DE102018211192A1

DE102018211192A1 - Method for preventing and / or eliminating impurities in storage arrangements of optical elements and projection exposure apparatus for microlithography

Info

Publication number: DE102018211192A1
Application number: DE102018211192.8A
Authority: DE
Inventors: Jovana-Maria Diesch; Volkmar Kupfer; Andreas Stock; Robert Wipf
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2018-07-06
Filing date: 2018-07-06
Publication date: 2018-08-23
Also published as: DE102019204984A1

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vermeidung und / oder Beseitigung von Verunreinigungen in der Lagerungsanordnung von optischen Elementen (1) von Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithographie, bei welchem in einem Freiraum (7) der Lagerungsanordnung mindestens ein Absperrelement (8,9,10) zum zumindest teilweisen Absperren des Freiraums zeitweise eingebracht wird und / oder bei dem der Freiraum (7) durch ein oder mehrere Verschlusselemente gasdicht abgeschlossen wird und evakuiert und / oder mit Spülgas beaufschlagt wird. Außerdem betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit mindestens einer Lageranordnung für ein optisches Element, bei welcher Absperrelement (8,9,10) und Verschlusselemente vorgesehen sind.The present invention relates to a method for preventing and / or eliminating contaminants in the storage arrangement of optical elements (1) of microlithographic projection exposure apparatuses, in which at least one shut-off element (8, 9, 10) for the storage arrangement is provided in a free space (7) at least partially shutting off the free space is temporarily introduced and / or in which the free space (7) is closed gas-tight by one or more closure elements and evacuated and / or acted upon with purge gas. In addition, the invention relates to a projection exposure apparatus for microlithography with at least one bearing arrangement for an optical element, in which shut-off (8,9,10) and closure elements are provided.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION

GEBIET DER ERFINDUNGFIELD OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vermeidung und / oder Beseitigung von Verunreinigungen in Lagerungsanordnungen von optischen Elementen von Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithographie sowie entsprechende Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithographie mit mindestens einer betreffenden Lagerungsanordnung für ein optisches Element.The present invention relates to a method for preventing and / or eliminating impurities in storage arrangements of optical elements of microlithographic projection exposure apparatuses and corresponding microlithography projection exposure apparatuses with at least one respective optical element storage arrangement.

STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART

Bei der Herstellung von mikrostrukturierten und nanostrukturierten Bauteilen der Mikrosystemtechnik und Mikroelektronik werden Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithographie eingesetzt, wobei die optischen Elemente in den Projektionsbelichtungsanlagen äußerst exakt positioniert werden müssen, um die gewünschten Auflösungen für die Abbildung der kleindimensionierten Strukturen zu erreichen. Insbesondere müssen die optischen Elemente in entsprechenden Projektionsbelichtungsanlagen aufwändig gelagert werden, um unempfindlich gegenüber externen Erschütterungen und Schwingungen zu sein, die die exakte Positionierung der optischen Elemente beeinträchtigen könnten. Entsprechend sind optische Elemente, wie beispielsweise Spiegel von Projektionsbelichtungsanlagen, die mit Arbeitslicht im extrem ultravioletten Wellenlängenspektrum arbeiten, üblicherweise entkoppelt und beweglich gelagert, um entsprechenden Erschütterungen und Schwingungen entgegenwirken zu können.In the production of microstructured and nanostructured components of microsystems technology and microelectronics projection exposure systems are used for microlithography, the optical elements in the projection exposure systems must be extremely precisely positioned in order to achieve the desired resolutions for imaging the small-sized structures. In particular, the optical elements in corresponding projection exposure systems must be laboriously stored in order to be insensitive to external shocks and vibrations which could impair the exact positioning of the optical elements. Accordingly, optical elements, such as, for example, mirrors of projection exposure apparatuses which work with working light in the extreme ultraviolet wavelength spectrum, are usually decoupled and movably mounted in order to be able to counteract corresponding shocks and vibrations.

Bei derartigen Lagerungsanordnung gibt es jedoch häufig konstruktionsbedingt schwer zugängliche Freiräume, die anfällig für Verschmutzungen und Verunreinigungen sind. Gelangen jedoch Fremdstoffe und Partikel in entsprechende Freiräume von Lagerungsanordnungen, so kann dadurch die freie Beweglichkeit der gelagerten Komponente beeinträchtigt werden, was wiederum dazu führen kann, dass die Positionsgenauigkeit der Komponente, also des optischen Elements beeinträchtigt werden kann.In such storage arrangement, however, there are often design-related difficult to access spaces that are prone to contamination and contamination. However, if foreign substances and particles get into corresponding free spaces of storage arrangements, then the free mobility of the stored component can be impaired, which in turn can lead to the positional accuracy of the component, ie of the optical element, being impaired.

