DE102014208792A1 - System und Verfahren zur Analyse eines von einer Strahlführungsoptik geführten Lichtstrahls - Google Patents
System und Verfahren zur Analyse eines von einer Strahlführungsoptik geführten Lichtstrahls Download PDFInfo
- Publication number
- DE102014208792A1 DE102014208792A1 DE102014208792.9A DE102014208792A DE102014208792A1 DE 102014208792 A1 DE102014208792 A1 DE 102014208792A1 DE 102014208792 A DE102014208792 A DE 102014208792A DE 102014208792 A1 DE102014208792 A1 DE 102014208792A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- gray
- filter
- light
- arrangement
- light intensity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J1/4257—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors applied to monitoring the characteristics of a beam, e.g. laser beam, headlamp beam
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
- G01J1/0407—Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings
- G01J1/0418—Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings using attenuators
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/205—Neutral density filters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/70—Auxiliary operations or equipment
- B23K26/702—Auxiliary equipment
- B23K26/705—Beam measuring devices
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102014208792.9A DE102014208792A1 (de) | 2014-05-09 | 2014-05-09 | System und Verfahren zur Analyse eines von einer Strahlführungsoptik geführten Lichtstrahls |
| PCT/EP2015/060145 WO2015169937A1 (de) | 2014-05-09 | 2015-05-08 | System und verfahren zur analyse eines von einer strahlführungsoptik geführten lichtstrahls |
| PL15724539.0T PL3140628T3 (pl) | 2014-05-09 | 2015-05-08 | System i sposób analizy wiązki światła kierowanej przez układ optyczny kierujący wiązką |
| ES15724539T ES2961538T3 (es) | 2014-05-09 | 2015-05-08 | Sistema y procedimiento para analizar un haz de luz guiado por una óptica de guía de haz |
| EP15724539.0A EP3140628B9 (de) | 2014-05-09 | 2015-05-08 | System und verfahren zur analyse eines von einer strahlführungsoptik geführten lichtstrahls |
| JP2017510765A JP6576435B2 (ja) | 2014-05-09 | 2015-05-08 | ビーム誘導光学系から誘導される光線を分析するためのシステム及び方法 |
| US15/347,348 US9823119B2 (en) | 2014-05-09 | 2016-11-09 | System and method for analyzing a light beam guided by a beam guiding optical unit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102014208792.9A DE102014208792A1 (de) | 2014-05-09 | 2014-05-09 | System und Verfahren zur Analyse eines von einer Strahlführungsoptik geführten Lichtstrahls |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102014208792A1 true DE102014208792A1 (de) | 2015-11-12 |
Family
ID=53267309
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE102014208792.9A Ceased DE102014208792A1 (de) | 2014-05-09 | 2014-05-09 | System und Verfahren zur Analyse eines von einer Strahlführungsoptik geführten Lichtstrahls |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9823119B2 (enExample) |
| EP (1) | EP3140628B9 (enExample) |
| JP (1) | JP6576435B2 (enExample) |
| DE (1) | DE102014208792A1 (enExample) |
| ES (1) | ES2961538T3 (enExample) |
| PL (1) | PL3140628T3 (enExample) |
| WO (1) | WO2015169937A1 (enExample) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102017102998A1 (de) * | 2017-02-15 | 2018-02-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung und Verfahren zur Charakterisierung eines transparenten Substrats |
| WO2020069792A1 (de) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Metrologiesystem und verfahren zur vermessung eines anregungs-laserstrahls in einer euv-plasmaquelle |
| DE102023108855A1 (de) * | 2023-04-06 | 2024-10-10 | TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing SE | Beobachtungseinrichtung für ein EUV-Lichtsystem und entsprechendes EUV-Lichtsystem |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102015211999A1 (de) * | 2015-06-29 | 2016-12-29 | Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg | Laserbearbeitungskopf und Laserbearbeitungsmaschine damit |
