DE102015214960A1 - Vorrichtung zur Interferenzstrukturierung einer Oberfläche einer flächigen Probe - Google Patents

Vorrichtung zur Interferenzstrukturierung einer Oberfläche einer flächigen Probe Download PDF

Info

Publication number
DE102015214960A1
DE102015214960A1 DE102015214960.9A DE102015214960A DE102015214960A1 DE 102015214960 A1 DE102015214960 A1 DE 102015214960A1 DE 102015214960 A DE102015214960 A DE 102015214960A DE 102015214960 A1 DE102015214960 A1 DE 102015214960A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
laser beam
partial beams
optical
polarization
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE102015214960.9A
Other languages
English (en)
Other versions
DE102015214960B4 (de
Inventor
Andrés Fabián Lasagni
Teja Roch
Eckhard Beyer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Technische Universitaet Dresden
Original Assignee
Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Technische Universitaet Dresden
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV, Technische Universitaet Dresden filed Critical Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Priority to DE102015214960.9A priority Critical patent/DE102015214960B4/de
Publication of DE102015214960A1 publication Critical patent/DE102015214960A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102015214960B4 publication Critical patent/DE102015214960B4/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/04Prisms
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/0604Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/0604Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
    • B23K26/0608Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams in the same heat affected zone [HAZ]
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/064Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
    • B23K26/0648Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms comprising lenses
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/064Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
    • B23K26/0652Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms comprising prisms
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/352Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/352Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
    • B23K26/355Texturing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/361Removing material for deburring or mechanical trimming
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/28Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising
    • G02B27/283Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising used for beam splitting or combining
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3083Birefringent or phase retarding elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Interferenzstrukturierung einer Oberfläche einer flächigen Probe (1) mit einer Laserstrahlquelle (10), einem im Strahlengang eines von der Laserstrahlquelle (10) emittierten Laserstrahls (3) angeordneten optischen Trennelement (2) zum Auftrennen des auftreffenden polarisierten Laserstrahls (3) in mindestens zwei Teilstrahlen (4, 5) mit jeweils unterschiedlicher Polarisation. Ein Überlagerungselement (7, 7a, 7b, 7c) überlagert die mindestens zwei Teilstrahlen (4, 5) derart auf der zu strukturierenden Oberfläche der Probe (1), dass die mindestens zwei Teilstrahlen (4, 5) auf der Probe (1) interferieren. Im Strahlengang mindestens eines der Teilstrahlen (4 oder 5) ist ein weiteres Einstellelement (8) zum Einstellen einer identischen Polarisation beider Teilstrahlen (4, 5) angeordnet.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Interferenzstrukturierung einer Oberfläche einer flächigen Probe.