Zwar werden bei der Herstellung und beim Betrieb von Projektionsbelichtungsanlagen hohe Anforderungen an die Reinheit der Umgebung und der verarbeiteten Komponenten gestellt, jedoch lässt es sich bei bestimmten Herstellungs - und Montageschritten nicht vermeiden, dass Partikel und Fremdstoffe erzeugt werden. Diese müssen dann in aufwändigen Verfahren aus entsprechenden Freiräumen wieder entfernt werden, wobei es bei Einschränkungen der Positioniergenauigkeit von optischen Elementen dazu kommen kann, dass zumindest Teile der Komponenten wieder ausgebaut werden müssen, was einen hohen Aufwand darstellt.Although high demands are placed on the purity of the environment and the processed components during the production and operation of projection exposure apparatuses, it is unavoidable in certain production and assembly steps that particles and foreign substances are produced. These then have to be removed from corresponding free spaces again in complex procedures, whereby in the case of restrictions of the positioning accuracy of optical elements, it may happen that at least parts of the components have to be removed again, which represents a high outlay.

OFFENBARUNG DER ERFINDUNGDISCLOSURE OF THE INVENTION

AUFGABE DER ERFINDUNGOBJECT OF THE INVENTION

Es ist deshalb Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Verfahren und entsprechende Vorrichtungen bereitzustellen, mit denen einerseits eine Kontamination von Freiräumen in Lagerungsanordnung von Projektionsbelichtungsanlagen vermieden werden können und mit denen andererseits entsprechende Freiräume in einfacher und effizienter Weise gereinigt werden können.It is therefore an object of the present invention to provide a method and corresponding devices with which, on the one hand, contamination of free spaces in the storage arrangement of projection exposure systems can be avoided and with which, on the other hand, appropriate free spaces can be cleaned in a simple and efficient manner.

TECHNISCHE LÖSUNGTECHNICAL SOLUTION

Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit den Merkmalen des Anspruchs 9. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.This object is achieved by a method having the features of claim 1 and a projection exposure apparatus for microlithography with the features of claim 9. Advantageous embodiments are the subject of the dependent claims.

Die Erfindung schlägt zur Vermeidung von Verunreinigungen von Freiräumen in Lagerungsanordnungen vor, mindestens ein Absperrelement zum zumindest teilweise Absperren des Freiraums vorzusehen, welches zeitweise in dem Freiraum angeordnet werden kann, um bei bestimmten Bearbeitungsschritten und Montageschritten den abgesperrten Teil des Freiraums vor Kontaminationen zu schützen.The invention proposes to avoid contamination of open spaces in storage arrangements to provide at least one shut-off for at least partially shutting off the free space, which can be temporarily placed in the free space to protect the shut-off part of the free space from contamination in certain processing steps and assembly steps.

Darüber hinaus schlägt die vorliegende Erfindung zur Beseitigung von Verunreinigungen aus Freiräumen in Lagerungsanordnungen von optischen Elementen von Projektionsbelichtungsanlagen vor, den Freiraum durch ein oder mehrere Verschlusselemente gasdicht abzuschließen und anschließend diesen abgeschlossenen Raum zu evakuieren und / oder mit Spülgas zu beaufschlagen. Auf diese Weise ist eine effiziente und gründliche Reinigung von schwer zugänglichen Freiräumen in Lagerungsanordnungen möglich.In addition, the present invention proposes to eliminate impurities from free spaces in storage arrangements of optical elements of projection exposure systems to complete the clearance gas-tight by one or more closure elements and then to evacuate this closed space and / or to apply purge gas. In this way, an efficient and thorough cleaning of hard to reach spaces in storage arrangements is possible.

Das mindestens eine Absperrelement kann zumindest teilweise elastisch ausgebildet sein, sodass es elastisch in den Freiraum eingeklemmt werden kann. Dadurch ist eine einfache und flexible Anordnung des Absperrelements innerhalb des Freiraums möglich. Insbesondere kann das Absperrelement außerhalb der optisch wirksamen Fläche an dem optischen Element anliegen, sodass während einer vollflächigen Bearbeitung der optisch wirksamen Fläche der entsprechend abgesperrte Freiraum vor Kontaminationen geschützt werden kann, ohne dass durch das Absperrelement eine Beeinträchtigung der Bearbeitung gegeben wäre.The at least one shut-off element can be designed to be at least partially elastic so that it can be elastically clamped into the free space. As a result, a simple and flexible arrangement of the shut-off element within the free space is possible. In particular, the shut-off element may rest on the optical element outside the optically active surface, so that the correspondingly blocked free space can be protected against contamination during full-surface processing of the optically active surface without any adverse effect on the processing by the shut-off element.