| WO2017163345A1 (ja) * | 2016-03-23 | 2017-09-28 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置及び極端紫外光の重心位置の制御方法 |
| WO2019105664A1 (en) * | 2017-11-29 | 2019-06-06 | Asml Netherlands B.V. | Laser beam monitoring system |
| EP3620763A1 (en) * | 2018-09-07 | 2020-03-11 | Boegli-Gravures S.A. | Adaptive laser-beam shaping |
| DE102018124342A1 (de) | 2018-10-02 | 2020-04-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Strahlwinkelmessung eines von einer Strahlführungsoptik geführten Lichtstrahls |
| CN113960804B (zh) * | 2021-10-21 | 2023-08-08 | 四川大学 | 一种连续光谱色温合成装置及合成方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5329350A (en) | 1992-05-21 | 1994-07-12 | Photon, Inc. | Measuring laser beam parameters using non-distorting attenuation and multiple simultaneous samples |
| DE19822924C2 (de) * | 1998-05-22 | 2000-06-15 | Daimler Chrysler Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Verteilung der Energiefeldichte eines Laserstrahls |
| US8237922B2 (en) | 2010-04-08 | 2012-08-07 | Haas Laser Technologies, Inc. | Laser beam analysis apparatus |
| DE102012204674B4 (de) * | 2012-03-23 | 2014-11-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Strahlregelungsvorrichtung für einen EUV-Beleuchtungsstrahl |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3538335A (en) * | 1968-11-27 | 1970-11-03 | Gen Electric | Light intensity controller for photosensitive pickup tubes |
| JPS5230799B2 (enExample) * | 1972-10-27 | 1977-08-10 | ||
| GB1434304A (en) * | 1973-05-16 | 1976-05-05 | Ciba Geigy Ag | Optical apparatus |
| US4037959A (en) * | 1975-12-15 | 1977-07-26 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Means for real-time laser source characterization |
| FR2470397A1 (fr) * | 1979-11-21 | 1981-05-29 | Thomson Csf | Attenuateur optique a attenuation controlee |
| JPH0640023B2 (ja) * | 1986-09-25 | 1994-05-25 | 株式会社神戸製鋼所 | 光入力の位置・分散検出方法および装置 |
| DE102010053323B3 (de) * | 2010-12-02 | 2012-05-24 | Xtreme Technologies Gmbh | Verfahren zur räumlich aufgelösten Messung von Parametern in einem Querschnitt eines Strahlenbündels energiereicher Strahlung mit hoher Intensität |
| DE102013224583A1 (de) | 2013-11-29 | 2015-06-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Messanordnung zur Verwendung bei der Trajektorienbestimmung fliegender Objekte |
| DE102014201779B4 (de) | 2014-01-31 | 2016-12-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Strahlpropagationskamera und Verfahren zur Lichtstrahlanalyse |
-
2014
- 2014-05-09 DE DE102014208792.9A patent/DE102014208792A1/de not_active Ceased
-
2015
- 2015-05-08 EP EP15724539.0A patent/EP3140628B9/de active Active
- 2015-05-08 ES ES15724539T patent/ES2961538T3/es active Active
- 2015-05-08 JP JP2017510765A patent/JP6576435B2/ja active Active
- 2015-05-08 PL PL15724539.0T patent/PL3140628T3/pl unknown
- 2015-05-08 WO PCT/EP2015/060145 patent/WO2015169937A1/de not_active Ceased
-
2016
- 2016-11-09 US US15/347,348 patent/US9823119B2/en active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5329350A (en) | 1992-05-21 | 1994-07-12 | Photon, Inc. | Measuring laser beam parameters using non-distorting attenuation and multiple simultaneous samples |
| DE19822924C2 (de) * | 1998-05-22 | 2000-06-15 | Daimler Chrysler Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Verteilung der Energiefeldichte eines Laserstrahls |
| US8237922B2 (en) | 2010-04-08 | 2012-08-07 | Haas Laser Technologies, Inc. | Laser beam analysis apparatus |
| DE102012204674B4 (de) * | 2012-03-23 | 2014-11-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Strahlregelungsvorrichtung für einen EUV-Beleuchtungsstrahl |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102017102998A1 (de) * | 2017-02-15 | 2018-02-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung und Verfahren zur Charakterisierung eines transparenten Substrats |
