DE102015217603A1 - Illumination optics for projection lithography - Google Patents

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Bastiaan Matthias Mertens
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Abstract

Eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie dient zur Beleuchtung eines Objektfeldes (8), in dem ein abzubildendes Objekt (12) anordenbar ist, längs eines Beleuchtungs-Strahlengangs. Ein erster Facettenspiegel (6) hat erste Facetten (21) zur reflektierenden Führung von Beleuchtungslicht (3) und zur Anordnung in einem Nutzbereich eines Fernfeldes einer EUV-Lichtquelle. Ein zweiter Facettenspiegel (7) dient zur reflektierenden Führung des vom ersten Facettenspiegel (6) reflektierten Beleuchtungslichts (3) hin zum Objektfeld (8). Der zweite Facettenspiegel (7) hat zweite Facetten (25) zur Führung jeweils eines Beleuchtungslicht-Teilbündels (26) in das Objektfeld (8). Der erste Facettenspiegel (6) ist in einer Feldebene (6a) der Beleuchtungsoptik angeordnet. Der zweite Facettenspiegel (7) ist beabstandet von einer Feldebene (6a) und von einer Pupillenebene (12b) der Beleuchtungsoptik angeordnet. Die beiden Facettenspiegel (6, 7) sind so zueinander angeordnet, dass zumindest einige der Beleuchtungslicht-Teilbündel (26) über erste Facetten (21) des ersten Facettenspiegels (6) mit nahtlos zusammenhängenden Reflexionsflächen geführt werden. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik ohne die zwingende Notwendigkeit des Einsatzes eines MEMS-Spiegels als ersten Facettenspiegel.An illumination optical system for projection lithography is used to illuminate an object field (8), in which an object (12) to be imaged can be arranged, along an illumination beam path. A first facet mirror (6) has first facets (21) for reflecting illumination light (3) and for arrangement in a useful area of a far field of an EUV light source. A second facet mirror (7) serves for the reflective guidance of the illumination light (3) reflected by the first facet mirror (6) towards the object field (8). The second facet mirror (7) has second facets (25) for guiding respectively one illumination light sub-beam (26) into the object field (8). The first facet mirror (6) is arranged in a field plane (6a) of the illumination optics. The second facet mirror (7) is arranged at a distance from a field plane (6a) and from a pupil plane (12b) of the illumination optics. The two facet mirrors (6, 7) are arranged relative to one another such that at least some of the illuminating light partial bundles (26) are guided via first facets (21) of the first facet mirror (6) with seamlessly connected reflection surfaces. The result is an illumination optics without the compelling need to use a MEMS mirror as the first facet mirror.

Description

Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie. Ferner betrifft die Erfindung ein optisches System mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, ein Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen optischen System, ein Verfahren zur Herstellung eines mikrobeziehungsweise nanostrukturierten Bauteils, ein Verfahren zur Bestimmung einer Blendenkörper-Konfiguration mindestens einer Blende in einer derartigen Beleuchtungsoptik sowie ein mit dem Herstellungsverfahren hergestelltes Bauteil. The invention relates to an illumination optical system for projection lithography. Furthermore, the invention relates to an optical system with such an illumination optical system, an illumination system with such an illumination optical system, a projection exposure apparatus with such an optical system, a method for producing a microstructured nanostructured component, a method for determining a diaphragm body configuration of at least one diaphragm in such Illumination optics and a manufactured with the manufacturing process component.

Eine Beleuchtungsoptik mit einer Übertragungsoptik und mindestens einem nachgeordneten Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel ist bekannt aus der WO 2015/036226 A1 , der WO 2010/099807 A1 und der US 2006/0132747 A1 . An illumination optical system with a transmission optical system and at least one downstream illumination preset facet mirror is known from US Pat WO 2015/036226 A1 , of the WO 2010/099807 A1 and the US 2006/0132747 A1 ,

Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Beleuchtungsoptik der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, dass die Vorteile einer derartigen Facettenspiegel-Konfiguration ohne die zwingende Notwendigkeit zugänglich werden, den ersten Facettenspiegel als MEMS-Spiegel (Micro Electro Mechanical System-Spiegel, Mikrosystemtechnik-Spiegel) auszuführen. It is an object of the present invention to further develop an illumination optics of the type mentioned at the beginning in such a way that the advantages of such a facet mirror configuration become accessible without the urgent need to use the first facet mirror as MEMS mirror (Micro Electro Mechanical System mirror, microsystem technology mirror ).

Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch eine Beleuchtungsoptik mit den im Anspruch 1 angegebenen Merkmalen.This object is achieved by an illumination optical system with the features specified in claim 1.

Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass das Konzept einer Beleuchtungsoptik mit einem ersten in einer Feldebene angeordneten Facettenspiegel und einem zweiten weder in einer Feld- noch in einer Pupillenebene angeordneten Facettenspiegel, also das Konzept eines spekularen Reflektors, nicht zwingend die Ausführung des ersten Facettenspiegels als MEMS-Spiegel erforderlich macht, sondern dass es möglich ist, die ersten Facetten für zumindest einige der Beleuchtungslicht-Teilbündel mit nahtlos zusammenhängenden Reflexionsflächen auszuführen. Die Flexibilität des Konzeptes des spekularen Reflektors bleibt dabei dennoch erhalten. Insbesondere können alle Beleuchtungslicht-Teilbündel über nahtlos zusammenhängende erste Facetten geführt werden. Die nahtlos zusammenhängenden Reflexionsflächen des ersten Facettenspiegels können rechteckig oder, beispielsweise entsprechend einem gebogenen Objektfeld, gebogen ausgeführt sein. Benachbarte erste Facetten mit jeweils nahtlos zusammenhängender Reflexionsfläche können voneinander beabstandet sein.According to the invention, it has been recognized that the concept of an illumination optical unit having a first facet mirror arranged in a field plane and a second facet mirror arranged neither in a field nor in a pupil plane, ie the concept of a specular reflector, does not necessarily mean that the first facet mirror is embodied as a MEMS mirror but it is possible to make the first facets for at least some of the illuminating light sub-beams with seamless contiguous reflecting surfaces. The flexibility of the concept of the specular reflector still remains. In particular, all illumination light partial bundles can be guided over seamlessly connected first facets. The seamlessly connected reflection surfaces of the first facet mirror can be designed to be rectangular or, for example, corresponding to a curved object field, bent. Adjacent first facets, each with a seamless contiguous reflection surface, may be spaced apart.

Mindestens eine Blende nach Anspruch 2 ermöglicht es, eine insbesondere standardisierte Gestaltung des ersten Facettenspiegels an flexibel vorgegebene Beleuchtungswinkelverteilungen für das Objektfeld anzupassen. Es kann ein Wechselhalter mit einer Mehrzahl von Blenden zur Abschattung mindestens eines Abschnitts mindestens eines Beleuchtungslicht-Teilbündels vorgesehen sein. Diese Blenden können im Wechsel in den Strahlengang des Beleuchtungslichts einbringbar sein. Die Blende kann benachbart zum ersten Facettenspiegel angeordnet sein. Alternativ oder zusätzlich kann eine derartige Blende auch benachbart zum zweiten Facettenspiegel angeordnet sein. Die Blende kann zur Abschattung zumindest einzelner vollständiger Beleuchtungslicht-Teilbündel ausgeführt sein. Die Blende kann zur Abschattung einer Mehrzahl von Beleuchtungslicht-Teilbündeln und im Grenzfall sogar zur jedenfalls abschnittsweisen Abschattung aller Beleuchtungslicht-Teilbündel ausgeführt sein.At least one diaphragm according to claim 2 makes it possible to adapt a particularly standardized design of the first facet mirror to flexibly predetermined illumination angle distributions for the object field. A change holder with a plurality of diaphragms for shadowing at least one section of at least one illumination light partial bundle can be provided. These diaphragms can be introduced alternately into the beam path of the illumination light. The diaphragm may be arranged adjacent to the first facet mirror. Alternatively or additionally, such a diaphragm may also be arranged adjacent to the second facet mirror. The aperture can be designed to shadow at least individual complete illumination light partial bundles. The diaphragm can be embodied for shading a plurality of illumination light partial beams and, in the limiting case, even for at least partial shading of all the illumination light partial beams.

Mindestens ein Blendenkörper zur mindestens abschnittsweisen Abschattung mehrerer Beleuchtungslicht-Teilbündel ermöglicht eine stabile Konfiguration der Blende, bei der die Blendenkörper tragende Bestandteile bilden. Alternativ kann jeder Blendenkörper der Blende mindestens abschnittweise jeweils genau ein Beleuchtungslicht-Teilbündel abschatten. Jedem Beleuchtungslicht-Teilbündel beziehungsweise jeder Facette ist dann genau ein Blendenkörper zugeordnet.At least one diaphragm body for shading a plurality of illumination light partial beams at least in sections enables a stable configuration of the diaphragm in which the diaphragm bodies form supporting components. Alternatively, each diaphragm body of the diaphragm can shadow at least in sections exactly one illumination light partial beam. Each illumination light partial bundle or each facet is then assigned exactly one diaphragm body.

Eine Mehrzahl von Blendenkörpern nach Anspruch 5 hat sich als besonders flexibel zur Gestaltung der Blende herausgestellt. Mindestens ein Blendenkörper der Blende kann verlagerbar gestaltet sein. Diese Verlagerung kann zur Beeinflussung einer Größe einer abzuschattenden Fläche der dem Blendenkörper zugeordneten Facette oder auch zur Änderung einer Zuordnung des Blendenkörpers zu mindestens einer der Facetten genutzt werden.A plurality of visor bodies according to claim 5 has been found to be particularly flexible for the design of the diaphragm. At least one visor body of the visor may be designed to be displaceable. This displacement can be used for influencing a size of a surface to be shaded of the facet associated with the diaphragm body or also for changing an assignment of the diaphragm body to at least one of the facets.

Eine nach Anspruch 6 insgesamt verlagerbare Blende ermöglicht es, die Abschattungswirkung der Blendenkörper an verschiedene vorgegebene Beleuchtungssettings anzupassen. Die Blende ist dabei insbesondere in einer Anordnungsebene der Blende verlagerbar.A total shiftable according to claim 6 aperture makes it possible to adjust the shading effect of the visor body to different predetermined lighting settings. The diaphragm is displaceable in particular in an arrangement plane of the diaphragm.

Verkippbarkeiten der ersten und/oder zweiten Facetten nach den Ansprüchen 7 und 8 erhöhen eine Flexiblisierung einer Objektfeld- und Pupillenausleuchtung. Insbesondere kann eine Zuordnung der Feldfacetten, also der ersten Facetten, zu den zweiten Facetten flexibel vorgegeben werden.Tiltabilities of the first and / or second facets according to claims 7 and 8 increase the flexibility of object field and pupil illumination. In particular, an assignment of the field facets, that is, the first facets, to the second facets can be specified flexibly.

Die Vorteile eines optischen Systems nach Anspruch 9, einer Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 10 und eines Herstellungsverfahrens nach Anspruch 11 entsprechen denjenigen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die Beleuchtungsoptik bereits erläutert wurden.The advantages of an optical system according to claim 9, a projection exposure apparatus according to claim 10 and a manufacturing method according to claim 11 correspond to those which have already been explained above with reference to the illumination optics.