  • Bei aus dem Stand der Technik bekannten Vorrichtungen zur Laserinterferenzstrukturierung ist oftmals nachteilig, dass einerseits Wegdifferenzen von Teilstrahlen nicht zu vermeiden sind und andererseits an strahlteilenden Elementen Leistungsverluste einer Laserquelle von ungefähr 20 Prozent auftreten. Bei einer Verwendung von diffraktiven optischen Elementen (DOE) in Kombination mit zwei Linsen oder bei Verwendung von Prismen, wie es zum Beispiel in der Druckschrift DE 10 2011 119 764 A1 beschrieben ist, ist es unvorteilhaft, dass zur Anpassung einer Interferenzperiode die Linsen getauscht werden müssen bzw. dass durch eine Bestrahlung einer Ecke des Prismas unerwünschte Beugungseffekte entstehen und die Interferenzperiode nicht angepasst werden kann.
  • Bei einem Strahlteileraufbau wie in Druckschrift DE 10 2013 007 524 A1 offenbart ist es nachteilig, dass der Aufbau nicht kompakt ist und bei einer Anpassung der Interferenzperiode die Spiegel präzise nachjustiert werden müssen.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zu entwickeln, mit der die genannten Nachteile überwunden werden können und eine optische Weglängendifferenz von Teilstrahlen klein gehalten wird.
  • Diese Aufgabe wird durch eine Vorrichtung nach Anspruch 1 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen sind in den abhängigen Ansprüchen beschrieben.
  • Eine Vorrichtung zur Interferenzstrukturierung einer Oberfläche einer flächigen Probe weist eine Laserstrahlquelle auf. In einem Strahlengang eines von der Laserstrahlquelle emittierten Laserstrahls ist ein optisches Trennelement angeordnet, das zum Auftrennen des auftreffenden polarisierten Laserstrahls in mindestens zwei Teilstrahlen mit jeweils unterschiedlicher Polarisation dient. Falls der von der Laserstrahlquelle emittierte Laserstrahl eine von einer zirkularen Polarisation verschiedene Polarisation aufweist, ist zwischen der Laserstrahlquelle und dem optischen Trennelement ein Einstellelement angeordnet zum Einstellen einer Intensität der beiden Teilstrahlen. Ein Überlagerungselement überlagert auf der zu strukturierenden Oberfläche der Probe die mindestens zwei Teilstrahlen derart, dass die mindestens zwei Teilstrahlen auf der Probe interferieren. Im Strahlengang mindestens eines der Teilstrahlen ist ein weiteres Einstellelement zum Einstellen einer identischen Polarisation beider Teilstrahlen angeordnet.
  • Durch die beschriebene Vorrichtung kann ein optisches System zur verbesserten Erzeugung von eindimensionalen und zweidimensionalen Interferenzmustern, deren Periode und Orientierung vorzugsweise von Pixel zu Pixel verändert werden kann, hergestellt werden. Durch Ausnutzen der Polarisationseigenschaften des Laserstrahls wird ein kompakter Aufbau realisiert, bei dem die Strahlteilung mit deutlich verringerten Verlusten durch das Auftrennen des Laserstrahls in Teilstrahlen mit unterschiedlicher Polarisation erfolgt. Da die Polarisationseigenschaften ausgenutzt werden, ergibt sich auch ein vereinfachter Aufbau mit vergleichsweise wenigen optischen Elementen. Indem diese beiden Teilstrahlen nach dem Auftrennen in ihrer Polarisation durch das weitere, typischerweise zweite Einstellelement angeglichen werden, ist ein effizientes Interferieren auf der Probe, vorzugsweise einem Halbleitersubstrat oder einer Folie, möglich. Durch die kompakte Bauform ist es möglich, einen Laserinterferenzkopf zu bauen, der in bewegliche Maschinen integriert werden kann, so dass auch Bauteile strukturiert werden können, die zu schwer sind, um unter einen ortsfesten Laserstrahl bewegt zu werden. Da der beschriebene Aufbau nur geringe optische Wegdifferenzen mit sich bringt, können auch Lasersysteme als Laserstrahlquelle genutzt werden, die nur geringe Kohärenzlängen aufweisen. Typischerweise ist das Einstellelement als erstes Einstellelement nur dann vorgesehen, wenn die Polarisation des Laserstrahls noch eingestellt werden muss, wenn also der Laserstrahl nicht bereits zirkular polarisiert ist.
