DE102014202945A1 - Method for producing an organic electronic component and organic electronic component - Google Patents
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Abstract
Ein Verfahren zum Herstellen eines organischen elektronischen Bauelementes umfasst in einem ersten Schritt ein Bereitstellen einer Substratschicht mit einem elektrisch leitfähigen Material. In einem zweiten Schritt umfasst das Verfahren ein Anordnen einer Passivierungsschicht in Passivierungsbereichen mittels Flexodruck. In einem dritten Schritt des Verfahrens wird ein organisches Halbleitermaterial angeordnet. In einem vierten Schritt wird eine Elektrodenschicht so angeordnet, dass die Passivierungsschicht und das organische Halbleitermaterial zwischen der Substratschicht und der Elektrodenschicht angeordnet sind.A method for producing an organic electronic component comprises, in a first step, providing a substrate layer with an electrically conductive material. In a second step, the method comprises arranging a passivation layer in passivation regions by means of flexographic printing. In a third step of the method, an organic semiconductor material is arranged. In a fourth step, an electrode layer is arranged such that the passivation layer and the organic semiconductor material are arranged between the substrate layer and the electrode layer.
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen eines organischen elektronischen Bauelementes und auf ein mittels des Verfahrens hergestelltes organisches elektronisches Bauelement.The invention relates to a method for producing an organic electronic component and to an organic electronic component produced by the method.
Bei Herstellungsverfahren flächiger elektronischer Bauelemente, insbesondere organische elektronische Bauelemente, wie etwa organische Solarzellen, organische Leuchtdioden (engl. organic light emitting diode, OLED) oder organische Feldeffekttransistoren (OFET), besteht ein Bedarf an einer Strukturierung oder Passivierung bestimmter Oberflächenbereiche der Schichten des jeweiligen Bauelementes.In manufacturing methods of planar electronic components, in particular organic electronic components, such as organic solar cells, organic light emitting diodes (OLED) or organic field effect transistors (OFET), there is a need for structuring or passivation of certain surface areas of the layers of the respective component ,
In [1] ist beispielsweise ein Verfahren zur Erzeugung von Netz(engl. Grid)-Strukturen mit elektrisch leitfähigen Metallpasten mittels des Flexodruckverfahrens [2] beschrieben. In [3] ist ein Verfahren zur Herstellung von Antennen mit elektrisch leitfähigen Metallpasten mithilfe des Flexodruckes benannt.In [1], for example, a method for the production of grid structures with electrically conductive metal pastes by means of the flexographic printing process [2] is described. In [3] a method for the production of antennas with electrically conductive metal pastes by means of flexo printing is named.
In [4] ist eine Vorbenetzung einer Bauteiloberfläche mit N-Octanol zur Verbesserung der Benetzung der Oberfläche mit Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Poly(Styrenesulfonate) – abgekürzt als PEDOT:PSS – zur Herstellung von Solarzellen beschrieben. Die Vorbenetzung erfolgt mittels eines Flexodruck-Verfahrens.In [4] a pre-wetting of a component surface with N-octanol to improve the wetting of the surface with poly (3,4-ethylenedioxythiophene) poly (styrene sulfonates) - abbreviated as PEDOT: PSS - for the production of solar cells is described. The pre-wetting takes place by means of a flexographic printing process.
In [5] wird das Flexodruckverfahren zur Erzeugung von organischen Feldeffekttransistoren (OFET) mittels Druck eines stark hydrophoben Materials zur Selbstausrichtung von PEDOT:PSS unter Nutzung gezielter Entnetzung beschrieben.In [5] the flexographic printing process for the generation of organic field effect transistors (OFET) by means of pressure of a strongly hydrophobic material for self-alignment of PEDOT: PSS using targeted dewetting is described.
In [6] ist ein Verfahren zur Herstellung von hydrophoben Barrierestrukturen für Sensorelemente mittels Flexodruck beschrieben.In [6] a process for the preparation of hydrophobic barrier structures for sensor elements by means of flexographic printing is described.
