste Kippwinkelbereich den zweiten Kippwinkelbereich nicht vollständig umfasst. Vorliegend wird soweit möglich der Begriff Bereich für Kippwinkel (beispielsweise Überschneidungsbereich, Überlappungsbereich, ...) verwendet und für Motive eher der Begriff Fläche (wie beispielsweise überlappende oder nicht überlappende Flächenanteile der Motivfläche) verwendet. Die genannten Bereiche sind also insbesondere Winkelbereiche (Überschneidungs(winkel)bereich, Überlappungs(winkel)bereich oder Nicht-...(winkel)bereich).
Die Motivstruktur mit Unterbrechungen des Bewegungsmotives ist vorzugsweise so gewählt, dass für den Betrachter die Sichtbarkeit des Schwebemotives unterstützt wird.
Das für den Betrachter unter dem Bewegungsmotiv schwebende Schwebemotiv kann , insbesondere in einem Überlappungs(winkel)bereich, für den Betrachter zumindest teilweise als durch die Unterbrechungen der Motivstruktur des Bewegungsmotivs hindurch sichtbares Schwebemotiv dargestellt werden. Das Bewegungsmotiv verdeckt das Schwebemotiv also nicht, vielmehr bleibt das Schwebemotiv hinter dem Bewegungsmotiv mit Unterbrechungen sichtbar. In dem Überlappungs(winkel)bereich liegen überlappende Flächenanteile des Schwebemotivs innerhalb der Unterbrechungen der Motivstruktur des Bewegungsmotivs. Realitätsnah nimmt der Betrachter das Schwebemotiv in den Unterbrechungen wahr. Optional werden (vorzugsweise linienförmige) Anteile des Schwebemotives, welche mit Strukturelementen der Motivstruktur überlappen für den Betrachter nicht dargestellt. Von der überlappenden Fläche des Schwebemotivs werden nur die Flächenanteile des Schwebemotives, die in den Unterbrechungen der Motivstruktur angeordnet sind, für den Betrachter dargestellt. Die mit den Strukturelementen überlappenden Anteile des Schwebemotivs werden nicht dargestellt, um die für die Darstellung nötigen Mikrostrukturen, wie Mikrospiegelpaare, in dem Feld einzusparen. Diese überlappenden Anteile wären zudem für den Betrachter sowieso nicht als Schwebemotiv erkennbar.
Eine weitere, realitätsnah darstellbare Ausgestaltung betrifft ein semitransparent wirkendes Schwebemotiv. Das Schwebemotiv kann im Überlappungsbereich über dem Bewegungsmotiv schweben und das Bewegungsmotiv mit seiner Motivstruktur wird für den Betrachter unter dem Schwebemotiv, das semitransparent wirkt, dargestellt. In den mit den Unterbrechungen der Motivstruktur überlappenden Flächenanteilen des Schwebemotivs ist das Schwebemotiv erkennbar (bzw. wird die Erkennbarkeit des Schwebemotivs vom Bewegungsmotiv nicht gestört). Insbesondere da das Bewegungsmotiv für den Betrachter hinter dem Schwebemotiv liegt und die Motivstruktur des Bewegungsmotiv, nämlich die Strukturelemente der Motivstruktur, für den Betrachter sichtbar ist, wirkt das Schwebemotiv semitransparent.
Das Bewegungsmotiv und/oder das Schwebemotiv können Flächenanteile umfassen, die bei keinem Kippwinkel des Überschneidungsbereiches überlappen. Vorzugsweise überlappt jeweils ein Flächenanteil beider Motive bei keinem der Kippwinkel des Überschneidungsbereiches. Alternativ kann nur das Bewegungsmotiv einen Flächenanteil aufweisen, der bei keinem der Kippwinkel des Überschneidungsbereiches überlappend angeordnet ist. Ergänzend kann das Schwebemotiv oder alternativ kann eines der beiden Motive bei zumindest einem der Kippwinkel des Überschneidungsbereiches (bzw. des Überlappungsbereiches) vollständig mit dem anderen überlappen.
Der Überschneidungsbereich kann einen Überlappungsbereich, in welchem das Bewegungsmotiv zumindest teilweise mit dem Schwebemotiv überlappt, und/oder einen Nicht-Überlappungsbereich umfassen, in welchem das Bewegungsmotiv nicht mit dem Schwebemotiv überlappt.
Die Motivstruktur des Bewegungsmotives umfasst Strukturelemente und Unterbrechungen, wobei die Strukturelemente insbesondere entlang einer Motivkontur und/oder in der Motivfläche des Bewegungsmotiv angeordnet sind. Die Strukturelemente sind bevorzugt linienförmige Strukturelemente. Sie haben also eine geringe Fläche. Mit Vorteil sind die Strukturelemente bzw. die Unterbrechungen für den Betrachter erkennbar, insbesondere als Submotive erkennbar. Als Unterbrechung in der Motivstruktur kann dienen: eine Unterbrechung, die in einem Strukturelement angeordnet ist (Strukturinnenraum), eine Unterbrechung, die zwischen Strukturelementen angeordnet ist (Strukturzwischenraum), eine Unterbrechung, die innerhalb der Motivfläche des Bewegungsmotivs angeordnet ist, und von Strukturelementen umschlossen ist (Motivinnenraum) oder nur zwei- oder dreiseitig von Strukturelementen begrenzt wird (Motivunterbrechung). Eine Unterbrechung der ansonsten entlang einer Motivkontur regelmäßig angeordneten Strukturelemente kann als Konturunterbrechung bezeichnet werden.
Die Strukturelemente und/oder die Unterbrechungen sind in der Motivfläche, ggf. deren Teilflächen, und/oder entlang der Motivkontur regelmäßig, annähernd regelmäßig, annähernd unregelmäßig oder unregelmäßig angeordnet. Die Strukturelemente können jeweils mit oder ohne Strukturzwischenraum (mit Abstand voneinander oder abstandsfrei) angeordnet sein. Eine regelmäßige Anordnung ist in der Fläche insbesondere eine Anordnung in einem zweidimensional regelmäßigen Muster, mit oder ohne Strukturzwischenraum, bzw. entlang der Motivkontur regelmäßig nebeneinander. Eine annähernd regelmäßige Anordnung wäre beispielsweise eine Anordnung in einem eindimensional regelmäßigen Muster (regelmäßig in erster Richtung), wobei die Anordnung in der zweiten Richtung unregelmäßig ist. Eine annähernd unregelmäßige Anordnung wäre beispielsweise eine unregelmäßige Anordnung, die sich wiederholt, beispielsweise in Teilflächen oder nach jeweils n Strukturelementen. In einer unregelmäßigen Anordnung von Strukturelementen (in einer Fläche oder entlang der Kontur) sind die Strukturelemente verteilt, aber musterfrei oder quasizufällig oder ohne erkennbare Regel, angeordnet.
Die Motivstruktur des Bewegungsmotives mit seinen, insbesondere linienförmigen und/oder submotivartigen, Strukturelementen und den Unterbrechungen ist besonders bevorzugt so gewählt, dass der Flächenanteil der Unterbrechungsflächen mehr als 67% der Motivfläche beträgt, weiter bevorzugt mehr als 80% der Motivfläche und noch weiter bevorzugt mehr als 85% oder gar 90% der Motivfläche beträgt. Der Flächenanteil der Strukturelemente ist also wesentlich kleiner als der Flächenanteil der Unterbrechungen (in der Regel mindestens 1-2% und/oder entsprechend weniger oder gleich 33%, 20%, 15% und 10% respektive).
Die Bewegung bzw. der Bewegungseffekt des Bewegungsmotivs bzw. der Eindruck des in der Hauptebene verlaufenden Bewegungseffektes mit dem Verkippen der Hauptebene um die mindestens eine erste Hauptebenen-Achse in einem zweiten Kippwinkelbereich kann beispielsweise in einer Richtung senkrecht (oder parallel) zur ersten Hauptebenen-Achse bzw. zur ersten Kippachse erfolgen.
