DE102021124099B4 - Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenmikroskops in einem Kontrast-Betriebsmodus mit defokussierter Strahlführung, Computerprogramprodukt und Vielstrahlteilchenmikroskop - Google Patents

Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenmikroskops in einem Kontrast-Betriebsmodus mit defokussierter Strahlführung, Computerprogramprodukt und Vielstrahlteilchenmikroskop Download PDF

Info

Publication number
DE102021124099B4
DE102021124099B4 DE102021124099.9A DE102021124099A DE102021124099B4 DE 102021124099 B4 DE102021124099 B4 DE 102021124099B4 DE 102021124099 A DE102021124099 A DE 102021124099A DE 102021124099 B4 DE102021124099 B4 DE 102021124099B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
detection
individual
particle
contrast
particle beams
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE102021124099.9A
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
DE102021124099A1 (de
Inventor
Stefan Schubert
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss Multisem GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss Multisem GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to DE102021124099.9A priority Critical patent/DE102021124099B4/de
Application filed by Carl Zeiss Multisem GmbH filed Critical Carl Zeiss Multisem GmbH
Priority to CN202280062793.2A priority patent/CN117957631A/zh
Priority to PCT/EP2022/025403 priority patent/WO2023041191A1/de
Priority to JP2024516984A priority patent/JP7854044B2/ja
Priority to EP22764650.2A priority patent/EP4402710A1/de
Priority to KR1020247012552A priority patent/KR102930155B1/ko
Priority to TW111133659A priority patent/TWI850760B/zh
Priority to NL2033047A priority patent/NL2033047B1/en
Publication of DE102021124099A1 publication Critical patent/DE102021124099A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102021124099B4 publication Critical patent/DE102021124099B4/de
Priority to US18/605,106 priority patent/US20240222069A1/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/244Detectors; Associated components or circuits therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/2446Position sensitive detectors
    • H01J2237/24465Sectored detectors, e.g. quadrants
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/24495Signal processing, e.g. mixing of two or more signals
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/245Detection characterised by the variable being measured
    • H01J2237/24571Measurements of non-electric or non-magnetic variables
    • H01J2237/24578Spatial variables, e.g. position, distance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/245Detection characterised by the variable being measured
    • H01J2237/24592Inspection and quality control of devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/26Electron or ion microscopes
    • H01J2237/28Scanning microscopes
    • H01J2237/2809Scanning microscopes characterised by the imaging problems involved
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/26Electron or ion microscopes
    • H01J2237/28Scanning microscopes
    • H01J2237/2813Scanning microscopes characterised by the application
    • H01J2237/2814Measurement of surface topography

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
DE102021124099.9A 2021-09-17 2021-09-17 Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenmikroskops in einem Kontrast-Betriebsmodus mit defokussierter Strahlführung, Computerprogramprodukt und Vielstrahlteilchenmikroskop Active DE102021124099B4 (de)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102021124099.9A DE102021124099B4 (de) 2021-09-17 2021-09-17 Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenmikroskops in einem Kontrast-Betriebsmodus mit defokussierter Strahlführung, Computerprogramprodukt und Vielstrahlteilchenmikroskop
PCT/EP2022/025403 WO2023041191A1 (de) 2021-09-17 2022-08-31 Verfahren zum betreiben eines vielstrahl-teilchenmikroskops in einem kontrast-betriebsmodus mit defokussierter strahlführung, computerprogramprodukt und vielstrahlteilchenmikroskop
JP2024516984A JP7854044B2 (ja) 2021-09-17 2022-08-31 デフォーカスされるビームの誘導でコントラスト動作モードにおいてマルチビーム粒子顕微鏡を動作させるための方法、コンピュータプログラムおよびマルチビーム粒子顕微鏡
EP22764650.2A EP4402710A1 (de) 2021-09-17 2022-08-31 Verfahren zum betreiben eines vielstrahl-teilchenmikroskops in einem kontrast-betriebsmodus mit defokussierter strahlführung, computerprogramprodukt und vielstrahlteilchenmikroskop
CN202280062793.2A CN117957631A (zh) 2021-09-17 2022-08-31 以散焦束引导在对比操作模式下操作多束粒子显微镜的方法、计算机程序产品以及多束粒子显微镜
KR1020247012552A KR102930155B1 (ko) 2021-09-17 2022-08-31 디포커싱된 빔 가이딩으로 콘트라스트 작동 모드에서 다중-빔 입자 현미경을 작동시키는 방법, 컴퓨터 프로그램 제품 및 다중-빔 입자 현미경
TW111133659A TWI850760B (zh) 2021-09-17 2022-09-06 以散焦束導引在對比操作模式操作一多束粒子顯微鏡的方法與電腦程式產品以及多束粒子顯微鏡
NL2033047A NL2033047B1 (en) 2021-09-17 2022-09-15 Method for operating a multi-beam particle microscope in a contrast operating mode with defocused beam guiding, computer program product and multi-beam particle microscope
US18/605,106 US20240222069A1 (en) 2021-09-17 2024-03-14 Method for operating a multi-beam particle microscope in a contrast operating mode with defocused beam guiding, computer program product and multi-beam particle microscope