Die Reinigung kann so erfolgen, dass nach dem Anbringen des einen oder der mehreren Verschlusselemente der dadurch gasdicht abgeschlossene Freiraum zunächst evakuiert wird, bis eine bestimmte Qualität eines Vakuums, beispielsweise ein Grobvakuum, erreicht wird. Dadurch wird dem Freiraum Feuchtigkeit entzogen, sodass sich Partikel leichter lösen und durch den Evakuierungsstrom abgesaugt werden können. The cleaning can be carried out so that after attaching the one or more closure elements of the thereby gas-tight closed space is first evacuated until a certain quality of a vacuum, such as a rough vacuum, is reached. As a result, the space is deprived of moisture, so that particles dissolve easily and can be sucked through the evacuation stream.

Zusätzlich oder alternativ kann ein Spülgas in den durch die Verschlusselemente abgeschlossenen Freiraum eingebracht werden, sodass durch das Spülgas ebenfalls Kontaminationen, die sich im Freiraum befinden, entfernt und abtransportiert werden können.Additionally or alternatively, a purge gas can be introduced into the space enclosed by the closure elements, so that contaminants which are located in the free space can also be removed and removed by the purge gas.

Das Spülgas kann unter Druck in den abgeschlossenen Freiraum eingebracht werden. Vorteilhaft ist auch, wenn das Spülgas als turbulente Strömung in den Freiraum eingebracht wird und / oder pulsierend in den Freiraum gepumpt wird. Dadurch lassen sich ebenfalls Fremdstoffe und Partikel in einfacher Weise aus dem Freiraum entfernen.The purge gas can be introduced under pressure into the closed space. It is also advantageous if the purge gas is introduced as a turbulent flow in the free space and / or is pulsed pumped into the free space. As a result, it is also possible to remove foreign substances and particles in a simple manner from the free space.

Im Absaugstrom können ein Partikelzähler und / oder ein Partikelfilter angeordnet werden, um über den Umfang und die Art der Kontamination des Freiraums Informationen zu erhalten. Mit dem Partikelzähler kann der Umfang der Kontamination bestimmt werden, während über den Partikelfilter Partikel herausgefiltert werden können, sodass nach deren Analyse auf die Verschmutzungsquelle geschlossen werden kann.In the suction flow, a particle counter and / or a particle filter can be arranged in order to obtain information about the extent and type of contamination of the free space. With the particle counter, the extent of contamination can be determined while particles can be filtered out via the particle filter, so that after their analysis, the source of contamination can be closed.

Der Freiraum der Lagerungsanordnung kann insbesondere durch eine Buchse, vorzugsweise eine Buchse mit einem Endanschlag für einen Spiegel eines Projektionsobjektivs ausgeführt sein.The free space of the storage arrangement can be embodied in particular by a socket, preferably a socket with an end stop for a mirror of a projection lens.

Die Absperrclemente können zumindest teilweise elastisch ausgeführt sein. Insbesondere können sie auch komplett aus einem elastischen Material, wie beispielsweise Kunststoff, gebildet sein.The Absperrclemente can be performed at least partially elastic. In particular, they may also be formed entirely from an elastic material, such as plastic.

Das Absperrelement kann jede geeignete Form aufweisen, wobei sich für den Einsatz in einer Buchse eine kreisrunde Form in Form eines Rings oder Scheibe, insbesondere mit einem elastischen Rand anbietet, der elastisch verformt werden kann, um das Absperrelement in den Freiraum einzuklemmen.The shut-off element can have any suitable shape, wherein for use in a bush a circular shape in the form of a ring or disc, in particular with an elastic edge offers, which can be elastically deformed to clamp the shut-off in the free space.

Darüber hinaus kann das Absperrelement eine konkav ausgebildete Außenfläche aufweisen, die von dem Freiraum nach außen zeigt, um dort in der Mulde der konkaven Außenfläche Partikel zu sammeln. Insbesondere kann das Absperrelement zusammenklappbar ausgebildet sein, wobei durch das Einklappen des Absperrelements die in der Mulde aufgenommenen Partikel und Fremdstoffe eingeschlossen werden können, sodass diese nicht mehr in den Freiraum gelangen könnenIn addition, the shut-off member may have a concave outer surface facing outwardly from the clearance to collect particles therein in the trough of the concave outer surface. In particular, the shut-off element may be designed to be collapsible, wherein the collapse of the shut-off element, the particles and foreign substances received in the trough can be enclosed, so that they can no longer get into the free space

Absperrelemente und Verschlusselemente können auch so ausgebildet sein, dass sie für den jeweiligen anderen Einsatzzweck bzw. für beide Einsatzzwecke eingesetzt werden können.Shut-off elements and closure elements can also be designed so that they can be used for the respective other purpose or for both purposes.