Ein Bestimmungsverfahren nach Anspruch 12 ermöglicht die Nutzung ein und derselben Facettenzuordnung zum Erzielen unterschiedlicher Ziel-Beleuchtungswinkelverteilungen durch entsprechende Vorgabe der Blendenkörper-Konfiguration. A determination method according to claim 12 enables the use of one and the same facet assignment to achieve different target illumination angle distributions by appropriate specification of the diaphragm body configuration.

Beim Verfahren nach Anspruch 13 ergeben sich die Blenden-Konfigurationen für die verschiedenen Ziel-Beleuchtungswinkelver-teilungen.In the method of claim 13, the aperture configurations result for the different target illumination angle distributions.

Die jeweilige Ziel-Beleuchtungswinkelverteilung kann teilweise oder vollständig in der ausgewählten Ausgangs-Beleuchtungswinkelverteilung enthalten sein.The respective target illumination angle distribution may be partially or completely included in the selected output illumination angle distribution.

Ein Verfahren nach Anspruch 14 ermöglicht es, die bestimmten Blendenkörper-Konfigurationen innerhalb einer erfindungsgemäßen Beleuchtungsoptik einzusetzen.A method according to claim 14 makes it possible to use the specific diaphragm body configurations within a lighting optical system according to the invention.

Die Vorteile eines mikro- beziehungsweise nanostrukturierten Bauteils nach Anspruch 15 entsprechen denen, die vorstehend insbesondere im Zusammenhang mit dem Herstellungsverfahren bereits erläutert wurden. Bei der Herstellung des Bauteils kann mindestens eine Blende mit einer Blendenkörper-Konfiguration zum Einsatz kommen, die entsprechend dem vorstehend erläuterten Bestimmungsverfahren erzeugt wurde.The advantages of a microstructured or nanostructured component according to claim 15 correspond to those which have already been explained above, in particular in connection with the production method. In the manufacture of the component, at least one diaphragm with a diaphragm body configuration which was produced in accordance with the determination method explained above can be used.

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. In dieser zeigen:Embodiments of the invention will be explained in more detail with reference to the drawing. In this show:

1 stark schematisch im Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage für EUV-Mikrolithographie mit einer Lichtquelle, einer Beleuchtungsoptik und einer Projektionsoptik; 1 very schematically in the meridional section a projection exposure apparatus for EUV microlithography with a light source, an illumination optics and a projection optics;

2 eine Aufsicht auf einen Feldfacettenspiegel der Beleuchtungsoptik, der einen ersten Facettenspiegel darstellt und in einer Feldebene und in einem Beleuchtungs-Fernfeld angeordnet ist; 2 a plan view of a field facet mirror of the illumination optics, which represents a first facet mirror and is arranged in a field plane and in a lighting far field;

3 eine Aufsicht auf einen Spekularfacettenspiegel der Beleuchtungsoptik, der einen zweiten Facettenspiegel darstellt, der beabstandet einerseits von einer Feldebene und andererseits von einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik angeordnet ist. 3 a plan view of a specular facet mirror of the illumination optical system, which represents a second facet mirror, which is spaced apart on the one hand from a field plane and on the other hand from a pupil plane of the illumination optics.

4 schematisch und im Meridionalschnitt einen Strahlengang von mehreren Beleuchtungslicht-Teilbündeln von Beleuchtungslicht, die jeweils über erste Facetten des ersten Facettenspiegels mit nahtlos zusammenhängenden Reflexionsflächen geführt werden; 4 schematically and in meridional section a beam path of a plurality of illumination light sub-beams of illumination light, which are each guided via first facets of the first facet mirror with seamlessly connected reflection surfaces;

5 eine zu 4 ähnliche Darstellung, wobei jedes der Beleuchtungslicht-Teilbündel durch genau einen Einzelstrahl veranschaulicht ist und bei der die Wirkung einer Blende mit einer Mehrzahl von Blendenkörpern zur Abschattung von Abschnitten einiger der Beleuchtungslicht-Teilbündel angedeutet ist; 5 one too 4 similar illustration, wherein each of the illumination light sub-beams is illustrated by exactly one single beam and in which the effect of a diaphragm with a plurality of diaphragm bodies for shading portions of some of the illumination light sub-beams is indicated;

6 eine Aufsicht auf eine Ausführung einer Blende mit einer Mehrzahl von Blendenkörpern, die zur Abschattung des ersten Facettenspiegels geeignet ist; 6 a plan view of an embodiment of a diaphragm with a plurality of visor bodies, which is suitable for shading the first facet mirror;

7 beispielhaft eine Konfiguration von Blendenkörpern einer Blende zur Abschattung des ersten Facettenspiegels nach 2 und zur Erzeugung eines Beleuchtungssettings „x-Dipol“; 7 exemplifies a configuration of diaphragm bodies of a diaphragm for shading the first facet mirror after 2 and for generating an illumination setting "x-dipole";

8 beispielhaft eine Konfiguration von Blendenkörpern einer Blende zur Abschattung des ersten Facettenspiegels nach 2 und zur Erzeugung eines Beleuchtungssettings „y-Dipol“; 8th exemplifies a configuration of diaphragm bodies of a diaphragm for shading the first facet mirror after 2 and for generating a lighting setting "y-dipole";

9 das Beleuchtungs-Fernfeld der Lichtquelle, wobei einige nahtlos zusammenhängende Reflexionsflächen der ersten Facetten des ersten Facettenspiegels zur Führung jeweils eines Beleuchtungslicht-Teilbündels schematisch dargestellt sind; 9 the illumination far field of the light source, wherein some seamlessly connected reflection surfaces of the first facets of the first facet mirror for guiding a respective illumination light partial beam are shown schematically;

10 einen Ausschnitt einer Blende mit insgesamt sechs Blendenkörpern zur Abschattung der ersten Facetten nach 9 zur Erzeugung eines Ziel-Beleuchtungssettings, wobei jeder Blendenkörper der Blende abschnittsweise jeweils genau ein Beleuchtungslicht-Teilbündel, also jeweils eine der ersten Facetten abschattet; 10 a section of a panel with a total of six visor bodies for shading the first facets after 9 for generating a target illumination setting, wherein each diaphragm body of the diaphragm sections in each case exactly one illuminating light partial beam, ie in each case shadows one of the first facets;

11 eine schematische Aufsicht auf eine weitere Ausführung eines zweiten Facettenspiegels, wobei diejenigen zweiten Facetten, die bei der Blendenkörper-Konfiguration nach 10 den ersten Facetten nach 9 zugeordnet sind, hervorgehoben sind; 11 a schematic plan view of another embodiment of a second facet mirror, wherein those second facets, which in the visor body configuration according to 10 following the first facets 9 are assigned, are highlighted;

12 in einer zu 10 ähnlichen Darstellung eine alternative Konfiguration von Blendenkörpern in einem Ausschnitt einer Blende zur Erzeugung des Ziel-Beleuchtungssettings, wobei ein insgesamt zusammenhängender Blendenkörper alle sechs ersten Facetten und damit die diesen ersten Facetten zugeordneten Beleuchtungslicht-Teilbündel abschnittsweise abschattet; 12 in one too 10 a similar configuration of an alternative configuration of diaphragm bodies in a section of a diaphragm for the production of the target Beleuchtungssettings, wherein a total contiguous diaphragm body shades all six first facets and thus the first facets associated illumination light partial beam sections;

13 in einer zu 11 ähnlichen Darstellung eine Zuordnung von zweiten Facetten des zweiten Facettenspiegels zu den ersten Facetten des ersten Facettenspiegels nach 9 bei der Blendenkörper-Konfiguration nach 12; 13 in one too 11 a representation similar to an assignment of second facets of the second facet mirror to the first facets of the first facet mirror after 9 in the visor body configuration 12 ;

14 beispielhaft drei erste Facetten des ersten Facettenspiegels mit einer Ausführung variabel diese ersten Facetten abschattenden Blendenkörper; 14 by way of example, three first facets of the first facet mirror with an embodiment of a variable aperture body shading these first facets;

15 schematisch eine weitere Ausführung des ersten Facettenspiegels mit einer vorgelagerten Blende mit einer Mehrzahl von Blendenkörpern, wobei die Blende insgesamt verlagerbar und in einer ersten Blendenposition dargestellt ist; 15 schematically a further embodiment of the first facet mirror with an upstream aperture with a plurality of diaphragm bodies, wherein the diaphragm is displaceable and shown in a first aperture position total;

16 der erste Facettenspiegel sowie die Blende nach 15 in einer zweiten, verlagerten Blendenposition zur Erzeugung eines im Vergleich zur Anordnung nach 15 anderen Beleuchtungssettings; 16 the first facet mirror and the aperture after 15 in a second, displaced diaphragm position for generating a relative to the arrangement according to 15 other lighting settings;

17 eine Pupillenausleuchtung der Beleuchtungsoptik, wobei die Pupillenausleuchtung als Repräsentant einer Ausgangs-Beleuchtungswinkelverteilung dient, die im Rahmen einer Bestimmung einer Blendenkörper-Konfiguration einer Blende zur Abschattung der Beleuchtungslicht-Teilbündel ausgewählt wird; 17 a pupil illumination of the illumination optics, the pupil illumination serving as a representative of an output illumination angle distribution selected in a determination of a diaphragm configuration of a diaphragm for shading the illumination light partial beams;

18 und 19 zwei Ziel-Beleuchtungswinkelverteilungen, dargestellt wiederum als Pupillenausleuchtungen, die durch Abschattung von Beleuchtungslicht-Teilbündeln, ausgehend von der Ausgangs-Beleuchtungswinkelverteilung hervorgehen, wobei diese beiden Ziel-Beleuchtungswinkelverteilungen vollständig in der Ausgangs-Beleuchtungswinkelverteilung enthalten sind; und 18 and 19 two target illumination angle distributions, again represented as pupil illuminations resulting from shading of illumination light sub-beams, from the output illumination angle distribution, these two target illumination angle distributions being fully contained in the output illumination angle distribution; and

20 in einer zu 5 ähnlichen Darstellung eine weitere Ausführung einer Beleuchtungsoptik mit insgesamt im Meridionalschnitt gekrümmt ausgeführtem ersten Facettenspiegel. 20 in one too 5 a similar embodiment, a further embodiment of a lighting optical system with a total of meridional section curved executed first facet mirror.

Eine in der 1 stark schematisch und im Meridionalschnitt dargestellte Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithographie hat eine Lichtquelle 2 für Beleuchtungslicht 3. Bei der Lichtquelle 2 handelt es sich um eine EUV-Lichtquelle, die Licht in einem Wellenlängenbereich zwischen 5 nm und 30 nm erzeugt. Hierbei kann es sich um eine LPP-(Laser Produced Plasma, lasererzeugtes Plasma)Lichtquelle, um eine DPP-(Discharge Produced Plasma, Plasmaerzeugung mittels Gasentladung)Lichtquelle oder um eine synchrotron-strahlungsbasierte Lichtquelle, beispielsweise um einen Freie-Elektronen-Laser (FEL), handeln. One in the 1 strongly schematic and shown in meridional section projection exposure system 1 for microlithography has a light source 2 for illumination light 3 , At the light source 2 It is an EUV light source that generates light in a wavelength range between 5 nm and 30 nm. This may be an LPP (Laser Produced Plasma) light source, a DPP (Discharge Produced Plasma) light source, or a synchrotron radiation-based light source, such as a free-electron laser (FEL ), act.