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102021124099.9A DE102021124099B4 (de) 2021-09-17 2021-09-17 Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenmikroskops in einem Kontrast-Betriebsmodus mit defokussierter Strahlführung, Computerprogramprodukt und Vielstrahlteilchenmikroskop

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102021124099A1 DE102021124099A1 (de) 2023-03-23
DE102021124099B4 true DE102021124099B4 (de) 2023-09-28

Family

ID=83191890

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102021124099.9A Active DE102021124099B4 (de) 2021-09-17 2021-09-17 Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenmikroskops in einem Kontrast-Betriebsmodus mit defokussierter Strahlführung, Computerprogramprodukt und Vielstrahlteilchenmikroskop

Country Status (9)

Country Link
US (1) US20240222069A1 (https=)
EP (1) EP4402710A1 (https=)
JP (1) JP7854044B2 (https=)
KR (1) KR102930155B1 (https=)
CN (1) CN117957631A (https=)
DE (1) DE102021124099B4 (https=)
NL (1) NL2033047B1 (https=)
TW (1) TWI850760B (https=)
WO (1) WO2023041191A1 (https=)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024227537A1 (en) 2023-05-02 2024-11-07 Carl Zeiss Multisem Gmbh Multi-beam charged particle microscope for inspection with improved image contrast

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20240128051A1 (en) 2022-10-14 2024-04-18 Carl Zeiss Multisem Gmbh Multi-beam charged particle beam system with anisotropic filtering for improved image contrast

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005024881A2 (en) 2003-09-05 2005-03-17 Carl Zeiss Smt Ag Particle-optical systems, components and arrangements
WO2007028596A1 (en) 2005-09-06 2007-03-15 Carl Zeiss Smt Ag Charged particle inspection method and charged particle system
WO2007060017A2 (en) 2005-11-28 2007-05-31 Carl Zeiss Smt Ag Particle-optical component
WO2011124352A1 (en) 2010-04-09 2011-10-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Charged particle detection system and multi-beamlet inspection system
DE102013014976A1 (de) 2013-09-09 2015-03-12 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenoptisches System
DE102013016113A1 (de) 2013-09-26 2015-03-26 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Detektieren von Elektronen, Elektronendetektor und Inspektionssystem
DE102015202172B4 (de) 2015-02-06 2017-01-19 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenstrahlsystem und Verfahren zur teilchenoptischen Untersuchung eines Objekts
US10186399B2 (en) 2016-04-15 2019-01-22 Hitachi High-Technologies Corporation Scanning electron microscope
US10192716B2 (en) 2015-09-21 2019-01-29 Kla-Tencor Corporation Multi-beam dark field imaging
US20190355544A1 (en) 2017-03-20 2019-11-21 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Charged particle beam system and method
DE102020123567A1 (de) 2020-09-09 2022-03-10 Carl Zeiss Multisem Gmbh Vielzahl-Teilchenstrahl-System mit Kontrast-Korrektur-Linsen-System