Bevorzugt zeigt das Schwebemotiv nicht nur den Schwebeeffekt, sondern zusätzlich einen Verschiebungseffekt. Das Schwebemotiv wird dem Betrachter perspektivisch verschoben dargestellt. Bei dem Verkippen der Hauptebene um die erste Hauptebenen-Achse, und vorzugsweise auch beim Verkippen um zumindest eine zweite Hauptebenen-Achse, wird Schwebemotiv mit einer Verschiebung parallel zur Hauptebene dargestellt. Die Verschiebung ist bevorzugt proportional zur Schwebehöhe des Schwebemotivs. Die Verschiebung des Schwebemotivs erfolgt insbesondere parallel zur Hauptebene und wird vorzugsweise in einer Richtung senkrecht zur ersten Hauptebenen-Achse bzw. zur ersten Kippachse erfolgen. Alternativ könnte die Verschiebung auch parallel oder in einem anderen Winkel relativ zur ersten Hauptebenen-Achse erfolgen, dies entspräche dann aber nicht der vorliegend gewünschten perspektivischen Verschiebung.
Der Bewegungseffekt des Bewegungsmotivs kann zumindest teilweise parallel oder zumindest teilweise gegenläufig zum Verschiebungseffekt des Schwebemotivs erfolgen. Der Bewegungseffekt kann auch parallel oder in einem anderen Winkel relativ zur ersten Hauptebenen-Achse erfolgen.
Dadurch, dass das das Schwebemotiv vor oder hinter der Hauptebene liegt, also zu schweben scheint und sich mit Kippen um eine erste und/oder zweite Hauptebenen-Achse verschieben kann wird der schwebende Eindruck verstärkt. Insbesondere der Eindruck des Betrachters dass sich das Bewegungsmotiv, das sich in einer anderen Ebene als das Schwebemotiv bewegt, über das Schwebemotiv hinweg oder unter dem Schwebemotiv hindurch bewegt, kann somit verstärkt werden.
Die Hauptebene wird aufgespannt durch zwei Vektoren einer Fläche des Sicherheitsmerkmals und/oder des Wertdokuments und/oder eines Substrats des Sicherheitsmerkmals. Das Sicherheitsmerkmal ist bevorzugt flächig ausgestaltet und kann Teil eines zu sichernden Gegenstandes, beispielsweise einer Banknote sein oder es kann Teil des Substrats sein, das auf dem zu sichernden Gegenstand angeordnet wird. Die erste Hauptebenen-Achse ist eine Kippachse, die in der Hauptebene liegt. Es kann auch eine zweite Hauptebenen-Achse geben, die eine Kippachse ist, die in der Hauptebene liegt und nicht identisch oder parallel zur ersten Hauptebenen-Achse verläuft. Die Hauptebene kann insbesondere auch die Ebene sein, in der sich das Bewegungsmotiv zu bewegen scheint. In dem Fall liegt das Schwebemotiv unter (oder über) der Hauptebene. Das Schwebemotiv ist für den Betrachter bezüglich der Hauptebene zumindest teilweise in einer Richtung senkrecht zu der Hauptebenen, also entlang des Lots der Hauptebenen versetzt angeordnet. Das Schwebemotiv erscheint dem Betrachter als ein Objekt bzw. Motiv, das in einem dreidimensionalen Raum zu schweben scheint.
In einfachen Ausgestaltungen ist das Schwebemotiv, als zweidimensionales oder planes Motiv, entsprechend seiner Schwebhöhe nur in einer Ebene (über oder unter der Hauptebene) angeordnet. Das Schwebemotiv wird dann beim Kippen des Sicherheitsmerkmals jeweils insgesamt um eine einheitliche Verschiebereichweite verschoben dargestellt werden. Das Schwebemotiv kann jedoch auch ein plastisches bzw. dreidimensionales Motiv sein. Das dreidimensionale Schwebemotiv schwebt in einer Grundschwebehöhe (vorzugsweise bestimmt als Mindestabstand), wobei unterschiedliche Schwebemotivanteile bzw. Bildpunkte des Schwebemotivs für den Betrachter auf unterschiedlichen Schwebehöhen dargestellt werden. Die unterschiedlichen Schwebemotivanteile bzw. Bildpunkte des Schwebemotivs können dann entsprechend ihrer Schwebehöhe unterschiedlich stark verschoben dargestellt werden. Für den Betrachter entsteht - neben dem Schweben - zusätzlich der Eindruck einer perspektivischen Verkippung des Schwebemotivs. Das Schwebemotiv mit Schwebe- und Verschiebungseffekt ist somit sowohl besonders realitätsnah als auch besonders schwierig zu fälschen.
Das in der Hauptebene angeordnete Feld kann ein Mikrostrukturfeld aufweisen, das bevorzugt ein Mikroreflektorfeld umfassen kann, wobei das Mikroreflektorfeld weiter bevorzugt eine Mehrzahl von Mikropixeln mit jeweils einer Mehrzahl von Mikroreflektoren aufweisen kann. Alternativ oder zusätzlich kann das Mikrostrukturfeld Mikrolinsen oder Mikrorefraktoren aufweisen. Ein Mikropixel kann ein Pixel für die Abbildung des Schwebemotivs und zugleich für die Abbildung des Bewegungsmotivs sein. Ein Mikropixel kann als eine Matrix aus n x n Mikroreflektoren und/oder Mikrolinsen und/oder Mikrorefraktoren ausgebildet sein. Die Matrix kann beispielsweise eine 2 x 2, eine 3 x 3, eine 4 x 4, eine 5 x 5 oder eine 6 x6 Matrix sein. Die Mikrostrukturen, also Mikroreflektoren und/oder Mikrolinsen und/oder Mikrorefraktoren, können als Facetten bezeichnet werden. Diese jeweiligen Facetten eignen sich besonders, um die gewünschten Schwebe-, Verschiebungs- und Bewegungseffekte zu erzeugen.
Das flächige Mikrostrukturfeld kann sowohl in der Hauptebene eines Folienelements als auch in der Hauptebene eines Druckelements und/oder auf einem Substrat vorliegen. Ein Folienelement ist beispielsweise ein Sicherheitsfaden, Sicherheitsstreifen oder Sicherheitspatch, bei dem das flächige Mikrostrukturfeld mit den Facetten in eine Prägelackschicht geprägt und mit einer reflexionserhöhenden Beschichtung versehen ist. Die Facetten weisen dabei bevorzugt maximale Abmessungen von weniger als etwa 100 µm und besonders bevorzugt von weniger als etwa 20 µm auf. Allerdings sind die Facetten vorteilhaft größer als etwa 3 µm, bevorzugt größer als 5 µm. Die Facetten können regelmäßig, beispielsweise in Form eines Sägezahngitters, oder unregelmäßig angeordnet sein.
Bei einem Druckelement, beispielsweise auf einer Banknote, können die Facetten durch eine Prägung in einen reflektierenden Untergrund, wie etwa eine Siebdruckfärbe, eine metallisch wirkende Druckfarbe mit plättchenförmigen reflektierenden Pigmenten, eine optisch variable Tinte oder dergleichen erzeugt werden. Auch eine Prägung oder Blindprägung im Stichtiefdruck kommt in Frage. Die Abmessungen der Facetten liegen bei Druckelementen bevorzugt zwischen 20 µm und 300 µm, besonders bevorzugt zwischen 50 µm und 200 µm.
Die Mehrzahl von Mikroreflektoren von mindestens einem Teil der Mehrzahl von Mikropixeln kann Schwebemotiv-Reflektoren umfassen, wobei der Eindruck, dass das Schwebemotiv außerhalb der Hauptebene liegt, dadurch entstehen kann, dass die Schwebemotiv-Reflektoren eines Mikropixels mindestens ein Mikroreflektoren-Paar bilden und geeignete Neigungswinkel bezüglich der Hauptebene aufweisen, sodass ein Mikroreflektoren-Paar einen außerhalb der Hauptebene liegenden Bildpunkt erzeugt.
Mittels Stereosehen des Betrachters und einer Vielzahl von Mikroreflektoren-Paaren, welche jeweils zwei Schwebemotiv-Reflektoren umfassen, kann der Eindruck eines aus der Hauptebene heraustretenden Schwebemotivs entstehen. Dabei ist das Heraustreten als ein statischer Eindruck zu verstehen, bei dem das Schwebemotiv gegenüber einer Verkippung eine Verschiebung aufweist und insbesondere perspektivisch als ein schwebendes Motiv erscheint. Bevorzugt erscheint das Schwebemotiv als ein über oder unter der Hauptebene in Richtung des Betrachters zu- oder abgewandtes schwebendes Motiv. Das Motiv kann auch als ein Wölbmotiv, also als ein Motiv mit einer Wölbung erscheinen. Auch dieses Merkmal erhöht die Attraktivität und macht ein Sicherheitsmerkmal vor allem schwierig zu fälschen und prägnant.