Zur Führung des Beleuchtungslichts 3, ausgehend von der Lichtquelle 2, dient eine Übertragungsoptik 4. Diese hat einen in der 1 lediglich hinsichtlich seiner reflektierenden Wirkung dargestellten Kollektor 5, und einen nachfolgend noch näher beschriebenen Übertragungs-Facettenspiegel 6, der auch als erster Facettenspiegel oder als Feldfacettenspiegel bezeichnet ist. Zwischen dem Kollektor 5 und dem Übertragungs-Facettenspiegel 6 ist ein Zwischenfokus 5a des Beleuchtungslichts 3 angeordnet. Eine numerische Apertur des Beleuchtungslichts 3 im Bereich des Zwischenfokus 5a beträgt beispielsweise NA = 0,22 oder NA = 0,182. Dem Übertragungs-Facettenspiegel 6 und damit der Übertragungsoptik 4 nachgeordnet ist ein Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel 7, der auch als zweiter oder weiterer Facettenspiegel oder als Spekularfacettenspiegel bezeichnet ist und ebenfalls nachfolgend noch näher erläutert wird. Die optischen Komponenten 5 bis 7 sind Bestandteile einer Beleuchtungsoptik 11 der Projektionsbelichtungsanlage 1.For guiding the illumination light 3 , starting from the light source 2 , serves a transmission optics 4 , This one has one in the 1 only shown in terms of its reflective effect collector 5 , and a transmission facet mirror described in more detail below 6 also referred to as the first facet mirror or field facet mirror. Between the collector 5 and the transmission facet mirror 6 is an intermediate focus 5a of the illumination light 3 arranged. A numerical aperture of the illumination light 3 in the area of the intermediate focus 5a For example, NA = 0.22 or NA = 0.182. The transmission facet mirror 6 and thus the transmission optics 4 Downstream is a lighting preset facet mirror 7 , which is also referred to as a second or further facet mirror or as a specular facet mirror and will also be explained in more detail below. The optical components 5 to 7 are components of a lighting system 11 the projection exposure system 1 ,

Der Übertragungs-Facettenspiegel 6 ist in einer Feldebene 6a der Beleuchtungsoptik 11 angeordnet. Der Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel 7 der Beleuchtungsoptik 11 ist beabstandet zu Pupillen- und Feldebenen der Beleuchtungsoptik 11 angeordnet. Eine derartige Anordnung wird auch als spekularer Reflektor bezeichnet. The transmission facet mirror 6 is in a field level 6a the illumination optics 11 arranged. The lighting preset facet mirror 7 the illumination optics 11 is spaced from the pupil and field planes of the illumination optics 11 arranged. Such an arrangement is also referred to as a specular reflector.

Dem Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel 7 im Strahlengang des Beleuchtungslichts 3 nachgeordnet ist ein Retikel 12, das in einer Objektebene 9 einer nachgelagerten Projektionsoptik 10 der Projektionsbelichtungsanlage 1 angeordnet ist. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um ein Projektionsobjektiv. Mit der Beleuchtungsoptik 11 wird ein Objektfeld 8 auf dem Retikel 12 in der Objektebene 9 definiert ausgeleuchtet. Das Objektfeld 8 stellt gleichzeitig ein Beleuchtungsfeld der Beleuchtungsoptik 11 dar. Generell gilt, dass das Beleuchtungsfeld so ausgebildet ist, dass das Objektfeld 8 im Beleuchtungsfeld angeordnet werden kann. The lighting preset facet mirror 7 in the beam path of the illumination light 3 downstream is a reticle 12 that in an object plane 9 a downstream projection optics 10 the projection exposure system 1 is arranged. In the projection optics 10 it is a projection lens. With the illumination optics 11 becomes an object field 8th on the reticle 12 in the object plane 9 defined illuminated. The object field 8th simultaneously provides a lighting field for the illumination optics 11 In general, the illumination field is designed such that the object field 8th can be arranged in the illumination field.

Der Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel 7 ist wie auch der Übertragungs-Facettenspiegel 6 Teil einer Pupillen-Beleuchtungseinheit der Beleuchtungsoptik und dient zur Beleuchtung einer Eintrittspupille 12a in einer Pupillenebene 12b der Projektionsoptik 10 mit dem Beleuchtungslicht 3 mit vorgegebener Pupillen-Intensitätsverteilung. Die Eintrittspupille 12a der Projektionsoptik 10 kann im Beleuchtungsstrahlengang vor dem Objektfeld 8 oder auch nach dem Objektfeld 8 angeordnet sein. 1 zeigt den Fall, bei dem die Eintrittspupille 12a in einer Eintrittspupillenebene 12b im Beleuchtungsstrahlengang nach dem Objektfeld 8 angeordnet ist. The lighting preset facet mirror 7 is as well as the transmission facet mirror 6 Part of a pupil illumination unit of the illumination optics and serves to illuminate an entrance pupil 12a in a pupil plane 12b the projection optics 10 with the illumination light 3 with predetermined pupil intensity distribution. The entrance pupil 12a the projection optics 10 can in the illumination beam path in front of the object field 8th or after the object field 8th be arranged. 1 shows the case where the entrance pupil 12a in an entrance pupil plane 12b in the illumination beam path after the object field 8th is arranged.

Zur Erleichterung der Darstellung von Lagebeziehungen wird nachfolgend ein kartesisches xyz-Koordinatensystem verwendet. Die x-Richtung verläuft in der 1 senkrecht zur Zeichenebene in diese hinein. Die y-Richtung verläuft in die 1 nach rechts. Die z-Richtung verläuft in die 1 nach unten. In der Zeichnung verwendete Koordinatensysteme haben jeweils parallel zueinander verlaufende x-Achsen. Der Verlauf einer z-Achse dieser Koordinatensysteme folgt einer jeweiligen Hauptrichtung des Beleuchtungslichts 3 innerhalb der jeweils betrachteten Figur. To facilitate the representation of positional relationships, a Cartesian xyz coordinate system is used below. The x-direction runs in the 1 perpendicular to the drawing plane into this. The y-direction runs in the 1 to the right. The z-direction runs in the 1 downward. Coordinate systems used in the drawing have mutually parallel x-axes. The course of a z-axis of these coordinate systems follows a respective main direction of the illumination light 3 within each considered figure.

Das Objektfeld 8 hat eine bogenförmige beziehungsweise teilkreisförmige Form und ist begrenzt von zwei zueinander parallelen Kreisbögen und zwei geraden Seitenkanten, die in y-Richtung mit einer Länge y0 verlaufen und in x-Richtung einen Abstand x0 zueinander haben. Die begrenzenden Bögen können auch als Kurvenabschnitte von Ellipsen oder Parabeln ausgebildet sein. Das Aspektverhältnis x0/y0 beträgt z. B. 13 zu 1. Ein Insert der 1 zeigt eine nicht maßstabsgerechte Draufsicht des Objektfeldes 8. Eine Berandungsform 8a ist bogenförmig. Bei einem alternativen und ebenfalls möglichen Objektfelds 8 ist dessen Berandungsform rechteckig, ebenfalls mit Aspektverhältnis x0/y0. The object field 8th has a curved or part-circular shape and is bounded by two parallel circular arcs and two straight side edges which extend in the y-direction with a length y 0 and in the x-direction at a distance x 0 to each other. The bounding arcs can also be formed as curve sections of ellipses or parabolas. The aspect ratio x 0 / y 0 is z. B. 13 to 1. An insert of 1 shows a not to scale top view of the object field 8th , A boundary shape 8a is arcuate. In an alternative and also possible object field 8th its boundary shape is rectangular, also with an aspect ratio x 0 / y 0 .

Die Projektionsoptik 10 ist in der 1 lediglich teilweise und stark schematisch angedeutet. Dargestellt sind eine objektfeldseitige numerische Apertur 13 und eine bildfeldseitige numerische Apertur 14 der Projektionsoptik 10. Zwischen angedeuteten optischen Komponenten 15, 16 der Projektionsoptik 10, die beispielsweise als für das EUV-Beleuchtungslicht 3 reflektierende Spiegel ausgeführt sein können, liegen weitere, in der 1 nicht dargestellte optische Komponenten der Projektionsoptik 10 zur Führung des Beleuchtungslichts 3 zwischen diesen optischen Komponenten 15, 16. The projection optics 10 is in the 1 only partially and strongly indicated schematically. Shown are an object-field-side numerical aperture 13 and an image-field-side numerical aperture 14 the projection optics 10 , Between indicated optical components 15 . 16 the projection optics 10 For example, as for the EUV illumination light 3 Reflecting mirrors can be executed, lie more, in the 1 not shown optical components of the projection optics 10 for guiding the illumination light 3 between these optical components 15 . 16 ,

Die Projektionsoptik 10 bildet das Objektfeld 8 in ein Bildfeld 17 in einer Bildebene 18 auf einem Wafer 19 ab, der, wie auch das Retikel 12, von einem nicht näher dargestellten Halter getragen wird. Sowohl der Retikelhalter als auch der Waferhalter sind über entsprechende Verlagerungsantriebe sowohl in der x-Richtung als auch in der y-Richtung (Scanrichtung) verlagerbar.The projection optics 10 forms the object field 8th in a picture field 17 in an image plane 18 on a wafer 19 which, like the reticle 12 , Is supported by a holder, not shown. Both the reticle holder and the wafer holder can be displaced via corresponding displacement drives both in the x-direction and in the y-direction (scanning direction).

Der Übertragungs-Facettenspiegel 6 hat eine Mehrzahl von Übertragungs-Facetten 21, die auch als erste Facetten bezeichnet werden. Bei den Übertragungs-Facetten 21 handelt es sich um mindestens zwischen zwei Kippstellungen schaltbare Einzelspiegel. Die Übertragungs-Facetten 21 können als um zwei aufeinander senkrecht stehende Drehachsen angetrieben kippbare Einzelspiegel ausgeführt sein. Alternativ können die Übertragungs-Facetten 21 auch nicht kippbar gestaltet sein.The transmission facet mirror 6 has a plurality of transmission facets 21 , which are also called first facets. In the transmission facets 21 is at least switchable between two tilt positions individual mirror. The transmission facets 21 can be designed as tilted single mirror driven by two mutually perpendicular axes of rotation. Alternatively, the transmission facets 21 also be designed not tiltable.