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10236738B9 (de) 2002-08-09 2010-07-15 Carl Zeiss Nts Gmbh Elektronenmikroskopiesystem und Elektronenmikroskopieverfahren
JP5572428B2 (ja) * 2010-03-15 2014-08-13 株式会社日立ハイテクノロジーズ 検査装置および検査方法
JP5951985B2 (ja) * 2011-12-27 2016-07-13 株式会社ホロン 円筒状原版検査装置および円筒状原版検査方法
NL2013411B1 (en) * 2014-09-04 2016-09-27 Univ Delft Tech Multi electron beam inspection apparatus.
JP2016139467A (ja) * 2015-01-26 2016-08-04 株式会社日立ハイテクノロジーズ 試料観察方法および試料観察装置
EP3104155A1 (en) * 2015-06-09 2016-12-14 FEI Company Method of analyzing surface modification of a specimen in a charged-particle microscope
KR102468155B1 (ko) * 2017-02-07 2022-11-17 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 하전 입자 검출 방법 및 장치
CN112055886A (zh) * 2018-02-27 2020-12-08 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司 带电粒子多束系统及方法
IL278076B2 (en) * 2018-04-20 2025-08-01 Asml Netherlands Bv Pixel shape and section shape selection for large active area high speed detector
EP3761340A1 (en) * 2019-07-02 2021-01-06 ASML Netherlands B.V. Apparatus for and method of local phase control of a charged particle beam

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005024881A2 (en) 2003-09-05 2005-03-17 Carl Zeiss Smt Ag Particle-optical systems, components and arrangements
US7244949B2 (en) 2003-09-05 2007-07-17 Carl Zeiss Smt Ag Particle-optical systems and arrangements and particle-optical components for such systems and arrangements
WO2007028596A1 (en) 2005-09-06 2007-03-15 Carl Zeiss Smt Ag Charged particle inspection method and charged particle system
WO2007028595A2 (en) 2005-09-06 2007-03-15 Carl Zeiss Smt Ag Particle -optical component
WO2007060017A2 (en) 2005-11-28 2007-05-31 Carl Zeiss Smt Ag Particle-optical component
WO2011124352A1 (en) 2010-04-09 2011-10-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Charged particle detection system and multi-beamlet inspection system
DE102013014976A1 (de) 2013-09-09 2015-03-12 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenoptisches System
DE102013016113A1 (de) 2013-09-26 2015-03-26 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Detektieren von Elektronen, Elektronendetektor und Inspektionssystem
DE102015202172B4 (de) 2015-02-06 2017-01-19 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenstrahlsystem und Verfahren zur teilchenoptischen Untersuchung eines Objekts
US10192716B2 (en) 2015-09-21 2019-01-29 Kla-Tencor Corporation Multi-beam dark field imaging
US10186399B2 (en) 2016-04-15 2019-01-22 Hitachi High-Technologies Corporation Scanning electron microscope
US20190355544A1 (en) 2017-03-20 2019-11-21 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Charged particle beam system and method
DE102020123567A1 (de) 2020-09-09 2022-03-10 Carl Zeiss Multisem Gmbh Vielzahl-Teilchenstrahl-System mit Kontrast-Korrektur-Linsen-System

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
M. Kienle, Aufbau und Erprobung eines außeraxialen Vielkanalspektrometers für Sekundärelektronen. Diss. PhD Thesis University of Tuebingen, 2002

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024227537A1 (en) 2023-05-02 2024-11-07 Carl Zeiss Multisem Gmbh Multi-beam charged particle microscope for inspection with improved image contrast