  • Die Laserstrahlquelle kann, da die optische Weglängendifferenz der verwendeten Teilstrahlen mit der beschriebenen Vorrichtung klein gehalten wird, eine gepulste Laserquelle mit Pulsen größer oder gleich 90 fs Pulsdauer sein. Typischerweise wird Laserstrahlung im ultravioletten (Wellenlänge 100 nm–380 nm), sichtbaren (Wellenlänge 380 nm–780 nm) oder auch im infraroten Bereich (Wellenlänge 780 nm–3 µm) elektromagnetischer Strahlung von der Laserstrahlquelle emittiert. Eine Pulsenergie kann hierbei zwischen 10 µJ und 2 J, vorzugsweise zwischen 100 µJ und 1 J liegen. Es kann vorgesehen sein, dass eine Pulsfrequenz zwischen 10 Hz und 1 MHz, vorzugsweise zwischen 100 Hz und 500 Hz liegt. Vorzugsweise beträgt eine Pulsdauer zwischen 90 fs und 50 ns, besonders vorzugsweise zwischen 500 fs und 1 ns.
  • Es kann vorgesehen sein, dass das optische Trennelement ein Strahlteiler ist, also ein Bauteil, das einen auftreffenden Lichtstrahl in zwei Teilstrahlen aufteilt. Typischerweise ist der Strahlteiler dazu ausgebildet, zwei Teilstrahlen unterschiedlicher Polarisation zu generieren. Vorzugsweise ist das optische Trennelement ein Wollaston-Prisma, ein polarisierender Strahlteiler, ein Polarisationsprisma oder eine doppelbrechende Platte, die auch als "beam displacer" bezeichnet werden kann. Hiermit ist eine einfache Aufteilung des Laserstrahls, insbesondere eine polarisationsabhängige Auftrennung in mindestens zwei Teilstrahlen möglich. Hierdurch werden Beugungsverluste, die bei bekannten diffraktiven optischen Elementen auftreten, vermieden.
  • Das Einstellelement bzw. das weitere Einstellelement kann so ausgebildet sein, dass sich die Polarisation des auftreffenden Laserstrahls oder des auftreffenden Teilstrahls verändert. Hierdurch kann durch das jeweilige Einstellelement nicht nur die Polarisation angepasst werden, sondern durch das im Falle einer noch anzupassenden Polarisation des Laserstrahls vor dem Trennelement angeordnete erste Einstellelement auch eine Intensität der beiden Teilstrahlen.
  • Typischerweise ist das Einstellelement und bzw. oder das weitere Einstellelement eine λ/2-Platte oder eine λ/4-Platte, die bei kompaktem Aufbau eine einfache Beeinflussung der Polarisation ermöglichen.
  • Alternativ oder zusätzlich kann das Überlagerungselement ein fokussierendes optisches Element und bzw. oder mindestens ein reflektierendes optisches Element sein. Das fokussierende optische Element ist vorzugsweise eine optische Linse, auf die die Teilstrahlen auftreffen und die die Teilstrahlen auf der Probenoberfläche bündelt. Das Überlagerungselement kann auch ein Prisma sein. Das reflektierende optische Element weist bevorzugt mindestens zwei Spiegel auf, wobei auf jeden der Spiegel einer der Teilstrahlen auftrifft und von diesem Spiegel auf einen gemeinsamen Auftreffpunkt auf der Probe reflektiert wird. Die Spiegel sind in besonders bevorzugter Weise als Planspiegel ausgebildet. Hiermit kann sich eine einfache Überlappung stark fokussierter Strahlen ergeben. Die Überlappung erfolgt quasi-automatisch, es muss nur die Probe im richtigen Abstand zum Überlagerungselement platziert werden.
  • Als Überlagerungselement kann ein f-theta-Objektiv oder eine konvexe, vorzugsweise eine asphärische optische Linse dienen, wobei zwischen der optischen Linse und dem optischen Trennelement ein Ausrichtelement zum parallelen Ausrichten der mindestens zwei Teilstrahlen angeordnet ist. Hierdurch kann eine Strahlführung der Teilstrahlen eingerichtet und zum effizienten Interferieren der beiden Teilstrahlen ausgelegt werden.
  • Vorzugsweise ist das Ausrichtelement parallel zum Strahlengang des Laserstrahls verschiebbar, um eine Interferenzperiode durch das Verschieben zu verändern. Das Ausrichtelement kann als ein Prisma, eine optische Keilplatte oder eine Pyramide, aber auch in Form eines Pyramidenstumpfs, eines Polyeders, eines Kegels oder eines Kegelstumpfs ausgebildet sein.
