DE102015224533A1 - Reactive sealing gas for the targeted adaptation of the cavity internal pressure - Google Patents

Reactive sealing gas for the targeted adaptation of the cavity internal pressure Download PDF

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Abstract

Es wird ein Verfahren zum Herstellen eines mikromechanischen Bauelements mit einem Substrat und mit einer mit dem Substrat verbundenen und mit dem Substrat eine erste Kaverne umschließenden Kappe vorgeschlagen, wobei in der ersten Kaverne ein erster Druck herrscht und ein erstes Gasgemisch mit einer ersten chemischen Zusammensetzung eingeschlossen ist, wobei
– in einem ersten Verfahrensschritt eine die erste Kaverne mit einer Umgebung des mikromechanischen Bauelements verbindende Zugangsöffnung in dem Substrat oder in der Kappe ausgebildet wird, wobei
– in einem zweiten Verfahrensschritt der erste Druck und/oder die erste chemische Zusammensetzung in der ersten Kaverne eingestellt wird, wobei
– in einem dritten Verfahrensschritt die Zugangsöffnung durch Einbringen von Energie oder Wärme in einen absorbierenden Teil des Substrats oder der Kappe mithilfe eines Lasers verschlossen wird, wobei in einem vierten Verfahrensschritt ein Reaktivgas zum weiteren Einstellen des ersten Drucks und/oder der ersten chemischen Zusammensetzung in die erste Kaverne eingebracht wird.
A method is proposed for producing a micromechanical component with a substrate and with a cap connected to the substrate and enclosing a first cavity with the substrate, a first pressure prevailing in the first cavern and a first gas mixture having a first chemical composition being included , in which
In a first method step, an access opening connecting the first cavity to an environment of the micromechanical component is formed in the substrate or in the cap, wherein
- In a second process step, the first pressure and / or the first chemical composition in the first cavity is set, wherein
In a third process step, the access opening is closed by introducing energy or heat into an absorbent part of the substrate or the cap by means of a laser, wherein in a fourth process step a reactive gas for further adjusting the first pressure and / or the first chemical composition in the first cavern is introduced.

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Figure DE102015224533A1_0001

Description

Stand der TechnikState of the art

Die Erfindung geht aus von einem Verfahren gemäß dem Oberbegriff von Anspruch 1.The invention is based on a method according to the preamble of claim 1.

Ein derartiges Verfahren ist aus der WO 2015/120939 A1 bekannt. Ist ein bestimmter Innendruck in einer Kaverne eines mikromechanischen Bauelements gewünscht oder soll ein Gasgemisch mit einer bestimmten chemischen Zusammensetzung in der Kaverne eingeschlossen sein, so wird der Innendruck oder die chemische Zusammensetzung häufig beim Verkappen des mikromechanischen Bauelements bzw. beim Bondvorgang zwischen einem Substratwafer und einem Kappenwafer eingestellt. Beim Verkappen wird beispielsweise eine Kappe mit einem Substrat verbunden wodurch die Kappe und das Substrat gemeinsam die Kaverne umschließen. Durch Einstellen der Atmosphäre bzw. des Drucks und/oder der chemischen Zusammensetzung des beim Verkappen in der Umgebung vorliegenden Gasgemischs, kann somit der bestimmte Innendruck und/oder die bestimmte chemische Zusammensetzung in der Kaverne eingestellt werden.Such a method is known from WO 2015/120939 A1 known. If a certain internal pressure in a cavern of a micromechanical component is desired or if a gas mixture with a certain chemical composition is to be trapped in the cavern, the internal pressure or the chemical composition often becomes when the micromechanical component is being capped or during bonding between a substrate wafer and a cap wafer set. When capping, for example, a cap is connected to a substrate whereby the cap and the substrate together enclose the cavern. By adjusting the atmosphere or the pressure and / or the chemical composition of the gas mixture present during the capping, it is thus possible to set the specific internal pressure and / or the specific chemical composition in the cavern.

Mit dem aus der WO 2015/120939 A1 bekannten Verfahren kann gezielt ein Innendruck in einer Kaverne eines mikromechanischen Bauelements eingestellt werden. Mit diesem Verfahren ist es insbesondere möglich ein mikromechanisches Bauelement mit einer ersten Kaverne herzustellen, wobei in der ersten Kaverne ein erster Druck und eine erste chemische Zusammensetzung eingestellt werden kann, der bzw. die sich von einem zweiten Druck und einer zweiten chemischen Zusammensetzung zum Zeitpunkt des Verkappens unterscheiden.With the from the WO 2015/120939 A1 Known methods can be adjusted specifically an internal pressure in a cavern of a micromechanical device. With this method, it is possible, in particular, to produce a micromechanical component with a first cavity, wherein in the first cavity a first pressure and a first chemical composition can be set, which differ from a second pressure and a second chemical composition at the time of Capping differ.

Bei dem Verfahren zum gezielten Einstellen eines Innendrucks in einer Kaverne eines mikromechanischen Bauelements gemäß der WO 2015/120939 A1 wird in der Kappe bzw. in dem Kappenwafer oder in dem Substrat bzw. in dem Sensorwafer ein schmaler Zugangskanal zu der Kaverne erzeugt. Anschließend wird die Kaverne mit dem gewünschten Gas und dem gewünschten Innendruck über den Zugangskanal geflutet. Schließlich wird der Bereich um den Zugangskanal lokal mithilfe eines Lasers erhitzt, das Substratmaterial verflüssigt sich lokal und verschließt beim Erstarren den Zugangskanal hermetisch.In the method for the targeted setting of an internal pressure in a cavern of a micromechanical device according to the WO 2015/120939 A1 In the cap or in the cap wafer or in the substrate or in the sensor wafer, a narrow access channel to the cavern is generated. Subsequently, the cavern is flooded with the desired gas and the desired internal pressure via the access channel. Finally, the area around the access channel is locally heated by a laser, the substrate material liquefies locally and hermetically seals the access channel upon solidification.

Die Güte von Drehratensensoren hängt äußerst empfindlich von dem Kaverneninnendruck ab. Ferner ist für eine hohe Offsetperformance von Drehratensensoren über ihre Lebensdauer eine möglichst stabile Güte nötig, da eine Abweichung der Güte von dem Wert, der beim Abgleich in die Abgleichparameter eingeflossen ist, zu einem Offset des Drehratensensors führt. Um eine möglichst hohe und stabile Güte über die Lebenszeit der Drehratensensoren zu erreichen, ist es daher essenziell, den Innendruck der Drehratensensorkaverne über die Lebensdauer der Drehratensensoren zu stabilisieren bzw. konstant zu halten. Bei Drehratensensoren mit hoher Güte (d.h. geringem Kaverneninnendruck) ist häufig nach HT Lagerungen (Lagerungszeiträume mit vergleichsweise hoher Temperatur) ein Anstieg des Innendrucks zu beobachten, der beispielsweise durch Ausgasungen bzw. durch Gasdiffusion in die Kaverne entsteht.The quality of rotation rate sensors depends very sensitively on the internal cavern pressure. Furthermore, as high a quality as possible is required for a high offset performance of rotation rate sensors over their service life, since a deviation of the quality from the value which has been incorporated into the adjustment parameters during the adjustment leads to an offset of the rotation rate sensor. In order to achieve the highest possible and stable quality over the lifetime of the rotation rate sensors, it is therefore essential to stabilize or keep constant the internal pressure of the rotation rate sensor caverns over the service life of the rotation rate sensors. In the case of high-speed rotation rate sensors (i.e., low cavern internal pressure), an increase in internal pressure, which results, for example, from outgassing or from gas diffusion into the cavern, is frequently to be observed after HT storage (storage periods with a comparatively high temperature).

Weitere Verfahren zum gezielten Einstellen eines Innendrucks in einer Kaverne eines mikromechanischen Bauelements sind aus US 8,546,928 B2 , US 2015/0158720 A1 und US 8,513,747 B1 bekannt. Ein Verfahren zum Ermitteln einer Leckrate ist aus US 7,739,900 B2 bekannt.Further methods for the targeted setting of an internal pressure in a cavern of a micromechanical component are made US 8,546,928 B2 . US 2015/0158720 A1 and US 8,513,747 B1 known. A method for determining a leak rate is off US 7,739,900 B2 known.

Offenbarung der ErfindungDisclosure of the invention

Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Verfahren zum Herstellen eines gegenüber dem Stand der Technik mechanisch robusten sowie eine lange Lebensdauer aufweisenden mikromechanischen Bauelements auf gegenüber dem Stand der Technik einfache und kostengünstige Weise bereitzustellen. Des Weiteren ist es Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein gegenüber dem Stand der Technik kompaktes, mechanisch robustes und eine lange Lebensdauer aufweisendes mikromechanisches Bauelement bereitzustellen. Erfindungsgemäß gilt dies insbesondere für ein mikromechanisches Bauelement mit einer (ersten) Kaverne. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren und dem erfindungsgemäßen mikromechanischen Bauelement ist es ferner auch möglich ein mikromechanisches Bauelement zu realisieren bei dem in der ersten Kaverne ein erster Druck und eine erste chemische Zusammensetzung eingestellt werden kann und in einer zweiten Kaverne ein zweiter Druck und eine zweite chemische Zusammensetzung eingestellt werden kann. Beispielsweise ist ein derartiges Verfahren zur Herstellung von mikromechanischen Bauelementen vorgesehen, für die es vorteilhaft ist, wenn in einer ersten Kaverne ein erster Druck und in einer zweiten Kaverne ein zweiter Druck eingeschlossen ist, wobei sich der erste Druck von dem zweiten Druck unterscheiden soll. Dies ist beispielsweise dann der Fall, wenn eine erste Sensoreinheit zur Drehratenmessung und eine zweite Sensoreinheit zur Beschleunigungsmessung in einem mikromechanischen Bauelement integriert werden sollen. Beispielsweise sind hierbei die erste Kaverne und die zweite Kaverne lediglich durch einen Bondsteg voneinander getrennt. Insbesondere ist es Aufgabe der vorliegenden Erfindung eine hohe Güte über die Lebenszeit des mikromechanischen Bauelements zu ermöglichen.The object of the present invention is to provide a method for producing a micromechanical component which is mechanically robust and has a long service life compared with the prior art in a simple and cost-effective manner compared with the prior art. A further object of the present invention is to provide a micromechanical component which is compact in comparison with the prior art, has a mechanically robust and has a long service life. According to the invention, this applies in particular to a micromechanical component with a (first) cavern. Furthermore, it is also possible with the method according to the invention and the micromechanical component according to the invention to realize a micromechanical component in which a first pressure and a first chemical composition can be set in the first cavity and a second pressure and a second chemical composition are set in a second cavity can be. By way of example, such a method is provided for producing micromechanical components, for which it is advantageous if a first pressure is enclosed in a first cavity and a second pressure in a second cavity, wherein the first pressure is to differ from the second pressure. This is the case, for example, when a first sensor unit for rotation rate measurement and a second sensor unit for acceleration measurement are to be integrated in a micromechanical component. For example, in this case the first cavern and the second cavern are separated from each other only by a bonding web. In particular, it is an object of the present invention to enable a high quality over the lifetime of the micromechanical device.

