DE102018202931A1 - Vorrichtung und Verfahren zur Montage oder Demontage einer Baugruppe, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage - Google Patents

Vorrichtung und Verfahren zur Montage oder Demontage einer Baugruppe, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Montage oder Demontage einer Baugruppe, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, wobei die Baugruppe eine erste Komponente und eine zweite Komponente aufweist, wobei die erste Komponente und die zweite Komponente in einem mit einem Schraubwerkzeug durchführbaren Schraubprozess bei Montage der Baugruppe aneinander zu fixieren und bei Demontage der Baugruppe voneinander zu lösen sind. Eine erfindungsgemäße Vorrichtung weist eine Einrichtung (130) zur Übertragung eines Gegendrehmoments auf die erste und/oder die zweite Komponente, wobei dieses Gegendrehmoment ein während des Schraubprozesses wirkendes Drehmoment wenigstens teilweise kompensiert, und eine Überwachungseinrichtung (140) zur Überwachung einer Positionsveränderung der ersten Komponente während des Schraubprozesses auf.

Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Gebiet der Erfindung
  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Montage oder Demontage einer Baugruppe, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage.
  • Stand der Technik
  • Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise oder LCDs, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird in einer sogenannten Projektionsbelichtungsanlage durchgeführt, welche eine Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv aufweist. Das Bild einer mittels der Beleuchtungseinrichtung beleuchteten Maske (= Retikel) wird hierbei mittels des Projektionsobjektivs auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionsobjektivs angeordnetes Substrat (z.B. ein Siliziumwafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
  • In einer für EUV (d.h. für elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge unterhalb von 30nm) ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage werden mangels Vorhandenseins lichtdurchlässiger Materialien Spiegel als optische Komponenten für den Abbildungsprozess verwendet.
  • In der Beleuchtungseinrichtung einer für den Betrieb im EUV ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage ist insbesondere der Einsatz von Facettenspiegeln in Form von Feldfacettenspiegeln und Pupillenfacettenspiegeln als bündelführende Komponenten z.B. aus DE 10 2008 009 600 A1 bekannt. Derartige Facettenspiegel sind aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln oder Spiegelfacetten aufgebaut, welche jeweils zum Zwecke der Justage oder auch zur Realisierung bestimmter Beleuchtungswinkelverteilungen über Festkörpergelenke und Aktoren kippbar ausgelegt sein können.
  • Des Weiteren ist auch in einer Beleuchtungseinrichtung einer für den Betrieb bei Wellenlängen im VUV-Bereich (z.B. bei Wellenlängen kleiner als 200nm) ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage zur Einstellung definierter Beleuchtungssettings (d.h. Intensitätsverteilungen in einer Pupillenebene der Beleuchtungseinrichtung) der Einsatz von Spiegelanordnungen, z.B. aus WO 2003/026843 A2 , bekannt, welche eine Vielzahl unabhängig voneinander einstellbarer Spiegelelemente umfassen.
  • Eine Aktuierung der vorstehend genannten Spiegelelemente bzw. Spiegelfacetten kann über Aktoranordnungen erfolgen, welche jeweils über Festkörpergelenke an das jeweilige Spiegelelement bzw. die Spiegelfacette mechanisch angebunden sind.
  • Sowohl eine beim Erstaufbau durchgeführte Montage als auch eine zu Reparatur- bzw. Austauschzwecken durchgeführte Demontage (sowie anschließende Montage) der Spiegelelemente erfolgt typischerweise unter Durchführung von Schraubprozessen, bei denen Drehmomente über die i.d.R. vergleichsweise biegeweichen Festkörpergelenke auf die Spiegelelemente übertragen werden können. Hieraus resultiert bei der Montage oder Demontage der betreffenden Baugruppe das Problem, dass ein gegenseitiges Berühren (d.h. eine Kollision) der empfindlichen Spiegelelemente bzw. Spiegelfacetten zuverlässig verhindert werden muss. Eine solche Kollision kann insbesondere zum Abplatzen von Kantenbereichen, einer Beschädigung des auf den Spiegelfacetten jeweils vorhandenen (z.B. aus einer alternierenden Abfolge von Molybdän (Mo)- und Silizium (Si)-Schichten aufgebauten) Reflexionsschichtsystems sowie einer Modifikation der Oberflächengeometrie und einer damit einhergehenden Änderung der jeweiligen optischen Eigenschaften führen.