Der Eindruck einer Verschiebung des Schwebemotivs parallel zur Hauptebene kann einen Eindruck einer perspektivischen Verkippung des Schwebemotivs umfassen oder darstellen und dadurch entstehen, dass sich Bildpunkte, die durch Mikroreflektoren-Paare von mindestens einem Teil der Mehrzahl von Mikropixeln an verschiedenen Positionen im Mikrostrukturfeld erzeugt werden, mit dem Verkippen der Hauptebene um die mindestens eine erste Hauptebenen-Achse in dem ersten Kippwinkelbereich um unterschiedlich große Verschiebungsreichweiten verschieben. Die Verschiebung des Schwebemotivs bzw. der Verschiebungseffekt kann also der Effekt einer scheinbaren perspektivischen Verkippung des Schwebemotivs sein. Dieser Effekt ist beispielsweise in der Offenlegungsschrift DE 10 2018 008 146 A1 beschrieben. Auf den Inhalt dieser Offenlegungsschrift wird hier explizit Bezug genommen.
Die unterschiedlich großen Verschiebungsreichweiten, die während dem Verkippen abgebildet werden, erzeugen den Eindruck, dass der Betrachter das Schwebemotiv aus unterschiedlichen Perspektiven sieht, insbesondere realitätsgetreu entsprechend der Kippwinkel. Daher erscheint das Schwebemotiv dem Betrachter bevorzugt perspektivisch dreidimensional, und zwar bevorzugt so, als würde er dieses aus dem entsprechenden Kippwinkel betrachten. Der perspektivische Anblick des Motivs erhöht ebenfalls die Attraktivität, lässt das Sicherheitsmerkmal prägnant erscheinen und macht es vor allem schwierig zu fälschen.
Die Mehrzahl von Mikroreflektoren von mindestens einem Teil der Mehrzahl von Mikropixeln kann Bewegungsmotiv-Reflektoren aufweisen, wobei für den Betrachter der Eindruck des parallel zur Hauptebene oder in der Hauptebene verlaufenden Bewegungseffektes dadurch entstehen kann, dass die Bewegungsmotiv-Reflektoren von Mikropixeln an verschiedenen Positionen im Mikrostrukturfeld verschiedene Neigungswinkel bezüglich der Hauptebene aufweisen, sodass das Bewegungsmotiv an verschiedenen Positionen im Mikrostrukturfeld unter verschiedenen Kippwinkeln im zweiten Kippwinkelbereich erzeugt wird.
Die Bewegungsrichtung des Bewegungsmotivs ist parallel zur Hauptebene oder liegt in der Hauptebene, also in einer Ebene. Die Bewegungsrichtung des Bewegungsmotivs kann dabei senkrecht zu der ersten Hauptebenen-Achse, die in der Hauptebene liegt, verlaufen. Alternativ kann die Bewegungsrichtung auch in einer anderen Richtung, beispielsweise parallel oder in 45° zur ersten Hauptebenen-Achse verlaufen.
Schwebemotiv-Reflektoren und Bewegungsmotiv-Reflektoren können verschachtelt, insbesondere regelmäßig verschachtelt und bevorzugt alternierend verschachtelt in mindestens einem Teil der Mehrzahl von Mikropixeln angeordnet sein. Die Facetten, die in einem Mikropixel teilweise das Schwebemotiv abbilden, also Schwebemotiv-Reflektoren und die Facetten, die in dem Mikropixel teilweise das Bewegungsmotiv abbilden, also Bewegungsmotiv-Reflektoren, sind damit verschachtelt und insbesondere geordnet und bevorzugt alternierend verschachtelt. Bevorzugt hat eine Facette des Schwebemotivs daher eine Facette des Bewegungsmotivs als direkten Nachbarn.
Die Neigungswinkel der Bewegungsmotiv-Reflektoren gegenüber der Hauptebene ist kleiner als 24 Grad, vorzugsweise kleiner als 18 Grad. Zumindest einige Schwebemotiv-Reflektoren haben einen Neigungswinkel, der größer als 25 Grad ist.
Durch geeignete Neigungswinkel der Reflektorflächen der Bewegungsmotiv-Reflektoren und der Schwebemotiv-Reflektoren gegenüber der Hauptebene kann in geeigneter Weise vorbestimmt werden, in welchem Kippwinkelbereich das Bewegungsmotiv und/oder das Schwebemotiv dem Betrachter erscheint.
Das in der Hauptebene angeordnete Feld kann auch dazu eingerichtet sein, den Eindruck einer Verschiebung des Schwebemotivs parallel zur Hauptebene mit einem Verkippen der Hauptebene um mindestens eine zweite Hauptebenen-Achse in einem dritten Kippwinkelbereich zu erzeugen.
Das Kippen der Hauptebene um die erste Hauptebenen-Achse kann ein Kippen in Nord-Süd-Richtung (bezüglich der Position des Betrachters oben-vorne, unten-hinten; obenhinten, unten-vorne) sein und das Kippen um die zweite Hauptebenen-Achse kann ein Kippen in Ost-West-Richtung (bezüglich der Position des Betrachters rechts-vorne, links-hinten; links-hinten, rechts-vorne) sein. Das Schwebemotiv und dessen Verschiebung kann dem Betrachter also in beide Richtungen, d.h. bei einem Kippen um beide Hauptachsen erscheinen. Dabei müssen die Kippwinkelbereiche, also der erste und der dritte Kippwinkelbereich nicht zwingend identisch sein. Die erste Hauptebenen-Achse und die zweite Hauptebenen-Achse müssen nicht zwingend senkrecht zueinander sein. Der Verschiebungseffekt kann dabei in unterschiedliche Richtungen erfolgen. Beispielsweise kann die Verschiebung des Schwebemotivs nach „unten“, also in die Südrichtung erfolgen, wenn die Hauptebene um die erste Hauptebenen-Achse so gekippt wird, dass eine oben-hintenunten-vorne-Kippung, also von Süd nach Nord-Kippung erfolgt. Die Verschiebung des Schwebemotivs kann dann nach „oben“, also in die Nordrichtung erfolgen, wenn die Hauptebene um die erste Hauptebenen-Achse so gekippt wird, dass eine oben-vorne-unten-hinten-Kippung, also von Nord nach Süd-Kippung erfolgt. Beispielsweise kann die Verschiebung des Schwebemotivs nach „rechts“, also in die Ostrichtung erfolgen, wenn die Hauptebene um die zweite Hauptebenen-Achse so gekippt wird, dass eine links-hintenrechts-vorne-Kippung (Kippbewegung von Ost nach West) erfolgt. Die Verschiebung des Schwebemotivs kann dann nach „links“, also in die Westrichtung erfolgen, wenn die Hauptebene um die zweite Hauptebenen-Achse so gekippt wird, dass eine links-vornerechts-hinten-Kippung (Kippbewegung von West nach Ost) erfolgt. Allgemein ist mit der Ost-Richtung oder Ost-Seite die Richtung oder Seite gemeint, die rechts vom Betrachter liegt, wenn er die Hauptebene betrachtet. Mit der West-Richtung oder West-Seite ist die Richtung oder Seite gemeint, die links vom Betrachter liegt, wenn er die Hauptebene betrachtet. Mit der Nord-Richtung oder Nord-Seite ist die Richtung oder Seite gemeint, die beim Betrachter oben liegt, wenn er die Hauptebene betrachtet. Mit der Süd-Richtung oder Süd-Seite ist die Richtung oder Seite gemeint, die beim Betrachter unten liegt, wenn er die Hauptebene betrachtet.
Die Verschiebung des Schwebemotivs in der Hauptebene kann auch in einem anderen Winkel als 90° zur ersten und/oder zweiten Hauptebenen-Achse erfolgen. Es kann auch ein Richtungswechsel im Verlauf des Kippens erfolgen.