Die Aufgabe wird dadurch gelöst, dass in einem vierten Verfahrensschritt ein Reaktivgas zum weiteren Einstellen des ersten Drucks und/oder der ersten chemischen Zusammensetzung in die erste Kaverne eingebracht wird. The object is achieved in that in a fourth method step, a reactive gas for further setting of the first pressure and / or the first chemical composition is introduced into the first cavity.

Hierdurch wird auf einfache und kostengünstige Weise ein Verfahren zum Herstellen eines mikromechanischen Bauelements bereitgestellt, mit dem der erste Druck in der ersten Kaverne, insbesondere wenn die erste Kaverne eine Drehratensensorkaverne ist, über die Lebensdauer im Wesentlichen konstant gehalten bzw. stabilisiert werden kann bzw. mit dem der erste Druck nach einem provisorischen Einstellen des ersten Drucks weiter reduziert werden kann. Dies wird beispielsweise dadurch erreicht, dass geringe Gasmengen, die aus den Materialien innerhalb der ersten Kaverne über die Lebenszeit ausgasen oder die durch Gasdiffusion, beispielsweise durch das Substrat oder durch die Kappe oder durch einen Bondrahmen oder Bondsteg zwischen der ersten Kaverne und der zweiten Kaverne, in die erste Kaverne gelangen durch das Reaktivgas bzw. mit einem in der Kaverne zuvor bzw. vor dem Verschließen der Zugangsöffnung eingeschlossenen Gas reagieren und auf diese Weise der Gesamtinnendruck der Kaverne im Wesentlichen konstant gehalten oder verringert werden kann. Somit kann beispielsweise ermöglicht werden, dass die Dämpfung und damit die Güte beispielsweise des Drehratensensors in erster Näherung unverändert bleibt, insbesondere wenn unterschiedliche Dämpfungsfaktoren für unterschiedliche Gasarten vernachlässigt werden.As a result, a method for producing a micromechanical component is provided in a simple and cost-effective manner with which the first pressure in the first cavern, in particular if the first cavern is a rotation sensor sensor cavern, can be kept or stabilized substantially constant over the service life or with the first pressure after a provisional setting of the first pressure can be further reduced. This is achieved, for example, by virtue of the fact that small amounts of gas outgassing from the materials within the first cavern over their lifetime or by gas diffusion, for example through the substrate or through the cap or through a bonding frame or bonding web between the first cavern and the second cavern, enter the first cavern by the reactive gas or react with a previously enclosed in the cavern or before the closing of the access port gas and in this way the total internal pressure of the cavern can be kept substantially constant or reduced. Thus, it can be made possible, for example, that the attenuation and thus the quality, for example of the rotation rate sensor, remains unchanged to a first approximation, in particular if different damping factors for different types of gas are neglected.

Ein weiterer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens ist, dass mithilfe des Reaktivgases dem entgegen gewirkt werden kann, dass der sich beim bzw. zeitlich nach dem regulären Bondprozess in der Kaverne einstellende Innendruck nicht dem Druck entspricht, der beim Bonden eingeschlossen wird.A further advantage of the method according to the invention is that with the aid of the reactive gas it can be counteracted that the internal pressure occurring in the cavern during or after the regular bonding process does not correspond to the pressure which is included in the bonding.

Erfindungsgemäß ist alternativ oder zusätzlich vorgesehen, dass in dem vierten Verfahrensschritt ein Getter zum weiteren Einstellen des ersten Drucks und/oder der ersten chemischen Zusammensetzung in die erste Kaverne eingebracht wird. Erfindungsgemäß ist auch vorgesehen, dass das Reaktivgas im Wesentlichen die Eigenschaften eines Getters umfasst.According to the invention, it is alternatively or additionally provided that in the fourth method step a getter is introduced into the first cavity for further setting of the first pressure and / or the first chemical composition. According to the invention, it is also provided that the reactive gas essentially comprises the properties of a getter.

Im Zusammenhang mit der vorliegenden Erfindung ist unter dem Begriff Getter ein chemisch reaktives Material, das dazu dient, ein Vakuum möglichst lange zu erhalten zu verstehen. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass das Material in einem festen Aggregatzustand oder in einem flüssigen Aggregatzustand oder in einem gasförmigen Aggregatzustand vorliegt. Beispielsweise gehen an der Oberfläche des Getters Gasmoleküle mit den Atomen des Getter-Materials eine direkte chemische Verbindung ein. Alternativ oder zusätzlich ist jedoch auch vorgesehen, dass die Gasmoleküle durch Sorption an dem Getter-Material festgehalten werden. Auf diese Weise werden die Gasmoleküle in oder an der Oberfläche des Getter-Materials „eingefangen“. Im Zusammenhang mit der vorliegenden Erfindung ist zwischen einem aktivierten Getter und einem inaktivierten Getter zu unterscheiden, wobei der aktivierte Getter im Vergleich zu dem inaktivierten Getter eine höhere Einfangrate aufweist. Unter Einfangrate ist hierbei beispielsweise eine Anzahl von in oder an der Oberfläche des Getter-Materials eingefangener Gasmolekülen pro Zeiteinheit, beispielsweise pro Sekunde, zu verstehen. Des Weiteren ist gemäß der vorliegenden Erfindung zwischen einem reversiblen Getter und einem irreversiblen Getter zu unterscheiden. Hierbei umfasst erfindungsgemäß ein reversibler Getter zumindest teilweise bzw. überwiegend reversibles Getter-Material und ein irreversibler Getter zumindest teilweise bzw. überwiegend irreversibles Getter-Material. Es ist erfindungsgemäß jedoch auch vorgesehen, dass sowohl ein reversibler Getter als auch ein irreversibler Getter jeweils zumindest teilweise reversibles Getter-Material und zumindest teilweise irreversibles Getter-Material umfassen. Erfindungsgemäß ist unter einem reversiblen Getter-Material ein Getter-Material zu verstehen, welches an einem ersten Zeitpunkt bzw. während einer ersten Zeitdauer Gasmoleküle in oder an der Oberfläche des Getter-Materials im Wesentlichen einfängt bzw. aufnimmt und zu einem zweiten Zeitpunkt bzw. während einer zweiten Zeitdauer eingefangene Gasmoleküle aus oder von der Oberfläche des Getter-Materials im Wesentlichen wieder loslässt bzw. abgibt. Erfindungsgemäß ist „im Wesentlichen einfangen bzw. aufnehmen“ beispielsweise so zu verstehen, dass die Einfangrate größer als eine Abgaberate ist bzw. dass eine erste Summe aus Adsorptionsrate und Absorptionsrate größer als eine Desorptionsrate ist. Erfindungsgemäß ist „im Wesentlichen loslassen bzw. abgeben“ beispielsweise so zu verstehen, dass die Einfangrate kleiner als die Abgaberate ist bzw. dass die erste Summe kleiner als die Desorptionsrate ist. Unter Adsorptionsrate ist hierbei beispielsweise eine Anzahl von an der Oberfläche des Getter-Materials eingefangenen Gasmolekülen pro Zeiteinheit, beispielsweise pro Sekunde, zu verstehen. Unter Absorptionsrate ist hierbei beispielsweise eine Anzahl von in der Oberfläche des Getter-Materials bzw. im Volumen des Getter-Materials eingefangener Gasmolekülen pro Zeiteinheit, beispielsweise pro Sekunde, zu verstehen. Unter Abgaberate bzw. Desorptionsrate ist hierbei beispielsweise eine Anzahl von aus oder von der Oberfläche des Getter-Materials losgelassenen bzw. abgegebenen Gasmolekülen pro Zeiteinheit, beispielsweise pro Sekunde, zu verstehen. Erfindungsgemäß ist ein reversibler Getter im Wesentlichen regenerierbar bzw. in einen Ausgangszustand mit hoher Absorptionsbereitschaft und/oder Adsorptionsbereitschaft versetzbar. Erfindungsgemäß ist unter Absorptionsbereitschaft bzw. Adsorptionsbereitschaft das Bereitstellen einer hohen Absorptionsrate bzw. Adsorptionsrate bei Vorhandensein entsprechender Gasmoleküle zu verstehen.In the context of the present invention, the term getter is to be understood as meaning a chemically reactive material which serves to obtain a vacuum as long as possible. According to the invention, it is provided that the material is present in a solid state of matter or in a liquid state of aggregation or in a gaseous state of matter. For example, at the surface of the getter, gas molecules enter into a direct chemical compound with the atoms of the getter material. Alternatively or additionally, however, it is also provided that the gas molecules are retained by sorption on the getter material. In this way, the gas molecules are "captured" in or on the surface of the getter material. In the context of the present invention, a distinction is made between an activated getter and an inactivated getter, wherein the activated getter has a higher capture rate compared to the inactivated getter. In this case, the term capture rate means, for example, a number of gas molecules trapped in or on the surface of the getter material per unit time, for example per second. Furthermore, according to the present invention, a distinction is made between a reversible getter and an irreversible getter. According to the invention, a reversible getter comprises at least partially or predominantly reversible getter material and an irreversible getter comprises at least partially or predominantly irreversible getter material. However, it is also provided according to the invention that both a reversible getter and an irreversible getter each comprise at least partially reversible getter material and at least partially irreversible getter material. According to the invention, a reversible getter material is to be understood as meaning a getter material which essentially captures or absorbs gas molecules in or on the surface of the getter material at a first time or during a first time period and at a second time or during, respectively For a second period of time trapped gas molecules from or released from the surface of the getter material substantially again. For example, in accordance with the invention, "substantially capturing" is understood to mean that the capture rate is greater than a release rate or that a first sum of adsorption rate and absorption rate is greater than a desorption rate. According to the invention, "substantially let go or release" is understood, for example, to mean that the capture rate is less than the release rate or that the first sum is less than the desorption rate. By adsorption rate is meant, for example, a number of gas molecules trapped on the surface of the getter material per unit time, for example per second. By absorption rate is meant, for example, a number of gas molecules trapped in the surface of the getter material or in the volume of the getter material per unit time, for example per second. In this case, the term "release rate" or "desorption rate" is to be understood as meaning, for example, a number of gas molecules released or released from the surface of the getter material per unit time, for example per second. According to the invention, a reversible getter can be essentially regenerated or set into an initial state with high absorption readiness and / or readiness for adsorption. According to the invention Under absorption readiness or adsorption readiness to understand the provision of a high absorption rate or adsorption rate in the presence of corresponding gas molecules.