Flächige organische Leuchtdioden können derzeit an einem Polymer- bzw. Kunststoff-Substrat angeordnet sein. Das Kunststoffsubstrat weist neben Barriereschichten eine Anodenschicht auf. Die Anodenschicht kann eine transparente leitfähige Schicht wie beispielsweise ein transparentes und leitfähiges Oxid (engl. transparent and conductive oxide – TCO) sein. Eine Strukturierung von Barrierefolien mit einer transparenten leitfähigen Schicht kann mittels additiver oder subtraktiver Verfahren erfolgen.Flat organic light-emitting diodes can currently be arranged on a polymer or plastic substrate. The plastic substrate has an anode layer in addition to barrier layers. The anode layer may be a transparent conductive layer such as a transparent and conductive oxide (TCO). Structuring of barrier films with a transparent conductive layer can take place by means of additive or subtractive methods.
Eine Strukturierung oder Passivierung bestimmter Oberflächenbereiche der Schichten eines organischen elektronischen Bauelementes kann mittels additiver oder subtraktiver Verfahren erfolgen.Structuring or passivation of certain surface areas of the layers of an organic electronic component can be carried out by means of additive or subtractive methods.
In additiven Verfahren können bei einer Passivierung beispielsweise isolierende Materialien auf die Anode aufgebracht werden, um einen Stromfluss von der Anode zu einer Kathode in den passivierten Bereichen zu verhindern. In subtraktiven Verfahren kann z. B. die Anode in den zu passivierenden bzw. zu strukturierenden Bereichen entfernt werden, um den Stromfluss zu verhindern.For example, in additive processes, passivation may apply insulating materials to the anode to prevent current flow from the anode to a cathode in the passivated regions. In subtractive methods, for. B. the anode in the passivated or to be structured areas are removed to prevent the flow of current.
In [7] ist ein subtraktives Verfahren beschrieben, bei dem die Anode mittels Laser partiell abgetragen und somit die Leuchtflächen von organischen Leuchtdioden voneinander getrennt werden. Der Prozess verursacht jedoch Partikel, die die verbleibenden aktiven Elemente oder Bereiche verunreinigen können. Der Prozess ist ferner für Kunststoff-Barrierefolien schwer Rolle-zu-Rolle kompatibel, da lediglich die TCO-Beschichtung abgetragen werden darf, ohne die Barriereschicht zu beschädigen. Dies führt zu höchsten Anforderungen an alle Prozessparameter, wie etwa eine Bahnführung des Substrates, eine Dickentoleranz des Substrates, eine Dickentoleranz der Barriereschicht und der TCO-Beschichtung oder einer Fokustiefe des Lasers.In [7] a subtractive method is described in which the anode is partially removed by laser and thus the light surfaces of organic light-emitting diodes are separated from each other. However, the process causes particles that can contaminate the remaining active elements or areas. The process is also difficult to roll-to-roll for plastic barrier films because only the TCO coating can be removed without damaging the barrier layer. This leads to the highest demands on all process parameters, such as a web guide of the substrate, a thickness tolerance of the substrate, a thickness tolerance of the barrier layer and the TCO coating or a depth of focus of the laser.
In additiven Verfahren kann eine partielle Passivierung der Anode durch Aufbringung eines strukturierten Dielektrikums erfolgen. In [8] ist ein photolithographischer Prozess zur Aufbringung des strukturierten Dielektrikums beschrieben. Photolithographische Prozesse sind jedoch aufwendig, teuer und nicht oder nur ungenügend mit Rolle-zu-Rolle(RzR)-Prozessen kompatibel.In additive processes, a partial passivation of the anode can take place by application of a structured dielectric. In [8] a photolithographic process for the deposition of the structured dielectric is described. However, photolithographic processes are complex, expensive and not or only insufficiently compatible with role-to-role (RzR) processes.
Sogenannte Tintenstrahl-(engl. Inkjet-)Druckprozesse sind ebenfalls schwer RzR-kompatibel und insbesondere für große zu passivierende Flächen unwirtschaftlich. Während des Verfahrens fehladdressierte Tropfen können ferner auf die aktiven Elemente bzw. Bereiche des Bauelementes gelangen und diese bzw. deren Funktion beeinträchtigen. Ferner sind in Inkjet-Verfahren nur niedrigviskose Flüssigkeiten verdruckbar.So-called inkjet printing processes are also difficult to RZR-compatible and, in particular, uneconomical for large surfaces to be passivated. Drops that have been mismatched during the process can also reach the active elements or areas of the component and impair their function. Furthermore, only low-viscosity liquids are printable in inkjet processes.