Also Published As

Publication number Publication date
EP4402710A1 (de) 2024-07-24
US20240222069A1 (en) 2024-07-04
TW202326790A (zh) 2023-07-01
KR102930155B1 (ko) 2026-02-25
DE102021124099A1 (de) 2023-03-23
NL2033047B1 (en) 2023-08-04
TWI850760B (zh) 2024-08-01
JP7854044B2 (ja) 2026-04-30
NL2033047A (en) 2023-03-24
JP2024535055A (ja) 2024-09-26
KR20240055877A (ko) 2024-04-29
WO2023041191A1 (de) 2023-03-23
CN117957631A (zh) 2024-04-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102018007455B4 (de) Verfahren zum Detektorabgleich bei der Abbildung von Objekten mittels eines Mehrstrahl-Teilchenmikroskops, System sowie Computerprogrammprodukt
DE102015202172B4 (de) Teilchenstrahlsystem und Verfahren zur teilchenoptischen Untersuchung eines Objekts
DE102018007652B4 (de) Teilchenstrahl-System sowie Verfahren zur Stromregulierung von Einzel-Teilchenstrahlen
DE102019005364B3 (de) System-Kombination eines Teilchenstrahlsystem und eines lichtoptischen Systems mit kollinearer Strahlführung sowie Verwendung der System-Kombination
DE102018124044B3 (de) Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenstrahlmikroskops und Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem
DE102020125534B3 (de) Vielzahl-Teilchenstrahlmikroskop und zugehöriges Verfahren mit schnellem Autofokus um einen einstellbaren Arbeitsabstand
DE102013016113B4 (de) Verfahren zum Detektieren von Elektronen, Elektronendetektor und Inspektionssystem
DE102014008383B4 (de) Teilchenstrahlsystem und Verfahren zum Betreiben einer Teilchenoptik
DE102013014976A1 (de) Teilchenoptisches System
DE102018133703A1 (de) Vorrichtung zur Erzeugung einer Vielzahl von Teilchenstrahlen und Vielstrahl-Teilchenstrahlsysteme
DE102021205394B4 (de) Verfahren zum Betrieb eines Vielstrahlmikroskops mit an eine Inspektionsstelle angepassten Einstellungen
DE102020121132B3 (de) Verfahren zum Betreiben eines Vielzahl-Teilchenstrahlsystems mit einem Spiegel-Betriebsmodus und zugehöriges Computerprogrammprodukt
DE112014007154B4 (de) Ladungsteilchen-Strahlvorrichtung
DE102019008249B3 (de) Teilchenstrahl-System mit einer Multistrahl-Ablenkeinrichtung und einem Strahlfänger, Verfahren zum Betreiben des Teilchenstrahl-Systems und zugehöriges Computerprogrammprodukt
DE10156275A1 (de) Detektoranordnung und Detektionsverfahren
DE102021124099B4 (de) Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenmikroskops in einem Kontrast-Betriebsmodus mit defokussierter Strahlführung, Computerprogramprodukt und Vielstrahlteilchenmikroskop
DE102020123567A1 (de) Vielzahl-Teilchenstrahl-System mit Kontrast-Korrektur-Linsen-System
JP2025533282A (ja) 改善された像コントラストのために異方性フィルタリングを用いたマルチビーム荷電粒子顕微鏡設計
DE102022114923B4 (de) Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenmikroskops, Computerprogrammprodukt und Vielstrahl-Teilchenmikroskop
DE69925131T2 (de) Elektronenmikroskop
DE102023119451B4 (de) Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem mit elektrostatischer Boosterlinse, Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenstrahlsystems und zugehöriges Computerprogrammprodukt
DE102020115183A1 (de) Teilchenstrahlsystem mit Multiquellensystem
DE102024128162B3 (de) Verfahren zum Einstellen einer Vielkanal-Detektionseinheit eines Vielstrahl-Teilchenmikroskops bei einer Inspektion aufladbarer Proben, zugehöriges Computerprogrammprodukt und Vielstrahl-Teilchenmikroskop
DE102021118684A1 (de) Verfahren zur Analyse von Störeinflüssen bei einem Vielstrahl-Teilchenmikroskop, zugehöriges Computerprogrammprodukt und Vielstrahl-Teilchenmikroskop

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final