DE102016224027A1 - Multifunktionaler linsenrand - Google Patents

Multifunktionaler linsenrand Download PDF

Info

Publication number
DE102016224027A1
DE102016224027A1 DE102016224027.7A DE102016224027A DE102016224027A1 DE 102016224027 A1 DE102016224027 A1 DE 102016224027A1 DE 102016224027 A DE102016224027 A DE 102016224027A DE 102016224027 A1 DE102016224027 A1 DE 102016224027A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
optical element
optical
optically
unused area
aperture
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE102016224027.7A
Other languages
English (en)
Inventor
Auf Teilnichtnennung Antrag
Norbert Wabra
Sonja Schneider
Peter Graf
Ferdinand Rissner
Robert Weiss
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE102016224027.7A priority Critical patent/DE102016224027A1/de
Publication of DE102016224027A1 publication Critical patent/DE102016224027A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G02B7/022Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses lens and mount having complementary engagement means, e.g. screw/thread
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lens Barrels (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Anordnung, insbesondere für eine Projektionsbelichtungsanlage oder ein Lithographieinspektionsgerät, mit mindestens einem optischen Element (10) und mindestens einer Fassung (11), mit der das optische Element gelagert wird, wobei das optische Element einen optisch genutzten Bereich (13) und einen optisch nicht genutzten Bereich (14) aufweist, wobei die Fassung das optische Element im optisch nicht genutzten Bereich lagert, wobei im Bereich des optischen Elements eine Blende (12) angeordnet ist, die zumindest einen Teil des optisch nicht genutzten Bereichs (14) abdeckt, um Licht (16) der optischen Anordnung aus dem optisch nicht genutzten Bereich auszublenden, wobei das optische Element (10) im optisch nicht genutzten Bereich so geformt ist, dass Blende (12) und Fassung (11) benachbart zueinander angeordnet sind und/oder die Blendenöffnung an der Grenze zwischen optisch genutztem Bereich (13) und optisch nicht genutztem Bereich (14) angeordnet werden kann. Außerdem betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer entsprechenden optischen Anordnung.

Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • GEBIET DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Anordnung, insbesondere für eine Projektionsbelichtungsanlage oder ein Lithographieinspektionsgerät, mit mindestens einem optischen Element und mit mindestens einer Fassung, mit der das optische Element gelagert wird, wobei das optische Element einen optisch genutzten Bereich und einen optisch nicht genutzten Bereich aufweist und wobei die Fassung das optische Element im optisch nicht genutzten Bereich lagert. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Herstellung einer entsprechenden optischen Anordnung.
  • STAND DER TECHNIK
  • Bei Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithographie, die zur Herstellung von mikrostrukturierten und nanostrukturierten Bauteilen der Elektrotechnik oder Mikrosystemtechnik dienen, kann es zum Auftreten von so genanntem Überaperturlicht oder Überaperturstrahlen kommen. Darunter werden solche elektromagnetischen Strahlen bzw. Licht verstanden, welches beispielsweise von der strukturgebenden Maske (Retikel) der Projektionsbelichtungsanlage bei der Abbildung gebeugt und unter einen Winkel abgestrahlt wird, der größer ist als der Aperturwinkel, der für die Abbildung objektseitig genutzt und durch den Durchmesser der den Projektionsstrahlengang begrenzenden Aperturblende bestimmt wird. Dieser objektseitige Aperturwinkel definiert die objektseitige Nutzapertur. Entsprechendes gilt auf der Bildseite, das heißt auf der Seite des zum Objekt optisch konjugierten Bildes.
  • Dieses Überaperturlicht kann beim Auftreffen auf ein optisches Element oder auf die Fassung bzw. Halterung desselben in einer entsprechenden optischen Anordnung zu einer Erwärmung führen, die die Temperaturbelastung des optischen Elements bzw. der Fassung und somit der gesamten optischen Anordnung weiter erhöht. Dies ist insbesondere bei Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithographie nachteilhaft.
  • Entsprechend wird angestrebt, eine derartige unerwünschte Strahlenbelastung zu vermeiden und entsprechendes Licht möglichst effektiv auszublenden, um die Erwärmung von optischen Elementen und Halterungen der Projektionsbelichtungsanlage oder einer entsprechenden optischen Anordnung zu minimieren.
  • OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
  • AUFGABE DER ERFINDUNG
  • Es ist somit Aufgabe der vorliegenden Erfindung, Maßnahmen zur Reduzierung der Erwärmung von optischen Elementen und/oder deren Halterungen bzw. Fassungen in optischen Anordnungen durch unerwünschte Strahlenbelastung vorzusehen. Die entsprechenden Maßnahmen sollen einfach durchführbar sein und die übrigen Abbildungseigenschaften der optischen Anordnung, wie einer Projektionsbelichtungsanlage oder eines Lithographieinspektionsgeräts, nicht beeinträchtigen.
  • TECHNISCHE LÖSUNG
  • Diese Aufgabe wird gelöst durch eine optische Anordnung mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie ein Verfahren zur Herstellung einer optischen Anordnung mit den Merkmalen des Anspruchs 9. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.
  • Der Erfindung liegt die Idee zu Grunde, dass eine effektive Ausblendung von außerhalb der Nutzapertur auf optisch nicht genutzte Randbereiche eines optischen Elements sowie die Fassung des optischen Elements einfallender Strahlung, so genanntes Überaperturlicht, dann erfolgen kann, wenn eine Blende zum Ausblenden des Lichts bzw. der Strahlung mit der Blendenöffnung unmittelbar an der Grenze zwischen optisch genutztem Bereich des optischen Elements und optisch nicht genutztem Bereich des optischen Elements und/oder nahe an der Fassung des optischen Elements angeordnet wird. Entsprechend wird vorgeschlagen, den optisch nicht genutzten Bereich des optischen Elements so auszubilden bzw. zu formen, dass eine Blende benachbart zur Fassung des optischen Elements angeordnet werden kann und/oder die Blendenöffnung der Blende an der Grenze zwischen optisch genutztem und optisch nicht genutztem Bereich platziert werden kann. Dadurch ist es möglich, eine effektive Ausblendung unerwünschten Lichts zu ermöglichen und die Erwärmung des optischen Elements und/oder der Fassung durch das unerwünschte Licht zu begrenzen bzw. zu minimieren.