In Siebdruckverfahren, kommt eine Druckform in Kontakt sowohl mit den zu passivierenden als auch den nicht zu passivierenden Bereichen und mithin auch den aktiven Elementen und kann diese zerkratzen oder mit Partikeln belasten, wie beispielsweise in beschrieben ist. Ferner sind Siebdruckverfahren mit Ausnahme des Rotationssiebdruckverfahrens nur schwer RzR-kompatibel.In screen-printing processes, a printing plate comes into contact with both the passivating and non-passivating regions, and thus also the active elements, and can scratch or load them with particles, as described, for example, in US 5,256,467. Further, screen printing methods other than rotary screen printing are difficult to be RzR compatible.
Tiefdruckverfahren sind zwar RzR-kompatibel, jedoch kommt eine verwendete Druckform in Kontakt mit den aktiven Elementen und kann diese zerkratzen oder mit Partikeln belasten und so die Funktion der Bauelemente beeinträchtigen. Ferner können von einem Druckzylinder nicht abgerakelte Passivierungsreste die aktiven Elemente verunreinigen. Meist werden beim Tiefdruckverfahren dünnflüssige Druckstoffe und saugfähige Substrate verwendet. Für eine Passivierungsschicht, die ggf. zähflüssig ist, und nicht saugfähige Substrate wie Kunststoff- oder Metallfolien, ist ein derartiges Verfahren ungeeignet.Although intaglio printing is RzR-compatible, a used printing plate comes into contact with the active elements and can scratch or load them with particles and thus impair the function of the components. Furthermore, passivation residues not scraped off by a printing cylinder can remove the active elements contaminate. Most low-pressure printing processes use low-viscosity printing materials and absorbent substrates. For a passivation layer, which is possibly viscous, and non-absorbent substrates such as plastic or metal foils, such a method is unsuitable.
Wünschenswert wäre demnach ein Verfahren zur Passivierung von Bereichen in organischen elektronischen Bauelementen, das einen hohen Durchsatz, eine zuverlässige Passivierung und eine hohe Qualität der aktiven Bereiche des Bauelementes ermöglicht.Accordingly, it would be desirable to have a process for passivating regions in organic electronic devices that enables high throughput, reliable passivation, and high quality of the active regions of the device.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Verfahren zur Herstellung organischer elektronischer Bauelemente und insbesondere organischer Leuchtdioden bereitzustellen, so dass aktive Bereiche einen geringen Beschädigungs- und/oder Verunreinigungsgrad aufweisen und mit hohen Durchsatzraten hergestellt werden können.The object of the present invention is to provide a method for producing organic electronic components and in particular organic light-emitting diodes, so that active regions have a low degree of damage and / or contamination and can be produced at high throughput rates.
Diese Aufgabe wird durch das Verfahren gemäß Anspruch 1 und ein organisches elektronisches Bauelement gemäß Anspruch 8 gelöst.This object is achieved by the method according to claim 1 and an organic electronic component according to claim 8.
Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung schaffen ein Verfahren zum Herstellen eines organischen elektronischen Bauelementes, bei dem mittels Flexodruck eine Passivierungsschicht in Passivierungsbereichen zwischen einer flächigen Anode und einer Kathode angeordnet wird. Das Verfahren umfasst ferner ein Anordnen eines organischen Halbleitermaterials und ein Anordnen einer Elektrodenschicht, so dass die Passivierungsschicht und das organische Halbleitermaterial zwischen der Substratschicht und der Elektrodenschicht angeordnet sind.Exemplary embodiments of the present invention provide a method for producing an organic electronic component, in which a passivation layer is arranged in passivation regions between a flat anode and a cathode by means of flexographic printing. The method further comprises arranging an organic semiconductor material and arranging an electrode layer, such that the passivation layer and the organic semiconductor material are arranged between the substrate layer and the electrode layer.