Figurenlistelist of figures

Die beigefügten Zeichnungen zeigen in rein schematischer Weise in

1 einen teilweisen Schnitt durch eine Lageranordnung eines Spiegels eines Projektionsobjektivs einer Projektionsbelichtungsanlage,
2 eine Draufsicht auf eine erste Ausführungsform eines Absperrelements für die Lageranordnung aus 1,
3 eine Seitenansicht einer zweiten Ausführungsform eines Absperrelements für die Lageranordnung aus 1,
4 eine Seitenansicht einer dritten Ausführungsform eines Absperrelements für die Lageranordnung aus Fig. 1und in
5 einen teilweisen Schnitt durch die Lageranordnung aus 1 in Reinigungskonfiguration.

The accompanying drawings show in a purely schematic manner in FIG

1 a partial section through a bearing assembly of a mirror of a projection lens of a projection exposure apparatus,
2 a plan view of a first embodiment of a shut-off element for the bearing assembly 1 .
3 a side view of a second embodiment of a shut-off element for the bearing assembly 1 .
4 a side view of a third embodiment of a shut-off element for the bearing assembly of Fig. 1 and in
5 a partial section through the bearing assembly 1 in cleaning configuration.

AUSFÜHRUNGSBEISPIELEEMBODIMENTS

Weitere Vorteile, Kennzeichen und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden bei der nachfolgenden detaillierten Beschreibung der Ausführungsbeispiele ersichtlich. Allerdings ist die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt.Further advantages, characteristics and features of the present invention will become apparent from the following detailed description of the embodiments. However, the invention is not limited to these embodiments.

Die 1 zeigt in einer teilweisen Schnittansicht einen Teil einer Lageranordnung für einen Spiegel 1, der in einem Rahmen 2 beweglich gehalten ist, um Erschütterungen und äußere Schwingungen ausgleichen zu können. Entlang des Umfangs des Spiegels 1 sind gleichmäßig beabstandet sogenannte Spiegelbuchsen 3 angeordnet, deren Buchsenwand 4 mit dem Rahmen 2 und dem Spiegel 1 über eine Verklebung 6 verbunden ist und welche einen Endanschlag 5 aufweist. Durch eine derartige Gestaltung einer Lageranordnung ist ein Freiraum 7 im Bereich der Lageranordnung zwischen dem Rahmen 2 und dem Spiegel 1 im Bereich der Spiegelbuchse 3 definiert, der anfällig dafür ist, dass dieser durch Partikel und Fremdstoffe verunreinigt wird. Die Partikel können während des Herstellungsprozesses bei der Bearbeitung des Spiegels oder der Montage der entsprechenden Komponenten der Lageranordnung erzeugt werden. Befinden sich Partikel innerhalb der Spiegelbuchse 3, so kann die Bewegungsfreiheit des Spiegels 1 eingeschränkt sein, wenn in den Bereich zwischen Spiegel 1 und Endanschlag 5 entsprechende Partikel gelangen. Von daher ist es wichtig, dass zum einen versucht wird, zu vermeiden, dass Partikel und Fremdkörper in den Freiraum 7 gelangen, und dass andererseits Partikel, die bereits in den Freiraum 7 gelangt sind, wieder zuverlässig aus diesem entfernt werden.The 1 shows in a partial sectional view part of a bearing assembly for a mirror 1 in a frame 2 is movably held to compensate for vibrations and external vibrations can. Along the circumference of the mirror 1 are evenly spaced so-called mirror sockets 3 arranged, the bush wall 4 with the frame 2 and the mirror 1 about a bond 6 is connected and which an end stop 5 having. By such a design of a bearing assembly is a free space 7 in the area of the bearing arrangement between the frame 2 and the mirror 1 in the area of the mirror socket 3 which is susceptible to being contaminated by particles and foreign matter. The particles may be generated during the manufacturing process during processing of the mirror or assembly of the corresponding components of the bearing assembly. Are particles within the mirror bushing? 3 , so the freedom of movement of the mirror 1 be restricted when in the area between mirrors 1 and end stop 5 get corresponding particles. Therefore, it is important that, on the one hand, attempts are made to prevent particles and foreign bodies from entering the free space 7 on the other hand, particles that are already in the open space 7 have been reliably removed from this again.