Erfindungsgemäß bevorzugt ist unter einem Partikel bzw. Teilchen ein Atom oder eine Ansammlung von Atomen, wie beispielsweise ein Molekül oder mehrere Moleküle, zu verstehen. Im Zusammenhang mit der vorliegenden Erfindung befindet sich das Partikel in einem gasförmigen, flüssigen oder festen Aggregatzustand bzw. ist Teil einer gasförmigen, flüssigen oder festen Phase und umfasst zumindest eine Phasengrenzfläche zu seiner Umgebung. Insbesondere ist erfindungsgemäß unter Partikel ein im Maßstab des mikromechanischen Bauelements kleiner Körper zu verstehen, d.h. ein Körper, welcher maximal eine Erstreckung von 1/10 einer maximalen Erstreckung des mikromechanischen Bauelements aufweist.According to the invention, a particle or particle is preferably to be understood as meaning an atom or an assembly of atoms, such as, for example, one or more molecules. In the context of the present invention, the particle is in a gaseous, liquid or solid state or is part of a gaseous, liquid or solid phase and comprises at least one phase interface with its surroundings. In particular, particles according to the invention are understood to mean a small body on the scale of the micromechanical component, i. a body which has a maximum extension of 1/10 of a maximum extent of the micromechanical device.

Im Zusammenhang mit der vorliegenden Erfindung ist der Begriff „mikromechanisches Bauelement“ so zu verstehen, dass der Begriff sowohl mikromechanische Bauelemente als auch mikroelektromechanische Bauelemente umfasst.In the context of the present invention, the term "micromechanical component" should be understood to mean that the term encompasses both micromechanical components and microelectromechanical components.

Die vorliegende Erfindung ist bevorzugt für die Herstellung eines bzw. für ein mikromechanisches Bauelement mit einer Kaverne vorgesehen. Jedoch ist die vorliegende Erfindung beispielsweise auch für ein mikromechanisches Bauelement mit zwei Kavernen oder mit mehr als zwei, d.h. drei, vier, fünf, sechs oder mehr als sechs, Kavernen vorgesehen.The present invention is preferably provided for the production of or for a micromechanical component with a cavern. However, for example, the present invention is also applicable to a micromechanical device having two caverns or more than two, i. three, four, five, six or more than six, caverns provided.

Bevorzugt wird die Zugangsöffnung durch Einbringen von Energie oder Wärme in einen diese Energie oder diese Wärme absorbierenden Teil des Substrats oder der Kappe mithilfe eines Lasers verschlossen. Hierbei wird bevorzugt Energie bzw. Wärme in jeweils den absorbierenden Teil des Substrats oder der Kappe von mehreren mikromechanischen Bauelementen, welche beispielsweise auf einem Wafer gemeinsam hergestellt werden, zeitlich nacheinander eingebracht. Es ist jedoch alternativ auch ein zeitlich paralleles Einbringen der Energie bzw. Wärme in den jeweiligen absorbierenden Teil des Substrats oder der Kappe von mehreren mikromechanischen Bauelementen vorgesehen, beispielsweise unter Verwendung von mehreren Laserstrahlen bzw. Laservorrichtungen. Alternativ ist erfindungsgemäß auch vorgesehen, dass die Zugangsöffnung mithilfe eines Oxid Reseal Verfahrens bzw. eines Oxid Wiederverschluss Verfahrens verschlossen wird. Hierbei handelt es sich bei dem Oxid Reseal Verfahren bzw. bei dem Oxid Wiederverschluss Verfahren beispielsweise um ein zum Laser Reseal Verfahren bzw. zum Laser Wiederverschluss Verfahren alternatives Verschlussverfahren, bei dem die nachträgliche Öffnung der Kaverne mit einem Oxiddeckel hermetisch verschlossen wird, welcher bei geringem Umgebungsdruck aufgewachsen wird.Preferably, the access opening is closed by introducing energy or heat into a portion of the substrate or cap that absorbs this energy or heat, using a laser. In this case, energy or heat is preferably introduced in succession in each case in the absorbent part of the substrate or the cap of a plurality of micromechanical components, which are produced jointly on a wafer, for example. However, it is alternatively also provided a temporally parallel introduction of the energy or heat into the respective absorbent part of the substrate or the cap of a plurality of micromechanical components, for example using a plurality of laser beams or laser devices. Alternatively, it is also provided according to the invention that the access opening is closed by means of an oxide reseal process or an oxide reclosure process. In the case of the oxide reseal process or in the oxide reclosure process, for example, a laser reseal process or laser reclosure process alternative closure process in which the subsequent opening of the cavern is hermetically sealed with an oxide cover, which at low ambient pressure is grown up.

Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung sind den Unteransprüchen, sowie der Beschreibung unter Bezugnahme auf die Zeichnungen entnehmbar.Advantageous embodiments and modifications of the invention are the dependent claims, as well as the description with reference to the drawings.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass die Kappe mit dem Substrat eine zweite Kaverne umschließt, wobei in der zweiten Kaverne ein zweiter Druck herrscht und ein zweites Gasgemisch mit einer zweiten chemischen Zusammensetzung eingeschlossen ist.According to a preferred development, it is provided that the cap encloses a second cavity with the substrate, wherein a second pressure prevails in the second cavity and a second gas mixture with a second chemical composition is enclosed.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass in einem fünften Verfahrensschritt mindestens eine Bindung, insbesondere mindestens eine chemische Bindung, zwischen mindestens einem ersten Teilchen A des Reaktivgases und mindestens einem zweiten Teilchen B eines weiteren Gases herbeigeführt wird. Hierdurch wird vorteilhaft ermöglicht, dass mithilfe des Reaktivgases zweite Teilchen B eines weiteren Gases, welches beispielsweise nach dem Verschließen der Zugangsöffnung in die erste Kaverne eintritt, gebunden werden können. According to a preferred development, it is provided that in a fifth method step at least one bond, in particular at least one chemical bond, is brought about between at least one first particle A of the reactive gas and at least one second particle B of a further gas. In this way, it is advantageously possible to use the reactive gas to bind second particles B of a further gas, which enters the first cavity, for example, after closing the access opening.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass die mindestens eine Bindung aufgrund von Wechselwirkungen, insbesondere von elektrostatischen Wechselwirkungen, zwischen Elektronen des mindestens einen ersten Teilchens A und des mindestens einen zweiten Teilchens B herbeigeführt wird. Hierdurch wird vorteilhaft eine chemische Bindung zwischen dem mindestens einen ersten Teilchen A und dem mindestens einen zweiten Teilchen B ermöglicht.According to a preferred development it is provided that the at least one bond is brought about due to interactions, in particular of electrostatic interactions, between electrons of the at least one first particle A and the at least one second particle B. This advantageously allows a chemical bond between the at least one first particle A and the at least one second particle B.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass mithilfe der Bindung ein neues Teilchen C derart hergestellt wird, dass die chemische Zusammensetzung des neuen Teilchens C

  • – ABX oder
  • – AB oder
  • – AXB ist,
wobei x > 1 ist. Hierdurch wird vorteilhaft eine Stabilisierung des Innendruckes bzw. des ersten Druckes über die Lebenszeit des mikromechanischen Bauelements und/oder ein gezieltes Einstellen des Innendruckes bzw. der Drehratensensorgüte bim Bondprozess bei geringen Drücken und/oder das Erzeugen eines Hochgüte Systems unter Verwendung eines Standard Bondverfahrens und/oder ein hochempfindlicher und selektiver Gassensor ermöglicht.According to a preferred development, it is provided that a new particle C is produced by means of the bond in such a way that the chemical composition of the new particle C
  • - AB X or
  • - AB or
  • - A is X B,
where x> 1. This advantageously stabilizes the internal pressure or the first pressure over the lifetime of the micromechanical component and / or a targeted setting of the internal pressure or the rotation rate sensor quality bim bonding process at low pressures and / or generating a high-quality system using a standard bonding process and / / or a highly sensitive and selective gas sensor.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass das neue Teilchen C derart hergestellt wird, dass das neue Teilchen C in einem festen Aggregatzustand oder in einem flüssigen Aggregatzustand oder in einem gasförmigen Aggregatzustand vorliegt. Für den Fall, dass das neue Teilchen C in einem festen oder in einem flüssigen Aggregatzustand vorliegt, ist beispielsweise vorteilhaft möglich, dass das mikromechanische Bauelement als ein äußerst empfindlicher Gassensor verwendet werden kann, in dem das Reaktivgas mit dem weiteren Gas zu einem Feststoff reagiert und auf diese Weise nicht mehr zum Kavernengasinnendruck beiträgt. Diese Druckänderung lässt sich sehr präzise über eine Änderung der Güte des mikromechanischen Bauelements feststellen. Je nach Reaktionsmöglichkeiten des Verschlussgases bzw. des Reaktivgases ist der so hergestellte Gassensor selektiv auf bestimmte Gassorten. Außerdem ist für den Fall, dass das neue Teilchen C in einem festen oder in einem flüssigen Aggregatzustand vorliegt, beispielsweise vorteilhaft möglich, ein Hochgütesystem mittels eines Standard Bondverfahrens herzustellen, da das neue Teilchen C im festen oder im flüssigen Zustand im Wesentlichen nicht zum ersten Druck beiträgt. Für den Fall, dass das neue Teilchen C in einem gasförmigen Aggregatzustand vorliegt, ist beispielsweise vorteilhaft möglich, den ersten Druck über die Lebenszeit des mikromechanischen Bauelements zu stabilisieren und/oder den ersten Druck bzw. die Drehratensensorgüte beim Bondprozess bei geringen Drücken gezielt einzustellen.According to a preferred embodiment, it is provided that the new particle C is prepared such that the new particle C in a solid state or in a liquid state or in a gaseous state. In the event that the new particle C is in a solid or in a liquid state, it is advantageously possible, for example, for the micromechanical component to be used as an extremely sensitive gas sensor, in which the reactive gas reacts with the further gas to form a solid in this way no longer contributes to cavern gas pressure. This change in pressure can be determined very precisely by changing the quality of the micromechanical component. Depending on the reaction possibilities of the closing gas or of the reactive gas, the gas sensor produced in this way is selective to certain types of gas. In addition, in the event that the new particle C is in a solid or in a liquid state, for example, it is advantageously possible to produce a high-quality system by means of a standard bonding process, since the new particle C in the solid or in the liquid state is essentially not at first pressure contributes. In the case where the new particle C is in a gaseous state of aggregation, it is advantageously possible, for example, to stabilize the first pressure over the lifetime of the micromechanical component and / or to set the first pressure or yaw rate during the bonding process at low pressures.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass das weitere Gas Wasserstoff umfasst. Hierdurch wird vorteilhaft ermöglicht, dass, insbesondere wenn bei einer Restgasanalyse Wasserstoff in der Kaverne oder in der ersten Kaverne gefunden wird, die Güte gezielt über den Druck beim Bonden einstellbar ist, wenn ein reaktives Verschlussgas oder Reaktivgas zum Einstellen dieses Druckes genutzt wird, welches mit Wasserstoff reagiert. Auf diese Weise wird beim Bonden oder später freigesetzter Wasserstoff durch das reaktive Verschlussgas bzw. das Reaktivgas in der Kaverne bzw. ersten Kaverne gebunden und der Innendruck bleibt beispielsweise stabil auf dem Wert, der beim Bonden eingestellt wurde. Mittels dieses Verfahrens kann die Güte des Systems auch weit angehoben werden, wenn das Reaktivgas mit dem freigesetzten Wasserstoff zu einem nicht-gasförmigen Endprodukt reagiert.According to a preferred embodiment, it is provided that the further gas comprises hydrogen. This advantageously makes it possible, in particular if hydrogen is found in the cavern or in the first cavern in a residual gas analysis, to selectively adjust the quality via the pressure during bonding, if a reactive closing gas or reactive gas is used to set this pressure, which is used with Hydrogen reacts. In this way, during bonding or later released hydrogen is bound by the reactive sealing gas or the reactive gas in the cavern or first cavity and the internal pressure, for example, remains stable at the value that was set during bonding. By means of this method, the quality of the system can also be raised far, if the reactive gas reacts with the released hydrogen to a non-gaseous end product.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass der vierte Verfahrensschritt zeitlich vor dem dritten Verfahrensschritt durchgeführt wird. Hierdurch wird vorteilhaft ermöglicht, dass das Reaktivgas vor dem Verschließen der Zugangsöffnung in die erste Kaverne eingebracht wird.According to a preferred development, it is provided that the fourth method step is carried out in time before the third method step. This advantageously makes it possible for the reactive gas to be introduced into the first cavity before closing the access opening.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass der fünfte Verfahrensschritt zeitlich nach dem vierten Verfahrensschritt durchgeführt wird. Somit wird vorteilhaft ermöglicht, dass die Bindung innerhalb der ersten Kaverne herbeigeführt wird.According to a preferred development, it is provided that the fifth method step is carried out after the fourth method step. Thus, it is advantageously possible that the binding is brought about within the first cavern.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass der fünfte Verfahrensschritt zeitlich nach dem dritten Verfahrensschritt durchgeführt wird. Somit wird vorteilhaft ermöglicht, dass der erste Druck über die Lebensdauer des mikromechanischen Bauelements bei verschlossener Zugangsöffnung im Wesentlichen stabil gehalten werden kann bzw. reduziert werden kann.According to a preferred development, it is provided that the fifth method step is carried out after the third method step. Thus, it is advantageously made possible that the first pressure can be kept substantially stable over the service life of the micromechanical component when the access opening is closed or can be reduced.

Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein mikromechanisches Bauelement mit einem Substrat und mit einer mit dem Substrat verbundenen und mit dem Substrat eine erste Kaverne umschließenden Kappe, wobei in der ersten Kaverne ein erster Druck herrscht und ein erstes Gasgemisch mit einer ersten chemischen Zusammensetzung eingeschlossen ist, wobei das Substrat oder die Kappe eine verschlossene Zugangsöffnung umfasst, wobei ein Reaktivgas zum weiteren Einstellen des ersten Drucks und/oder der ersten chemischen Zusammensetzung in der ersten Kaverne eingeschlossen ist. Hierdurch wird auf vorteilhafte Weise ein kompaktes, mechanisch robustes und kostengünstiges mikromechanisches Bauelement mit eingestelltem ersten Druck bereitgestellt. Die genannten Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens gelten entsprechend auch für das erfindungsgemäße mikromechanische Bauelement.A further subject of the present invention is a micromechanical component having a substrate and having a cap connected to the substrate and enclosing a first cavity with the substrate, a first pressure prevailing in the first cavity and a first gas mixture having a first chemical composition being included wherein the substrate or cap comprises a closed access opening, wherein a reactive gas is included for further adjusting the first pressure and / or the first chemical composition in the first cavity. As a result, a compact, mechanically robust and cost-effective micromechanical component with set first pressure is provided in an advantageous manner. The stated advantages of the method according to the invention also apply correspondingly to the micromechanical component according to the invention.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass ein durch mindestens eine Bindung, insbesondere durch mindestens eine chemische Bindung, zwischen mindestens einem ersten Teilchen A des Reaktivgases und mindestens einem zweiten Teilchen B eines weiteren Gases hergestelltes neues Teilchen in der ersten Kaverne eingeschlossen ist.According to a preferred development, it is provided that a new particle produced by at least one bond, in particular by at least one chemical bond, between at least one first particle A of the reactive gas and at least one second particle B of a further gas is enclosed in the first cavity.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass die chemische Zusammensetzung des neuen Teilchens

  • – ABX oder
  • – AB oder
  • – AXB ist,
wobei x > 1 ist.According to a preferred embodiment, it is provided that the chemical composition of the new particle
  • - AB X or
  • - AB or
  • - A is X B,
where x> 1.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass die Kappe mit dem Substrat eine zweite Kaverne umschließt, wobei in der zweiten Kaverne ein zweiter Druck herrscht und ein zweites Gasgemisch mit einer zweiten chemischen Zusammensetzung eingeschlossen ist. Hierdurch wird auf vorteilhafte Weise ein kompaktes, mechanisch robustes und kostengünstiges mikromechanisches Bauelement mit eingestelltem ersten Druck und zweiten Druck bereitgestellt.According to a preferred development, it is provided that the cap encloses a second cavity with the substrate, wherein a second pressure prevails in the second cavity and a second gas mixture with a second chemical composition is enclosed. As a result, advantageously, a compact, mechanically robust and cost-effective micromechanical Component provided with set first pressure and second pressure.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass der erste Druck geringer als der zweite Druck ist, wobei in der ersten Kaverne eine erste Sensoreinheit zur Drehratenmessung und in der zweiten Kaverne eine zweite Sensoreinheit zur Beschleunigungsmessung angeordnet ist. Hierdurch wird auf vorteilhafte Weise ein mechanisch robustes mikromechanisches Bauelement für Drehratenmessung und Beschleunigungsmessung mit sowohl für die erste Sensoreinheit und für die zweite Sensoreinheit optimalen Betriebsbedingungen bereitgestellt.According to a preferred embodiment, it is provided that the first pressure is less than the second pressure, wherein in the first cavern a first sensor unit for rotation rate measurement and in the second cavern, a second sensor unit for acceleration measurement is arranged. This advantageously provides a mechanically robust micromechanical component for rotation rate measurement and acceleration measurement with optimum operating conditions for both the first sensor unit and for the second sensor unit.

Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist eine Verwendung eines mikromechanischen Bauelements als Gassensor, wobei das mikromechanische Bauelement eine Membran umfasst. Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass die Membran zwischen der ersten Kaverne und der Umgebung des mikromechanischen Bauelements angeordnet ist. Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass die Membran semipermeabel ausgebildet ist. Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass die Membran für das erste Teilchen nicht permeabel und für das zweite Teilchen permeabel ausgebildet ist.Another object of the present invention is a use of a micromechanical device as a gas sensor, wherein the micromechanical device comprises a membrane. According to a preferred embodiment, it is provided that the membrane is arranged between the first cavern and the surroundings of the micromechanical component. According to a preferred embodiment, it is provided that the membrane is formed semipermeable. According to a preferred development, it is provided that the membrane is not permeable to the first particle and is permeable to the second particle.

Kurze Beschreibung der ZeichnungenBrief description of the drawings

1 zeigt in einer schematischen Darstellung ein mikromechanisches Bauelement mit geöffneter Zugangsöffnung gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 1 shows a schematic representation of a micromechanical device with open access opening according to an exemplary embodiment of the present invention.

2 zeigt in einer schematischen Darstellung das mikromechanische Bauelement gemäß 1 mit verschlossener Zugangsöffnung. 2 shows a schematic representation of the micromechanical device according to 1 with locked access opening.

3 zeigt in einer schematischen Darstellung ein Verfahren zum Herstellen eines mikromechanischen Bauelements gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 3 shows a schematic representation of a method for producing a micromechanical device according to an exemplary embodiment of the present invention.

4 zeigt in einer schematischen Darstellung ein mikromechanisches Bauelement gemäß einer weiteren beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 4 shows a schematic representation of a micromechanical device according to another exemplary embodiment of the present invention.

Ausführungsformen der ErfindungEmbodiments of the invention

In den verschiedenen Figuren sind gleiche Teile stets mit den gleichen Bezugszeichen versehen und werden daher in der Regel auch jeweils nur einmal benannt bzw. erwähnt.In the various figures, the same parts are always provided with the same reference numerals and are therefore usually named or mentioned only once in each case.

In 1 und 2 ist eine schematische Darstellung eines mikromechanischen Bauelements 1 mit geöffneter Zugangsöffnung 11 in 1 und mit verschlossener Zugangsöffnung 11 in 2 gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dargestellt. Hierbei umfasst das mikromechanische Bauelement 1 ein Substrat 3 und eine Kappe 7. Das Substrat 3 und die Kappe 7 sind miteinander, bevorzugt hermetisch, verbunden und umschließen gemeinsam eine erste Kaverne 5. Beispielsweise ist das mikromechanische Bauelement 1 derart ausgebildet, dass das Substrat 3 und die Kappe 7 zusätzlich gemeinsam eine zweite Kaverne umschließen. Die zweite Kaverne ist in 1 und in 2 jedoch nicht dargestellt.In 1 and 2 is a schematic representation of a micromechanical device 1 with opened access opening 11 in 1 and with locked access opening 11 in 2 according to an exemplary embodiment of the present invention. In this case, the micromechanical component comprises 1 a substrate 3 and a cap 7 , The substrate 3 and the cap 7 are connected to each other, preferably hermetically, and together enclose a first cavern 5 , For example, the micromechanical component 1 formed such that the substrate 3 and the cap 7 additionally enclose together a second cavern. The second cavern is in 1 and in 2 but not shown.

Beispielsweise herrscht in der ersten Kaverne 5, insbesondere bei wie in 2 dargestellter verschlossener Zugangsöffnung 11, ein erster Druck. Außerdem ist ein erstes Gasgemisch mit einer ersten chemischen Zusammensetzung in der ersten Kaverne 5 eingeschlossen. Des Weiteren herrscht beispielsweise in der zweiten Kaverne ein zweiter Druck und es ist ein zweites Gasgemisch mit einer zweiten chemischen Zusammensetzung in der zweiten Kaverne eingeschlossen. Bevorzugt ist die Zugangsöffnung 11 in dem Substrat 3 oder in der Kappe 7 angeordnet. Bei dem hier vorliegenden Ausführungsbeispiel ist die Zugangsöffnung 11 beispielhaft in der Kappe 7 angeordnet. Erfindungsgemäß kann es jedoch alternativ hierzu auch vorgesehen sein, dass die Zugangsöffnung 11 in dem Substrat 3 angeordnet ist.For example, prevails in the first cavern 5 , especially at as in 2 illustrated locked access opening 11 , a first print. In addition, a first gas mixture having a first chemical composition in the first cavern 5 locked in. Furthermore, in the second cavern, for example, there is a second pressure and a second gas mixture with a second chemical composition is enclosed in the second cavern. The access opening is preferred 11 in the substrate 3 or in the cap 7 arranged. In the present embodiment, the access opening 11 exemplary in the cap 7 arranged. According to the invention, however, it may alternatively be provided that the access opening 11 in the substrate 3 is arranged.