  • Die Fassung des optischen Elements kann unterhalb des optischen Elements angeordnet sein, sodass das optische Element auf der Fassung aufliegt. Darüber hinaus ist es jedoch auch möglich, dass das optische Element und die Fassung so ausgebildet sind, dass die Fassung in einem Bereich entlang einer Axialerstreckung des optischen Elements angeordnet ist. Unter Axialerstreckung wird hierbei die Erstreckung des optischen Elements entlang der optischen Achse des optischen Elements verstanden. Bei einer optischen Linse verläuft somit die Axialerstreckung beispielsweise entlang des Linsenrandes, der die optisch wirksamen Flächen der Linse begrenzt und miteinander verbindet. Der Randbereich entlang des Linsenrandes kann hierbei den optisch nicht genutzten Bereichs des optischen Elements darstellen, sodass sich der optisch nicht genutzte Bereich ebenfalls entlang der Axialrichtung erstreckt. Entsprechend kann die Fassung nicht nur unterhalb des optischen Elements angeordnet sein, sondern auch im Bereich des Linsenrandes.
  • Die Blende kann analog zu der Anordnung der Fassung innerhalb des Bereichs der Axialerstreckung des optischen Elements oder des optisch nicht genutzten Bereichs des optischen Elements angeordnet sein. Darüber hinaus kann die Blende oberhalb des optischen Elements angeordnet werden.
  • Blende und Fassung können insbesondere so benachbart zueinander angeordnet sein, dass der Abstand von Fassung und Blende kleiner oder gleich der Länge der Axialerstreckung des optisch nicht genutzten Bereichs oder des optischen Elements ist, insbesondere kleiner oder gleich 50%, vorzugsweise kleiner oder gleich 25% der Länge der Axialerstreckung des optisch nicht genutzten Bereichs oder des optischen Elements.
  • Der optisch nicht genutzte Bereich des optischen Elements kann, wie oben erwähnt, beispielsweise bei einer optischen Linse, die eine runde Scheibenform aufweist, in einem Bereich entlang des Umfangsrandes bzw. des Linsenrandes vorliegen. In diesem optisch nicht genutzten Bereich kann eine Nut zur Aufnahme der Blende ausgebildet sein und/oder es kann eine Aussparung bzw. eine Stufe oder Schulter im oder am optisch nicht genutzten Bereich bzw. Linsenrand ausgebildet sein, wobei in dem Freiraum an der Stufe oder Schulter bzw. in der Aussparung die Blende zumindest teilweise, z.B. mit der Blendenöffnung, angeordnet sein kann, sodass die Blendenöffnung möglichst exakt an der Grenze zwischen optisch nicht genutztem Bereich und optisch genutztem Bereich zu liegen kommt.
  • Durch eine Stufe bzw. Schulter oder eine Aussparung im oder am optisch nicht genutzten Bereich des optischen Elements kann ein Vorsprung des optischen nicht nutzbaren Bereichs ausgebildet sein, der zur Lagerung des optischen Elements an der Fassung dienen kann. Somit kann durch die Anordnung der Blende in der Aussparung bzw. im Freiraum benachbart zu der Stufe oder Schulter des optischen Elements auch eine Anordnung der Blende in unmittelbarer Nachbarschaft zur Fassung erreicht werden.
  • Die optische Anordnung kann neben der Blende, die im Bereich des optischen Elements angeordnet ist, also im Bereich der Axialerstreckung des optischen Elements oder unmittelbar über dem optischen Element, mindestens eine weitere Blende aufweisen, um unerwünschtes Licht, welches die Blende am optischen Element und die Fassung passiert hat, auszublenden. Diese zweite Blende kann weiter beabstandet von dem optischen Element vorgesehen werden.