Um zu vermeiden, dass Partikel und Fremdstoffe in den Freiraum 7 der in 1 gezeigten Lageranordnung gelangen, sind in der 1 drei Absperrelemente 8, 9, 10 gezeigt, die in den Freiraum 7 eingesetzt werden können, um den Freiraum 7 zumindest teilweise abzuschließen. Es ist selbstverständlich, dass nicht alle drei Absperrelemente 8, 9, 10 gleichzeitig verwendet werden müssen, sondern dass üblicherweise vielmehr lediglich ein Absperrelement verwendet wird. Zwar können auch mehrere Absperrelemente gleichzeitig im Freiraum 7 angeordnet werden, wie in der 1 gezeigt ist, jedoch dient die Darstellung der 1 hauptsächlich zur Veranschaulichung der unterschiedlichen Einsatzmöglichkeiten von verschiedenen Absperrelementen 8, 9, 10.To avoid particles and foreign substances in the free space 7 the in 1 get shown bearing assembly are in the 1 three shut-off elements 8th . 9 . 10 shown in the open space 7 can be used to clear the space 7 at least partially complete. It goes without saying that not all three shut-off elements 8th . 9 . 10 must be used simultaneously, but that usually only one shut-off is used. Although several shut-off elements at the same time in the free space 7 be arranged as in the 1 is shown, however, the representation of the 1 mainly to illustrate the different uses of different barriers 8th . 9 . 10 ,

Die Absperrelemente 8, 9, 10 werden nur zeitweilig in den Freiraum 7 zwischen Spiegel 1 und Rahmen 2 im Bereich der Spiegelbuchse 3 eingebracht, wenn beispielsweise eine Bearbeitung des Spiegels 1 oder entsprechende Montagearbeiten die Gefahr mit sich bringen, dass Partikel und Fremdstoffe in den Freiraum 7 gelangen könnten. Während des Betriebs des Projektionsobjektivs, in dem der Spiegel 1 mit der Lageranordnung angeordnet ist, sind die Absperrelemente 8, 9, 10 nicht im Freiraum 7 angeordnet, um eine möglichst ungehinderte Bewegung des Spiegels 1 zu ermöglichen.The shut-off elements 8th . 9 . 10 are only temporarily in the open space 7 between mirrors 1 and frame 2 in the area of the mirror socket 3 introduced when, for example, a treatment of the mirror 1 or appropriate assembly work entails the risk that particles and foreign matter in the free space 7 could arrive. During operation of the projection lens in which the mirror 1 is arranged with the bearing assembly, the shut-off elements 8th . 9 . 10 not in the open space 7 arranged to allow the unhindered movement of the mirror 1 to enable.

Das Absperrelement 8, welches in einer Draufsicht in 2 dargestellt ist, ist als elastischer Ring mit einer Ringöffnung 22 ausgebildet, in die das Anschlagelement 5 eingreifen kann. Durch die elastische Ausbildung des Absperrelements 8 kann das Absperrelement 8 in einfacher Weise in den Freiraum 7 eingeklemmt werden, indem es an den Seitenwänden des Spiegels 1 und des Rahmens 2 anliegt. Da das Absperrelement 8 im Freiraum 7 angeordnet ist und nicht außerhalb des Freiraums 7, beispielsweise an einer optisch wirksamen Fläche, also der Spiegeloberfläche des Spiegels 1 angeordnet ist, ist während der Anbringung des Absperrelement 8 eine ungehinderte Bearbeitung des Spiegels 1 bzw. der Spiegeloberfläche möglich, wobei gleichzeitig verhindert wird, dass Fremdstoffe, die durch die Bearbeitung erzeugt werden, in den Freiraum 7 gelangen.The shut-off element 8th which is in a top view 2 is shown as an elastic ring with an annular opening 22 formed, in which the stop element 5 can intervene. Due to the elastic design of the shut-off element 8th can the shut-off 8th in a simple way in the free space 7 be trapped by it on the side walls of the mirror 1 and the frame 2 is applied. Because the shut-off element 8th in the open space 7 is arranged and not outside of the free space 7 , For example, on an optically effective surface, so the mirror surface of the mirror 1 is arranged during the attachment of the shut-off 8th an unobstructed processing of the mirror 1 or the mirror surface possible, while preventing foreign substances generated by the machining, in the free space 7 reach.

Ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Absperrelements ist mit dem Absperrelement 9 gezeigt, welches als kreisförmige Scheibe ausgebildet ist. Wie im Detail in der Seitenansicht der 3 zu erkennen ist, ist der Rand des Absperrelements 9 durch Ausbildung einer elastischen Lippe 14 ebenfalls teilweise elastisch ausgebildet, sodass auch das Absperrelement 9 in dem Freiraum 7 eingeklemmt werden kann. Die Scheibe an sich kann jedoch starr, beispielsweise aus einem metallischen Material gebildet sein.Another embodiment of a shut-off is with the shut-off 9 shown, which is designed as a circular disc. As in detail in the side view of the 3 it can be seen, is the edge of the shut-off element 9 by forming an elastic lip 14 also partially elastic, so that the shut-off 9 in the open space 7 can be trapped. However, the disk itself may be rigid, for example formed from a metallic material.