| WO2020069792A1 (de) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Metrologiesystem und verfahren zur vermessung eines anregungs-laserstrahls in einer euv-plasmaquelle |
| US11920977B2 (en) | 2018-10-02 | 2024-03-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Metrology system and method for measuring an excitation laser beam in an EUV plasma source |
| DE102023108855A1 (de) * | 2023-04-06 | 2024-10-10 | TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing SE | Beobachtungseinrichtung für ein EUV-Lichtsystem und entsprechendes EUV-Lichtsystem |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP3140628B9 (de) | 2023-10-25 |
| PL3140628T3 (pl) | 2024-02-26 |
| US20170122803A1 (en) | 2017-05-04 |
| JP2017519222A (ja) | 2017-07-13 |
| EP3140628A1 (de) | 2017-03-15 |
| EP3140628B1 (de) | 2023-08-09 |
| JP6576435B2 (ja) | 2019-09-18 |
| WO2015169937A1 (de) | 2015-11-12 |
| ES2961538T3 (es) | 2024-03-12 |
| US9823119B2 (en) | 2017-11-21 |
| EP3140628C0 (de) | 2023-08-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP3140628B1 (de) | System und verfahren zur analyse eines von einer strahlführungsoptik geführten lichtstrahls | |
| EP3100011B1 (de) | Strahlpropagationskamera und verfahren zur lichtstrahlanalyse | |
| DE102019004337B4 (de) | Optisches System und Strahlanalyseverfahren | |
| EP1631809B1 (de) | Verfahren zur bestimmung der abbildungsgüte eines optischen abbildungssystems | |
| EP3887754B1 (de) | Verfahren und interferometer zur bestimmung einer eingangsphase und/oder einer eingangsamplitude eines eingangslichtfelds | |
| EP3058414B1 (de) | Scanmikroskop und verfahren zum bestimmung der punkt-spreiz-funktion (psf) eines scanmikroskops | |
| DE102008003916A1 (de) | Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit Messvorrichtung sowie Verfahren zum Messen einer Bestrahlungsstärkeverteilung | |
| DE102013218795A1 (de) | Laserscanningmikroskop und Verfahren zur Korrektur von Abbildungsfehlern insbesondere in der hochauflösenden Scanning-Mikroskopie | |
| DE102017131224A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Erfassung einer Fokuslage eines Laserstrahls | |
| DE102013210078A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Fokusposition eines Hochenergiestrahls sowie Computerprogrammprodukt | |
| DE102015207431A1 (de) | Erfassungsvorrichtungen und -verfahren einer Oberffächenform verwendend eine Beugungswellenfront einer Aperturblendenstichmessung | |
| DE102013218991A1 (de) | Vorrichtung zum Bestimmen einer optischen Eigenschaft eines optischen Abbildungssystems | |
| DE102013214008A1 (de) | Optikanordnung | |
| DE102019109795A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Bestimmen einer Fokuslage eines Laserstrahls | |
| EP3359928B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur strahlanalyse | |
| DE102016212464A1 (de) | Messvorrichtung zum Bestimmen eines Wellenfrontfehlers | |
| DE102020134109B3 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Fokuslagen-Bestimmung | |
| DE102022210352A1 (de) | EUV-Reflektometer und Messverfahren | |
| DE102014010667A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Form einer Wellenfront eines optischen Strahlungsfeldes | |
| DE102013224583A1 (de) | Messanordnung zur Verwendung bei der Trajektorienbestimmung fliegender Objekte | |
| DE102018122652A1 (de) | Spektralauflösende, hochauflösende 3D-Lokalisierungmikroskopie | |
| EP3861310B9 (de) | Metrologiesystem und verfahren zur vermessung eines anregungs-laserstrahls in einer euv-plasmaquelle | |
| EP3899502B1 (de) | Fluoreszenzlichtmikroskopie mit erhöhter axialer auflösung | |
| DE102019210041A1 (de) | Optische Vorrichtung für eine mehrkanalige optomechanische Adressiereinheit | |
| DE102007062825A1 (de) | Gitterspiegel zur Online-Überwachung eines Laserstrahls und Überwachungsvorrichtung damit |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R012 | Request for examination validly filed | ||
| R002 | Refusal decision in examination/registration proceedings | ||
| R003 | Refusal decision now final |