Die ersten Facetten 21 sind nach Art eines 2D-Rasters weitgehend lückenlos nebeneinander so angeordnet, dass sie ein Fernfeld der Lichtquelle 2, in dem sie angeordnet sind, praktisch lückenlos abdecken. Diese Anordnung der ersten Facetten 21 ist in der 2 beispielhaft gezeigt. Abgesehen von einer zentralen Lücke und einem Durchgangsspalt 22 in Neun-Uhr-Position deckt der erste Facettenspiegel das Lichtquellen-Fernfeld praktisch lückenlos ab. Insgesamt hat der erste Facettenspiegel sieben Spalten zu jeweils einigen zehn übereinander angeordneten ersten Facetten 21 und insgesamt einige hundert erste Facetten 21. Die ersten Facetten 21 dienen zur reflektierenden Führung des Beleuchtungslichts 3.The first facets 21 are in the nature of a 2D grid largely seamlessly juxtaposed so that they are a far field of the light source 2 in which they are arranged, cover virtually completely. This arrangement of the first facets 21 is in the 2 shown by way of example. Apart from a central gap and a passage gap 22 At nine o'clock, the first facet mirror covers the light source far field almost completely. Overall, the first facet mirror has seven columns each with a few ten superimposed first facets 21 and a total of several hundred first facets 21 , The first facets 21 serve for the reflective guidance of the illumination light 3 ,

Der im ersten Facettenspiegel 6 im Strahlengang des Beleuchtungslichts 3 nachgeordnete zweite Facettenspiegel 7 hat eine Mehrzahl zweiter Facetten 25, deren Gesamtanordnung in der 3 beispielhaft gezeigt ist. Die zweiten Facetten 25 sind rund ausgeführt. Die zweiten Facetten 25 sind hexagonal dicht gepackt angeordnet. Eine Randkontur des zweiten Facettenspiegels 7 ist stadionförmig. Auch die zweiten Facetten 25 können angetrieben verkippbar gestaltet sein, wie es vorstehend im Zusammenhang mit den ersten Facetten 21 bereits erläutert wurde.The first in the facet mirror 6 in the beam path of the illumination light 3 Subordinate second facet mirror 7 has a plurality of second facets 25 whose overall arrangement in the 3 is shown by way of example. The second facets 25 are executed around. The second facets 25 are arranged hexagonally packed. An edge contour of the second facet mirror 7 is stadium-shaped. Also the second facets 25 may be designed to be tiltable driven as discussed above in connection with the first facets 21 has already been explained.

Die beiden Facettenspiegel 6 und 7 sind so zueinander angeordnet, dass die von den zweiten Facetten 25 geführten Teilbündel 26 jeweils über die ersten Facetten 21 des ersten Facettenspiegels 6 geführt werden, wobei jede dieser genau eines der Teilbündel 26 führenden ersten Facetten 21 mit nahtlos zusammenhängenden Reflexionsflächen gestaltet sind. Diese ersten Facetten 21 werden auch als monolithische Facetten bezeichnet. Ein x/y-Aspektverhältnis der ersten Facetten 21 kann dem x/y-Aspektverhältnis des Objektfeldes 8 entsprechen. Die ersten Facetten 21 können entsprechend dem Objektfeld 8 gebogen ausgeführt sein. Alternativ ist eine rechteckige Gestaltung der ersten Facetten 21 möglich, wie beispielsweise in der 2 gezeigt.The two facet mirrors 6 and 7 are arranged to each other, that of the second facets 25 guided sub-bundle 26 each about the first facets 21 of the first facet mirror 6 each of which is exactly one of the sub-bundles 26 leading first facets 21 are designed with seamless contiguous reflection surfaces. These first facets 21 are also called monolithic facets. An x / y aspect ratio of the first facets 21 can match the x / y aspect ratio of the object field 8th correspond. The first facets 21 can according to the object field 8th be executed bent. Alternatively, a rectangular design of the first facets 21 possible, such as in the 2 shown.

Ein beispielhafter Strahlengang der Teilbündel 26 des Beleuchtungslichts 3 ist in der 4 wiedergegeben. Zur Vereinfachung der Darstellung ist der Strahlengang so dargestellt, dass er die Objektebene 9 durchtritt. In der Realität kommt ein reflektierendes Retikel 12 zum Einsatz.An exemplary beam path of the sub-beams 26 of the illumination light 3 is in the 4 played. To simplify the illustration, the beam path is shown as being the object plane 9 passes. In reality, a reflective reticle comes 12 for use.

Jedes der Teilbündel 26 wird von genau einer der ersten Facetten 21 und von genau einer der zweiten Facetten 25 hin zum Objektfeld 8 reflektiert.Each of the subbundles 26 becomes of exactly one of the first facets 21 and of exactly one of the second facets 25 towards the object field 8th reflected.

Die Teilbündel 26 haben bei der Reflexion an den ersten Facettenspiegel 21 zueinander verschiedene y-Erstreckungen, also unterschiedliche Durchmesser in der y-Richtung. Diese y-Erstreckungsverteilung der Teilbündel 26 auf dem ersten Facettenspiegel 6 wird aufgrund der Anordnung des ersten Facettenspiegels 6 in einer zur Objektebene 9 konjugierten Feldebene in eine entsprechende y-Erstreckungsverteilung der Teilbündel 26 in der Objektebene 9 abgebildet. Gleichzeitig sorgt die Anordnung und die Verkippung der zweiten Facetten 25 dafür, dass die Teilbündel 26 nicht nur das Objektfeld 8, sondern auch die Eintrittspupille 12a entsprechend einem vorgegebenen Beleuchtungssetting beaufschlagen. The subbundles 26 have reflection on the first facet mirror 21 mutually different y-extensions, that is different diameters in the y-direction. This y-extension distribution of the sub-beams 26 on the first facet mirror 6 is due to the arrangement of the first facet mirror 6 in one to the object level 9 conjugate field plane in a corresponding y-extension distribution of the sub-beams 26 in the object plane 9 displayed. At the same time, the arrangement and tilting of the second facets ensures 25 for having the subbundles 26 not just the object field 8th but also the entrance pupil 12a apply according to a given lighting setting.

Je weiter im ungefalteten Strahlengang die zweiten Facetten von einer Mittelachse 27 entfernt angeordnet sind, die einerseits durch ein Zentrum der Pupille 12a und andererseits durch ein Zentrum des Objektfeldes 8 verläuft, desto weniger ausgedehnt ist das über diese zweite Facette 25 geführte Beleuchtungslicht-Teilbündel 26. Am ausgedehntesten sind diejenigen Teilbündel 26, die von zweiten Facetten 25 geführt werden, die auf oder nahe der Mittelachse 27 angeordnet sind. Diese Teilbündel, die in der 4 mit 26 z bezeichnet sind, beaufschlagen auf dem ersten Facettenspiegel erste Facetten 21 z mit der größten y-Erstreckung. Da die Teilbündel 26 längs ihres Strahlengangs zwischen den beiden Facettenspiegeln 6 und 7 durch entsprechende Mischzuordnung der Facetten 21, 25 durchmischt werden, sind die ersten Facetten 21 z über die gesamte y-Erstreckung des ersten Facettenspiegels 6 verteilt angeordnet.The further in the unfolded beam path, the second facets from a central axis 27 are arranged on the one hand by a center of the pupil 12a and on the other hand by a center of the object field 8th runs, the less extensive it is over this second facet 25 led lighting light part bundles 26 , Most extensive are those subbundles 26 that of second facets 25 be guided on or near the central axis 27 are arranged. These subgroups, which are in the 4 With 26 z are applied, act on the first facet mirror first facets 21 z with the largest y-extension. Because the subbundles 26 along its beam path between the two facet mirrors 6 and 7 by appropriate mixing assignment of the facets 21 . 25 be mixed are the first facets 21 z over the entire y-extension of the first facet mirror 6 arranged distributed.

Diejenigen Beleuchtungslicht-Teilbündel 26 r, die von zweiten Facetten 25 im Randbereich des zweiten Facettenspiegels 7, also weit von der Mittelachse 27 beabstandet reflektiert werden, gehören zu ersten Facetten 21 r mit der im Vergleich zu den anderen ersten Facetten 21 kleinsten y-Erstreckung.Those illumination light sub-beams 26 r , that of second facets 25 in the edge region of the second facet mirror 7 So far from the central axis 27 Reflected at a distance belong to the first facets 21 r with the first compared to the other facets 21 smallest y-extension.

Entsprechend der vorstehend erläuterten y-Erstreckungsverteilung der Teilbündel 26, die in das Objektfeld 8 mit vorgegebener Beaufschlagung der Eintrittspupille 12a überführt werden, resultiert auch eine x-Erstreckungsverteilung der Teilbündel 26 senkrecht zur in der 4 dargestellten Zeichenebene.Corresponding to the above-explained y-extension distribution of the sub-beams 26 that are in the object field 8th with predetermined admission of the entrance pupil 12a be converted, also results in an x-extension distribution of the sub-beams 26 perpendicular to in the 4 represented drawing level.

Bei der Ausführung nach 4 kommt entsprechend ein erster Facettenspiegel 6 mit ersten Facetten 21 zum Einsatz, die in der x-Richtung und in der y-Richtung unterschiedlich große Erstreckungen aufweisen. Die unterschiedlichen x- bzw. y-Erstreckungen der ersten Facetten 21, die zur Beleuchtung des Retikels 12 mit vorgegebener Ausleuchtung der Pupille 12a, also mit vorgegebenem Beleuchtungssetting benötigt werden, können alternativ auch durch entsprechende Abschattung von sich in x- bzw. y-Richtung weiter erstreckenden ersten Facetten 21 erreicht werden. Eine entsprechende Ausführung, bei der mit Hilfe von Blendenkörpern 28 einer Blende 29 eine entsprechende Anpassung der x- bzw. y-Erstreckungen reflektierender Abschnitte der ersten Facetten 21 erreicht wird, wird nachfolgend anhand der 5 und 6 beschrieben. Komponenten und Funktionen, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 bis 4 bereits erläutert wurden, tragen gleiche Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert.In the execution after 4 accordingly comes a first facet mirror 6 with first facets 21 used, which have different sizes in the x-direction and in the y-direction extensions. The different x and y extensions of the first facets 21 used to illuminate the reticle 12 with predetermined illumination of the pupil 12a , So are required with a given illumination setting, alternatively, by appropriate shading of itself in x- or y-direction further extending first facets 21 be achieved. A corresponding design, in which with the help of visor bodies 28 a panel 29 a corresponding adaptation of the x and y extensions of reflective portions of the first facets 21 is achieved, is subsequently based on the 5 and 6 described. Components and functions corresponding to those described above with reference to FIGS 1 to 4 have already been explained, have the same reference numbers and will not be discussed again in detail.

Im Unterschied zur Ausführung nach 4 haben die ersten Facetten 21 des ersten Facettenspiegels 6 nach 5 jeweils die gleiche y-Erstreckung. Je nach Zuordnung der ersten Facette 21 über ein entsprechendes Beleuchtungslicht-Teilbündel 26 zur zweiten Facette 25 des zweiten Facettenspiegels 7 findet eine entsprechende Abschattung der x- bzw. y-Erstreckung der ersten Facette 21 statt, um die reflektierende x- bzw. y-Erstreckung dieser ersten Facette 21 auf die auszuleuchtende Kombination aus Objektfeld 8 und Pupille 12a anzupassen. Dies ist in der 5 schematisch durch jeweils einen Führungsstrahl 26 F eines zentralen Objektfeldpunktes veranschaulicht. Dieser Führungsstrahl 26 F steht stellvertretend für das jeweilige gesamte Beleuchtungslicht-Teilbündel 26.Unlike the execution after 4 have the first facets 21 of the first facet mirror 6 to 5 each the same y-extension. Depending on the assignment of the first facet 21 via a corresponding illumination light sub-beam 26 to the second facet 25 of the second facet mirror 7 finds a corresponding shadowing of the x or y extension of the first facet 21 instead, the reflective x- or y-extent of this first facet 21 on the combination of object field to be illuminated 8th and pupil 12a adapt. This is in the 5 schematically by a respective guide beam 26 F of a central object field point illustrated. This leadership 26 F is representative of the respective entire illumination light partial bundle 26 ,

Die in der 5 zweite Feldfacette 21 r von links gehört zu einem Beleuchtungslicht-Teilbündel 26 r F, das von einer randseitigen zweiten Facette 25 r hin zum Objektfeld 8 in die vorgegebene Eintrittspupille 12a reflektiert wird. Aufgrund dieser randseitigen Lage der zweiten Facette 25 r kann nur eine kleine y-Erstreckung der ersten Facette 21 r zur Objektbeleuchtung beitragen. Aus diesem Grunde schattet ein Blendenkörper 28 r die Feldfacette 21 r sehr stark, nämlich längs größtenteils ihrer y-Erstreckung ab. Die in der 5 vierte Feldfacette 21 z von links beleuchtet eine der zentralen zweiten Facetten 25 z über ein Beleuchtungslicht-Teilbündel 26 z. Hier kann praktisch die gesamte y-Erstreckung der Feldfacette 21 z zur Objektbeleuchtung beitragen, weswegen diese Feldfacette 21 z praktisch nicht abgeschattet ist. Ein Blendenkörper 28 z ist aus der zugeordneten Feldfacette 21 z praktisch vollständig herausgefahren.The in the 5 second field facet 21 r from the left belongs to an illumination light sub-beam 26 r F , that of a marginal second facet 25 r towards the object field 8th into the given entrance pupil 12a is reflected. Due to this peripheral position of the second facet 25 r can only have a small y-extension of the first facet 21 r help for object illumination. For this reason, an aperture body shadows 28 r the field facet 21 r very strong, namely along most of their y-extension from. The in the 5 fourth field facet 21 z illuminates one of the central second facets from the left 25 z via an illumination light sub-beam 26 for example Here can be practically the entire y-extension of the field facet 21 z contribute to the object lighting, which is why this field facet 21 z is practically not shadowed. A visor body 28 z is from the assigned field facet 21 z almost completely pulled out.