  • Die somit gebotene Verhinderung von Kollisionen der Spiegelelemente bzw. Spiegelfacetten erweist sich jedoch in der Praxis insbesondere deshalb als anspruchsvolle Herausforderung, als zum einen der im Bereich der Spiegelelemente verfügbare Bauraum typischerweise auf wenige Millimeter begrenzt ist und zum anderen - je nach konkreter Geometrie der Anordnung - bereits geringfügige, mit den durchzuführenden Schraubprozessen einhergehenden Drehbewegungen aufgrund der jeweils geltenden Übersetzungsverhältnisse zu um ein Vielfaches größeren Wegen bzw. Ausschlägen der betreffenden Spiegelelemente führen können. Insbesondere kann ein an Ort und Stelle des jeweiligen Schraubprozesses erforderliches mechanisches Spiel dazu führen, dass bereits vergleichsweise geringfügige Werkzeugbewegungen nicht mehr tolerierbare mechanische Ausschläge des betreffenden Spiegelelements bzw. Kollisionen zur Folge haben.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Montage oder Demontage einer Baugruppe, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, bereitzustellen, welche eine zuverlässige Vermeidung von Kollisionen der Spiegelelemente ermöglichen.
  • Diese Aufgabe wird durch die Vorrichtung gemäß den Merkmalen des unabhängigen Anspruchs 1 bzw. das Verfahren gemäß den Merkmalen des nebengeordneten Anspruchs 10 gelöst.
  • Eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Montage oder Demontage einer Baugruppe, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, wobei die Baugruppe eine erste Komponente und eine zweite Komponente aufweist, wobei die erste Komponente und die zweite Komponente in einem mit einem Schraubwerkzeug durchführbaren Schraubprozess bei Montage der Baugruppe aneinander zu fixieren und bei Demontage der Baugruppe voneinander zu lösen sind, weist auf:
    • - eine Einrichtung zur Übertragung eines Gegendrehmoments auf die erste und/oder die zweite Komponente, wobei dieses Gegendrehmoment ein während des Schraubprozesses wirkendes Drehmoment wenigstens teilweise kompensiert, und
    • - eine Überwachungseinrichtung zur Überwachung einer Positionsveränderung der ersten Komponente während des Schraubprozesses.
  • Der Erfindung liegt insbesondere das Konzept zugrunde, zur Vermeidung der eingangs beschriebenen Kollisionsschäden bei im Rahmen der Montage oder Demontage durchzuführenden Schraubprozessen die Übertragung eines Gegendrehmoments zum aktiven Kompensieren des Anschraubdrehmoments mit einer Positionsüberwachung während des Schraubprozesses zu kombinieren.
  • Hierdurch kann im Wesentlichen zeitgleich mit der Aufbringung des Anschraubmoments die Position der ersten Komponente (bei der es sich z.B. um eine Spiegelfacette handeln kann) und damit insbesondere auch ein verbleibender Spalt zu einem benachbarten Bauteil (wie z.B. einer weiteren Spiegelfacette) überwacht werden. Zugleich kann durch Übertragung des Gegendrehmoments in der erfindungsgemäßen Vorrichtung sichergestellt werden, dass besagter Spalt zu einem benachbarten Bauteil jederzeit ausreichend groß bleibt, um eine Kollision und damit einhergehende Beschädigungen zu verhindern. Dabei kann über die erfindungsgemäße Überwachungseinrichtung die Position der ersten Komponente bzw. Spiegelfacette bereits in der Phase kontrolliert und zum Anlass für ein aktives Gegenhalten bzw. Kompensieren genommen werden, in der infolge eines unvermeidbaren mechanischen Spiels geringfügige Drehbewegungen um größenordnungsmäßig wenige Mikrometer (pm) durchgeführt werden und sich aufgrund der geltenden mechanischen Übersetzungsverhältnisse auf die betreffende Komponente bzw. Spiegelfacette ggf. verstärkt übertragen.
  • Gemäß einer Ausführungsform weist die Überwachungseinrichtung wenigstens eine Kamera zur visuellen Erfassung der ersten Komponente während des Schraubprozesses auf.
  • Gemäß einer Ausführungsform weist die Überwachungseinrichtung eine Messeinrichtung zur Messung einer Veränderung des Abstandes der ersten Komponente von wenigstens einem weiteren Bauteil während des Schraubprozesses auf.