  • Entsprechend kann bei einem Verfahren zur Herstellung einer derartigen optischen Anordnung zunächst ein optisches Element mit den erforderlichen optischen Flächen gewählt werden. Dann kann bestimmt werden, welcher bzw. welche optisch nicht genutzten Bereiche vorliegen, wenn das optische Element in der optischen Anordnung angeordnet ist. Diese optisch nicht genutzten Bereiche dienen zur Lagerung einer Fassung. Zur Minimierung von Überaperturlicht oder sonstigem unerwünschten Licht, welches auf den optisch nicht genutzten Bereich und/oder die Fassung fallen könnte, kann dann die Position einer Blende bestimmt werden, wobei der optisch nicht genutzte Bereich des optischen Elements entsprechend gestaltet werden kann, um die Blende mit ihrer Blendenöffnung möglichst an der Grenze zwischen optisch genutztem Bereich und optisch nicht genutztem Bereich anzuordnen und/oder die Blende benachbart zur Fassung anzuordnen. Hierfür kann die Gestaltung des optischen Elements so vorgenommen werden, dass im optisch nicht genutzten Bereich Teile des optischen Elements entfernt oder weggelassen werden, sodass dort die Blende oder die Fassung angeordnet werden kann. Insbesondere kann am optisch nicht genutzten Bereich des optischen Elements eine Nut oder Aussparung ausgebildet werden.
  • KURZBESCHREIBUNG DER FIGUREN
  • Die beigefügten Zeichnungen zeigen in rein schematischer Weise in
  • 1 eine Darstellung einer Projektionsbelichtungsanlage,
  • 2 eine teilweise Schnittansicht einer ersten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen optischen Anordnung,
  • 3 eine teilweise Schnittansicht einer zweiten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen optischen Anordnung,
  • 4 eine teilweise Schnittansicht einer dritten Ausführungsform, einer erfindungsgemäßen optischen Anordnung,
  • 5 eine teilweise Schnittansicht einer vierten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen optischen Anordnung,
  • 6 eine Draufsicht einer optischen Linse und in
  • 7 eine Schnittansicht durch die optische Linse aus 6.
  • AUSFÜHRUNGSBEISPIELE
  • Weitere Vorteile, Kennzeichen und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden bei der nachfolgenden detaillierten Beschreibung von Ausführungsbeispielen deutlich. Allerdings ist die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt.
  • Die 1 zeigt in einer rein schematischen Weise eine Projektionsbelichtungsanlage, in welcher die vorliegende Erfindung verwirklicht werden kann. Allerdings gibt es darüber hinaus weitere optische Anordnungen, in denen die Erfindung ebenfalls verwirklicht werden kann.
  • Die Projektionsbelichtungsanlage umfasst eine Lichtquelle 1, deren Licht bzw. elektromagnetische Strahlung im Beleuchtungssystem 2 aufbereitet wird, um ein Retikel 3 zu beleuchten, welches die abzubildenden Strukturen aufweist, die abgebildet werden sollen, um sie durch mikrolithographische Prozesse auf einem Wafer auszubilden. Die Strukturen des Retikels 3 werden durch das Projektionsobjektiv 4 in verkleinernder Weise auf den Wafer 5 abgebildet, um dort durch lithographische Prozesse die Strukturen auszubilden.
  • Eine erfindungsgemäße optische Anordnung mit der Lagerung eines optischen Elements in einer Fassung und mit der Anordnung einer Blende zum Ausblenden von unerwünschtem Licht kann sowohl im Beleuchtungssystem 2 als auch im Projektionsobjektiv 4 vorgesehen sein. Darüber hinaus kann die Erfindung in weiteren Vorrichtungen und Anlagen eingesetzt werden, beispielsweise Inspektionseinrichtungen für die Lithographie oder dergleichen.
  • Die 2 zeigt eine teilweise Schnittdarstellung einer ersten Ausführungsform einer optischen Anordnung gemäß der vorliegenden Erfindung. In 2 ist eine optische Linse 10 teilweise gezeigt, die auf einer Fassung 11 gelagert ist. Die Fassung 11 ist hierbei an der Unterseite 18 der optischen Linse 10 angeordnet, um über ein oder mehrere nicht näher dargestellte Lagerelementen die optische Linse 10 aufzunehmen. Unmittelbar oberhalb der Fassung 11 ist eine Blende 12 angeordnet, die mit ihrer Blendenöffnung in eine Nut 17 am Linsenrand eingreift, der die optischen Flächen an der Oberseite 24 und Unterseite 18 der optischen Linse verbindet und die optische Linse umlaufend um eine optische Achse 23 umgibt. An der Unterseite 18 und der Oberseite 24 der optischen Linse 10 sind die optisch wirksamen Flächen der Linse 10 ausgebildet, wobei die gestrichelte Linie 15 eine Trennlinie zwischen dem optisch genutzten Bereich 13 und dem optischen nicht benutzen Bereich 14 darstellt.