Beispielsweise ist vorgesehen, dass der erste Druck in der ersten Kaverne 5 geringer ist als der zweite Druck in der zweiten Kaverne. Beispielsweise ist auch vorgesehen, dass in der ersten Kaverne 5 eine in 1 und 2 nicht dargestellte erste mikromechanische Sensoreinheit zur Drehratenmessung und in der zweiten Kaverne eine in 1 und 2 nicht dargestellte zweite mikromechanische Sensoreinheit zur Beschleunigungsmessung angeordnet sind.For example, it is provided that the first pressure in the first cavern 5 is lower than the second pressure in the second cavern. For example, it is also provided that in the first cavern 5 one in 1 and 2 not shown first micromechanical sensor unit for rotation rate measurement and in the second cavity a in 1 and 2 not shown second micromechanical sensor unit are arranged for acceleration measurement.

In 3 ist in einer schematischen Darstellung ein Verfahren zum Herstellen des mikromechanischen Bauelements 1 gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dargestellt. Hierbei wird

  • – in einem ersten Verfahrensschritt 101 die die erste Kaverne 5 mit einer Umgebung 9 des mikromechanischen Bauelements 1 verbindende, insbesondere schmale, Zugangsöffnung 11 in dem Substrat 3 oder in der Kappe 7 ausgebildet. 1 zeigt beispielhaft das mikromechanische Bauelement 1 nach dem ersten Verfahrensschritt 101. Außerdem wird
  • – in einem zweiten Verfahrensschritt 102 der erste Druck und/oder die erste chemische Zusammensetzung in der ersten Kaverne 5 eingestellt bzw. die erste Kaverne 5 mit dem gewünschten Gas und dem gewünschten Innendruck über den Zugangskanal geflutet. Ferner wird beispielsweise
  • – in einem dritten Verfahrensschritt 103 die Zugangsöffnung 11 durch Einbringen von Energie oder Wärme in einen absorbierenden Teil des Substrats 3 oder der Kappe 7 mithilfe eines Lasers verschlossen. Es ist beispielsweise alternativ auch vorgesehen, dass
  • – in dem dritten Verfahrensschritt 103 der Bereich um den Zugangskanal lediglich bevorzugt durch einen Laser lokal erhitzt wird und der Zugangskanal hermetisch verschlossen wird. Somit ist es vorteilhaft möglich, das erfindungsgemäße Verfahren auch mit anderen Energiequellen als mit einem Laser zum Verschließen der Zugangsöffnung 11 vorzusehen. 2 zeigt beispielhaft das mikromechanische Bauelement 1 nach dem dritten Verfahrensschritt 103.
In 3 is a schematic representation of a method for producing the micromechanical device 1 according to an exemplary embodiment of the present invention. This is
  • - in a first step 101 the first cavern 5 with an environment 9 of the micromechanical component 1 connecting, in particular narrow, access opening 11 in the substrate 3 or in the cap 7 educated. 1 shows an example of the micromechanical device 1 after the first process step 101 , In addition, will
  • In a second process step 102 the first pressure and / or the first chemical composition in the first cavern 5 set or the first cavern 5 with the desired gas and the desired internal pressure over the access channel flooded. Further, for example
  • - in a third step 103 the access opening 11 by introducing energy or heat into an absorbent part of the substrate 3 or the cap 7 closed with the help of a laser. For example, it is alternatively provided that
  • - in the third step 103 the area around the access channel is preferably locally heated by a laser and the access channel is hermetically sealed. Thus, it is advantageously possible, the inventive method also with other energy sources than with a laser to close the access opening 11 provided. 2 shows an example of the micromechanical device 1 after the third process step 103 ,

Zeitlich nach dem dritten Verfahrensschritt 103 können in einem in 2 beispielhaft dargestellten lateralen Bereich 15 an einer der Kaverne 5 abgewandten Oberfläche der Kappe 7 sowie in der Tiefe senkrecht zu einer Projektion des lateralen Bereichs 15 auf die Oberfläche, d.h. entlang der Zugangsöffnung 11 und in Richtung der ersten Kaverne 5, des mikromechanischen Bauelements 1 mechanische Spannungen auftreten. Diese mechanischen Spannungen, insbesondere lokale mechanischen Spannungen, herrschen insbesondere an und in der Nähe einer Grenzfläche zwischen einem im dritte n Verfahrensschritt 103 in einen flüssigen Aggregatzustand übergehenden und nach dem dritten Verfahrensschritt 103 in einen festen Aggregatzustand übergehenden und die Zugangsöffnung 11 verschließenden Materialbereich 13 der Kappe 7 und einem während dem dritten Verfahrensschritt 103 in einem festen Aggregatzustand verbleibenden Restbereich der Kappe 7. Hierbei ist in 2 der die Zugangsöffnung 11 verschließende Materialbereich 13 der Kappe 7 lediglich als schematisch anzusehen bzw. schematisch dargestellt, insbesondere hinsichtlich seiner lateralen, insbesondere parallel zu der Oberfläche verlaufenden, Erstreckung bzw. Formgebung und insbesondere hinsichtlich seiner senkrecht zur lateralen Erstreckung, insbesondere senkrecht zu der Oberfläche verlaufenden, Ausdehnung bzw. Konfiguration.Time after the third step 103 can in an in 2 exemplified lateral area 15 at one of the caverns 5 opposite surface of the cap 7 as well as in depth perpendicular to a projection of the lateral area 15 on the surface, ie along the access opening 11 and in the direction of the first cavern 5 , of the micromechanical component 1 mechanical stresses occur. These mechanical stresses, in particular local mechanical stresses, prevail, in particular, at and in the vicinity of an interface between a third process step 103 in a liquid state of aggregation and after the third process step 103 in a solid aggregate state passing and the access opening 11 occlusive material area 13 the cap 7 and one during the third process step 103 in a solid state of matter remaining portion of the cap 7 , Here is in 2 the access opening 11 occlusive material area 13 the cap 7 merely to be regarded as schematic or shown schematically, in particular with regard to its lateral, in particular parallel to the surface extending, extension or shaping and in particular with respect to its perpendicular to the lateral extent, in particular perpendicular to the surface extending, expansion or configuration.

In 4 ist in einer schematischen Darstellung ein mikromechanisches Bauelement gemäß einer weiteren und gemäß einer dritten beispielshaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dargestellt.In 4 is shown in a schematic representation of a micromechanical device according to another and according to a third exemplary embodiment of the present invention.

Beispielsweise wird in einem vierten Verfahrensschritt ein in 4 schematisch dargestelltes Reaktivgas 801 zum weiteren Einstellen des ersten Drucks und/oder der ersten chemischen Zusammensetzung in die erste Kaverne 5 eingebracht wird. Außerdem ist beispielsweise vorgesehen, dass in einem fünften Verfahrensschritt mindestens eine Bindung, insbesondere mindestens eine chemische Bindung, zwischen mindestens einem ersten Teilchen A des Reaktivgases 801 und mindestens einem zweiten Teilchen B eines weiteren Gases 803 herbeigeführt wird. Hierbei ist beispielsweise vorgesehen, dass die mindestens eine Bindung aufgrund von Wechselwirkungen, insbesondere von elektrostatischen Wechselwirkungen, zwischen Elektronen des mindestens einen ersten Teilchens A und des mindestens einen zweiten Teilchens B herbeigeführt wird. Ferner ist beispielsweise auch vorgesehen, dass mithilfe der Bindung ein neues Teilchen C derart hergestellt wird, dass die chemische Zusammensetzung des neuen Teilchens C

  • – ABX oder
  • – AB oder
  • – AXB ist,
wobei x > 1 ist. Schließlich ist beispielsweise vorgesehen, dass das neue Teilchen C derart hergestellt wird, dass das neue Teilchen C in einem festen Aggregatzustand oder in einem flüssigen Aggregatzustand oder in einem gasförmigen Aggregatzustand vorliegt.For example, in a fourth method step, an in 4 schematically illustrated reactive gas 801 for further adjusting the first pressure and / or the first chemical composition into the first cavern 5 is introduced. In addition, it is provided, for example, that in a fifth method step at least one bond, in particular at least one chemical bond, between at least one first particle A of the reactive gas 801 and at least one second particle B of another gas 803 is brought about. In this case, it is provided, for example, that the at least one bond is brought about due to interactions, in particular of electrostatic interactions, between electrons of the at least one first particle A and of the at least one second particle B. Furthermore, it is also provided, for example, that a new particle C is produced by means of the bond in such a way that the chemical composition of the new particle C
  • - AB X or
  • - AB or
  • - A X B is
where x> 1. Finally, it is provided, for example, that the new particle C is prepared such that the new particle C is in a solid state or in a liquid state or in a gaseous state.

Wie in 4 beispielhaft dargestellte, ist das Reaktivgas 801 zum weiteren Einstellen des ersten Drucks und/oder der ersten chemischen Zusammensetzung in der ersten Kaverne 5 eingeschlossen. Hierbei ist beispielsweise vorgesehen, dass ein durch mindestens eine Bindung, insbesondere durch mindestens eine chemische Bindung, zwischen mindestens einem ersten Teilchen A des Reaktivgases 801 und mindestens einem zweiten Teilchen B eines weiteren Gases 803 hergestelltes neues Teilchen C in der ersten Kaverne 5 eingeschlossen ist.As in 4 exemplified, is the reactive gas 801 for further adjusting the first pressure and / or the first chemical composition in the first cavity 5 locked in. Here, for example, it is provided that a by at least one bond, in particular by at least one chemical bond, between at least a first particle A of the reactive gas 801 and at least one second particle B of another gas 803 produced new particle C in the first cavern 5 is included.

Beispielsweise ist erfindungsgemäß vorgesehen, den Kaverneninnendruck bzw. den ersten Druck in der ersten Kaverne 5 über eine chemische Reaktion des Verschlussgases bzw. des Reaktivgases 801 mit einer weiteren Komponente wir beispielsweise einem weiteren Gas 803 zu steuern. Erfindungsgemäß ist dies insbesondere für verschiedene Zielsetzungen vorgesehen, je nach Zielsetzung unterschiedliche Anforderungen sowohl die Reaktanten bzw. an das Reaktivgas 801 und das weitere Gas 803 als auch an die Reaktionsprodukte bzw. ein das neue Teilchen C umfassende neue Phase gelten.For example, the cavern internal pressure or the first pressure in the first cavern is provided according to the invention 5 via a chemical reaction of the closing gas or the reactive gas 801 with another component we, for example, another gas 803 to control. According to the invention, this is provided in particular for different objectives, depending on the objective of different requirements both the reactants or to the reactive gas 801 and the other gas 803 and to the reaction products or a new phase comprising the new particle C apply.