Eine Abwandlung des Absperrelements 9 ist mit dem Absperrelement 9' der 4 gezeigt. Bei dieser Ausführungsform des Absperrelements 9' ist an dem Rand der starren Schreibe ein Spreizring 15 ausgebildet, der beispielsweise durch einen aufblasbaren Gummischlauch gebildet sein kann. Durch den Spreizring 15 kann der Durchmesser des Absperrelements 9'variiert werden und durch Ausdehnen des Spreizrings 15 kann eine Klemmkraft erzeugt werden. Auch damit ist es möglich das Absperrelement 9'in den Freiraum 7 an gegenüberliegenden Seitenwänden einzuklemmen.A modification of the shut-off element 9 is with the shut-off element 9 ' of the 4 shown. In this embodiment of the shut-off element 9 ' is at the edge of the rigid writing a spreader ring 15 formed, which may be formed for example by an inflatable rubber hose. Through the spreader ring 15 the diameter of the shutoff element 9 'can be varied and by expanding the expansion ring 15 a clamping force can be generated. This also makes it possible the shut-off 9 'in the free space 7 clamp on opposite side walls.

Ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Absperrelements ist mit dem Absperrelement 10 in 1 gezeigt. Das Absperrelement 10 ist in der Art eines klappbaren Schirmes ausgebildet, wobei das Absperrelement 10 eine konkave Außenfläche 11 aufweist, die von dem Freiraum 7 nach außen gerichtet ist, um eine Mulde zu bilden, in der Partikel gesammelt werden können. Zum Anbringen und Entfernen des Absperrelements 10 ist dieses einklappbar ausgebildet, sodass ein um einen zentralen Stutzen 13 angeordneter Klappring 12, der die konkave Außenfläche 11 bildet, in Richtung des zentralen Stutzens 13 eingeklappt werden kann, um dabei die in der Mulde der konkaven Außenfläche 11 angesammelten Partikel einzuschließen, sodass beim Entfernen des Absperrelements 10 keine Partikel und Fremdstoffe in den Freiraum 7 gelangen können.Another embodiment of a shut-off is with the shut-off 10 in 1 shown. The shut-off element 10 is formed in the manner of a folding screen, wherein the shut-off 10 a concave outer surface 11 directed outwardly from the clearance 7 to form a trough in which particles can be collected. For attaching and removing the shut-off element 10 This is foldable trained, so one around a central neck 13 arranged folding ring 12 , the concave outer surface 11 forms, towards the central neck 13 can be folded to the in the trough of the concave outer surface 11 trapped particles so that upon removal of the shut-off element 10 no particles and foreign substances in the free space 7 can reach.

Am äußeren Rand des Klapprings 12 können wiederum, wie bei den Ausführungsformen der Absperrelemente 9 und 9' elastische Elemente vorgesehen sein oder der Klappring 12 kann selbst elastisch ausgebildet sein, um ein Einklemmen des Absperrelements 10 in den Freiraum 7 zu ermöglichen.At the outer edge of the folding ring 12 in turn, as in the embodiments of the shut-off elements 9 and 9 ' be provided elastic elements or the folding ring 12 may itself be designed to be elastic to pinching the shut-off 10 to allow in the space 7.

Auch beim Absperrelement 10 ist zu erkennen, dass dieses innerhalb des Freiraums 7 angeordnet ist und diesen nicht außerhalb des Freiraums 7 überdeckt, sodass eine platzsparende Anordnung gegeben ist, die es ermöglicht vielfältige Bearbeitungs - und Montagemaßnahmen durchzuführen, ohne dass diese durch das Absperrelement 10 beeinträchtigt wären. Durch die vorteilhafte Anordnung der Absperrelement 8, 9, 10 durch Einklemmen im Freiraum 7 können diese je nach durchzuführender Montagearbeit in unterschiedlichen Positionen im Freiraum 7 angeordnet werden um dabei den Freiraum 7 vor Verschmutzung zu schützen.Also with the shut-off element 10 It can be seen that this is within the free space 7 is arranged and this is not outside of the free space 7 Covered, so that a space - saving arrangement is given, which makes it possible to perform a variety of editing and assembly operations, without this through the shut - off 10 would be impaired. Due to the advantageous arrangement of the shut-off 8th . 9 . 10 by pinching in the free space 7 These can, depending on the installation work to be performed in different positions in the free space 7 to be arranged around the free space 7 to protect against contamination.