Gemäß einem Aspekt weist ein Sicherheitselement (das mit oder ohne eigenes Substrat auf ein Wertdokument übertragbar ist (Sicherheitspatch oder -streifen) oder in ein Wertdokument einbringbar ist (Sicherheitsfaden)) für ein Wertdokument oder ein Wertdokument eines der hierin beschriebenen Sicherheitsmerkmale auf. Alle Vorteile, die für die genannten Sicherheitsmerkmale genannt sind, gelten auch für das entsprechende Wertdokument oder Sicherheitselement, das durch das entsprechende Sicherheitsmerkmal besonders fälschungssicher wird.
Figurenliste

1 ist eine schematische Darstellung von Ansichten eines Schwebemotivs mit Verschiebungseffekt und eines Bewegungsmotivs mit Bewegungseffekt bei unterschiedlichen Kippwinkeln während des Kippens um eine Hauptebenen-Achse in West-Ost-Richtung;
2 ist eine schematische Darstellung von Ansichten eines Schwebemotivs mit räumlichem Verschiebungseffekt und eines Bewegungsmotivs mit Bewegungseffekt bei unterschiedlichen Kippwinkeln während des Kippens um eine Hauptebenen-Achse in West-Ost-Richtung;
3 ist eine schematische Darstellung eines Schwebemotivs mit räumlichem Verschiebungseffekt und eines Bewegungsmotivs mit Bewegungseffekt während des Kippens um eine Hauptebenen-Achse in Süd-Nord-Richtung;
4a und 4b sind schematische Darstellungen eines Mikrostrukturfeldes mit Mikropixeln umfassend eine Mehrzahl von Mikroreflektoren jeweils in Aufsicht (4a) und in Seitenansicht (4b) entlang der Schnittachse AA`;
5 ist eine schematische Darstellung eines Wertdokuments mit Sicherheitsmerkmal;
6 ist eine schematische Darstellung der ersten und zweiten Kippwinkelbereiche; und
7a und 7b sind schematische Darstellungen der Sicht auf ein Wertdokuments mit Sicherheitsmerkmal in einer verkippten Situation.

Detaillierte Beschreibung der Zeichnungen
Im Folgenden werden, sofern nicht anders vermerkt, für gleiche und gleichwirkende Elemente dieselben Bezugszeichen verwendet. Eine redundante Beschreibung wiederkehrender Merkmale wird vermieden. Die verschiedenen Ausführungsformen und Merkmale der nachfolgend beschriebenen Figuren sind ausdrücklich kombinierbar und nicht als abgeschlossene Ausführungen zu verstehen.
5 ist eine schematische Darstellung eines Wertdokuments 10 mit Sicherheitsmerkmal 1 mit einer Hauptebene E und dem Feld 2 in der Hauptebene E. Das Feld 2 erzeugt für den Betrachter kippwinkelabhängig ein Schwebemotiv mit Schwebeeffekt und ein Bewegungsmotiv mit Bewegungseffekt. Beim Verkippen des Wertdokuments 10 um die Hauptebenen-Achse 3 erscheinen dem Betrachter entsprechende Effekte einer perspektivischen Verschiebung des Schwebemotivs sowie einer Bewegung des Bewegungsmotivs.
Das Sicherheitsmerkmal 1 kann direkt auf dem Substrat des Wertdokuments 10 erzeugt werden. Vorzugsweise ist das Sicherheitsmerkmal 1 jedoch ein Sicherheitselement, welches in das Wertdokument 10 eingebracht (beispielsweise als Sicherheitsfaden) oder auf das Wertdokument aufgebracht (beispielsweise als Sicherheitspatch oder - streifen) sein kann. Das Sicherheitselement kann (mit oder ohne eigenes Substrat) optional von einem Transfersubstrat (gelöst) und auf das das Zielsubstrat übertragen werden.
7a ist eine schematische Darstellung der Sicht eines Betrachters B bzw. der Augen eines Betrachter B auf einen Sichtpunkt P auf der Hauptebenen E des Feldes 2 eines Wertdokuments 10 mit Sicherheitsmerkmal 1. Die Sichtachse 11 zwischen dem Betrachter B und einem Punkt P in dem Feld 2 in der Hauptebene E schließt mit der Hauptebene E den Kippwinkel α_b ein, der sich jeweils mit dem Kippen um die Hauptebenen-Achse bzw. Kippachse 3 ändert. α_a ist der Gegen- oder Ergänzungswinkel des Kippwinkels. Die Summe aus α_a und α_b beträgt 180°. In senkrechter Aufsicht sind beide Winkel gleich groß und der Kippwinkel beträgt 90°.
In 7a ist die Hauptebene E zur Nord-Seite N vom Betrachter B weg gekippt und zur Süd-Seite S zum Betrachter B hin gekippt. Das in 7a angedeutete Lot L der Hauptebene E, liegt senkrecht zu der Hauptebenen E.
7b ist ebenfalls eine schematische Darstellung der Sicht eines Betrachters B bzw. der Augen eines Betrachter B auf einen Sichtpunkt P auf der Hauptebenen E des Feldes 2 eines Wertdokuments 10 mit Sicherheitsmerkmal 1. Im Unterschied zur 7a ist die Hauptebene E von West W nach Ost O bezüglich des Betrachters B gekippt. Die Hauptebene E wird also in 7b um eine andere Hauptebenen-Achse 3 gekippt als in der 7a. Die Sichtachse 11 zwischen dem Betrachter B und einem Punkt P in dem Feld 2 in der Hauptebene E schließt mit der Hauptebene E den Kippwinkel α_b ein. Die gestrichelte Linie deutet die Kipp-Situation an, bei der α_a und α_b jeweils 90° betragen und die Sichtachse 11 dem Lot L entspricht.
Beispielsweise kann es sich bei der Hauptebenen-Achse 3 der 7b um eine erste Hauptebenen-Achse 3 und bei der Hauptebenen-Achse 3 der 7a um eine zweite Hauptebenen-Achse 3 handeln. Die Situation, die in 7b angedeutet ist, entspricht den Ansichten der 1a-f und 2a-f.
1 ist eine schematische Darstellung von Ansichten a bis f eines Schwebemotivs 4 und eines Bewegungsmotivs 5 eines Sicherheitsmerkmals. Das Sicherheitsmerkmal wird um eine Hauptebenen-Achse 3 gekippt, die in der Hauptebene des Sicherheitsmerkmals liegt. 1 zeigt die sechs Ansichten a-f (1a-1f) für unterschiedliche Kippwinkel α_b zwischen 90° und 115° (bzw. Gegenwinkel α_a zwischen 90° und 65°) während des Kippens in 5°-Schritten um die Hauptebenen-Achse 3 in West-Ost-Richtung WO. Dabei ist der Kippwinkel α_b der jeweilige Winkel, der zwischen der Hauptebenen E und der Sichtachse 11, also der Achse zwischen einem Punkt auf dem Feld 2 und den Augen des Betrachters B, eingeschlossen wird.
Das Kippen erfolgt so, dass die rechte Seite des Sicherheitsmerkmals nach hinten, also von dem Betrachter wegkippt bzw. wegbewegt wird und die linke Seite nach vorne, also zu dem Betrachter hin kippt bzw. hinbewegt wird. Der Kippwinkel α_b der Sichtachse 11 mit der Hauptebenen E wird daher zur Ost-Seite, also zur rechten Seite größer bei diesem Verkippen und der Gegenwinkel α_a der Sichtachse 11 mit der Hauptebenen E wird daher zur West-Seite, also zur linken Seite kleiner bei diesem Verkippen, wie es in 7b angedeutet ist.
Das Schwebemotiv 4 schwebt für den Betrachter in diesem Beispiel unter der Hauptebene des Sicherheitsmerkmals. Zudem wird das an sich unbewegte (bzw. statische) aber schwebende Schwebemotiv 4 für den Betrachter abhängig vom Kippwinkel perspektivisch verschoben dargestellt. Da das Schwebemotiv 4 für den Betrachter unter der Hauptebene schwebt, wird es mit dem Verkippen jeweils weiter nach Westen W (links) verschoben dargestellt. Das Bewegungsmotiv 5 liegt für den Betrachter in der Hauptebene. Das Bewegungsmotiv 5 bewegt sich sukzessive in die Richtung, die durch die schmalen Pfeile angedeutet werden, also nach Osten O (rechts). In der gewählten Darstellung in 1 ist der Bewegungseffekt BE des Bewegungsmotivs 5 sowie der Verschiebungseffekt VE des Schwebemotivs 4 erkennbar, nicht jedoch dessen Schwebeffekt SE.