Eine intermediäre Situation ist in der 5 anhand der dritten Feldfacette 21 m von rechts und anhand der ganz rechten Feldfacette 21 m dargestellt. Diese beiden Feldfacetten 21 m gehören zu zweiten Facetten 25 m, die zwischen randseitigen zweiten Facetten 25 r und zentralen zweiten Facetten 25 z angeordnet sind. Die den ersten Facetten 21 m zugeordneten Blendenkörper 28 m decken entsprechend einen mittleren y-Erstreckungsbereich der ersten Facetten 21 m zur Beleuchtungsanpassung ab.An intermediate situation is in the 5 based on the third field facet 21 m from the right and from the right-most field facet 21 m shown. These two field facets 21 m belong to second facets 25 m , between edge second facets 25 r and central second facets 25 z are arranged. The first facets 21 m associated diaphragm body 28 m correspondingly cover a mean y-extension range of the first facets 21 m for lighting adjustment.

Die abschattende Wirkung ist in der 5 beispielhaft für die y-Dimension der ersten Facetten 21 veranschaulicht. Eine entsprechende abschattende Wirkung kann alternativ oder zusätzlich in der x-Dimension der ersten Facetten 21 vorliegen, wie im Zusammenhang mit der 6 erläutert ist.The shading effect is in the 5 exemplary for the y-dimension of the first facets 21 illustrated. A corresponding shading effect may alternatively or additionally be in the x-dimension of the first facets 21 exist as related to the 6 is explained.

Eine Blende 29, die zur vorgegebenen Abschattung der ersten Facetten 21 mit an das gewünschte Beleuchtungssetting angepasster Abschattung verwendet werden kann, ist in der 6 gezeigt. Dargestellt sind beispielhaft neun Blendenkörper 28. Diese sind von einer Gitter-Tragstruktur 30 getragen, die wiederum von einem Halterahmen 31 mit runder Randkontur getragen ist. Die Rasterung der Gitter-Tragstruktur 30 entspricht derjenigen des ersten Facettenspiegels 6, was in der 6 lediglich schematisch angedeutet ist. Blenden-Tragstreben 32 der Gitter-Tragstruktur 30 verlaufen jeweils längs Zwischenräumen zwischen benachbarten ersten Facetten 21, sodass die Haltestruktur 31 das von den ersten Facetten 21 reflektierte Beleuchtungslicht 3 nicht nennenswert schwächt.A panel 29 that give the predetermined shading of the first facets 21 can be used with adapted to the desired lighting setting shadowing is in the 6 shown. Illustrated are exemplified nine visor body 28 , These are of a grid support structure 30 worn, in turn, from a support frame 31 worn with round edge contour. The screening of the grid support structure 30 corresponds to that of the first facet mirror 6 what in the 6 is indicated only schematically. Iris support struts 32 the grid support structure 30 each run along spaces between adjacent first facets 21 so the holding structure 31 that from the first facets 21 reflected illumination light 3 does not weaken appreciably.

Die Blendenkörper 28 sind mit sehr geringem z-Abstand zum ersten Facettenspiegel 6 angeordnet. Dieser z-Abstand liegt beispielsweise im Bereich zwischen 0,1 mm und 10 mm und insbesondere im Bereich zwischen 0,1 mm und 1 mm.The visor body 28 are at a very low z-distance to the first facet mirror 6 arranged. This z-distance is for example in the range between 0.1 mm and 10 mm and in particular in the range between 0.1 mm and 1 mm.

Sieben der neun der in der 6 dargestellten Blendenkörper 28 sind zur abschnittsweisen Abschattung genau einer ersten Facette 21 und damit eines Beleuchtungslicht-Teilbündels 26 ausgeführt. Zwei der Blendenkörper 28, die in der 6 mit 28 D bezeichnet sind, sind zur abschnittsweisen Abschattung von mehreren ersten Facetten 21 und damit von mehreren, nämlich von zwei, Beleuchtungslicht-Teilbündeln 26 ausgeführt.Seven of the nine in the 6 shown visor body 28 are for the partial shading of exactly one first facet 21 and thus an illumination light sub-beam 26 executed. Two of the visor bodies 28 in the 6 With 28 D are for partially shading of several first facets 21 and thus of several, namely two, illumination light sub-beams 26 executed.

Die Blendenkörper 28 r schatten bei der Blende 29 nach 6 einen Großteil der ihnen zugeordneten ersten Facette 21 r, nämlich etwa 80% von deren x-Erstreckung, ab.The visor body 28 r shadow at the aperture 29 to 6 a large part of the first facet associated with them 21 r , about 80% of their x extension.

Die Blendenkörper 28 z schatten bei der Blende 29 nach 6 lediglich einen kleinen Abschnitt der gesamten x-Erstreckung der ersten Facetten 21 ab, nämlich beispielsweise 10% oder 20% der gesamten x-Erstreckung der ersten Facetten 21.The visor body 28 z shadow at the aperture 29 to 6 only a small portion of the entire x-extension of the first facets 21 For example, for example, 10% or 20% of the total x-extent of the first facets 21 ,

Die beiden Blendenkörper 28 D, die zwei benachbarte erste Facetten 21 abschatten, sind bei dem Ausführungsbeispiel nach 6 symmetrisch ausgeführt und schatten bei beiden ersten Facetten 21 jeweils in etwa den gleichen Anteil deren x-Erstreckung ab. Eine solche symmetrische Ausführung ist nicht zwingend. Ein mehrere erste Facetten 21 abschattender Blendenkörper 28 kann auch so ausgeführt sein, dass er für eine erste Feldfacette 21 als stark abschattender Blendenkörper 28 r und für eine andere der ersten Facetten 21 als schwach abschattender Blendenkörper 28 z ausgeführt ist.The two diaphragm bodies 28 D , the two adjacent first facets 21 shadow, are in the embodiment after 6 symmetrically designed and shadows on both first facets 21 each about the same proportion of their x-extension from. Such a symmetrical design is not mandatory. A first several facets 21 shading aperture body 28 may also be designed to be for a first field facet 21 as a strongly shading visor body 28 r and for another one of the first facets 21 as a faint shading visor body 28 z is executed.

Die 7 und 8 zeigen Ausführungsbeispiele für weitere Blenden nach Art der anhand der 6 erläuterten Blende 29. Dargestellt sind in den 7 und 8 jeweils diejenigen Abschnitte der ersten Facetten 21, die nicht abgeschattet sind. Die von den Blendenkörpern 28 der Blende 29 nach den 7 und 8 abgeschatteten Abschnitte der ersten Facetten 21 stellen gleichsam die Zwischenräume zwischen diesen nicht abgeschatteten Abschnitten dar.The 7 and 8th show exemplary embodiments of further panels on the type of reference to the 6 explained aperture 29 , Shown in the 7 and 8th in each case those sections of the first facets 21 that are not shadowed. The of the visor bodies 28 the aperture 29 after the 7 and 8th shadowed sections of the first facets 21 represent as it were the spaces between these unshaded sections.

7 zeigt eine Gestaltung der Blende 29 zur Vorgabe einer Eintrittspupille 12a nach Art eines x-Dipols. Ein derartiges x-Dipol-Beleuchtungssetting ist beispielhaft aus der WO 2015/036226 A1 bekannt. 7 shows a design of the aperture 29 to specify an entrance pupil 12a in the manner of an x-dipole. Such an x-dipole illumination setting is exemplified in FIG WO 2015/036226 A1 known.

Das x-Dipolsetting erfordert eine relativ starke integrale Abschattung des ersten Facettenspiegels 6. Relativ wenige Feldfacetten 21 werden dabei nur gering abgeschattet. Diese starke Abschattung ist bei der dargestellten Ausführung einer gewählten Startkonfiguration geschuldet und ist nicht zwingend.The x-dipole setting requires a relatively strong integral shadowing of the first facet mirror 6 , Relatively few field facets 21 are only slightly shaded. This strong shading is owed in the illustrated embodiment of a selected starting configuration and is not mandatory.

8 zeigt die Konfiguration einer Blende 29 zur Erzeugung eines Beleuchtungssettings „y-Dipol“, das grundsätzlich ebenfalls aus der WO 2015/036226 A1 bekannt ist. Zur Erzeugung eines solchen y-Dipol-Beleuchtungssettings müssen relativ wenige Bereiche des ersten Facettenspiegels 6 abgeschattet werden. Praktisch keine der ersten Facetten 21 muss gänzlich abgeschattet werden. Viele der ersten Facetten 21 müssen nicht oder kaum abgeschattet werden. 8th shows the configuration of an aperture 29 for generating a lighting setting "y-dipole", which in principle also from the WO 2015/036226 A1 is known. In order to produce such a y-dipole illumination setting, relatively few regions of the first facet mirror must be used 6 to be shaded. Virtually none of the first facets 21 must be completely shielded. Many of the first facets 21 do not have to be shadowed or barely.

Anhand der 9 bis 13 werden zwei alternative Facettenzuordnungen zur Erzeugung ein und desselben vorgegebenen x-Dipol-Beleuchtungssettings erläutert, für die beim gleichen Satz erster Feldfacetten 21 unterschiedliche Blendenkörper-Konfigurationen erforderlich sind.Based on 9 to 13 Two alternative facet assignments for generating one and the same predetermined x-dipole illumination setting are explained for which the same set of first field facets 21 different diaphragm body configurations are required.