  • Gemäß einer Ausführungsform ist die erste Komponente eine Spiegelfacette eines Facettenspiegels ist, welcher eine Vielzahl von Spiegelfacetten aufweist.
  • Gemäß einer Ausführungsform sind die Spiegelfacetten unabhängig voneinander über jeweils wenigstens ein Festkörpergelenk aktuierbar.
  • Gemäß einer Ausführungsform ist der Facettenspiegel ein Feldfacettenspiegel oder ein Pupillenfacettenspiegel einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage.
  • Gemäß einer Ausführungsform ist die zweite Komponente ein Bauteil einer Aktoranordnung zur Übertragung einer Aktuatorkraft auf die erste Komponente, insbesondere ein Magnet.
  • Die Erfindung betrifft weiter eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, welche eine Baugruppe mit den vorstehend beschriebenen Merkmalen aufweist. Die mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage kann insbesondere für einen Betrieb bei einer Arbeitswellenlänge von weniger als 30nm, insbesondere weniger als 15nm, ausgelegt sein.
  • Die Erfindung betrifft weiter ein Verfahren zur Montage oder Demontage einer Baugruppe, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, wobei die Baugruppe eine erste Komponente und eine zweite Komponente aufweist, wobei die erste Komponente und die zweite Komponente in einem mit einem Schraubwerkzeug durchführbaren Schraubprozess bei Montage der Baugruppe aneinander fixiert und bei Demontage der Baugruppe voneinander gelöst werden, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist:
    • - Übertragen eines Gegendrehmoments auf die erste und/oder die zweite Komponente, wobei dieses Gegendrehmoment ein während des Schraubprozesses wirkendes Drehmoment wenigstens teilweise kompensiert, und
    • - Überwachen einer Positionsveränderung der ersten Komponente während des Schraubprozesses.
  • Das Verfahren kann insbesondere unter Verwendung einer Vorrichtung mit den vorstehend beschriebenen Merkmalen durchgeführt werden.
  • Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind der Beschreibung sowie den Unteransprüchen zu entnehmen.
  • Die Erfindung wird nachstehend anhand von in den beigefügten Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert.
  • Figurenliste
  • Es zeigen:
    • 1-2 schematische Darstellungen zur Erläuterung von Aufbau und Funktionsweise einer erfindungsgemäßen Vorrichtung in einer beispielhaften Ausführungsform; und
    • 3 eine schematische Darstellung des möglichen Aufbaus einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanalage.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG BEVORZUGTER AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • 1 zeigt in schematischer Darstellung einen möglichen prinzipiellen Aufbau einer erfindungsgemäßen Vorrichtung in einer Ausführungsform.
  • In der erfindungsgemäßen Vorrichtung wird eine erste Komponente (bei der es sich im konkreten Ausführungsbeispiel um eine Spiegelfacette 105 eines Facettenspiegels handelt) an einer zweiten Komponente zur Montage fixiert oder zur Demontage gelöst, wobei die zweite Komponente im konkreten Ausführungsbeispiel ein Magnet 110 als Bauteil einer Aktoranordnung zur Übertragung einer Aktorkraft auf die Spiegelfacette 105 ist. Die besagte Fixierung oder Loslösung erfolgt in einem mit einem Schraubwerkzeug 120 durchgeführten Schraubprozess. Mit „101“ sind Festkörpergelenke und mit „102“ sind stabförmige Stößel bzw. Pins bezeichnet, über welche in der jeweiligen Baugruppe eine mechanische Ankopplung der betreffenden Spiegelfacette 105 an die Aktoreinrichtung realisiert ist. Mit „111“ ist eine jedem Stößel bzw. Pin 102 zugeordnete Plattform bezeichnet, welche als Träger für den betreffenden Magneten 110 dient. Mit „103“ ist ein äußerer Tragrahmen bezeichnet. Ebenfalls in 1 eingezeichnet sind weitere Anordnungen aus jeweils einem Stößel bzw. Pin 102, jeweils zwei Festkörpergelenken 101 und jeweils einer Plattform 111, wobei diese Anordnungen ebenfalls jeweils einer (in 1 nicht eingezeichneten) Spiegelfacette zugeordnet sind.