Der Einfachheit halber werden nachfolgend nur die Kippwinkel α_b zwischen der Sichtachse 11 und der Hauptebene E genannt. Die beiden jeweils genannten Kippwinkelbereiche von Kippwinkeln α_b beziehen sich - wie in 7a und 7b gezeigt - auf den Winkel, der von der Sichtachse 11 des Betrachters B und der Hauptebenen E zu einer Seite der beim Kippen größer werdenden Kippwinkel (Ost O - West W oder Nord N - Süd S) eingeschlossen wird.
Das Schwebemotiv 4 ist in einem Kippwinkelbereich um die Hauptebenen-Achse 3 zwischen 90° und 115° sichtbar, wohingegen das Bewegungsmotiv 5 nur in einem Kippwinkelbereich um die Hauptebenen-Achse 3 zwischen 95° und 110° sichtbar ist. Die Sichtachse 11 ist dabei die Achse zwischen einem Punkt P auf der Hauptebenen E und dem Betrachter B (siehe 7a und 7b), wobei näherungsweise angenommen wird, dass die jeweilige Achse zwischen jedem der beiden Augen des Betrachters B und der Hauptebene E parallel verlaufen. Es kann also beispielsweise angenommen werden, dass die Sichtachse 11 zwischen der Hauptebenen E und einem mittigen Punkt zwischen beiden Augen des Betrachters B verläuft.
Der Kippwinkelbereich Δα₁ bzw. Sichtwinkelbereich, in dem das Schwebemotiv 4 sichtbar ist, ist in der Ausführungsform der 1a-1f größer als der Kippwinkelbereich Δα₂, in dem das Bewegungsmotiv 5 sichtbar ist, wie es auch in 6 angedeutet ist.
Die gewählten Kippwinkelbereiche Δα_1,2 sind exemplarisch gewählt. Der Kippwinkelbereich um die Hauptebenen-Achse 3 kann auch - wie in 6 gezeigt - symmetrisch um die 90°, also symmetrisch um die Aufsicht parallel zum Lot L der Hauptebenen E liegen. Beispielsweise kann der Kippwinkelbereich Δα₁ (für den größeren Kippwinkel Δα_b1), in dem das Schwebemotiv 4 sichtbar ist, also der erste Kippwinkelbereich Δα₁ zwischen 30° und 150° liegen. Der Kippwinkelbereich Δα₂ (für den größeren Kippwinkel Δα_b2), in dem das Bewegungsmotiv 5 sichtbar ist, also der zweite Kippwinkelbereich Δα₂ kann dann beispielsweise zwischen 45° und 135° liegen. Alternativ können sich der erste und der zweite Kippwinkelbereich Δα_1,2 auch vollständig übereinstimmen bzw. identisch sein.
In der 1 a ist das kreisförmige Schwebemotiv 4 in Aufsicht sichtbar, also unter einem Betrachtungswinkel bzw. Kippwinkel α_b=90°. In diesem Fall steht die Achse zwischen dem Betrachter B und der Hauptebene E senkrecht auf der Hauptebene E und ist damit parallel zum Lot L der Hauptebene E. Das Schwebemotiv 4 erscheint dem Betrachter B als ein unter der Hauptebene E schwebendes Motiv, was in der 1 in allen Teilabbildungen a-f allerdings nicht getreu der wahren Erscheinung dargestellt werden kann.
In 1b wird die Hauptebene E um die erste Hauptebenen-Achse 3 um 5° gegenüber der Aufsicht gekippt, und zwar so, dass die rechte Seite der Hauptebene E nach hinten, also von dem Betrachter B wegkippt bzw. wegbewegt wird und die linke Seite nach vorne, also zu dem Betrachter B hinkippt bzw. hinbewegt wird. Der Kippwinkel beträgt somit 95° zur rechten Ost-Richtung mit der Hauptebene. Unter dem Kippwinkel α_b=95° zwischen der Sichtachse 11 und der Hauptebene E zur Ost-Seite O wird neben dem Schwebemotiv 4 auch das Bewegungsmotiv 5 sichtbar. Das Bewegungsmotiv 5 hat bei weiterem Kippen um die Hauptebenen-Achse 3 eine Bewegungsrichtung, die durch einen Pfeil angedeutet ist, und zwar nach rechts vom Betrachter B bzw. Richtung Osten O. Der Betrachter sieht sich die Motive 4, 5 in 1 also in der Richtung an, in der die Bezugszeichen, die korrekte Leserichtung aufweisen. Gleichzeitig verschiebt sich das Schwebemotiv 4 leicht nach Westen W, also nach links vom Betrachter B. Die Verschiebung entspricht der veränderten Perspektive auf das unter der Hauptebene schwebende Schwebemotiv 4. Für den Betrachter ändert sich die Position des Schwebemotivs 4 nicht, es schwebt stets unter seiner Grundposition in der Hauptebene. Die Grundposition des Schwebemotivs 4, an der es in Aufsicht also unter einem Kippwinkel von 90° abgebildet wurde, ist in den Teildarstellungen b-f durch den gepunkteten Kreis angedeutet.
Das Bewegungsmotiv 5 wird durch eine Motivstruktur 6 dargestellt, welche eine Vielzahl von Strukturelementen 7 und Unterbrechungen 8 umfasst. In 1 sind die Strukturelemente 7 Quadrate, insbesondere abstandslos regelmäßig angeordnete Quadrate. Andere Formen (wie beispielsweise Kreis, Halbkreis, Kreuz oder n-Eck) und Anordnungen (unregelmäßig und/oder mit Abstand) von Strukturelementen 7 sind möglich. Die Strukturelemente 7 sind vorzugsweise linienbasierte Strukturelemente (im Gegensatz zu flächenbasierten/vollflächigen Strukturelementen). Die Form des Strukturelements 7, hier das Quadrat, wird also durch Linien, hier die Ränder des Quadrats, dargestellt. Der Betrachter erkennt nicht nur das Bewegungsmotiv 5, sondern auch dessen Motivstruktur 6, insbesondere die Strukturelemente 7. Die Strukturelemente 7 können insofern auch als Submotive des Bewegungsmotivs 5 bezeichnet werden. Die Motive 4, 5 werden in der bevorzugten Ausgestaltung mittels Mikrospiegeln erzeugt und/oder für den Betrachter hell vor dunklem Hintergrund dargestellt. Das in den Figuren gezeigte Schwebemotiv 4 und die Strukturelemente 7 der Mikrostruktur 6 leuchten also für den Betrachter bei dem entsprechenden Kippwinkel hell, während die Unterbrechungen 8 dunkel erscheinen.
Das Bewegungsmotiv 5 hat eine Motivkontur 51, welche die Motivfläche 52 einschließt. Die Motivstruktur 6 in der Motivfläche 52 weist die Vielzahl von Unterbrechungen 8 auf. Die Unterbrechungen 8 sind so ausgestaltet, dass wenn sich das Bewegungsmotiv 5 über das Schwebemotiv 4 hinweg zu bewegen scheint, das Schwebemotiv 4 durch die Unterbrechungen 8 sichtbar ist bzw. bleibt.
In 1c wird die Hauptebene E um die erste Hauptebenen-Achse 3 um weitere 5°, also insgesamt um 10° gegenüber der (senkrechten) Aufsicht (α_b=90°) gekippt. Die rechte Seite der Hauptebene E wird weiter nach hinten, also von dem Betrachter B wegkippt bzw. wegbewegt wird und die linke Seite weiter nach vorne, also zu dem Betrachter hinkippt bzw. hinbewegt wird. Der Kippwinkel beträgt somit α_b=100°. Unter diesem Kippwinkel α_b liegt das Bewegungsmotiv 5 über dem Schwebemotiv 4. Das Schwebemotiv 4 ist leicht weiter nach Westen verschoben. Die beiden Motive beginnen sich zu überlappen.