  • Die bereits vorher erwähnte Nut 17 im Linsenrand 25, die zur teilweisen Aufnahme der Blende 12 dient, ermöglicht nunmehr, dass die Blende 12 mit dem Rand ihrer Blendenöffnung 26 direkt und unmittelbar an der Trennlinie 15 zwischen dem optisch genutzten Bereich 13 und dem optisch nicht genutzten Bereich 14 angeordnet werden kann. Gleichzeitig kann der Abstand D zwischen der Fassung 11 und der Blende 12 klein gewählt werden. Dadurch kann Überaperturlicht 16 wirksam ausgeblendet werden, bevor es auf die Fassung 11 trifft und dort zu einer Erwärmung der Linsenanordnung beiträgt.
  • Durch die Einbeziehung des Linsenrands 25 in die Anordnung und Halterung der Blende 12 kann somit sowohl eine exakte Anordnung der Blendenöffnung bezüglich des optisch genutzten Bereichs 13 erfolgen als auch eine nahe Anordnung an der Fassung ermöglicht werden, sodass mit der Blende 12 Überaperturlicht 16, welches schräg auf die Fassung 11 fallen könnte, effektiv ausgeblendet werden kann, sodass das Problem der Aufheizung nicht optisch genutzter Bereiche der optischen Linse 10 und/oder der Fassung 11 vermieden werden kann.
  • 3 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen optischen Anordnung, wobei anstelle einer Nut ein ausgesparter Bereich 20 am Linsenrand 25 vorgesehen ist, sodass kein oder weniger optisch ungenutzte Bereiche oberhalb der Blende 12 vorliegen, die durch Überaperturlicht 16 aufgeheizt werden können. Die durch die Aussparung 20 gebildete Stufe im Linsenrand 25 bildet einen Vorsprung 19 aus, der zur Lagerung der Fassung 11 Verwendung findet.
  • Oberhalb des Vorsprungs 19 kann die Blende 12 mit ihrer Blendenöffnung wieder unmittelbar an der. Trennlinie 15 zwischen optisch genutztem Bereich 13 und optisch nicht genutztem Bereich 14 angeordnet werden.
  • Die 4 zeigt eine weitere Ausführungsform einer erfindungsgemäßen optischen Anordnung, wobei nunmehr jedoch der am Linsenrand 25 ausgebildete Vorsprung 21 an der Oberseite 24 der optischen Linse 10 angeordnet ist und die Blende 12 in unmittelbarer Nachbarschaft zur Fassung 11 oberhalb der Oberseite 24 der optischen Linse 10 vorgesehen ist.
  • Die 5 zeigt die Ausführungsform der 4, wobei zusätzlich eine zweite Blende 22 angeordnet ist, mit der Überaperturlicht 16, welches die Blende 12 und die Fassung 11 passiert, ausgeblendet werden kann.
  • Die 6 und 7 zeigen noch einmal in einer vergrößerten Darstellung einer optischen Linse in der Draufsicht und einer seitlichen Schnittansicht den optisch genutzten Bereich 13 und den optisch nicht genutzten Bereich 14 mit der Grenzfläche 15 dazwischen.
  • Obwohl die vorliegende Erfindung anhand der Ausführungsbeispiele detailliert beschrieben worden ist, ist für den Fachmann selbstverständlich, dass die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt ist, sondern dass vielmehr Abwandlungen in der Weise möglich sind, dass einzelne Merkmale weggelassen oder andersartige Kombinationen von Merkmalen verwirklicht werden können, solange der Schutzbereich der beigefügten Ansprüche nicht verlassen wird. Die vorliegende Offenbarung schließt sämtliche Kombinationen der vorgestellten einzelnen Merkmale mit ein.
  • Bezugszeichenliste
  • 1
    Lichtquelle
    2
    Beleuchtungssystem
    3
    Retikel
    4
    Projektionsobjektiv
    5
    Wafer
    10
    optische Linsen
    11
    Fassung
    12
    Blende
    13
    optisch genutzter Bereich
    14
    optisch nicht genutzter Bereich
    15
    Grenzfläche zwischen optisch genutztem Bereich und optisch nicht genutztem
    B
    ereich
    16
    Überaperturlicht
    17
    Nut
    18
    Unterseite
    19
    Vorsprung
    20
    Aussparung
    21
    Vorsprung
    22
    Blende
    23
    Optische Achse
    24
    Oberseite
    25
    Linsenrand
    26
    Rand der Blendenöffnung
    A
    Axialerstreckung
    D
    Abstand zwischen Fassung und Blende