Unter Umständen lässt es sich jedoch nicht vollständig vermeiden, dass Partikel in den Freiraum 7 gelangen, sodass eine Reinigung des Freiraums 7 erforderlich werden kann. Für diesen Fall wird gemäß dem Ausführungsbeispiel der 5 der Freiraum 7 durch eine obere Abdeckung 16 und eine untere Abdeckung 18 gasdicht verschlossen, sodass über eine Evakuierungspumpe (nicht gezeigt) der Freiraum 7 evakuiert werden kann. Die Evakuierungspumpe kann an dem Auslass 19, welcher an der unteren Abdeckung 18 angeordnet ist, angeschlossen werden. Bei der Evakuierung kann ein Vakuum im Bereich eines Grobvakuums erzeugt werden, wobei bereits durch den Entzug von Feuchtigkeit Partikel, die an Oberflächen im Freiraum 7 haften, gelöst und durch die Evakuierungspumpe abgesaugt werden können.However, it may not be possible to completely avoid particles from entering the free space 7 arrive, allowing a cleaning of the free space 7 may be required. For this case, according to the embodiment of the 5 the free space 7 through a top cover 16 and a lower cover 18 gas-tight, so that via an evacuation pump (not shown) of the free space 7 can be evacuated. The evacuation pump may be at the outlet 19 , which on the lower cover 18 is arranged to be connected. During the evacuation, a vacuum can be created in the region of a rough vacuum, whereby already by the removal of moisture particles that are on surfaces in the free space 7 be liable, solved and sucked off by the evacuation pump.

Zusätzlich kann über den Einlass 17 der oberen Abdeckung 16 ein Spülgas in Form von extrem trockener Reinigungsluft (XCDA extreme clean dry air) in den von der oberen Abdeckung 16 und der unteren Abdeckung 18 abgeschlossenen Raum des Freiraums 7 ein geblasen werden, sodass der Freiraum 7 gespült wird und dadurch Partikel aus dem Freiraum 7 über den Auslass 19 entfernt werden. Das Spülgas kann mit Überdruck im Bereich von 2 bis 3 bar eingebracht werden und insbesondere so eingebracht werden, dass eine turbulente Strömung im Freiraum 7 entsteht, die die Ablösung von Fremdstoffen und den Abtransport über den Auslass 19 weiter verbessert.Additionally, over the inlet 17 the top cover 16 a purge gas in the form of extremely dry cleaning air (XCDA extreme clean dry air) in the from the top cover 16 and the lower cover 18 enclosed space of open space 7 be blown, so the space 7 is flushed and thereby particles from the free space 7 over the outlet 19 be removed. The purge gas can be introduced with overpressure in the range of 2 to 3 bar and in particular be introduced so that a turbulent flow in the free space 7 arises, which is the replacement of foreign matter and the removal via the outlet 19 further improved.

Statt vor dem Spülen mit Spülgas ein Vakuum zu erzeugen, kann eine Reinigung auch lediglich durch Einbringen von Spülgas oder lediglich durch Erzeugung eines Vakuums durchgeführt werden.Instead of creating a vacuum before flushing with purge gas, a cleaning can also be carried out only by introducing purge gas or only by generating a vacuum.