Durch die Unterbrechungen 8 der Motivstruktur 6 des Bewegungsmotives 5 hindurch ist das Schwebemotiv 4 weiterhin sichtbar. Das Schwebemotiv 4 ist in den Strukturinnenräumen 81, den Innenraum der Strukturelemente, als Unterbrechungen 8 erkennbar. Ebenso ist das Schwebemotiv 4 in den optionalen Motivunterbrechungen 82 der Motivstruktur 6 erkennbar. Innerhalb den Unterbrechung 8 bzw. 81, 82 kann jeweils ein - ansonsten aufgrund der überlappenden Anordnung verdeckter - Abschnitt des schwebenden Schwebemotivs 4 erkannt werden.
In 1d wird die Hauptebene E um die erste Hauptebenen-Achse 3 um weitere 5°, also insgesamt um 15° gegenüber der Aufsicht gekippt. Der Kippwinkel beträgt somit α_b=105°. Unter diesem Kippwinkel α_b bewegt sich das Bewegungsmotiv 5 weiter über das Schwebemotiv 4 hinweg. Das Bewegungsmotiv 5 zeigt also den Bewegungseffekt BE. Das Schwebemotiv 4 schwebt weiterhin unter der Hauptebene, zeigt also den Schwebeffekt SE, und wird zugleich perspektivisch verschoben dargestellt, zeigt also zusätzlich den Verschiebungseffekt VE. In den Unterbrechungen 81, 82 der Motivstruktur 6 des Bewegungsmotivs ist das Schwebemotiv 4 bzw. ein überlappend angeordneter Abschnitt des Schwebemotivs 4 sichtbar.
In 1e wird die Hauptebene E um die erste Hauptebenen-Achse 3 um weitere 5°, also insgesamt um 20° gegenüber der senkrechten Aufsicht gekippt. Der Kippwinkel beträgt somit α_b=110°. Unter diesem Kippwinkel α_b hat sich das Bewegungsmotiv 5 bereits vollständig über das Schwebemotiv 4 hinwegbewegt.
In 1f wird die Hauptebene E um die erste Hauptebenen-Achse 3 um weitere 5°, also insgesamt um 25° gegenüber der senkrechten Aufsicht gekippt. Der Kippwinkel beträgt somit α_b=115°. Unter diesem Kippwinkel α_b ist das Bewegungsmotiv 5 nicht mehr sichtbar. Lediglich das Schwebemotiv 4 ist sichtbar, wobei dieses perspektivisch noch weiter gegenüber der Position, an der es unter Aufsicht bzw. 90° erscheint, verschoben ist.
2 ist auch eine schematische Darstellung von Ansichten eines Schwebemotivs 4 mit räumlichem Verschiebungseffekt VE und eines Bewegungsmotivs 5 mit Bewegungseffekt BE bei unterschiedlichen Kippwinkeln während des Kippens um eine Hauptebenen-Achse 3 in West-Ost-Richtung. Im Wesentlichen handelt es sich um dieselben Ansichten wie in 1, wobei lediglich andere Ausgestaltungen des Schwebemotivs 4 und des Bewegungsmotivs 5 dargestellt sind.
Das Schwebemotiv 4 erscheint als ein dreidimensionales Objekt, das über der Hauptebene schwebt. Bei dem Kippen von West W nach Ost O um die Hauptebenen-Achse 3 entsteht der Eindruck einer perspektivischen Verkippung des Schwebemotivs 4, der der Verschiebung VE des Schwebemotivs 4 parallel zur Hauptebene E entspricht. Die perspektivische Verkippung entsteht dadurch, dass sich Bildpunkte, die durch Mikroreflektoren-Paare von mindestens einem Teil der Mehrzahl von Mikropixeln an verschiedenen Positionen im Mikrostrukturfeld erzeugt werden, mit dem Verkippen der Hauptebene E um die mindestens eine erste Hauptebenen-Achse 3 in dem ersten Kippwinkelbereich um unterschiedlich große Verschiebungsreichweiten verschieben.
Die Kippwinkel α_b und der Verlauf des Bewegungsmotivs 5 entsprechen in den 1a-1f denen der 2a-2f. Das Schwebemotiv 4 verschiebt sich sukzessive in seiner perspektivischen Ansicht wenn der Kippwinkel α_b von 90° nach 115° (Winkel zwischen Sichtachse und rechter Ostseite O der Hauptebenen) durch Kippen der Hauptebene E um die Hauptebenen-Achse 3 durchlaufen wird.
Wie in 2b erkennbar, umfasst die Motivstruktur 6 des Bewegungsmotivs 5 andere Strukturelemente 7. Die Strukturelemente 7 sind Ringe (bzw. die Randlinie eines Kreises), die beabstandet voneinander angeordnet sind. Durch die beabstandete Anordnung entstehen auch Unterbrechungen 8 zwischen den Strukturelementen 7. Alternativ zu der gezeigten Anordnung könnte man (hier oder in 1) die gesamte Motivfläche 52 mit den beabstandeten Strukturelementen 7 füllen.
Die Unterbrechungen 8 unterstützen wiederum die Sichtbarkeit des Schwebemotivs 4 im überlappenden Zustand bzw. von überlappend angeordneten Abschnitten des Schwebemotivs 4. Schwebt das Schwebemotiv 4 über der Hauptebene E, liegt das Bewegungsmotiv 5 unter der Schwebemotiv 4. Das Bewegungsmotiv 5 wäre dann für den Betrachter teils nicht darzustellen, soweit es von einem opaken Schwebemotiv 4 verdeckt wäre. Nun kann jedoch ein semitransparentes Schwebemotiv 4 mit einem darunter bewegten Bewegungsmotiv 5 dargestellt werden. In den Unterbrechungen 81, 83, 84 und 85 der Motivstruktur 6 des Bewegungsmotivs 5 sieht der Betrachter weiterhin nur das Schwebemotiv 4, das somit für ihn gut als schwebendes Motiv erkennbar bleibt. Ein vollflächig bzw. gleichmäßig leuchtendes Bewegungsmotiv 5 würde dagegen ein darüber schwebendes Schwebemotiv unkenntlich machen.
Die Unterbrechungen sind Stukturinnenräume 81, hier also der Kreis innerhalb der Ringe, Strukturzwischenräume 83, hier also die Zwischenräume zwischen den Ringen, Konturunterbrechungen 84 und/oder Motivinnenräume 85. Die Strukturelemente 7 können entlang der Motivkontur 51 und/oder in der Motivfläche 52 angeordnet sein. Sind die Strukturelemente 7 entlang der Motivkontur mit Abstand oder mit größerem Abstand als in der Motivfläche angeordnet, liegt eine Konturunterbrechung 84 vor. Der Motivinnenraum 85 wird von Strukturelementen 7 umschlossen, ist aber selbst frei von Strukturelementen.
Sollte das Schwebemotiv 4 in 2 mit seinem Schwebeeffekt SE (und seiner Verschiebung VE) unter der Ebene E schweben, wäre es - analog zu 1 - durch die Unterbrechungen 8 hindurch bzw. innerhalb der Unterbrechungen 8 für den Betrachter auch in 2c und 2d gut erkennbar.
Man könnte (in 1 oder in 2) die gesamte Motivfläche 52 mit (regelmäßig oder unregelmäßig angeordneten und/oder beabstandeten oder nicht beabstandeten) Strukturelementen 7 füllen.
Kippt man die Sicherheitsmerkmale der 1 und 2 um eine zweite Hauptebenen-Achse, also beispielsweise eine Ost-West-Achse, gilt wiederum dass der Kippwinkelbereich, in welchem das Schwebemotiv 4 schwebend sichtbar ist, größer ist (beispielsweise 45 Grad) als der Kippwinkelbereich, in welchem das Bewegungsmotiv 5 sichtbar ist (beispielsweise 15 Grad). Für ein Kippen in der zweiten Richtung zeigt das Schwebemotiv 4 beim Kippen vorzugsweise den - perspektivisch entsprechenden - Verschiebungseffekt, das Bewegungsmotiv zeigt jedoch nicht den Bewegungseffekt, sondern optional allenfalls einen Farbwechsel oder eine Änderung der Größe der Strukturelemente 7.