9 zeigt insgesamt sechs erste Facetten 21 einer weiteren Ausführung eines ansonsten nicht dargestellten ersten Facettenspiegels 6. Die ersten Facetten 21 sind in einem Fernfeld 33 der Lichtquelle 2 angeordnet. Im Unterschied zur Ausführung nach den 2 und 5 haben die ersten Facetten 21 des ersten Facettenspiegels 6 nach 9 zueinander unterschiedliche x-Erstreckungen. Von Haus aus sind die ersten Facetten 21 also zweiten Facetten 25 zugeordnet, die zur Ausleuchtung einer bestimmten Ausgangs-Beleuchtungswinkelverteilung, also eines bestimmten Ausgangs-Beleuchtungssettings besonders geeignet sind. Zusätzlich können diese ersten Facetten 21 noch über Blendenkörper-Konfigurationen verschiedener Ausgestaltungen von Blenden 29 abgeschattet werden, was anhand der 10 bis 13 erläutert wird. 9 shows a total of six first facets 21 a further embodiment of an otherwise not shown first facet mirror 6 , The first facets 21 are in a far field 33 the light source 2 arranged. In contrast to the execution of the 2 and 5 have the first facets 21 of the first facet mirror 6 to 9 mutually different x-extensions. Home-made are the first facets 21 So second facets 25 assigned, which are particularly suitable for the illumination of a particular output illumination angle distribution, that is, a specific output Beleuchtungssettings. In addition, these first facets 21 nor about aperture body configurations of various designs of apertures 29 be shadowed, which is based on the 10 to 13 is explained.

Bei der Ausführung nach 9 sind die Feldfacetten 21 nicht streng spaltenweise, aber streng zeilenweise angeordnet. Zwischenräume zwischen den Feldfacetten 21 verlaufen daher längs der x-Richtung durchgehend, nicht aber längs der y-Richtung (Scanrichtung).In the execution after 9 are the field facets 21 not strictly column-wise, but arranged strictly line by line. Spaces between the field facets 21 therefore run along the x-direction continuously, but not along the y-direction (scan direction).

Bei der ersten Zuordnung nach den 10 und 11 sind den ersten Facetten 21 1 bis 21 6 zweite Facetten 25 1 bis 25 6 zugeordnet. Die am wenigsten in der x-Dimension abgeschatteten Feldfacetten 21 1 und 21 6 gehören zu zweiten Facetten 25 1 und 25 6, die nahe eines Intensitäts-Beaufschlagungsmaximums zur Erzeugung des x-Dipol-Beleuchungs-settings auf dem zweiten Facettenspiegel 7 angeordnet sind. Je nachdem, ob die Blendenkörper 28 1 bis 28 6 einen linken oder einen rechten x-Abschnitt der Feldfacette 21 1 bis 21 6 abschatten, wird dabei eine zweite Facette 25 im Bereich des linken oder rechten Intensitäts-Beaufschlagungsbereichs I1 oder I2 auf dem zweiten Facettenspiegel 7 zur Zuordnung ausgewählt.At the first assignment after the 10 and 11 are the first facets 21 1 to 21 6 second facets 25 1 to 25 6 assigned. The least shaded field facets in the x dimension 21 1 and 21 6 belong to second facets 25 1 and 25 6 , near an intensity bias maximum for generating the x-dipole illumination settings on the second facet mirror 7 are arranged. Depending on whether the visor body 28 1 to 28 6 a left or a right x Section of the field facet 21 1 to 21 6 shading becomes a second facet 25 in the region of the left or right intensity application region I 1 or I 2 on the second facet mirror 7 selected for assignment.

Die Facettenzuordnung der Feldfacetten 21 1 bis 21 6 zu den zweiten Facetten 25 1 bis 25 6 ist bei der Ausführung nach den 10 und 11 so, dass jeder Blendenkörper 28 1 bis 28 6 abschnittsweise genau eine Feldfacette 21 1 bis 21 6 abschattet. Entsprechend wird jeder der Blendenkörper 28 1 bis 28 6 individuell von längs der x-Richtung verlaufenden Blenden-Tragstreben 32 getragen.The facet mapping of the field facets 21 1 to 21 6 to the second facets 25 1 to 25 6 is in the execution of the 10 and 11 so that every visor body 28 1 to 28 6 sections exactly one field facet 21 1 to 21 6 shaded. Accordingly, each of the visor body 28 1 to 28 6 individually from along the x-direction extending diaphragm support struts 32 carried.

Bei der Ausführung nach den 12 und 13 erfolgt eine Zuordnung der zweiten Facetten 25 1 bis 25 6 zu den ersten Facetten 21 1 bis 21 6 derart, dass jeweils ein Blendenkörper 28 1,2 D, 28 3,4 D und 28 5,6 D zwei Feldfacetten 21 1 und 21 1, 21 3 und 21 4 sowie 21 5 und 21 6 abschattet.In the execution of the 12 and 13 an assignment of the second facets takes place 25 1 to 25 6 to the first facets 21 1 to 21 6 such that in each case a diaphragm body 28 1,2 D , 28 3,4 D and 28 5.6 D two field facets 21 1 and 21 1 , 21 3 and 21 4 as well 21 5 and 21 6 shaded.

Die gewählte Facettenzuordnung ist zudem derart, dass die Blendenkörper 28 1,2 D, 28 3,4 D und 28 5,6 D in der x-Dimension überlappen und somit insgesamt auch über die Blenden-Tragstreben 32 miteinander flächig zusammenhängen. Es resultiert ein insgesamt zusammenhängender Blenden-Hauptkörper 34, dessen Abschnitte die Blendenkörper 28 für die sechs ersten Facetten 21 1 bis 21 6 bilden.The selected facet assignment is also such that the visor body 28 1,2 D , 28 3,4 D and 28 5.6 D in the x-dimension overlap and thus also overall over the diaphragm support struts 32 interconnected with each other. The result is an overall contiguous diaphragm main body 34 whose sections are the visor body 28 for the six first facets 21 1 to 21 6 form.

Anhand der 14 werden weitere Ausführungen von Blendenkörpern 28 für die Blende 29 beschrieben. Die Blendenkörper 28 nach 14 haben ein längs der x-Richtung bewegliches Blendenelement 35, welches nach Art eines abschattenden Dachfenster-Rollos aufwickelbar gestaltet ist. Geführt wird das Blendenelement 35 über Führungsschienen 36, die längs der x-Richtung verlaufen und wiederum von der Blenden-Tragstruktur 32 getragen werden. Ein Auf- und Abrollantrieb 37 für jedes Blendenelement 35 ist unterhalb einer Permanentabschattung durch das Blendenelement 35 angebracht, was in der 14 für den obersten dort dargestellten Blendenkörper schematisch gestrichelt dargestellt ist.Based on 14 Be further versions of visor bodies 28 for the aperture 29 described. The visor body 28 to 14 have a diaphragm element movable along the x-direction 35 , which is designed to be wound up in the manner of a shading roof window blinds. The aperture element is guided 35 over guide rails 36 extending along the x-direction and in turn from the diaphragm support structure 32 be worn. An up and down drive 37 for each panel element 35 is below a Permanentabschattung by the aperture element 35 attached, what in the 14 is shown schematically by dashed lines for the topmost diaphragm body shown there.

Alternativ kann jeweils eine der Blenden 29 mit vorgegebener Blendenkörper-Konfiguration als gestanztes und insbesondere monolithisches Bauteil, beispielsweise aus Metall, gefertigt sein. Die Blende 29 kann auch aus mehreren und gegebenenfalls gegeneinander austauschbaren Blendenabschnitten, jeweils mit einer vorgegebenen Blendenkörper-Konfiguration aufgebaut sein.Alternatively, one of the panels 29 be manufactured with a predetermined aperture body configuration as a stamped and in particular monolithic component, for example made of metal. The aperture 29 can also be made up of several and optionally mutually exchangeable aperture sections, each with a predetermined aperture body configuration.

Zur Vorgabe verschiedener Beleuchtungssettings kann eine entsprechende Mehrzahl von Blenden 29 mit jeweils unterschiedlicher Blendenkörper-Konfiguration vorgesehen sein, wobei die verschiedenen Blenden 29 in einem Blenden-Wechselhalter 38 vorgehalten werden können. Es kann ein Wechselhalter zum Einsatz kommen, wie er beispielsweise im Zusammenhang mit der US 2009/0251677 A1 beschrieben wurde. Dies ist in der 1 schematisch angedeutet. Eine ausgewählte Blende 29 ist dort im Strahlengang des Beleuchtungslichts 3 vor dem ersten Facettenspiegel 6 angeordnet. Ein Wechselantrieb 39 des Blenden-Wechselhalters 38 steht einerseits mit der ausgewählten Blende 29 und andererseits mit Wechselblenden 29 W innerhalb eines Blendenmagazins 40 in mechanischer Verbindung. Je nach auszuwählendem Beleuchtungssetting kann mit dem Blenden-Wechselhalter 38 eine diesem Beleuchtungssetting zugeordnete Blende 29 mit vorgegebener Blendenkörper-Konfiguration ausgewählt und in den Strahlengang des Beleuchtungslichts 3 vor dem ersten Facettenspiegel 6 eingebracht werden.To specify different lighting settings, a corresponding plurality of panels 29 be provided with different aperture body configuration, the different panels 29 in an aperture change holder 38 can be kept. It can come to a change holder are used, as for example in connection with the US 2009/0251677 A1 has been described. This is in the 1 indicated schematically. A selected aperture 29 is there in the beam path of the illumination light 3 before the first facet mirror 6 arranged. A change drive 39 the aperture change holder 38 stands on the one hand with the selected aperture 29 and on the other hand with changing diaphragms 29 W within an aperture magazine 40 in mechanical connection. Depending on the illumination setting to be selected, the aperture change holder can be used 38 an aperture associated with this illumination setting 29 selected with predetermined aperture body configuration and in the beam path of the illumination light 3 before the first facet mirror 6 be introduced.

Die 15 und 16 zeigen eine weitere Ausführung eines ersten Facettenspiegels 6 mit ein und derselben Blende 29, die in der x-Richtung verlagerbar ausgestaltet und in den beiden 15 und 16 in zwei verschiedenen x-Positionen dargestellt ist. Die Blende 29 ist dabei in ihrer Anordnungsebene, also in der Zeichenebene der 15 und 16 verlagerbar.The 15 and 16 show a further embodiment of a first facet mirror 6 with one and the same aperture 29 , which are designed to be displaceable in the x-direction and in the two 15 and 16 is shown in two different x-positions. The aperture 29 is in its arrangement level, ie in the plane of the 15 and 16 displaced.

Der erste Facettenspiegel 6 nach den 15 und 16 ist schematisch mit achtunddreißig ersten Facetten 21 dargestellt, die innerhalb eines runden Facetten-Tragkörpers 41 dicht gepackt zeilenweise angeordnet sind. 22 der achtunddreißig ersten Facetten 21 haben dabei die gleiche x-Ausdehnung und das gleiche x/y-Aspektverhältnis. Längs der x-Richtung randseitige erste Facetten 21 haben im Vergleich hierzu eine kleinere und jeweils an die Lage zum Rand des Facetten-Tragkörpers 41 angepasste x-Erstreckung.The first facet mirror 6 after the 15 and 16 is schematic with thirty-eight first facets 21 shown within a round facet support body 41 densely packed are arranged line by line. 22 of the thirty-eight first facets 21 have the same x-dimension and the same x / y-aspect ratio. Along the x-direction edge-side first facets 21 have in comparison to a smaller and in each case to the position to the edge of the facet-carrying body 41 adapted x-extension.

Die Blende 29 hat eine Blendenkörper-Konfiguration, bei der die Blendenkörper 28 jeweils versetzt zeilenweise nach Art der schwarzen Felder eines Schachbrettmusters angeordnet sind. The aperture 29 has a visor body configuration, in which the visor body 28 each staggered line by type of black fields of a checkerboard pattern are arranged.