Claims (12)

  1. Optische Anordnung, insbesondere für eine Projektionsbelichtungsanlage oder ein Lithographieinspektionsgerät, mit mindestens einem optischen Element (10) und mindestens einer Fassung (11), mit der das optische Element gelagert wird, wobei das optische Element einen optisch genutzten Bereich (13) und einen optisch nicht genutzten Bereich (14) aufweist, wobei die Fassung das optische Element im optisch nicht genutzten Bereich lagert, dadurch gekennzeichnet, dass im Bereich des optischen Elements eine Blende (12) angeordnet ist, die zumindest einen Teil des optisch nicht genutzten Bereichs (14) abdeckt, um Licht (16) der optischen Anordnung aus dem optisch nicht genutzten Bereich auszublenden, wobei das optische Element (10) im optisch nicht genutzten Bereich so geformt ist, dass Blende (12) und Fassung (11) benachbart zueinander angeordnet sind und/oder die Blendenöffnung an der Grenze zwischen optisch genutztem Bereich (13) und optisch nicht genutztem Bereich (14) angeordnet ist.
  2. Optische Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element (10) eine optische Achse (23) aufweist und das optische Element und der optisch nicht genutzte Bereich eine Axialerstreckung entlang der optischen Achse aufweisen, wobei Blende (12) und/oder Fassung (11) innerhalb des Bereichs der Axialerstreckung des optisch nicht genutzten Bereichs und/oder des optischen Elements an dem optischen Element angeordnet sind.
  3. Optische Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Abstand von Fassung (11) und Blende (12) kleiner oder gleich der Länge der Axialerstreckung des optisch nicht genutzten Bereichs und/oder des optischen Elements, insbesondere kleiner oder gleich 50 %, vorzugsweise kleiner oder gleich 25 % der Länge der Axialerstreckung des optisch nicht genutzten Bereichs und/oder des optischen Elements ist.
  4. Optische Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der optisch nicht genutzte Bereich (14) eine Nut (17) zur Aufnahme der Blende aufweist und/oder der optisch nicht genutzte Bereich (14) einen Vorsprung des optischen Elements zur Lagerung des optischen Elements an der Fassung bildet.
  5. Optische Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element (10) eine optische Linse ist, die optische Flächen und einen Linsenrand (25) aufweist, der die optischen Flächen begrenzt und verbindet, wobei der optisch nicht genutzte Bereich (14) durch einen Bereich am Linsenrand gebildet ist.
  6. Optische Anordnung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Linsenrand (25) mit einer Stufe oder Nut (17) ausgebildet ist, wobei die Blende zumindest teilweise in der Nut aufgenommen ist oder in einem Freiraum benachbart zur Stufe oder an der Oberseite der optischen Linse (10).
  7. Optische Anordnung nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Fassung (11) an einer Unterseite der optischen Linse oder an einer Stufe im Linsenrand (25) angeordnet ist.
  8. Optische Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass außerhalb des Bereichs des optischen Elements mindestens eine weitere Blende (22) angeordnet ist, um Überaperturlicht, welches durch die Blende (12) im Bereich des optischen Elements gelangt ist, auszublenden.
  9. Verfahren zur Herstellung einer optischen Anordnung, insbesondere einer optischen Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, mit mindestens einem optischen Element (10) und einer Fassung (11), mit der das optische Element gelagert wird, wobei das optische Element einen optisch genutzten Bereich (13) und einen optisch nicht genutzten Bereich (14) aufweist, wobei die Fassung das optische Element im optisch nicht genutzten Bereich lagert, wobei zusätzlich eine Blende (12) angeordnet ist, die zumindest einen Teil des optisch nicht genutzten Bereichs (13) des optischen Elements abdeckt, um Licht (16) der optischen Anordnung aus dem optisch nicht genutzten Bereich auszublenden, wobei das Verfahren umfasst: Bereitstellen eines optischen Elements, Gestalten der Form des optischen Elements im optisch nicht genutzten Bereich, um Fassung und Blende benachbart zueinander und/oder die Blendenöffnung an der Grenze zwischen optisch genutztem (13) und optisch nicht genutztem Bereich (14) anordnen zu können.
  10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Gestalten der Form des optischen Elements (10) im optisch nicht genutzten Bereich (14) umfasst, dass ein Teil des optischen Elements entfernt oder weggelassen wird.
  11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass in dem entfernten oder weggelassenen Bereich des optischen Elements die Blende (12) oder die Fassung (11) angeordnet wird.
  12. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass an dem optisch nicht genutzten Bereich (14) des optischen Elements eine Nut (17) oder Aussparung (20) ausgebildet wird.
DE102016224027.7A 2016-12-02 2016-12-02 Multifunktionaler linsenrand Ceased DE102016224027A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102016224027.7A DE102016224027A1 (de) 2016-12-02 2016-12-02 Multifunktionaler linsenrand