3 ist eine schematische Darstellung des Schwebemotivs 4 mit räumlichem Verschiebungseffekt VE und des Bewegungsmotivs 5 mit Bewegungseffekt BE beim Kippen der Hauptebene E in Süd-Nord-Richtung um eine Hauptebenen-Achse 3, die in Ost-West-Richtung verläuft. Dabei erfolgt das Kippen von Süd nach Nord, sodass sich der obere Teil der Hauptebenen E von dem Betrachter wegbewegt und der untere Teil der Hauptebenen E zu dem Betrachter hinbewegt. Die Hauptebenen-Achse 3 verläuft dabei anders als in 1 und 2 von Ost O nach West W. In 1 und 2 verläuft die Hautebenen-Achse 3 von Nord N nach Süd S, also von oben nach unten.
Das Bewegungsmotiv 5 wird durch eine Motivstruktur 6 bestehend aus Rechtecken als Strukturelementen 7 und Unterbrechungen, die als Strukturinnenräume 81 und als Strukturzwischenräume 83 vorliegen, dargestellt. Die Bewegungsrichtung des Bewegungsmotivs 5 ist durch den dicken Pfeil angedeutet und verläuft von Süd S nach Nord N. Das Schwebemotiv 4 ist auch hier ein Motiv, das für den Betrachter über der Hauptebene E zu schweben scheint. Das ringförmige Schwebemotiv 4 verschiebt sich diesmal nicht entgegengesetzt zur Bewegungsrichtung des Bewegungsmotivs 5, sondern um 90° dazu, und zwar von Ost O nach West W, wenn die Hauptebene E von Süd S nach Nord N um die Hauptebenen-Achse 3 gekippt wird. Der gestrichelte Kreis deutet die Position des kreisförmigen Schwebemotivs 4 zu Beginn der Kippung von Süd S nach Nord N an. Der dünne Pfeil deutet die Verschiebungsrichtung des kreisförmigen Schwebemotivs 4 von Ost O nach West W an und der durchgezogene Kreis deutet die Endposition des kreisförmigen Schwebemotivs 4 an.
4a und 4b sind schematische Darstellungen eines Feldes 2, das ein Mikrostrukturfeld 42 mit Mikropixeln 46 umfassend eine Mehrzahl von Mikroreflektoren 47, 48 aufweist.
Die 4a entspricht einer Aufsicht des Feldes 42 und 4b entspricht einer Seitenansicht des Feldes 42 der 4a entlang der Schnittachse AA'.
Jedes Mikropixel 46 in der 4a umfasst eine 4 x 4 Matrix mit zwei Schwebemotiv-Reflektoren 47 angedeutet durch ein engmaschiges Karomuster und zwei Bewegungsmotiv-Reflektoren 48 angedeutet durch ein grobmaschiges Karomuster. Zur Darstellung eines Schwebemotivs 4, das für den Betrachter als ein über der Hauptebene E schwebendes Motiv erscheint, sind zwei Schwebemotiv-Reflektoren 47 pro Mikropixel 46 erforderlich. Die 4a ist eine Aufsicht des Mikrostrukturfeldes 2' und die 4b ist ein Schnitt durch das Mikrostrukturfeld 2` der 4a entlang der Achse AA`, die der x-Achse in der 4b entspricht. Die Schwebemotiv-Reflektoren 47 sind alternierend mit den Bewegungsmotiv-Reflektoren 48 angeordnet. Die Reflektorflächen A₄₇ und A₄₈ der Schwebemotiv-Reflektoren 47 und der Bewegungsmotiv-Reflektoren 48 sind um Neigungswinkel β gegenüber der Hauptebene E geneigt. Diese Neigungswinkel β sind für jeden Mikropixel 46 individuell gewählt, sodass sich daraus der entsprechende Schwebe- SE und Verschiebungseffekt VE des Schwebemotivs 4 und der entsprechende Bewegungseffekt BE des Bewegungsmotivs 5 beim Kippen um eine Hauptebenen-Achse 3 ergeben. Der Schwebeeffekt SE entspricht einem Schweben des Schwebemotivs 5 über oder unter der Hauptebene E (in y-Richtung der 4b). Der Verschiebungseffekt VE entspricht einer Verschiebung des Schwebemotivs 4 in einer Richtung, die senkrecht zur y-Achse der 4b steht. Der Bewegungseffekt BE entspricht auch einer Bewegung des Bewegungsmotivs 5 in einer Richtung, die senkrecht zur y-Achse der 4b steht. Der Verschiebungseffekt VE erfolgt in einer Ebene, die parallel zur Hauptebenen E verläuft. Der Bewegungseffekt BE erfolgt in der Hauptebenen E oder parallel zur Hauptebenen E und der Schwebeeffekt SE erfolgt im weiteren Sinne senkrecht zur Hauptebenen E.
6 ist eine schematische Darstellung der ersten und zweiten Kippwinkelbereiche Δα_1,2. Der erste Kippwinkelbereich Δα₁ überschneidet sich mit dem zweiten Kippwinkelbereich Δα₂. Generell kann der erste Kippwinkelbereich Δα₁ den zweiten Kippwinkelbereich Δα₂ vollständig oder nur teilweise umfassen. Der erste Kippwinkelbereich Δα₁ umfasst in dieser Ausführungsform den zweiten Kippwinkelbereich Δα₂ und beide Kippwinkelbereiche Δα_1,2 sind symmetrisch um 90° verteilt. Daher ist das Schwebemotiv 4 über einen breiteren Kippwinkelbereich um 90° sichtbar (von etwa 20° bis etwa 160°) als das Bewegungsmotiv 5 (von etwa 40° bis etwa 140°). Wie in den Beispielen der 1 und 2 gezeigt, müssen die Kippwinkelbereiche nicht zwingend symmetrisch um 90° gelegen sein. Im Überschneidungsbereich 61 sind beide Motive sichtbar. Es kann - wie in der Figur gezeigt ein oder zwei - Nicht-Überschneidungsbereiche 64 geben, in denen nur das Schwebemotiv 4 sichtbar ist. Der Winkelbereich, in welchem sich die Motive zumindest teilweise überlappen kann als Überlappungsbereich 62 bezeichnet werden. Er liegt natürlich im Überschneidungsbereich 61, ist bevorzugt kleiner als der Überschneidungsbereich, so dass es auch zumindest einen Nicht-Überlappungsbereich 63 innerhalb des Überschneidungsbereiches 61 gibt.
Bezugszeichenliste

1: Sicherheitsmerkmal
2: Feld in Hauptebene
3: Hauptebenen-Achse
10: Wertdokument
E: Hauptebene
4: Schwebemotiv
5: Bewegungsmotiv
51: Motivkontur
52: Motivfläche
6: Motivstruktur
7: Strukturelement
8: Unterbrechungen
81: Strukturinnenraum
82: Motivunterbrechungen
83: Strukturzwischenraum
84: Konturunterbrechungen
85: Motivinnenraum
11: Sichtachse
42: Mikrostrukturfeld
46: Mikropixel
47: Schwebemotiv-Reflektor
48: Bewegungsmotiv-Reflektor
61: Überschneidungsbereich
62: Überlappungsbereich
63: Nicht-Überlappungsbereich
64: Nicht-Überschneidungsbereich
αb, α: Kippwinkel der Sichtachse mit Hauptebene bezüglich der Kipprichtung
β, β47, β48: Neigungswinkel, Neigungswinkel der Schwebemotiv-Reflektoren und der Bewegungsmotiv- Reflektoren
B: Betrachter
A47: Reflektorfläche eines Schwebemotiv-Reflektors
A48: Reflektorfläche eines Bewegungsmotiv-Reflektors
BE: Eindruck einer Bewegung bzw. Bewegungseffekt
Δα1,2: Erster und zweiter Kippwinkelbereich
E: Hauptebene
L: Lot
VE: Eindruck einer Verschiebung bzw. Verschiebungseffekt
N: Nordrichtung
O: Ostrichtung
P: Sichtpunkt auf der Hauptebenen
S: Südrichtung
SE: Eindruck eines Schwebens bzw. Schwebeeffekt
W: Westrichtung

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

WO 2015/078572 A1 [0002]
WO 2016/180522 A1 [0002]
DE 102018008146 A1 [0032]

Claims

Sicherheitsmerkmal (1) für ein Wertdokument (10) umfassend: ein in einer Hauptebene (E) des Sicherheitsmerkmals angeordnetes Feld (2), das eingerichtet ist zum Darstellen von einem Schwebemotiv (4), das für den Betrachter außerhalb der Hauptebene (E) zu liegen scheint (SE), und das für den Betrachter mit einem Verkippen der Hauptebene (E) um mindestens eine erste Hauptebenen-Achse (3) in einem ersten Kippwinkelbereich erzeugt wird, und einem Bewegungsmotiv (5), wobei für den Betrachter der Eindruck eines in der Hauptebene (E) oder parallel zur Hauptebene (E) verlaufenden Bewegungseffektes (BE) mit dem Verkippen der Hauptebene (E) um die mindestens eine erste Hauptebenen-Achse (3) in einem zweiten Kippwinkelbereich (Δα₂) erzeugt wird; wobei der zweite Kippwinkelbereich (Δα₂) sich zumindest teilweise, in einem Überschneidungsbereich (Ü), mit dem ersten Kippwinkelbereich (Δα₁) überschneidet; wobei das Bewegungsmotiv (5) flächig zumindest teilweise mit dem Schwebemotiv (4) überlappt und eine Motivstruktur (6) mit Unterbrechungen (8) aufweist, und/oder der zweite Kippwinkelbereich (Δα₂) des Bewegungsmotivs (5) kleiner ist als der erste Kippwinkelbereich (Δα₁) des Schwebemotivs (4).