Beispielsweise sind die folgenden Zielsetzungen vorgesehen:

  • – Zielsetzung 1: Stabilisierung des Innendruckes über Lebenszeit
  • – Zielsetzung 2: Gezieltes Einstellen des Innendruckes / der Drehratensensorgüte beim Bondprozess bei geringen Drücken
  • – Zielsetzung 3: Erzeugen eines Hochgüte Systems unter Verwendung eines Standard Bondverfahrens
  • – Zielsetzung 4: Hochempfindlicher und selektiver Gassensor
For example, the following objectives are foreseen:
  • - Objective 1: stabilization of internal pressure over lifetime
  • - Objective 2: Selective adjustment of the internal pressure / yaw sensor quality during the bonding process at low pressures
  • Objective 3: Create a high quality system using a standard bonding method
  • - Objective 4: Highly sensitive and selective gas sensor

Zu Zielsetzung 1:Goal 1:

In 4 sind verschiedene Quellen für Gase bzw. für weitere Gase 803 beispielhaft dargestellt, wobei die weiteren Gase 803 beispielsweise über die Lebenszeit des mikromechanischen Bauelements 1 den Innendruck der Kaverne bzw. den ersten Druck der ersten Kaverne 5 verändern können. Diese weiteren Gase 803 können beispielsweise von innerhalb der Kaverne kommen, wie beispielsweise Ausgasungen, oder beispielsweise extern in die Kaverne bzw. in die erste Kaverne 5 eindringen, wie beispielsweise Gasdiffusion oder Mini Leckpfade. Hierbei umfasst das weitere Gas 803 beispielsweise Ausgasungen und/oder Gasdiffusion in die erste Kaverne 5 hinein. Hierbei ist es beispielsweise vorgesehen, dass das Reaktivgas 801 so gewählt wird, dass das Reaktivgas 801 mit den zusätzlich in der Kaverne bzw. der ersten Kaverne 5 über Lebenszeit auftretenden Gasen bzw. mit den weiteren Gasen 803 derart reagiert, dass die Gesamtgasteilchenzahl nach der Reaktion gleich der Teilchenanzahl des Reaktivgases 801 bzw. der ersten Teilchen vor der Reaktion ist. Dies ist insbesondere daher möglich, da bei idealen Gasen die Gesamtteilchenanzahl den Druck mit definiert, welcher über Lebenszeit konstant bleiben soll. Beispielsweise ist vorgesehen, dass die Reaktion bzw. die Reaktionsgleichung A + B → AB oder A + x·B → ABx lautet, wobei
AB und ABx gasförmig sind bzw. in einem gasförmigen Aggregatzustand vorliegen. Beispielsweise ist auch vorgesehen, dass die in der ersten Kaverne 5 eingeschlossene Gasteilchenzahl nach der Reaktion im Wesentlichen der initialen bzw. der vor der Reaktion in der ersten Kaverne 5 vorliegenden Gasteilchenzahl des Reaktivgases 801 entspricht.
In 4 are different sources of gases or other gases 803 exemplified, wherein the other gases 803 for example, over the lifetime of the micromechanical device 1 the internal pressure of the cavern or the first pressure of the first cavern 5 can change. These other gases 803 For example, they can come from within the cavern, such as outgassing, or, for example, externally into the cavern or into the first cavern 5 penetrate, such as gas diffusion or mini leak paths. This includes the additional gas 803 For example, outgassing and / or gas diffusion into the first cavern 5 into it. It is provided, for example, that the reactive gas 801 is chosen so that the reactive gas 801 with the addition in the cavern or the first cavern 5 over lifetime occurring gases or with the other gases 803 such that the total gas particle number after the reaction is equal to the number of particles of the reactive gas 801 or the first particle before the reaction. This is especially possible because with ideal gases the total particle number defines the pressure which should remain constant over lifetime. For example, it is provided that the reaction or the reaction equation is A + B → AB or A + x * B → AB x , where
AB and AB x are gaseous or present in a gaseous state. For example, it is also provided that in the first cavern 5 included gas particle number after the reaction substantially the initial or before the reaction in the first cavern 5 present gas particle number of the reactive gas 801 equivalent.

Zu Zielsetzung 2:Goal 2:

Beispielsweise kommt es beim und/oder nach dem Bonden zu Ausgasungen, welche in der Kaverne bzw. in der ersten Kaverne 5 einen anderen Druck bzw. den ersten Druck hinterlassen, welcher sich von einem Druck unterscheidet, welcher beim Bondprozess eingestellt wurde bzw. welcher beim Bondprozess in der Umgebung 9 herrschte. Hierbei umfasst das weitere Gas 803 beispielsweise Ausgasungen beim Bondprozess. Beispielsweise schwankt die Menge der Ausgasungen relativ stark über den Prozess bzw. den Bondprozess, was dazu führen kann dass die Güte mikromechanischer Bauelemente 1 über einen großen Wertebereich schwankt. Mit dem gezielten Einschluss eines Reaktivgases 801, wobei ein geringer Partialdruck für hohe Güte bevorzugt ist, wird beispielsweise die Zielgüte definiert bzw. eingestellt. Ausgasungen während des bzw. nach dem Bondprozess werden beispielsweise vollständig von dem Reaktivgas 801 gebunden. Um möglichst hohe Güten erreichen zu können, ist beispielsweise vorgesehen, dass der Partialdruck des Reaktivgases möglichst gering ist, das Reaktivgas jedoch auch genügend Aufnahmekapazität für Ausgasungen hat. Um beides erfüllen zu können, ist beispielsweise vorgesehen, dass das Reaktivgasteilchen bzw. das erste Teilchen A mit den ausgasenden Gasteilchen bzw. mit den zweiten Teilchen B derart reagiert, dass ein Reaktivgasteilchen bzw. das erste Teilchen A mehrere Teilchen der ausgasenden Substanz bzw. mehrere zweite Teilchen B aufnimmt. Beispielsweise ist vorgesehen, dass die Reaktion bzw. die Reaktionsgleichung A + x·B → ABx lautet, wobei AB und ABx gasförmig sind bzw. in einem gasförmigen Aggregatzustand vorliegen. Beispielsweise ist hierbei vorgesehen, dass x >= 1 ist. Beispielsweise ist auch vorgesehen, dass die in der ersten Kaverne 5 eingeschlossene Gasteilchenzahl nach der Reaktion im Wesentlichen der initialen bzw. der vor der Reaktion in der ersten Kaverne 5 vorliegenden Gasteilchenzahl des Reaktivgases 801 entspricht.For example, during and / or after bonding, outgassing occurs in the cavern or in the first cavern 5 leave a different pressure or the first pressure, which differs from a pressure that was set during the bonding process or which in the bonding process in the environment 9 prevailed. This includes the additional gas 803 For example, outgassing during the bonding process. For example, the amount of outgassing fluctuates relatively strongly over the process or the bonding process, which can lead to the quality of micromechanical components 1 fluctuates over a large value range. With the targeted inclusion of a reactive gas 801 , where a low partial pressure is preferred for high quality, for example, the target quality is defined or adjusted. Outgassing during and after the bonding process, for example, completely from the reactive gas 801 bound. In order to achieve the highest possible quality, it is provided, for example, that the partial pressure of the reactive gas is as low as possible, but the reactive gas also has sufficient absorption capacity for outgassing. In order to be able to fulfill both, it is provided, for example, that the reactive gas particle or the first particle A reacts with the outgassing gas particles or with the second particles B such that a reactive gas particle or the first particle A comprises a plurality of particles of the outgassing substance or more second particle B absorbs. For example, it is provided that the reaction or the reaction equation A · x + B → AB x reads, where AB and AB are x in gaseous form or are present in a gaseous aggregate state. For example, it is provided here that x> = 1. For example, it is also provided that in the first cavern 5 included gas particle number after the reaction substantially the initial or before the reaction in the first cavern 5 present gas particle number of the reactive gas 801 equivalent.

Zu Zielsetzung 3:Goal 3:

Beispielsweise kommt es beim und/oder nach dem Bonden zu Ausgasungen, welche in der Kaverne bzw. in der ersten Kaverne 5 einen anderen Druck bzw. den ersten Druck hinterlassen, welcher sich von einem Druck unterscheidet, welcher beim Bondprozess eingestellt wurde bzw. welcher beim Bondprozess in der Umgebung 9 herrschte. Hierbei umfasst das weitere Gas 803 beispielsweise Ausgasungen beim Bondprozess. Dies führt beispielsweise zu einer signifikant niedrigeren Güte als der Prozessdruck beim Bonden eigentlich erzeugen würde. Mit dem gezielten Einschluss eines Reaktivgases 801, wobei beispielsweise der Partialdruck dahingehend optimiert ist, dass die ausgasende Teilchenmenge bzw. die Menge der zweiten Teilchen möglichst vollständig durch die Reaktion verbraucht wird. Mit anderen Worten ist beispielsweise vorgesehen, dass möglichst viele zweite Teilchen während der Reaktion mit ersten Teilchen reagieren. Beispielsweise wird, insbesondere damit die zurückbleibende Reaktivgasmenge bzw. Anzahl der ersten Teilchen einen möglichst geringen Druck bzw. eine möglichst hohe Güte verursacht, ein Reaktivgas 801 verwendet, welches in der Lage ist, mehrere Gasteilchen des ausgasenden Gases bzw. mehrere zweite Teilchen zu binden. Hierdurch werden beispielsweise die Gasteilchen aus Ausgasungen bzw. die zweiten Teilchen möglichst vollständig gebunden und fallen beispielsweise als Feststoff aus. Mit anderen Worten ist das neue Teilchen C in einem festen Aggregatzustand. Hierdurch wird vorteilhaft erreicht, dass die ersten Teilchen und die zweiten Teilchen nicht mehr zum Gasdruck bzw. zum ersten Druck beitragen. Um möglichst hohe Güten erreichen zu können, ist beispielsweise vorgesehen, dass der Partialdruck des Reaktivgases 801 nach der Reaktion möglichst bzw. geringer als der Partialdruck des Reaktivgases 801 vor der Reaktion in der ersten Kaverne 5 bzw. geringer als der Partialdruck des weiteren Gases 803 in der ersten Kaverne 5 – vor und/oder nach der Reaktion – bzw. geringer als der Partialdruck des Reaktivgases 801 in der zweiten Kaverne und/oder in der Umgebung 9 bzw. geringer als der Partialdruck des weiteren Gases 803 in der zweiten Kaverne und/oder in der Umgebung 9 ist. Beispielsweise ist jedoch auch vorgesehen, dass das beim Bonden eingeschlossene Reaktivgas 801 genügend Aufnahmekapazität für Ausgasungen bzw. weitere Gase 803 hat. Um beides erfüllen zu können, ist beispielsweise vorgesehen, dass das Reaktivgasteilchen bzw. das erste Teilchen mit den ausgasenden Gasteilchen bzw. zweiten Teilchen derart reagiert, dass ein Reaktivgasteilchen bzw. ein erstes Teilchen mehrere Teilchen der ausgasenden Substanz bzw. mehrere zweite Teilchen aufnimmt. Beispielsweise ist vorgesehen, dass die Reaktion bzw. die Reaktionsgleichung A + x·B → ABx lautet, wobei AB bzw. ABx fest sind bzw. in einem festen Aggregatzustand vorliegen. Beispielsweise ist hierbei vorgesehen, dass x >= 1 ist. Beispielsweise ist auch vorgesehen, dass die Gasmenge des Reaktivgases 801 derart auf die beim Bonden ausgasende Menge des weiteren Gases 803 abgestimmt ist, dass zeitlich nach der Reaktion die in der ersten Kaverne 5 verbleibende Gasteilchenzahl minimal ist. Beispielsweise ist hierbei vorgesehen, dass das Reaktivgas 801 und/oder das weitere Gas im Wesentlichen vollständig in einen Feststoff umgewandelt vorliegen.For example, during and / or after bonding, outgassing occurs in the cavern or in the first cavern 5 leave a different pressure or the first pressure, which differs from a pressure that was set during the bonding process or which in the bonding process in the environment 9 prevailed. This includes the additional gas 803 For example, outgassing during the bonding process. For example, this results in a significantly lower quality than the process pressure would actually produce when bonding. With the targeted inclusion of a reactive gas 801 , For example, wherein the partial pressure is optimized so that the outgassing particle or the amount of the second particles is consumed as completely as possible by the reaction. In other words, for example, it is provided that as many second particles as possible react with the first particles during the reaction. For example, in particular so that the remaining amount of reactive gas or number of first particles causes the lowest possible pressure or the highest possible quality, a reactive gas 801 used, which is able to bind a plurality of gas particles of the outgassing gas or a plurality of second particles. As a result, for example, the gas particles from outgassing or the second particles are bound as completely as possible and, for example, precipitate out as a solid. In other words, the new particle C is in a solid state of matter. This advantageously achieves that the first Particles and the second particles no longer contribute to the gas pressure or the first pressure. In order to achieve the highest possible quality, it is provided, for example, that the partial pressure of the reactive gas 801 after the reaction as low as possible or lower than the partial pressure of the reactive gas 801 before the reaction in the first cavern 5 or less than the partial pressure of the other gas 803 in the first cavern 5 - Before and / or after the reaction - or less than the partial pressure of the reactive gas 801 in the second cavern and / or in the surroundings 9 or less than the partial pressure of the other gas 803 in the second cavern and / or in the surroundings 9 is. For example, however, it is also provided that the enclosed during bonding reactive gas 801 sufficient absorption capacity for outgassing or other gases 803 Has. In order to be able to fulfill both, provision is made, for example, for the reactive gas particle or the first particle to react with the outgassing gas particles or second particles such that a reactive gas particle or a first particle absorbs a plurality of particles of the outgassing substance or a plurality of second particles. For example, it is provided that the reaction or the reaction equation is A + x.b → AB x , where AB or AB x are fixed or are present in a solid state of matter. For example, it is provided here that x> = 1. For example, it is also provided that the gas quantity of the reactive gas 801 so on the outgassing during bonding amount of other gas 803 is tuned that in time after the reaction in the first cavern 5 remaining gas particle number is minimal. For example, it is provided here that the reactive gas 801 and / or the further gas is substantially completely converted into a solid.