Die Konfiguration der Blendenkörper 28 ist in der Position der Blende 29 nach 15 so über die Anordnung der Feldfacetten 21 gefahren, dass die überwiegende Mehrzahl der Feldfacetten 21 etwa zur Hälfte längs der x-Dimensions abgeschattet ist. Die resultierenden, über nicht abgeschattete Feldfacetten 21 reflektierten Beleuchtungslicht-Teilbündel haben eine entsprechend geringe x-Erstreckung und sind somit zur Ausleuchtung eines Beleuchtungssettings nach Art eines x-Dipols geeignet.The configuration of the visor body 28 is in the position of the aperture 29 to 15 so about the arrangement of the field facets 21 driven that the vast majority of field facets 21 is shadowed about halfway along the x-dimensions. The resulting, over unshaded field facets 21 Reflected illumination light sub-beams have a correspondingly small x-extension and are thus suitable for illuminating a lighting setting in the manner of an x-dipole.

Bei der Blendenposition nach 16 ist die Blende 29 im Vergleich zur Position nach 15 um eine halbe x-Erstreckung einer Feldfacette 21 nach rechts verschoben. Etwa die Hälfte der Feldfacetten 21 ist dann vollständig abgeschattet und etwa die andere Hälfte der Feldfacetten 21 ist praktisch nicht oder nur gering abgeschattet. Es resultieren Beleuchtungslicht-Teilbündel mit praktisch maximaler x-Erstreckung, die zur Ausleuchtung eines Beleuchtungssettings „y-Dipol“ geeignet sind.At the iris position after 16 is the aperture 29 compared to the position after 15 by a half x extension of a field facet 21 moved to the right. About half of the field facets 21 is then completely shadowed and about the other half of the field facets 21 is practically not or only slightly shadowed. This results in illumination light sub-beams with practically maximum x-extension, which are suitable for illuminating a lighting setting "y-dipole".

Mit Hilfe ein und derselben verlagerbaren Blende 29 lässt sich also eine Beleuchtungs-Konfiguration einerseits für ein x-Dipol-Beleuchtungssetting und andererseits für ein y-Dipol-Beleuchtungssetting realisieren. Zusätzlich zur Verlagerung der Blende 29 kann zur Realisierung eines entsprechenden Wechsels des Beleuchtungssettings auch eine Zuordnung der ersten Facetten 21 zu den zweiten Facetten 25 und entsprechend eine Bündelführung der Beleuchtungslicht-Teilbündel 26 geändert werden. Eine solche Änderung der Bündelführung setzt voraus, dass die Facetten 21 und 25 angetrieben verkippbar und insbesondere schaltbar ausgeführt sind.With the help of one and the same movable shutter 29 Thus, it is possible to realize a lighting configuration on the one hand for an x-dipole illumination setting and on the other hand for a y-dipole illumination setting. In addition to shifting the aperture 29 For realizing a corresponding change of the illumination setting, it is also possible to assign the first facets 21 to the second facets 25 and a bundle guide of the illumination light sub-beams, respectively 26 be changed. Such a change of the bundle guidance presupposes that the facets 21 and 25 driven tiltable and are designed in particular switchable.

Zur Verlagerung der Blende 29 steht diese mit einem Verlagerungsantrieb 42 in mechanischer Wirkverbindung, der in der 15 schematisch angedeutet ist. Über den Verlagerungsantrieb 42 ist eine Verlagerung der Blende 29 längs der x-Dimension und/oder längs der y-Dimension möglich.To shift the aperture 29 this stands with a displacement drive 42 in mechanical operative connection, which is in the 15 is indicated schematically. About the displacement drive 42 is a shift of the aperture 29 along the x-dimension and / or along the y-dimension possible.

Bei der Bestimmung einer Blendenkörper-Konfiguration mindestens einer der Blenden 29 kann folgendermaßen vorgegangen werden: Zunächst wird eine Ausgangs-Beleuchtungswinkelverteilung, also ein Ausgangs-Beleuchtungssetting, einer Objektfeldbeleuchtung, aus der durch Abschattung von Beleuchtungslicht-Teilbündeln 26 mindestens eine Ziel-Beleuchtungswinkelverteilung hervorgeht, ausgewählt, wobei die Ziel-Beleuchtungswinkelverteilung vollständig in der Ausgangs-Beleuchtungswinkelverteilung enthalten ist.When determining an aperture body configuration, at least one of the apertures 29 can proceed as follows: First, an output illumination angle distribution, ie an output illumination setting, an object field illumination, from the shading of illumination light partial beams 26 At least one target illumination angle distribution is selected, wherein the target illumination angle distribution is completely contained in the output illumination angle distribution.

Beispiele derartiger Beleuchtungswinkelverteilungen zeigen die 17 bis 19, die jeweils eine Intensitätsverteilung einer Ausleuchtung einer Eintrittspupille 12a mit dem Beleuchtungslicht 3, das in eine Mehrzahl von Beleuchtungslicht-Teilbündeln 26 aufgeteilt ist, für einen Objektfeldpunkt wiedergibt. Dargestellt ist diese Intensitätsverteilung ebenfalls in xy-Koordinaten, denen die Pupillenkoordinaten Sigmax, Sigmay zugeordnet sind.Examples of such illumination angle distributions show the 17 to 19 , each having an intensity distribution of an illumination of an entrance pupil 12a with the illumination light 3 placed in a plurality of illumination light sub-beams 26 is displayed for an object field point. This intensity distribution is also shown in xy coordinates to which the pupil coordinates sigma x , sigma y are assigned.

17 zeigt dabei ein annulares Beleuchtungssetting, bei dem die Eintrittspupille 12a ringförmig randseitig ausgeleuchtet wird. 17 shows an annular illumination setting, in which the entrance pupil 12a annular edge is illuminated.

Die 18 zeigt ein x-Dipol-Beleuchtungssetting, welches durch Abschattung eines oberen und unteren Abschnitts der Pupillenausleuchtung nach 17 erreicht ist.The 18 shows an x-dipole illumination setting resulting from shading an upper and lower portion of the pupil illumination 17 is reached.

19 zeigt entsprechend ein y-Dipol-Beleuchtungssetting, welches durch Abschattung rechter und linker Abschnitte der Intensitätsverteilung nach 17 erreicht ist. 19 shows a y-dipole illumination setting, which by shading right and left sections of the intensity distribution according to 17 is reached.

Alternativ zur Anordnung, bei der die Ziel-Beleuchtungswinkelverteilung vollständig in der Ausgangs-Beleuchtungswinkelverteilung enthalten ist, kann die Ausgangs-Beleuchtungswinkelverteilung auch so gewählt werden, dass die Ziel-Beleuchtungswinkelverteilung teilweise in der Ausgangs-Beleuchtungswinkelverteilung enthalten ist.As an alternative to the arrangement in which the target illumination angle distribution is completely included in the output illumination angle distribution, the output illumination angle distribution may also be selected such that the target illumination angle distribution is partially included in the output illumination angle distribution.

Im Rahmen des Blendenkörper-Konfigurations-Bestimmungsverfahrens wird nach dieser Auswahl die zur Erzeugung der beiden Ziel-Beleuchtungswinkelverteilungen erforderlichen Abschattungen jedes Beleuchtungslicht-Teilbündels 26 bestimmt. Dies geschieht bei einer vorgegebenen Zuordnung der Feldfacetten 21 i (i = 1 bis N, N: Zahl der ersten Facetten) zu den zweiten Facetten 25 j (j = 1 bis M, M: Anzahl der zweiten Facetten).As part of the diaphragm body configuration determination method, after this selection, the shading of each illuminating light sub-beam required to produce the two target illumination angle distributions becomes 26 certainly. This happens with a predetermined assignment of the field facets 21 i (i = 1 to N, N: number of first facets) to the second facets 25 j (j = 1 to M, M: number of second facets).

Anschließend wird jeder Blendenkörper, zugeordnet zu dem jeweiligen Beleuchtungslicht-Teilbündel, so gestaltet, dass für jedes Beleuchtungslicht-Teilbündel 26 unter Nutzung des gestalteten Blendenkörpers 28 die vorher bestimmte Abschattung resultiert.Subsequently, each diaphragm body associated with the respective illumination light sub-beam is designed such that for each illumination light sub-beam 26 using the designed visor body 28 the previously determined shading results.

20 zeigt in einer zu 5 ähnlichen Darstellung eine weitere Ausführung eines ersten Facettenspiegels 6 sowie einer zugehörigen Blende 29, die anstelle dieser Komponenten bei der Ausführung nach 5 zum Einsatz kommen kann. 20 shows in one too 5 similar representation of a further embodiment of a first facet mirror 6 and an associated aperture 29 , instead of these components in the execution after 5 can be used.

Sowohl der Feldfacettenspiegel 6 als auch die Blende 29 sind bei der Ausführung nach 20 auf einem konkav gekrümmten Grundkörper angebracht. Die Grundkrümmungen des ersten Facettenspiegels 6 sowie der Blende 29 mit den Blendenkörpern 28 nach 20 sind aufeinander abgestimmt, sodass ein Abstand zwischen den Blendenkörpern 28 und den zugeordneten ersten Facetten minimiert ist.Both the field facet mirror 6 as well as the aperture 29 are in the execution after 20 mounted on a concavely curved body. The base curvatures of the first facet mirror 6 as well as the aperture 29 with the visor bodies 28 to 20 are coordinated so that a distance between the visor bodies 28 and the associated first facets is minimized.

Zu weiteren Details möglicher Ausführungen des Übertragungs-Facettenspiegels 6, des Spekularfacettenspiegels 7 und der Projektionsoptik 10 wird, abgesehen von der monolithischen Gestaltung der ersten Facetten 21, verwiesen auf die WO 2015/036266 A1 und auf die WO 2010/099 807 A . Zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils, insbesondere eines hoch integrierten Halbleiterbauelements, beispielsweise eines Speicherchips, mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage 1 werden zunächst das Retikel 12 und der Wafer 19 bereitgestellt. Es wird dann das bereitzustellende Beleuchtungssetting ausgewählt, beispielsweise ein x-Dipol-Beleuchtungssetting und durch Vorgabe einer entsprechenden Zuordnung der Facetten 21, 25 und insbesondere durch Vorgabe einer entsprechenden Blendenkörper-Konfiguration eingestellt. Anschließend wird eine Struktur auf dem Retikel 12 mit der Projektionsoptik der Projektionsbelichtungsanlage 1 auf eine lichtempfindliche Schicht auf dem Wafer 19 projiziert. Dabei werden einerseits das Retikel 12 und andererseits der Wafer 19 synchronisiert zueinander längs der Scanrichtung y gescannt. Durch Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht wird dann eine Mikrostruktur auf dem Wafer 19 und hieraus das mikro- beziehungsweise nanostrukturierte Bauteil erzeugt.For further details of possible embodiments of the transmission facet mirror 6 , the specular facet mirror 7 and the projection optics 10 apart from the monolithic design of the first facets 21 , referred to the WO 2015/036266 A1 and on the WO 2010/099807 A , For producing a microstructured component, in particular a highly integrated semiconductor component, for example a memory chip, with the aid of the projection exposure apparatus 1 be the reticle first 12 and the wafer 19 provided. Then the illumination setting to be provided is selected, for example an x-dipole illumination setting and by Specification of a corresponding assignment of the facets 21 . 25 and in particular set by specifying a corresponding visor body configuration. Subsequently, a structure on the reticle 12 with the projection optics of the projection exposure machine 1 on a photosensitive layer on the wafer 19 projected. On the one hand, the reticle 12 and on the other hand, the wafer 19 synchronized with each other along the scan direction y scanned. Development of the photosensitive layer then results in a microstructure on the wafer 19 and from this the micro- or nanostructured component produced.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • WO 2015/036226 A1 [0002, 0068, 0070] WO 2015/036226 A1 [0002, 0068, 0070]
  • WO 2010/099807 A1 [0002] WO 2010/099807 A1 [0002]
  • US 2006/0132747 A1 [0002] US 2006/0132747 A1 [0002]
  • US 2009/0251677 A1 [0080] US 2009/0251677 A1 [0080]
  • WO 2015/036266 A1 [0098] WO 2015/036266 A1 [0098]
  • WO 2010/099807 A [0098] WO 2010/099807 A [0098]