  • Erfindungsgemäß ist eine Einrichtung 130 vorgesehen, über welche ein Gegendrehmoment auf die erste und/oder zweite Komponente übertragen werden kann, wobei dieses Gegendrehmoment ein während des Schraubprozesses wirkendes Drehmoment wenigstens teilweise kompensiert. Im konkreten Ausführungsbeispiel wirkt besagtes Gegendrehmoment unmittelbar auf die Plattform 111 und damit über den an dieser befestigten Stößel 102 auf die Spiegelfacette 105. In weiteren Ausführungsformen kann, sofern der zur Verfügung stehende Bauraum es zulässt, das Aufbringen des Gegendrehmoments auch unmittelbar auf Seiten der Spiegelfacette 105 erfolgen.
  • Des Weiteren weist die erfindungsgemäße Vorrichtung in 1 eine Überwachungseinrichtung 140 zur Überwachung einer Positionsveränderung der Spiegelfacette 105 während des Schraubprozesses auf. Im konkreten Ausführungsbeispiel weist diese Überwachungseinrichtung Kameras 141, 142 zu visuellen Erfassung der Spiegelfacette auf. In weiteren Ausführungsformen kann die Überwachungseinrichtung jedoch auch in beliebiger anderer Weise, z.B. als Abstandsmesseinrichtung zur Messung eines Abstandes der Spiegelfacette 105 bzw. ersten Komponente von wenigstens einem weiteren Bauteil während des Schraubprozesses, ausgestaltet sein. Eine solche Abstandmesseinrichtung kann z.B. ultraschall- oder laserbasiert realisiert sein. Des Weiteren kann auch eine taktile Überwachung der Position der Spiegelfacette 105 bzw. ersten Komponente erfolgen.
  • Durch den kombinierten Einsatz der Einrichtung 130 zur Übertragung des Gegendrehmoments einerseits und der Überwachungseinrichtung 140 andererseits kann während des zur Montage oder Demontage durchgeführten Schraubprozesses eine Kollision der Spiegelfacette 105 mit benachbarten Spiegelfacetten zuverlässig verhindert werden. Hierbei kann über die Überwachungseinrichtung 140 gleichzeitig mit der Einbringung des Gegendrehmoments über die Einrichtung 130 beobachtet werden, wie sich die Position der Spiegelfacette 105 verändert bzw. die Größe eines verbleibenden Spalts zu wenigstens einer benachbarten Spiegelfacette verringert.
  • 2a und 2b zeigen für das Ausführungsbeispiel von 1 (d.h. die Realisierung der Überwachungseinrichtung 140 durch Kameras 141, 142) lediglich schematisch Kamerabilder 141a, 142a bzw. 141b, 142b. Mit „201a“ und „201b“, „202a“ und „202b“ bzw. „203a“ und „203b“ sind auf diesen Kamerabildern visuell dargestellte Endabschnitte von Spiegelfacetten bezeichnet. In dem in 2b gezeigten Szenario kommt es infolge des Schraubprozesses zu einer Kollision zwischen den Endabschnitten 201b und 202b von zwei benachbarten Spiegelfacetten. Diese Kollision kann jedoch ausgehend von dem Szenario in 2a rechtzeitig durch Ausübung des Gegendrehmoments über die Einrichtung 130 verhindert werden.
  • In weiteren Ausführungsformen kann zwischen benachbarten Spiegelfacetten auch ein geeigneter Schutz (durch Dämpfungselemente oder dergleichen) eingebracht werden. Ferner kann die Ausübung eines Drehmoments bei der Montage gegebenenfalls auch dadurch verhindert werden, dass die betreffenden Spiegelfacetten in einem Steckvorgang in der betreffenden Baugruppe fixiert werden.
  • 3 zeigt eine schematische Darstellung einer für den Betrieb im EUV ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage 300, in welcher die Erfindung beispielsweise realisierbar ist.
  • Gemäß 3 weist eine Beleuchtungseinrichtung der Projektionsbelichtungsanlage 300 einen Feldfacettenspiegel 303 und einen Pupillenfacettenspiegel 304 auf, welche als Spiegelanordnung mit einem Verriegelungsmechanismus gemäß der Erfindung ausgestaltet sein können. Auf den Feldfacettenspiegel 303 wird das Licht einer Lichtquelleneinheit, welche im Beispiel eine EUV-Lichtquelle (Plasmalichtquelle) 301 und einen Kollektorspiegel 302 umfasst, gelenkt. Im Lichtweg nach dem Pupillenfacettenspiegel 304 sind ein erster Teleskopspiegel 303 und ein zweiter Teleskopspiegel 306 angeordnet. Im Lichtweg nachfolgend ist ein Umlenkspiegel 307 angeordnet, der die auf ihn treffende Strahlung auf ein Objektfeld in der Objektebene eines sechs Spiegel 331-336 umfassenden Projektionsobjektivs lenkt. Am Ort des Objektfeldes ist eine reflektive strukturtragende Maske 321 auf einem Maskentisch 320 angeordnet, die mit Hilfe des Projektionsobjektivs in eine Bildebene abgebildet wird, in welcher sich ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes Substrat 361 auf einem Wafertisch 360 befindet.