Im Auslasskanal, der an dem Auslass 19 angeordnet ist, können ein Partikelzähler 20 sowie ein Partikelfilter 21 angeordnet sein. Durch den Partikelzähler 20 kann der Kontaminationsgrad des Freiraums 7 bestimmt werden und entsprechend dem Kontaminationsgrad kann entschieden werden, ob die Reinigung fortgesetzt werden muss oder beendet werden kann. Mittels des Partikelfilters 21 können Partikel aus dem Spülgasstrom herausgefiltert werden, sodass die Partikel analysiert werden können, um herauszufinden was die Verunreinigungsquelle ist.In the outlet duct, at the outlet 19 can be arranged, a particle counter 20 as well as a particle filter 21 be arranged. Through the particle counter 20 can the degree of contamination of the free space 7 can be determined and according to the degree of contamination can decide whether the cleaning must be continued or can be terminated. By means of the particle filter 21 For example, particles can be filtered out of the purge gas stream so that the particles can be analyzed to find out what the contaminant source is.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand der Ausführungsbeispiele detailliert beschrieben worden ist, ist für den Fachmann selbstverständlich, dass die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt ist, sondern dass vielmehr Abwandlungen in der Weise möglich sind, dass einzelne Merkmale weggelassen oder andersartige Kombinationen von Merkmalen verwirklicht werden können, ohne dass der Schutzbereich der beigefügten Ansprüche verlassen wird. Insbesondere schließt die vorliegende Offenbarung sämtliche Kombinationen der in den verschiedenen Ausführungsbeispielen gezeigten Einzelmerkmale mit ein, sodass einzelne Merkmale, die nur in Zusammenhang mit einem Ausführungsbeispiel beschrieben sind, auch bei anderen Ausführungsbeispielen oder nicht explizit dargestellten Kombinationen von Einzelmerkmalen eingesetzt werden können.Although the present invention has been described in detail with reference to the embodiments, it will be understood by those skilled in the art that the invention is not limited to these embodiments, but rather modifications are possible in the manner that individual features omitted or other combinations of features can be realized without departing from the scope of the appended claims. In particular, the present disclosure includes all combinations of the individual features shown in the various embodiments, so that individual features that are described only in connection with an embodiment can also be used in other embodiments or combinations of individual features not explicitly shown.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11: Spiegelmirror
22: Rahmenframe
33: Spiegelbuchsemirror socket
44: Buchsenwandwall socket
55: Anschlagattack
66: Verklebungbonding
77: Freiraumfree space
88th: Absperrelementshut-off
9,9'9.9 ': Absperrelementshut-off
1010: Absperrelementshut-off
1111: konkave Außenflächeconcave outer surface
1212: Klappringhinged clamp
1313: zentraler Stutzencentral spigot
1414: Lippelip
1515: Spreizringexpanding ring
1616: obere Abdeckungtop cover
1717: Einlassinlet
1818: untere Abdeckunglower cover
1919: Auslassoutlet
2020: Partikelzählerparticle counter
2121: Partikelfilterparticulate Filter
2222: Ringöffnungring opening

Claims

Method for avoiding and / or eliminating impurities in the storage arrangement of optical elements (1) of projection exposure apparatuses for microlithography, wherein in a free space (7) of the storage arrangement at least one shut-off element (8,9,10) for at least partially shutting off the free space is temporarily introduced and / or in which the free space (7) by one or more closure elements (16,18) is sealed gas-tight and evacuated and / or acted upon with purge gas.

Method according to Claim 1 , characterized in that the shut-off element (8,9,10) is elastically clamped in the free space (7).

Method according to one of the preceding claims, characterized in that the blocking element (8, 9, 10) bears against the optical element (1) outside the optically effective surface.

Method according to one of the preceding claims, characterized in that the gas-tight closed by one or more closure elements (16,18) free space (7) is first evacuated and then rinsed with a purge gas.

Method according to one of the preceding claims, characterized in that the purge gas is introduced under pressure and / or as a turbulent flow and / or pulsating in the free space (7).

Method according to one of the preceding claims, characterized in that the gas-tight closed by one or more closure elements (16,18) free space (7) has an outlet (19), via which an extraction takes place.

Method according to Claim 6 , characterized in that particles are counted in the suction and / or filtered out.

Method according to one of the preceding claims, characterized in that the free space (7) is formed by a bushing (3), in particular with an end stop for a mirror of a projection objective.

A microlithographic projection exposure apparatus having at least one optical element bearing arrangement, in which the method according to one of the preceding claims can be used, wherein the bearing arrangement has at least one free space (7), characterized in that at least one shut-off element (8, 9, 10) is provided for at least partially blocking the free space, which is temporarily introduced into the free space, and / or that one or more closure elements (16,18) are provided, which are temporarily in or on the free space (7) attachable, so that this gas-tight wherein the closure element or elements have an outlet (19) for evacuation and preferably an inlet (17) for introducing purge gas.

Projection exposure system according to Claim 9 , characterized in that the shut-off element (8,9,10) is designed at least partially elastically deformable.

Projection exposure system according to Claim 9 or 10 , characterized in that the shut-off element (8,9) as a ring or disc with an elastic edge, in particular with an elastic lip (14), which is preferably designed to be spreadable, is formed.

Projection exposure system according to one of Claims 9 to 11 , characterized in that the shut-off element (10) has a concave outer surface (11) which faces outwardly in the clearance when the shut-off element is arranged.

Projection exposure system according to one of Claims 9 to 12 , characterized in that the shut-off element (10) from a position in which it is arranged in the free space, is foldable to a folded position to the outside of the free space away.

Projection exposure system according to one of Claims 9 to 13 , characterized in that the outlet (19) of the closure element is connected to a suction pump and / or a particle filter (21) and / or a particle counter (20) or comprises a suction pump and / or a particle filter and / or a particle counter.

Projection exposure system according to one of Claims 9 to 14 , characterized in that the free space is formed by a bush (3) which is formed between an optical element, in particular a mirror, and a bearing element, wherein in particular in the socket, an end stop is arranged.