Claims (15)

Beleuchtungsoptik (11) für die Projektionslithografie zur Beleuchtung eines Objektfeldes (8), in dem ein abzubildendes Objekt (12) anordenbar ist, längs eines Beleuchtungs-Strahlengangs, – mit einem ersten Facettenspiegel (6) mit ersten Facetten (21) zur reflektierenden Führung von Beleuchtungslicht (3) und zur Anordnung in einem Nutzbereich eines Fernfeldes (33) einer EUV-Lichtquelle (2), – mit einem zweiten Facettenspiegel (7) zur reflektierenden Führung des vom ersten Facettenspiegel (6) reflektierten Beleuchtungslichts (3) hin zum Objektfeld (8), – wobei der zweite Facettenspiegel (7) zweite Facetten (25) zur Führung jeweils eines Beleuchtungslicht-Teilbündels (26) in das Objektfeld (8) aufweist, – wobei der erste Facettenspiegel (6) in einer Feldebene (6a) der Beleuchtungsoptik (11) angeordnet ist, – wobei der zweite Facettenspiegel (7) beabstandet von einer Feldebene und von einer Pupillenebene (12b) der Beleuchtungsoptik (11) angeordnet ist, – wobei die beiden Facettenspiegel (6, 7) so zueinander angeordnet sind, dass zumindest einige der Beleuchtungslicht-Teilbündel (26) über erste Facetten (21) des ersten Facettenspiegels (6) mit nahtlos zusammenhängenden Reflexionsflächen geführt werden.Illumination optics ( 11 ) for projection lithography for illuminating an object field ( 8th ), in which an object to be imaged ( 12 ) can be arranged, along an illumination beam path, - with a first facet mirror ( 6 ) with first facets ( 21 ) for the reflective guidance of illumination light ( 3 ) and for arrangement in a useful region of a far field ( 33 ) of an EUV light source ( 2 ), - with a second facet mirror ( 7 ) for the reflective guidance of the first facet mirror ( 6 ) reflected illumination light ( 3 ) to the object field ( 8th ), Wherein the second facet mirror ( 7 ) second facets ( 25 ) for guiding a respective illumination light partial bundle ( 26 ) in the object field ( 8th ), wherein the first facet mirror ( 6 ) in a field level ( 6a ) of the illumination optics ( 11 ), wherein the second facet mirror ( 7 ) spaced from a field plane and from a pupil plane ( 12b ) of the illumination optics ( 11 ), the two facet mirrors ( 6 . 7 ) are arranged to one another such that at least some of the illumination light partial bundles ( 26 ) on first facets ( 21 ) of the first facet mirror ( 6 ) are guided with seamlessly connected reflection surfaces. Beleuchtungsoptik nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch mindestens eine Blende (29), zur Abschattung mindestens eines Abschnitts mindestens eines Beleuchtungslicht-Teilbündels (26).Illumination optics according to claim 1, characterized by at least one diaphragm ( 29 ), for shading at least a portion of at least one illumination light sub-beam ( 26 ). Beleuchtungsoptik nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Blende (29) zur Abschattung mindestens eines Abschnitts einer Mehrzahl der Beleuchtungslicht-Teilbündel (26) ausgeführt ist. Illumination optics according to claim 2, characterized in that the diaphragm ( 29 ) for shading at least a portion of a plurality of the illumination light sub-beams ( 26 ) is executed. Beleuchtungsoptik nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass ein Blendenkörper (28D) der Blende (29) zur mindestens abschnittsweisen Abschattung mehrerer Beleuchtungslicht-Teilbündel (26) ausgeführt ist.Illumination optics according to claim 2 or 3, characterized in that a diaphragm body ( 28D ) the aperture ( 29 ) for at least partially shading a plurality of illumination light sub-beams ( 26 ) is executed. Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Blende (29) eine Mehrzahl von Blendenkörpern (28) zur Abschattung jeweils mindestens eines Abschnitts mindestens eines Beleuchtungslicht-Teilbündels (26) aufweist.Illumination optics according to one of claims 2 to 4, characterized in that the diaphragm ( 29 ) a plurality of diaphragm bodies ( 28 ) for shading in each case at least one section of at least one illumination light sub-beam ( 26 ) having. Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Blende (29) insgesamt verlagerbar ist.Illumination optics according to one of claims 2 to 5, characterized in that the diaphragm ( 29 ) is displaceable in total. Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die ersten Facetten (21) angetrieben verkippbar sind.Illumination optics according to one of claims 1 to 6, characterized in that the first facets ( 21 ) are tiltable driven. Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die zweiten Facetten (25) angetrieben verkippbar sind.Illumination optics according to one of claims 1 to 7, characterized in that the second facets ( 25 ) are tiltable driven. Optisches System mit einer Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 8 und mit einer Projektionsoptik (10) zur Abbildung des Objektfeldes (8) in ein Bildfeld (17), in dem ein Wafer (19) anordenbar ist.Optical system with an illumination optical system according to one of claims 1 to 8 and with a projection optical system ( 10 ) for mapping the object field ( 8th ) in an image field ( 17 ), in which a wafer ( 19 ) can be arranged. Projektionsbelichtungsanlage mit einem optischen System nach Anspruch 9 und einer Lichtquelle (2).A projection exposure apparatus comprising an optical system according to claim 9 and a light source ( 2 ). Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils mit folgenden Verfahrensschritten: – Bereitstellung eines Retikels (12), – Bereitstellung eines Wafers (19) mit einer für das Beleuchtungslicht (3) empfindlichen Beschichtung, – Projizieren zumindest eines Abschnitts des Retikels (12) auf den Wafer (19) mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage (1) nach Anspruch 10, – Entwickeln der mit dem Beleuchtungslicht (3) belichteten lichtempfindlichen Schicht auf dem Wafer (19).Method for producing a microstructured component with the following method steps: - Provision of a reticle ( 12 ), - provision of a wafer ( 19 ) with one for the illumination light ( 3 ) sensitive coating, - projecting at least a portion of the reticle ( 12 ) on the wafer ( 19 ) using the projection exposure apparatus ( 1 ) according to claim 10, - developing the with the illumination light ( 3 ) exposed photosensitive layer on the wafer ( 19 ). Verfahren zur Bestimmung einer Blendenkörper-Konfiguration mindestens einer Blende (29) in einer Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 2 bis 8 mit folgenden Schritten: – Wählen einer Ausgangs-Beleuchtungswinkelverteilung einer Objektfeldbeleuchtung, aus der durch Abschattung von Beleuchtungslicht-Teilbündeln (26) mindestens eine Ziel-Beleuchtungswinkelverteilung hervorgeht, wobei die Ziel-Beleuchtungswinkelverteilung teilweise oder vollständig in der Ausgangs-Beleuchtungswinkelverteilung enthalten ist, – Bestimmen der zur Erzeugung der Ziel-Beleuchtungswinkelverteilung erforderlichen Abschattung jedes Beleuchtungslicht-Teilbündels (26), – Gestaltung jedes Blendenkörpers (28) zugeordnet zu den jeweiligen Beleuchtungslicht-Teilbündeln (26), so, dass für jedes Beleuchtungslicht-Teilbündel (26) unter Nutzung des Blendenkörpers (28) die vorher bestimmte Abschattung resultiert.Method for determining an aperture body configuration of at least one aperture ( 29 ) in an illumination optical system according to one of claims 2 to 8, comprising the following steps: selecting an output illumination angle distribution of an object field illumination from which shading of illumination light sub-beams ( 26 ) at least one target illumination angle distribution, the target illumination angle distribution being partially or completely contained in the output illumination angle distribution, determining the shading of each illumination light sub-beam required to produce the target illumination angle distribution ( 26 ), - design of each diaphragm body ( 28 ) associated with the respective illumination light sub-beams ( 26 ), such that for each illumination light sub-beam ( 26 ) using the diaphragm body ( 28 ) the previously determined shading results. Verfahren nach Anspruch 12, gekennzeichnet durch folgende Schritte: – Wählen einer Ausgangs-Beleuchtungswinkelverteilung der Objektfeldbeleuchtung, aus der durch Abschattung von Beleuchtungslicht-Teilbündeln (26) mehrere Ziel-Beleuchtungswinkelver-teilungen hervorgehen, wobei die Ziel-Beleuchtungswinkelver-teilung teilweise oder vollständig in der Ausgangs-Beleuchtungswinkelverteilung enthalten ist, – Bestimmen der zur Erzeugung der Ziel-Beleuchtungswinkelverteilungen erforderlichen Abschattungen jedes Beleuchtungslicht-Teilbündels (26), – Gestaltung jedes Blendenkörpers (28), zugeordnet zu dem jeweiligen Beleuchtungslicht-Teilbündel (26), so, dass für jedes Beleuchtungslicht-Teilbündel (26) unter Nutzung des Blendenkörpers (28) die vorher bestimmte Abschattung zur Erzeugung jeweils einer der Ziel-Beleuchtungswinkelverteilung resultiert, zur Vorgabe einer Blendenkonfiguration einer Blende (29), die dieser Ziel-Beleuchtungswinkelverteilung zugeordnet ist.Method according to Claim 12, characterized by the following steps: selecting an output illumination angle distribution of the object field illumination, from which shadowing of illumination light sub-beams ( 26 a plurality of target illumination angle distributions, wherein the target illumination angle distribution is partially or completely included in the output illumination angle distribution, determining the shading of each illumination light sub-beam required to produce the target illumination angle distributions ( 26 ), - design of each diaphragm body ( 28 ) associated with the respective illumination light sub-beam ( 26 ), such that for each illumination light sub-beam ( 26 ) using the diaphragm body ( 28 ) the previously determined shading results in each case producing one of the target illumination angle distribution, in order to specify a diaphragm configuration of an aperture ( 29 ) associated with this target illumination angle distribution. Verfahren nach Anspruch 13, gekennzeichnet durch ein Bestücken eines Wechselhalters (38) mit den Blenden (29, 29 W) mit den Blendenkörper-Konfigurationen, die den verschiedenen Ziel-Beleuchtungswinkelverteilungen zugeordnet sind.Method according to claim 13, characterized by a loading of a changeable holder ( 38 ) with the panels ( 29 . 29 W ) with the diaphragm body configurations associated with the different target illumination angle distributions. Bauteil, hergestellt nach einem Verfahren nach Anspruch 11.Component produced by a method according to claim 11.
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