  • Ein Verfahren zur Interferenzstrukturierung einer flächigen Probe wird mit einer Vorrichtung mit den beschriebenen Eigenschaften durchgeführt. Die beschriebene Vorrichtung bzw. das beschriebene Verfahren werden typischerweise zur Lasergravur oder zur Vorbehandlung einer Probenoberfläche für eine Klebeverbindung verwendet.
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und werden nachfolgend anhand der 1 bis 3 erläutert.
  • Es zeigen:
  • 1 eine seitliche Ansicht einer Vorrichtung zur Interferenzstrukturierung mit einem Wollaston-Prisma als strahlteilendem Element;
  • 2 eine 1 entsprechende Ansicht der Vorrichtung mit einem polarisierenden Strahlteiler und
  • 3 eine 1 entsprechende Ansicht der Vorrichtung mit einem Calcit-Prisma als strahlteilendem Element.
  • In 1 ist in einer seitlichen Ansicht eine Vorrichtung zur Interferenzstrukturierung einer Oberfläche einer flächigen Probe 1 dargestellt. Eine Laserstrahlquelle 10 emittiert einen bereits polarisierten Laserstrahl 3. Der Laserstrahl 3 ist ein gepulster Laserstrahl mit einer Pulslänge von 95 fs, die Wellenlänge beträgt 800 nm. In weiteren Ausführungsformen kann aber beispielsweise auch eine Wellenlänge 355 nm und eine Pulslänge 10 ns betragen
  • Der Laserstrahl 3 ist linear polarisiert in der Bildebene und trifft auf ein erstes Einstellelement 6, typischerweise eine λ/2-Platte oder eine λ/4-Platte, mit dem die Polarisation des Laserstrahls 3 beeinflusst wird. Nach Durchlaufen des Einstellelements 6 liegt somit keine reine lineare Polarisation in der Bildebene mehr vor. Der Laserstrahl 3 trifft danach auf ein optisches Trennelement 2 in Form eines Wollaston-Prismas 2a, das den Laserstrahl 3 in zwei Teilstrahlen 4 und 5 mit jeweils unterschiedlicher Polarisation aufspaltet. Ein Intensitätsverhältnis der Teilstrahlen 4 und 5 kann mittels des vor dem Wollaston-Prisma 2a angeordneten polarisierenden Einstellelements 6 kontrolliert werden. Falls der Laserstrahl 3 bereits zirkular polarisiert ist, kann auf das erste Einstellelement 6 auch verzichtet werden.
  • Der Teilstrahl 4 ist in dem dargestellten Ausführungsbeispiel wiederum linear polarisiert in der Bildebene, während der Teilstrahl 5 eine von dieser Polarisation verschiedene Polarisation aufweist. Der Teilstrahl 5 durchläuft ein weiteres, zweites Einstellelement 8, wiederum eine λ/2-Platte oder eine λ/4-Platte, um eine identische Polarisation mit dem Teilstrahl 4 aufzuweisen. Die beiden Teilstrahlen 4 und 5 treffen auf ein im Strahlengang verschiebbar angeordnetes Prisma 9 und werden nach Durchlaufen des Prismas 9 parallel geführt. Anschließend treffen die beiden Teilstrahlen 4 und 5 auf eine asphärische optische Linse 7c als Überlagerungselement 7 und werden auf die Probenoberfläche der Probe 1 fokussiert, wo sie sich überlagern und interferieren. Alternativ kann als Überlagerungselement 7 auch ein zweites Prisma oder ein Prisma mit mehreren Winkeln verwendet werden. Typischerweise weist ein derartiges Prisma eine flache Seite Grundseite auf sowie dieser Grundseite gegenüberliegend mehrere vorzugsweise um einen gleichen Winkel gegeneinander verkippte Seiten. Bei einem derartigen Prisma trifft der Laserstrahl nicht fokussiert auf die Probe und ein Benutzer ist nicht mehr abhängig von einer Fokuslage.
  • Durch die dargestellte Kombination eines auf das Trennelement 2 angepassten Prismas 9 und der optischen Linse 7c ist es möglich, die Interferenzperiode durch das Verschieben des Prismas 9 parallel zum Strahlengang des Laserstrahls 3 zu verändern. In weiteren Ausführungsbeispielen ist es natürlich auch möglich, durch Verwenden weiterer strahlteilender Trennelemente 2 auch drei, vier oder mehr als vier Teilstrahlen zu erzeugen und somit eine große Variation an Strukturen zur direkten Laserinterferenzstrukturierung zu ermöglichen.