Zu Zielsetzung 4:Goal 4:

Beispielsweise ermöglicht ein Drehratensensor über eine Gütemessung eine hochempfindliche Messung des Innendruckes der Sensorkaverne bzw. des ersten Drucks der ersten Kaverne 5. Hierbei umfasst das weitere Gas 803 beispielsweise ein Gas, das detektiert werden soll. Führt beispielsweise ein in die Kaverne bzw. in die erste Kaverne 5 eintretendes Gas bzw. weiteres Gas 803 zu einer Änderung des Gesamtinnendruckes bzw. des ersten Drucks, lässt sich dies bzw. die Druckänderung mit einer sehr hohen Präzision messen. Wird beispielsweise der Sensor mit einer Membran versehen, die nur für ein zu detektierendes Gas bzw. für das weitere Gas 803 durchlässig ist, ist das eintretende Gas bzw. das weitere Gas 803 über den ansteigenden Druck bzw. über die sinkende Güte direkt messbar. Hierbei ist beispielsweise vorgesehen, dass das eintretende Gas bzw. das weitere Gas 803 mit dem in der Kaverne bzw. in der ersten Kaverne 5 eingeschlossenen Reaktivgas 801 derart reagiert, dass das Endprodukt bzw. ein mindestens ein neues Teilchen C umfassendes Produkt als Feststoff ausfällt. Hierdurch wird vorteilhaft ermöglicht, dass der Druck bzw. der erste Druck sinkt und die Güte steigt. Ein geringerer Druck ist insbesondere deshalb vorteilhaft gegenüber einem höheren Druck, da die Druckmessung bei geringeren Drücken präziser möglich ist. Mit anderen Worten ist ein Vorteil gegenüber ansteigendem Druck, dass die Druckmessung umso empfindlicher ausfällt, je höher die Güte ist. Ferner ist beispielsweise vorgesehen, dass das Reaktivgas 801 lediglich mit dem weiteren Gas 803 reagiert bzw. dass die Bindung nur zwischen dem mindestens einen ersten Teilchen und dem mindestens einen zweiten Teilchen herbeiführbar ist. Mit anderen Worten ist beispielsweise vorgesehen, dass durch die Wahl des Reaktivgases 801 sichergestellt wird, dass das Reaktivgas 801 nur mit einer bestimmten Gassorte bzw. mit dem weiteren Gas 803 reagiert. Beispielsweise bedeutet das, dass selbst wenn andere Gasarten bzw. dritte Gase ungewollt in die Kaverne bzw. in die erste Kaverne 5 eintreten, nur die zu detektierende Gasart bzw. nur das weitere Gas zu einem Absinken des Innendrucks in der ersten Kaverne 5 bzw. des ersten Drucks bzw. zu einem Ansteigen der Güte führt. Hierdurch ist es vorteilhaft möglich, dass der Sensor selektiv gegenüber der zu detektierende Gasart bzw. gegenüber des weiteren Gases 803 ist. Insbesondere ist hierdurch sichergestellt, dass der Sensor durch die Membran und durch das Reaktivgas doppelt abgesichert ist.For example, a rotation rate sensor via a quality measurement allows a highly sensitive measurement of the internal pressure of the sensor cavern or of the first pressure of the first cavern 5 , This includes the additional gas 803 for example, a gas to be detected. For example, leads into the cavern or into the first cavern 5 entering gas or further gas 803 to a change in the total internal pressure or the first pressure, this or the pressure change can be measured with a very high precision. If, for example, the sensor is provided with a membrane which is only suitable for a gas to be detected or for the additional gas 803 is permeable, is the incoming gas or the other gas 803 directly measurable via the increasing pressure or via the sinking quality. In this case, for example, it is provided that the entering gas or the further gas 803 with the one in the cavern or in the first cavern 5 enclosed reactive gas 801 reacts such that the final product or at least one new particle C comprehensive product precipitates as a solid. This advantageously allows the pressure or the first pressure to drop and the quality to increase. A lower pressure is therefore particularly advantageous over a higher pressure, since the pressure measurement at lower pressures is more precise possible. In other words, an advantage over increasing pressure is that the higher the grade, the more sensitive the pressure measurement. Furthermore, it is provided, for example, that the reactive gas 801 only with the other gas 803 reacts or that the binding can be brought about only between the at least one first particle and the at least one second particle. In other words, for example, it is provided that by the choice of the reactive gas 801 it is ensured that the reactive gas 801 only with a certain type of gas or with the other gas 803 responding. For example, this means that even if other types of gas or third gases inadvertently into the cavern or in the first cavern 5 enter, only the gas to be detected or only the other gas to a decrease in the internal pressure in the first cavern 5 or the first pressure or leads to an increase in the quality. As a result, it is advantageously possible for the sensor to be selective with respect to the type of gas to be detected or relative to the further gas 803 is. In particular, this ensures that the sensor is double-fused by the membrane and by the reactive gas.

Beispielsweise ist es möglich durch eine zeitliche Überlagerung zweier gegeneinander wirkender Effekte, nämlich einer Druckerhöhung aufgrund eines Eintretens des weiteren Gases 803 in die erste Kaverne 5 und einer Drucksenkung aufgrund der Bildung des neuen Teilchens C, gezielt das weitere Gas 803 zu detektieren. Dies ist vorteilhaft selbst dann möglich, wenn dritte Gase in die Kaverne 5 gelangen und/oder wenn eine Reaktion dritter Teilchen des dritten Gases mit ersten Teilchen des Reaktivgases 801 dazu führt, dass die an der Reaktion beteiligten dritten Teilchen nicht mehr zu dem ersten Druck bzw. zu dem Partialdruck des dritten Gases beitragen. For example, it is possible by a temporal superposition of two mutually acting effects, namely an increase in pressure due to an entry of the further gas 803 in the first cavern 5 and a pressure reduction due to the formation of the new particle C, specifically the other gas 803 to detect. This is advantageous even possible if third gases enter the cavern 5 arrive and / or if a reaction of third particles of the third gas with first particles of the reactive gas 801 As a result, the third particles involved in the reaction no longer contribute to the first pressure or to the partial pressure of the third gas.

Des Weiteren ist beispielsweise auch vorgesehen, dass nach vollständiger Absättigung des Reaktivgases 801 eine Art Reset gefahren wird. Hierdurch wird vorteilhaft ermöglicht, dass der Sensor bzw. das mikromechanische Bauelement 1 immer wieder bzw. über einen langen Zeitraum zum Detektieren verwendet werden kann. Beispielsweise ist vorgesehen, dass in dem Fahren des Reset der Sensor hochgeheizt wird. Mit anderen Worten wird während des Resets die Temperatur des mikromechanischen Bauelements 1, insbesondere gegenüber der Raumtemperatur, erhöht. Beispielsweise ist vorgesehen, dass die Temperatur des mikromechanischen Bauelements auf eine Temperatur in einem Bereich zwischen 100°C und 500°C erhöht wird. Beispielsweise wird durch das Hochheizen des Sensors das Endprodukt bzw. das neue Telchen wieder in die beiden Reaktanten bzw. das erste Teilchen A und das zweite Teilchen B zerfällt. Hierbei ist beispielsweise vorgesehen, dass das zu detektierende Gas bzw. das weitere Gas 803 durch die Membran wieder ausgetrieben wird. Beispielsweise ist zusätzlich oder alternativ vorgesehen, dass zeitlich nach der Reaktion zwischen dem Reaktivgas 801 und dem weiteren Gas 803 weiteres Reaktivgas 801 in die erste Kaverne 5 eingebracht wird bzw. dass der vierte Verfahrensschritt ein weiteres Mal bzw. weitere Male zeitlich nach dem fünften Verfahrensschritt durchgeführt wird. Mit anderen Worten wird eine Erneuerung des Reaktivgases 801 durchgeführt. Hierfür ist beispielsweise vorgesehen, dass Anschlüsse o.ä. an die Drehratensensorkaverne bzw. die erste Kaverne 5 angeschlossen werden.Furthermore, it is also provided, for example, that after complete saturation of the reactive gas 801 a kind of reset is driven. This advantageously makes it possible for the sensor or the micromechanical component 1 can be used again and again for a long time to detect. For example, it is provided that in the driving of the reset, the sensor is heated up. In other words, during the reset, the temperature of the micromechanical device becomes 1 , in particular with respect to the room temperature, increased. For example, it is provided that the temperature of the micromechanical component is increased to a temperature in a range between 100 ° C and 500 ° C. For example, by the heating of the sensor is the End product or the new Telchen again into the two reactants or the first particle A and the second particle B decomposes. In this case, for example, it is provided that the gas to be detected or the further gas 803 is expelled through the membrane again. For example, it is additionally or alternatively provided that the time after the reaction between the reactive gas 801 and the other gas 803 another reactive gas 801 in the first cavern 5 is introduced or that the fourth process step is performed a further time or more times after the fifth process step. In other words, a renewal of the reactive gas 801 carried out. For this example, it is provided that connections o.ä. to the rotation sensor sensor cavern or the first cavern 5 be connected.