Sicherheitsmerkmal (1) nach Anspruch 1, wobei die Motivstruktur (6) mit Unterbrechungen des Bewegungsmotives (5) so gewählt ist, dass für den Betrachter die Sichtbarkeit des Schwebemotives (4) unterstützt wird und/oder der erste Kippwinkelbereich (Δα₁) einen Nicht-Überschneidungsbereich (64) umfasst, in welchem für den Betrachter das Bewegungsmotiv (5) nicht sichtbar ist oder ohne den Bewegungseffekt (BE), insbesondere nicht mit dem Schwebemotiv (4) überlappend, sichtbar ist.
Sicherheitsmerkmal (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das für den Betrachter (B) unter dem Bewegungsmotiv (5) schwebende Schwebemotiv (4) für den Betrachter (B) zumindest teilweise als durch die Unterbrechungen (8) der Motivstruktur (6) des Bewegungsmotivs (5) hindurch sichtbares Schwebemotiv (4) dargestellt wird.
Sicherheitsmerkmal (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei für den Betrachter (B) das Schwebemotiv (4) über dem Bewegungsmotiv (5) schwebt und das Bewegungsmotiv (5) für den Betrachter (B) als unter dem semitransparent wirkenden Schwebemotiv (4), bewegtes Bewegungsmotiv (5) dargestellt wird.
Sicherheitsmerkmal (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Überschneidungsbereich (61) einen Überlappungsbereich (62), in welchem das Bewegungsmotiv (5) und das Schwebemotiv (4) zumindest teilweise überlappen, umfasst und insbesondere mindestens einen Nicht-Überlappungsbereich (63) umfasst, in welchem das Bewegungsmotiv (5) nicht mit dem Schwebemotiv (4) überlappt.
Sicherheitsmerkmal (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Motivstruktur (6) Strukturelemente (7) aufweist, die insbesondere - linienförmige Strukturelemente (7) sind und/oder - für den Betrachter als Submotive erkennbar sind und/oder - entlang einer Motivkontur (51) und /oder in der Motivfläche (52) angeordnet sind.
Sicherheitsmerkmal (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Motivstruktur (6) als Unterbrechungen umfasst: - Strukturinnenräume (81), die jeweils in einem Strukturelement (7) angeordnet sind; und/oder - Strukturzwischenräume (83), die zwischen Strukturelementen (7) angeordnet sind; und/oder - Motivinnenräume (85), die innerhalb der Motivfläche (52) des Bewegungsmotivs (5) angeordnet sind, insbesondere von Strukturelementen (7) umschlossen sind.
Sicherheitsmerkmal (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das in der Hauptebene (E) angeordnete Feld (2) ein Mikrostrukturfeld (2`) aufweist, das bevorzugt ein Mikroreflektorfeld umfasst und wobei das Mikroreflektorfeld weiter bevorzugt eine Mehrzahl von Mikropixeln (46) mit jeweils einer Mehrzahl von Mikroreflektoren (47, 48) aufweist.
Sicherheitsmerkmal (1) nach Anspruch 8, wobei eine Schwebemotiv-Struktur Strukturpaare, insbesondere Mikroreflektoren-Paare, für die beiden Augen des Betrachters umfasst, sodass jedes Strukturpaar für den Betrachter einen außerhalb der Hauptebene (E) liegenden Bildpunkt erzeugt.
Sicherheitsmerkmal (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei bei dem Verkippen der Hauptebene (E) um die erste Hauptebenen-Achse (3), vorzugsweise auch beim Verkippen um zumindest eine zweite Hauptebenen-Achse, für den Betrachter mit einer Verschiebung (VE) des Schwebemotivs (4) parallel zur Hauptebene (E) dargestellt wird.
Sicherheitsmerkmal (1) nach Anspruch 10, wobei die Verschiebung (VE) des Schwebemotivs (4) parallel zur Hauptebene (E) einen Eindruck einer perspektivischen Verkippung des Schwebemotivs (4) umfasst, der vorzugsweise dadurch entsteht, dass sich Bildpunkte des Schwebemotivs, die insbesondere durch Mikroreflektoren-Paare von mindestens einem Teil der Mehrzahl von Mikropixeln (46) an verschiedenen Positionen im Mikrostrukturfeld erzeugt werden, mit dem Verkippen der Hauptebene (E) um die mindestens eine erste Hauptebenen-Achse (3) in dem ersten Kippwinkelbereich (Δα₁) um unterschiedlich große Verschiebungsreichweiten verschieben.
Sicherheitsmerkmal (1) nach einem der Ansprüche 8 bis 11, wobei die Mehrzahl von Mikroreflektoren (47, 48) von mindestens einem Teil der Mehrzahl von Mikropixeln Bewegungsmotiv-Reflektoren (48) aufweist und wobei für den Betrachter (B) der Eindruck des parallel zur Hauptebene (E) oder in der Hauptebene (E) verlaufenden Bewegungseffektes (BE) dadurch entsteht, dass die Bewegungsmotiv-Reflektoren (48) von Mikropixeln (46) an verschiedenen Positionen im Mikrostrukturfeld (2) verschiedene Neigungswinkel (β) bezüglich der Hauptebene (E) aufweisen, sodass das Bewegungsmotiv (5) an verschiedenen Positionen im Mikrostrukturfeld (2) unter verschiedenen Kippwinkeln (α₂) im zweiten Kippwinkelbereich (Δα₂) erzeugt wird.
Sicherheitsmerkmal (1) nach einem der Ansprüche 9 bis 12, wobei Schwebemotivstrukturen (47) und Bewegungsmotivstrukturen (48) verschachtelt, insbesondere regelmäßig verschachtelt und bevorzugt alternierend verschachtelt, in mindestens einem Teil der Mehrzahl von Mikropixeln (46) angeordnet sind.
Sicherheitsmerkmal (1) nach einem der Ansprüche 8 bis 13, die Neigungswinkel (β₄₈) der Bewegungsmotiv-Reflektoren (48) gegenüber der Hauptebene (E) kleiner als 24 Grad sind, vorzugsweise kleiner als 18 Grad, und zumindest einige Schwebemotiv-Reflektoren (47) einen Neigungswinkel (β₄₇) aufweisen, der größer als 25 Grad ist.
Sicherheitsmerkmal (1) nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei das in der Hauptebene (E) angeordnete Feld (2) auch dazu eingerichtet ist, den Eindruck einer Verschiebung (VE) des Schwebemotivs (4) parallel zur Hauptebene (E) mit einem Verkippen der Hauptebene (E) um mindestens eine zweite Hauptebenen-Achse (3) in einem dritten Kippwinkelbereich zu erzeugen.
Sicherheitselement mit einem Sicherheitsmerkmal gemäß einem der vorangehenden Ansprüche.
Wertdokument (10) mit einem Sicherheitsmerkmal (1) nach Anspruch 1 bis 15 oder einem Sicherheitselement gemäß Anspruch 16.