  • Statt des Prismas 9 kann auch beispielsweise eine Pyramide mit vier Facetten in den Strahlengang eingefügt werden, die die Teilstrahlen parallel ausrichtet. In diesem Fall bilden sich bei der anschließenden Überlappung durch die optische Linse 7c jedoch keine Interferenzlinien, sondern Punktstrukturen.
  • Ein weiteres Ausführungsbeispiel ist in 2 in einer 1 entsprechenden Ansicht dargestellt. Wiederkehrende Merkmale sind in dieser wie auch in der folgenden Figur mit identischen Bezugszeichen versehen. Wie in 1 emittiert die Laserstrahlquelle 10 den Laserstrahl 3, der durch das Einstellelement 6 in seiner Polarisation verändert wird. Anstelle des Wollaston-Prismas 2a wird nun als optisches Trennelement 2 aber ein polarisierender Strahlteiler 2b verwendet, der die beiden Teilstrahlen 4 und 5 mit unterschiedlicher Polarisation räumlich trennt. Die Überlagerungsvorrichtung 7 ist in diesem Beispiel durch zwei Planspiegel 7a und 7b realisiert, die jeweils einen der Teilstrahlen 4 und 5 auf die Probe 1 umlenken, so dass diese dort interferieren. Der Planspiegel 7b, der den Teilstrahl 4 umlenkt, ist teildurchlässig, so dass ein Teil des Teilstrahls 4 auf einen Detektor 11 gelangt, durch den die Polarisation dieses Teilstrahls 4 überprüft werden kann.
  • Der Teilstrahl 5 wird wie bei dem in 1 gezeigten Ausführungsbeispiel durch das weitere, zweite Einstellelement 8 im Hinblick auf die optische Polarisation verändert, bevor er durch den Planspiegel 7a auf die Probe 1 umgelenkt wird. In weiteren Ausführungsbeispielen kann auch der Planspiegel 7a teildurchlässig sein, so dass durch einen hinter dem Planspiegel 7a angeordneten Detektor 11 auch die Polarisation des Teilstrahls 5 kontrolliert werden kann.
  • 3 zeigt in einer 1 entsprechenden seitlichen Ansicht ein weiteres Ausführungsbeispiel der Vorrichtung zur Interferenzstrukturierung. Hierbei dient als Trennelement 2 ein Calcit-Prisma 2c, das auch als "beam displacer" bezeichnet wird. Das Calcit-Prisma 2c teilt den Laserstrahl 3 in zwei Teilstrahlen 4 und 5 mit jeweils unterschiedlicher optischer Polarisation und die beiden Teilstrahlen 4 und 5 werden nach Verlassen des Prismas parallel zueinander auf die optische Linse 7c geführt, die sie wie beschrieben auf der Probe 1 zur Interferenz bringt. Wie in den zuvor bereits beschriebenen Ausführungsbeispielen wird der Teilstrahl 5 durch das zweite Einstellelement 8 geführt und seine Polarisation dabei an die optische Polarisation des Teilstrahls 4 angepasst.
  • In diesem Ausführungsbeispiel wird auf das Prisma 9 verzichtet und die Teilstrahlen 4 und 5 werden ausschließlich mittels einer einzigen optischen Linse 7c auf dem Bauteil überlagert. Es ist jedoch auch möglich, innerhalb dieses Aufbaus durch zwei weitere Prismen den Abstand zwischen den beiden parallelen Teilstrahlen und damit die Interferenzperiode zu verändern.
  • Die in den einzelnen Ausführungsbeispielen in Kombination miteinander verwirklichten Merkmale bzw. Abfolgen optischer Bauelemente müssen im Rahmen der vorliegenden Erfindung nicht genau in den beschriebenen Konfigurationen verwirklicht sein. Insbesondere kann statt der optischen Linse 7c auch ein Spiegelsystem eingesetzt werden oder das nach dem Trennelement 2 angeordnete Einstellelement 8 kann auch erst nach dem Überlagerungselement 7 die Polarisation des jeweiligen Teilstrahls 5 einstellen.
  • Die beschriebene Vorrichtung kombiniert somit unterschiedliche optische Elemente. Wesentlich ist die Verwendung von strahlteilenden Elementen, die in Abhängigkeit von der optischen Polarisation des auftreffenden Lichts den Laserstrahl 3 räumlich in zwei Teilstrahlen 4 und 5 trennen. Die beschriebenen Ausführungsformen können schließlich auch mit Laserscannern kombiniert werden. Lediglich in den Ausführungsbeispielen offenbarte Merkmale der verschiedenen Ausführungsformen können also miteinander kombiniert und einzeln beansprucht werden.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • DE 102011119764 A1 [0002]
    • DE 102013007524 A1 [0003]