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102016224027.7A DE102016224027A1 (de) 2016-12-02 2016-12-02 Multifunktionaler linsenrand

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102016224027A1 true DE102016224027A1 (de) 2017-03-30

Family

ID=58282233

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102016224027.7A Ceased DE102016224027A1 (de) 2016-12-02 2016-12-02 Multifunktionaler linsenrand

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102016224027A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017211902A1 (de) 2017-07-12 2018-08-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017211902A1 (de) 2017-07-12 2018-08-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19611726B4 (de) Blindstruktur zur Außeraxial-Belichtung
DE202013012775U1 (de) In ein Fahrzeug eingebaute Bildverarbeitungsvorrichtung
DE102010040108A1 (de) Obskurationsblende
EP1789833B1 (de) Optisches system zur umwandlung einer primären intensitätsverteilung in eine vorgegebene, raumwinkelabhängige intensitätsverteilung
DE102017105027A1 (de) Kraftfahrzeugscheinwerferlichtmodul
DE102019118264A1 (de) Beleuchtungsvorrichtung für ein Kraftfahrzeug, insbesondere hochauflösender Scheinwerfer
DE4445773A1 (de) Vorrichtung zum Einstellen eines Luftzwischenraums zwischen Linsen
DE102017210190A1 (de) Optisches Element
DE102005017516B3 (de) Fotolithografische Abbildungseinrichtung und Vorrichtung zum Erzeugen einer Beleuchtungsverteilung
DE102016224027A1 (de) Multifunktionaler linsenrand
DE102017217867A1 (de) EUV-Facettenspiegel für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage
DE102015201139A1 (de) Erfassung von Verunreinigungen an optischen Elementen in Projektionsbelichtungsanlagen
DE102010035223B3 (de) Mehrstufig justierbare Fassungsbaugruppe für zwei optische Bauteile
DE102010039965A1 (de) EUV-Kollektor
DE102018219782A1 (de) Verfahren zur Bestimmung einer Temperatur an einem Punkt einer Komponente einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage
DE102018200167A1 (de) Pupillenfacettenspiegel, Beleuchtungsoptik und optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage
DE102017217245A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage mit deformationsentkoppelten Komponenten
DE102012214232A1 (de) Spiegellagerung für spiegel einer projektionsbelichtungsanlage
DE102013012727B3 (de) Verfahren zur Optimierung einer Intensität einer Nutzlichtverteilung
WO2016116424A2 (de) Optische anordnung für ein laser-scanner-system
DE102016207709A1 (de) Optisches Element, insbesondere Kollektorspiegel einer EUV-Lichtquelle einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102009056659B4 (de) Objektiv für eine Halbleiterkamera und Verfahren zum Fokussieren einer Halbleiterkamera
DE102008043243A1 (de) Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie sowie Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften eines Projektionsobjektivs
DE102019211158A1 (de) Optische Anordnung zur Bauteilinspektion von Bauteilen mit einer gekrümmten Oberfläche und Inspektionsverfahren hierzu
DE102017211902A1 (de) Projektionsobjektiv für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R230 Request for early publication
R079 Amendment of ipc main class

Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: G02B0007020000

Ipc: G02B0007000000

R002 Refusal decision in examination/registration proceedings
R003 Refusal decision now final