Beispielsweise ist auch vorgesehen, dass möglichst viele Reaktivgasteilchen bzw. erste Teilchen mit dem Detektiergasteilchen bzw. mit einem zweiten Teilchen reagieren bzw. eine Bindung herbeiführen. Hierdurch wird vorteilhaft eine besonders hohe Empfindlichkeit des Sensors erreicht.For example, it is also provided that as many reactive gas particles or first particles as possible react with the Detektiergasteilchen or with a second particle or bring about a bond. As a result, a particularly high sensitivity of the sensor is advantageously achieved.

Beispielsweise ist vorgesehen, dass die Reaktion bzw. die Reaktionsgleichung x·A + B → AxB lautet, wobei AXB bzw. AB fest sind bzw. in einem festen Aggregatzustand vorliegen. Beispielsweise ist hierbei vorgesehen, dass x >= 1 ist. Beispielsweise ist auch vorgesehen, dass beim Hochheizen bzw. beim Reset bzw. beim Fahren des Resets die Reaktion bzw. die Reaktionsgleichung AxB → (Hitze) → A + x·B lautet. Beispielsweise ist auch vorgesehen, dass das Reaktivgas 801 mit dem weiteren Gas 803 reagiert und dass dadurch der Gesamtdruck in der ersten Kaverne 5 bzw. der erste Druck effektiv reduziert wird.For example, it is provided that the reaction or the reaction equation x · A + B → A x B is wherein A is X B or AB are fixed or are present in a solid state. For example, it is provided here that x> = 1. For example, it is also provided that during the heating up or during the reset or while driving the reset, the reaction or the reaction equation is A x B → (heat) → A + x · B. For example, it is also provided that the reactive gas 801 with the other gas 803 reacts and that thereby the total pressure in the first cavern 5 or the first pressure is effectively reduced.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • WO 2015/120939 A1 [0002, 0003, 0004] WO 2015/120939 A1 [0002, 0003, 0004]
  • US 8546928 B2 [0006] US 8546928 B2 [0006]
  • US 2015/0158720 A1 [0006] US 2015/0158720 A1 [0006]
  • US 8513747 B1 [0006] US 8513747 B1 [0006]
  • US 7739900 B2 [0006] US 7739900 B2 [0006]

Claims (11)

Verfahren zum Herstellen eines mikromechanischen Bauelements (1) mit einem Substrat (3) und mit einer mit dem Substrat (3) verbundenen und mit dem Substrat (3) eine erste Kaverne (5) umschließenden Kappe (7), wobei in der ersten Kaverne (5) ein erster Druck herrscht und ein erstes Gasgemisch mit einer ersten chemischen Zusammensetzung eingeschlossen ist, wobei – in einem ersten Verfahrensschritt (101) eine die erste Kaverne (5) mit einer Umgebung (9) des mikromechanischen Bauelements (1) verbindende Zugangsöffnung (11) in dem Substrat (3) oder in der Kappe (7) ausgebildet wird, wobei – in einem zweiten Verfahrensschritt (102) der erste Druck und/oder die erste chemische Zusammensetzung in der ersten Kaverne (5) eingestellt wird, wobei – in einem dritten Verfahrensschritt (103) die Zugangsöffnung (11) durch Einbringen von Energie oder Wärme in einen absorbierenden Teil des Substrats (3) oder der Kappe (7) mithilfe eines Lasers verschlossen wird, dadurch gekennzeichnet, dass in einem vierten Verfahrensschritt ein Reaktivgas (801) zum weiteren Einstellen des ersten Drucks und/oder der ersten chemischen Zusammensetzung in die erste Kaverne (5) eingebracht wird.Method for producing a micromechanical component ( 1 ) with a substrate ( 3 ) and one with the substrate ( 3 ) and with the substrate ( 3 ) a first cavern ( 5 ) enclosing cap ( 7 ), whereas in the first cavern ( 5 ) there is a first pressure and a first gas mixture is included with a first chemical composition, wherein - in a first process step ( 101 ) one the first cavern ( 5 ) with an environment ( 9 ) of the micromechanical device ( 1 ) connecting access opening ( 11 ) in the substrate ( 3 ) or in the cap ( 7 ) is formed, wherein - in a second process step ( 102 ) the first pressure and / or the first chemical composition in the first cavern ( 5 ), wherein - in a third process step ( 103 ) the access opening ( 11 by introducing energy or heat into an absorbent part of the substrate ( 3 ) or the cap ( 7 ) is closed by means of a laser, characterized in that in a fourth process step, a reactive gas ( 801 ) for further setting the first pressure and / or the first chemical composition in the first cavern ( 5 ) is introduced. Verfahren nach Anspruch 1, wobei in einem fünften Verfahrensschritt mindestens eine Bindung, insbesondere mindestens eine chemische Bindung, zwischen mindestens einem ersten Teilchen (A) des Reaktivgases (801) und mindestens einem zweiten Teilchen (B) eines weiteren Gases (803) herbeigeführt wird.Process according to claim 1, wherein in a fifth process step at least one bond, in particular at least one chemical bond, between at least one first particle (A) of the reactive gas ( 801 ) and at least one second particle (B) of another gas ( 803 ) is brought about. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die mindestens eine Bindung aufgrund von Wechselwirkungen, insbesondere von elektrostatischen Wechselwirkungen, zwischen Elektronen des mindestens einen ersten Teilchens (A) und des mindestens einen zweiten Teilchens (B) herbeigeführt wird.Method according to one of the preceding claims, wherein the at least one bond due to interactions, in particular of electrostatic interactions, between electrons of the at least one first particle (A) and the at least one second particle (B) is brought about. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei mithilfe der Bindung ein neues Teilchen (C) derart hergestellt wird, dass die chemische Zusammensetzung des neuen Teilchens (C) – ABX oder – AB oder – AXB ist, wobei x > 1 ist.Method according to one of the preceding claims, wherein the bond is used to produce a new particle (C) such that the chemical composition of the new particle (C) is - AB X or - AB or - A X B, where x> 1. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das neue Teilchen (C) derart hergestellt wird, dass das neue Teilchen (C) in einem festen Aggregatzustand oder in einem flüssigen Aggregatzustand oder in einem gasförmigen Aggregatzustand vorliegt.A process according to any one of the preceding claims, wherein the new particle (C) is prepared such that the new particle (C) is in a solid state or in a liquid state or in a gaseous state. Mikromechanisches Bauelement (1) mit einem Substrat (3) und mit einer mit dem Substrat (3) verbundenen und mit dem Substrat (3) eine erste Kaverne (5) umschließenden Kappe (7), wobei in der ersten Kaverne (5) ein erster Druck herrscht und ein erstes Gasgemisch mit einer ersten chemischen Zusammensetzung eingeschlossen ist, wobei das Substrat (3) oder die Kappe (7) eine verschlossene Zugangsöffnung (11) umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass ein Reaktivgas (801) zum weiteren Einstellen des ersten Drucks und/oder der ersten chemischen Zusammensetzung in der ersten Kaverne (5) eingeschlossen ist.Micromechanical device ( 1 ) with a substrate ( 3 ) and one with the substrate ( 3 ) and with the substrate ( 3 ) a first cavern ( 5 ) enclosing cap ( 7 ), whereas in the first cavern ( 5 ) is a first pressure and a first gas mixture is included with a first chemical composition, wherein the substrate ( 3 ) or the cap ( 7 ) a locked access opening ( 11 ), characterized in that a reactive gas ( 801 ) for further adjusting the first pressure and / or the first chemical composition in the first cavern ( 5 ) is included. Mikromechanisches Bauelement (1) nach Anspruch 6, wobei ein durch mindestens eine Bindung, insbesondere durch mindestens eine chemische Bindung, zwischen mindestens einem ersten Teilchen (A) des Reaktivgases (801) und mindestens einem zweiten Teilchen (B) eines weiteren Gases (803) hergestelltes neues Teilchen (C) in der ersten Kaverne (5) eingeschlossen ist. Micromechanical device ( 1 ) according to claim 6, wherein a by at least one bond, in particular by at least one chemical bond, between at least a first particle (A) of the reactive gas ( 801 ) and at least one second particle (B) of another gas ( 803 ) prepared new particle (C) in the first cavity ( 5 ) is included. Mikromechanisches Bauelement (1) nach Anspruch 6 oder 7, wobei die chemische Zusammensetzung des neuen Teilchens (C) – ABX oder – AB oder – AXB ist, wobei x > 1 ist.Micromechanical device ( 1 ) according to claim 6 or 7, wherein the chemical composition of the new particle (C) - AB X or - AB or - A X B, where x> 1. Mikromechanisches Bauelement (1) nach Anspruch 6, 7 oder 8, wobei die Kappe (7) mit dem Substrat (3) eine zweite Kaverne umschließt, wobei in der zweiten Kaverne ein zweiter Druck herrscht und ein zweites Gasgemisch mit einer zweiten chemischen Zusammensetzung eingeschlossen ist.Micromechanical device ( 1 ) according to claim 6, 7 or 8, wherein the cap ( 7 ) with the substrate ( 3 ) enclosing a second cavern, wherein in the second cavern, a second pressure prevails and a second gas mixture is included with a second chemical composition. Mikromechanisches Bauelement (1) nach Anspruch 6, 7, 8 oder 9, wobei der erste Druck geringer als der zweite Druck ist, wobei in der ersten Kaverne (5) eine erste Sensoreinheit zur Drehratenmessung und in der zweiten Kaverne eine zweite Sensoreinheit zur Beschleunigungsmessung angeordnet ist.Micromechanical device ( 1 ) according to claim 6, 7, 8 or 9, wherein the first pressure is less than the second pressure, wherein in the first cavern ( 5 ) is arranged a first sensor unit for rotation rate measurement and in the second cavern, a second sensor unit for measuring acceleration. Verwendung eines mikromechanischen Bauelements (1) nach Anspruch 6, 7, 8, 9, oder 10 als Gassensor, wobei das mikromechanische Bauelement (1) eine Membran umfasst.Use of a micromechanical component ( 1 ) according to claim 6, 7, 8, 9 or 10 as a gas sensor, wherein the micromechanical component ( 1 ) comprises a membrane.
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