Claims (10)

  1. Vorrichtung zur Interferenzstrukturierung einer Oberfläche einer flächigen Probe (1) mit einer Laserstrahlquelle (10), einem im Strahlengang eines von der Laserstrahlquelle (10) emittierten Laserstrahls angeordneten optischen Trennelement (2) zum Auftrennen des auftreffenden polarisierten Laserstrahls (3) in mindestens zwei Teilstrahlen (4, 5) mit jeweils unterschiedlicher Polarisation sowie, falls der von der Laserstrahlquelle (10) emittierte Laserstrahl eine von einer zirkularen Polarisation verschiedene Polarisation aufweist, einem zwischen der Laserstrahlquelle (10) und dem optischen Trennelement (2) angeordneten Einstellelement (6) zum Einstellen einer Intensität der Teilstrahlen (4, 5), wobei ein Überlagerungselement (7, 7a, 7b, 7c) die mindestens zwei Teilstrahlen (4, 5) derart auf der zu strukturierenden Oberfläche der Probe (1) überlagert, dass die mindestens zwei Teilstrahlen (4, 5) auf der Probe (1) interferieren, und im Strahlengang mindestens eines der Teilstrahlen (4 oder 5) ein weiteres Einstellelement (8) zum Einstellen einer identischen Polarisation beider Teilstrahlen (4, 5) angeordnet ist.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Trennelement (2) ein Strahlteiler ist und vorzugsweise als ein Wollaston-Prisma (2a), ein polarisierender Strahlteiler (2b), ein Polarisationsprisma oder eine doppelbrechende Platte (2c) ausgebildet ist.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Einstellelement (6, 8) so ausgebildet ist, dass sich die Polarisation des auftreffenden Laserstrahls oder des auftreffenden Teilstrahls (4 oder 5) verändert.
  4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Einstellelement (6, 8) eine λ/2-Platte oder eine λ/4-Platte ist.
  5. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Überlagerungselement (7) ein fokussierendes optisches Element, vorzugsweise eine optische Linse (7c), ein Prisma und/oder mindestens ein reflektierendes optisches Element, bevorzugt mindestens zwei Spiegel (7a, 7b), aufweist.
  6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Überlagerungselement ein f-theta-Objektiv oder eine konvexe, vorzugsweise eine asphärische optische Linse (7c) ist, wobei zwischen der optischen Linse (7c) und dem optischen Trennelement (2) ein Ausrichtelement (9) zum parallelen Ausrichten der mindestens zwei Teilstrahlen (4, 5) angeordnet ist.
  7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Ausrichtelement (9) parallel zum Strahlengang des Laserstrahls verschiebbar ist.
  8. Vorrichtung nach Anspruch 6 oder Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Ausrichtelement (9) als ein Prisma, eine optische Keilplatte oder eine Pyramide ausgebildet ist.
  9. Verfahren zur Interferenzstrukturierung einer flächigen Probe (1), wobei das Verfahren mit einer Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche durchgeführt wird.
  10. Verwendung einer Vorrichtung oder eines Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche zur Lasergravur oder zur Vorbehandlung einer Probenoberfläche für eine Klebeverbindung.
DE102015214960.9A 2015-08-05 2015-08-05 Vorrichtung und Verfahren zur Interferenzstrukturierung einer Oberfläche einer flächigen Probe und deren Verwendung Active DE102015214960B4 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015214960.9A DE102015214960B4 (de) 2015-08-05 2015-08-05 Vorrichtung und Verfahren zur Interferenzstrukturierung einer Oberfläche einer flächigen Probe und deren Verwendung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015214960.9A DE102015214960B4 (de) 2015-08-05 2015-08-05 Vorrichtung und Verfahren zur Interferenzstrukturierung einer Oberfläche einer flächigen Probe und deren Verwendung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102015214960A1 true DE102015214960A1 (de) 2017-02-09
DE102015214960B4 DE102015214960B4 (de) 2018-03-01