  • Bei dem vorstehend anhand von 1 und 2 erwähnten, in Ausführungsformen der Erfindung montierten Facettenspiegel kann es sich insbesondere um den Feldfacettenspiegel oder den Pupillenfacettenspiegel der anhand von 3 beschriebenen mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage handeln.
  • Wenn die Erfindung auch anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben wurde, erschließen sich für den Fachmann zahlreiche Variationen und alternative Ausführungsformen, z.B. durch Kombination und/oder Austausch von Merkmalen einzelner Ausführungsformen. Dementsprechend versteht es sich für den Fachmann, dass derartige Variationen und alternative Ausführungsformen von der vorliegenden Erfindung mit umfasst sind, und die Reichweite der Erfindung nur im Sinne der beigefügten Patentansprüche und deren Äquivalente beschränkt ist.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • DE 102008009600 A1 [0004]
    • WO 2003/026843 A2 [0005]

Claims (11)

  1. Vorrichtung zur Montage oder Demontage einer Baugruppe, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, wobei die Baugruppe eine erste Komponente und eine zweite Komponente aufweist, wobei die erste Komponente und die zweite Komponente in einem mit einem Schraubwerkzeug (120) durchführbaren Schraubprozess bei Montage der Baugruppe aneinander zu fixieren und bei Demontage der Baugruppe voneinander zu lösen sind, mit: • einer Einrichtung (130) zur Übertragung eines Gegendrehmoments auf die erste und/oder die zweite Komponente, wobei dieses Gegendrehmoment ein während des Schraubprozesses wirkendes Drehmoment wenigstens teilweise kompensiert; und • einer Überwachungseinrichtung (140) zur Überwachung einer Positionsveränderung der ersten Komponente während des Schraubprozesses.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Überwachungseinrichtung (140) wenigstens eine Kamera (141, 142) zur visuellen Erfassung der ersten Komponente während des Schraubprozesses aufweist.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Überwachungseinrichtung eine Messeinrichtung zur Messung einer Veränderung des Abstandes der ersten Komponente von wenigstens einem weiteren Bauteil während des Schraubprozesses aufweist.
  4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Komponente eine Spiegelfacette (105) eines Facettenspiegels ist, welcher eine Vielzahl von Spiegelfacetten aufweist.
  5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelfacetten (105) unabhängig voneinander über jeweils wenigstens ein Festkörpergelenk (101) aktuierbar sind.
  6. Vorrichtung nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Facettenspiegel ein Feldfacettenspiegel (303) oder ein Pupillenfacettenspiegel (304) einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage ist.
  7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Komponente ein Bauteil einer Aktoranordnung zur Übertragung einer Aktuatorkraft auf die erste Komponente, insbesondere ein Magnet (110), ist.
  8. Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, dadurch gekennzeichnet, dass diese eine Baugruppe nach einem der vorhergehenden Ansprüche aufweist.
  9. Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass diese für einen Betrieb bei einer Arbeitswellenlänge von weniger als 30nm, insbesondere weniger als 15nm, ausgelegt ist.
  10. Verfahren zur Montage oder Demontage einer Baugruppe, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, wobei die Baugruppe eine erste Komponente und eine zweite Komponente aufweist, wobei die erste Komponente und die zweite Komponente in einem mit einem Schraubwerkzeug (120) durchführbaren Schraubprozess bei Montage der Baugruppe aneinander fixiert und bei Demontage der Baugruppe voneinander gelöst werden, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist: • Übertragen eines Gegendrehmoments auf die erste und/oder die zweite Komponente, wobei dieses Gegendrehmoment ein während des Schraubprozesses wirkendes Drehmoment wenigstens teilweise kompensiert; und • Überwachen einer Positionsveränderung der ersten Komponente während des Schraubprozesses.
  11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass dieses unter Verwendung einer Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9 durchgeführt wird.
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