Family

ID=57853608

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102015214960.9A Active DE102015214960B4 (de) 2015-08-05 2015-08-05 Vorrichtung und Verfahren zur Interferenzstrukturierung einer Oberfläche einer flächigen Probe und deren Verwendung

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102015214960B4 (de)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017205889A1 (de) * 2017-04-06 2018-10-11 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Optische Anordnung zur Laserinterferenzstrukturierung einer Probe
DE102017211511A1 (de) 2017-07-06 2019-01-10 Technische Universität Dresden Laserstrukturierte Elektroden- und Werkstückoberflächen für das Widerstandspunktschweißen
DE102017214736A1 (de) 2017-08-23 2019-02-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Optische Anordnung zur gleichzeitigen Ausbildung von Oberflächenstrukturen an einem Substrat mittels direkter Laserinterferenzstrukturierung
CN110026685A (zh) * 2019-05-24 2019-07-19 长春理工大学 一种同向偏振态的多路激光干涉光刻系统和方法
DE102019205394A1 (de) * 2019-04-15 2020-10-15 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Bearbeitungsoptik, Laserbearbeitungsvorrichtung und Verfahren zur Laserbearbeitung
DE102019133009A1 (de) * 2019-12-04 2021-06-10 Institut Für Nanophotonik Göttingen E.V. Vorrichtung zum Beleuchten eines Werkstücks, Verfahren zu dessen Modifizierung und Verfahren zum Vermessen seiner Oberfläche
DE102020207715A1 (de) 2020-06-22 2021-12-23 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Bearbeitungsoptik, Laserbearbeitungsvorrichtung und Verfahren zur Laserbearbeitung
CN114029610A (zh) * 2022-01-06 2022-02-11 苏州迈为科技股份有限公司 晶圆加工装置及加工方法
CN114812534A (zh) * 2022-04-28 2022-07-29 中国科学院精密测量科学与技术创新研究院 一种高精度调节分离激光光束平行性的装置和方法
FR3124411A1 (fr) * 2021-06-28 2022-12-30 Alphanov Appareil et procédé de génération d’un motif nanostructuré périodique, uniforme et régulier en surface d’un matériau
CN117798508A (zh) * 2024-03-01 2024-04-02 珠海市申科谱工业科技有限公司 一种晶圆激光开槽装置及开槽方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102019206179B4 (de) 2019-04-30 2023-06-07 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Anordnung zur Modifizierung von Oberflächen metallischer Bauteile

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5822479A (en) 1997-01-24 1998-10-13 Northern Telecom Limited Writing diffraction gratings with interference fringe patterns
US6304318B1 (en) 1998-06-30 2001-10-16 Canon Kabushiki Kaisha Lithography system and method of manufacturing devices using the lithography system
US20060046156A1 (en) 2004-08-25 2006-03-02 Seiko Epson Corporation Method for manufacturing a microstructure, exposure device, and electronic apparatus

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5822479A (en) 1997-01-24 1998-10-13 Northern Telecom Limited Writing diffraction gratings with interference fringe patterns
US6304318B1 (en) 1998-06-30 2001-10-16 Canon Kabushiki Kaisha Lithography system and method of manufacturing devices using the lithography system
US20060046156A1 (en) 2004-08-25 2006-03-02 Seiko Epson Corporation Method for manufacturing a microstructure, exposure device, and electronic apparatus

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017205889A1 (de) * 2017-04-06 2018-10-11 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Optische Anordnung zur Laserinterferenzstrukturierung einer Probe
DE102017205889B4 (de) 2017-04-06 2020-07-09 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Optische Anordnung und Verfahren zur Laserinterferenzstrukturierung einer Probe
DE102017211511A1 (de) 2017-07-06 2019-01-10 Technische Universität Dresden Laserstrukturierte Elektroden- und Werkstückoberflächen für das Widerstandspunktschweißen
DE102017214736A1 (de) 2017-08-23 2019-02-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Optische Anordnung zur gleichzeitigen Ausbildung von Oberflächenstrukturen an einem Substrat mittels direkter Laserinterferenzstrukturierung
DE102019205394A1 (de) * 2019-04-15 2020-10-15 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Bearbeitungsoptik, Laserbearbeitungsvorrichtung und Verfahren zur Laserbearbeitung
CN110026685A (zh) * 2019-05-24 2019-07-19 长春理工大学 一种同向偏振态的多路激光干涉光刻系统和方法
DE102019133009A1 (de) * 2019-12-04 2021-06-10 Institut Für Nanophotonik Göttingen E.V. Vorrichtung zum Beleuchten eines Werkstücks, Verfahren zu dessen Modifizierung und Verfahren zum Vermessen seiner Oberfläche
DE102019133009B4 (de) 2019-12-04 2021-11-11 Institut Für Nanophotonik Göttingen E.V. Vorrichtung zum Beleuchten eines Werkstücks, Verfahren zu dessen Modifizierung und Verfahren zum Vermessen seiner Oberfläche
DE102020207715A1 (de) 2020-06-22 2021-12-23 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Bearbeitungsoptik, Laserbearbeitungsvorrichtung und Verfahren zur Laserbearbeitung
FR3124411A1 (fr) * 2021-06-28 2022-12-30 Alphanov Appareil et procédé de génération d’un motif nanostructuré périodique, uniforme et régulier en surface d’un matériau
WO2023274982A1 (fr) 2021-06-28 2023-01-05 Alphanov Appareil et procédé de génération d'un motif nanostructuré périodique, uniforme et régulier en surface d'un matériau
CN114029610A (zh) * 2022-01-06 2022-02-11 苏州迈为科技股份有限公司 晶圆加工装置及加工方法
CN114812534A (zh) * 2022-04-28 2022-07-29 中国科学院精密测量科学与技术创新研究院 一种高精度调节分离激光光束平行性的装置和方法
CN117798508A (zh) * 2024-03-01 2024-04-02 珠海市申科谱工业科技有限公司 一种晶圆激光开槽装置及开槽方法
CN117798508B (zh) * 2024-03-01 2024-05-14 珠海市申科谱工业科技有限公司 一种晶圆激光开槽装置及开槽方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE102015214960B4 (de) 2018-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102015214960B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Interferenzstrukturierung einer Oberfläche einer flächigen Probe und deren Verwendung
DE102018200036B3 (de) Optische Anordnung zur direkten Laserinterferenzstrukturierung
DE102013004869B4 (de) Verfahren zur Ausbildung einer Strukturierung an Oberflächen von Bauteilen mit einem Laserstrahl
DE102017205889B4 (de) Optische Anordnung und Verfahren zur Laserinterferenzstrukturierung einer Probe
EP2185919A1 (de) Sted-fluoreszenzmikroskopie mit zweiphotonen-anregung
EP1444503B1 (de) Verfahren und vorrichtung zum räumlich eng begrenzten anregen eines optischen übergangs
DE102019205394A1 (de) Bearbeitungsoptik, Laserbearbeitungsvorrichtung und Verfahren zur Laserbearbeitung
DE112007002368T5 (de) Verfahren und System zur diffraktiven Hybrid-Kombination von kohärenten und inkohärenten Strahlen durch einen Strahlformer
DE102013201968B4 (de) Vorrichtung zur akustooptischen Umformung periodisch gepulster, elektromagnetischer Strahlung
DE102011119764A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Interferenzstrukturierung von flächigen Proben
EP1615064A1 (de) Reflektiver Phasenfilter für ein Rastermikroskop
DE102014113716B4 (de) Vorrichtung zum getrennten Modulieren der Wellenfronten von zwei Komponenten eines Lichtstrahls und Rasterfluoreszenzlichtmikroskop
DE102011101415A1 (de) Optische Anordnung zur Laserinterferenzstrukturierung einer Probe mit Strahlführung gleicher Weglänge
DE102009037141A1 (de) Optisches System zum Erzeugen eines Lichtstrahls zur Behandlung eines Substrats
DE10010154C2 (de) Doppelkonfokales Rastermikroskop
DE102013007524B4 (de) Optische Anordnung zur Ausbildung von Strukturelementen auf Bauteiloberflächen sowie deren Verwendung
WO2005121900A1 (de) Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
DE102012200858A1 (de) Laserpulsformungsverfahren
WO2013068168A1 (de) Laser-leuchtstoff-vorrichtung mit laserarray
DE102016108384B3 (de) Vorrichtung und Verfahren zur lichtblattartigen Beleuchtung einer Probe
DE102007062825A1 (de) Gitterspiegel zur Online-Überwachung eines Laserstrahls und Überwachungsvorrichtung damit
DE102013018672A1 (de) Multispot-scanning mikroskop
DE102013208872A1 (de) Verfahren zur Erzeugung eines Bildes einer Probe
DE102020205849A1 (de) Anordnung optischer Elemente für die Ausbildung von Strukturmustern
EP3707552B1 (de) Verfahren und vorrichtung zur auskopplung eines teilstrahls mit einem sehr kleinen prozentualen strahlanteil aus einem optischen strahl

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication
R082 Change of representative

Representative=s name: PFENNING, MEINIG & PARTNER MBB PATENTANWAELTE, DE

R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final
R082 Change of representative