Vorteilhaft an diesem Ausführungsbeispiel ist, dass mittels Flexodruck(-verfahren) eine Verunreinigung von aktiven Bereichen minimiert oder verhindert werden kann und, dass durch eine Beabstandung einer Druckform von dem Substrat in Abstandsbereichen außerhalb der Passivierungsbereiche ein Kontakt zwischen dem Substrat und der Druckform in diesen Abstandsbereichen verhindert ist und so Beschädigungen der aktiven Flächen oder Bereiche minimierbar oder verhinderbar sind. Das Verfahren ist als RzR-Verfahren implementierbar, so dass ein Produktionsdurchsatz mittels des Verfahrens hoch sein kann. Ferner kann das Verfahren als kontinuierliches Verfahren implementiert werden.An advantage of this embodiment is that by means of flexographic printing (method) contamination of active areas can be minimized or prevented, and that by spacing a printing form from the substrate in spacing areas outside the passivation areas, contact between the substrate and the printing plate in these spacing areas is prevented and so damage to the active surfaces or areas can be minimized or prevented. The method can be implemented as an RzR method, so that a production throughput by means of the method can be high. Furthermore, the method can be implemented as a continuous process.
Alternative Ausführungsbeispiele schaffen Verfahren zum Herstellen von organischen Leuchtdioden mittels Flexodruckverfahren.Alternative embodiments provide methods of making organic light emitting diodes by flexographic printing.
Vorteilhaft an diesen Ausführungsbeispielen ist, dass Leuchtbereiche der organischen Leuchtdioden eine homogene Leuchtfläche aufweisen können.An advantage of these exemplary embodiments is that luminous regions of the organic light emitting diodes can have a homogeneous luminous surface.
Weitere Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung schaffen ein Verfahren zum Herstellen eines organischen elektronischen Bauelementes, bei dem das Substrat bzw. die Grundelektrode eine metallische Folie ist.Further embodiments of the present invention provide a method for producing an organic electronic component, wherein the substrate or the base electrode is a metallic foil.
Vorteilhaft an diesem Ausführungsbeispiel ist, dass eine elektrische Leitfähigkeit einer metallischen Folie, eine Wärmeleitfähigkeit, eine mechanische Belastbarkeit und/oder eine Barriereeigenschaft gegenüber TCO-Substraten vergrößert sein können.An advantage of this embodiment is that an electrical conductivity of a metallic foil, a thermal conductivity, a mechanical strength and / or a barrier property compared to TCO substrates can be increased.
Weitere vorteilhafte Ausführungsformen sind der Gegenstand der abhängigen Patentansprüche.Further advantageous embodiments are the subject of the dependent claims.
Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend Bezug nehmend auf die beiliegenden Zeichnungen erläutert. Es zeigenPreferred embodiments of the present invention will be explained below with reference to the accompanying drawings. Show it
Bevor nachfolgend Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung im Detail anhand der Zeichnungen näher erläutert werden, wird darauf hingewiesen, dass identische, funktionsgleiche oder gleichwirkende Elemente, Objekte und/oder Strukturen in den unterschiedlichen Figuren mit den gleichen Bezugszeichen versehen sind, so dass die in unterschiedlichen Ausführungsbeispielen dargestellte Beschreibung dieser Elemente untereinander austauschbar ist bzw. aufeinander angewendet werden kann.Before below embodiments of the present invention in detail with reference to the Drawings are explained in more detail, it is pointed out that identical, functionally identical or equivalent elements, objects and / or structures are provided in the different figures with the same reference numerals, so that the description of these elements shown in different embodiments is interchangeable or applied to each other can be.
Nachfolgend soll unter dem Begriff Substratschicht eine Schicht verstanden werden, die eine Grundelektrode aufweist. Die Substratschicht kann beispielsweise eine metallische Folie aus Aluminium, Stahl, Silber, Kupfer oder einem sonstigen Metall sein. Die Substratschicht kann, etwa wenn sie als Metallfolie ausgeführt ist, die Grundelektrode sein. Alternativ kann die Substratschicht auch eine (ggf. transparente) Polymer-Barrierefolie mit einer transparenten elektrisch leitfähigen Schicht oder ein flexibles Glas mit einer transparenten elektrisch leitfähigen Schicht wie einer TCO-Schicht oder einer Metallschicht sein. Ist die Substratschicht eine Polymer-Barrierefolie oder ein flexibles Glas mit einer transparenten elektrisch leitfähigen Schicht, kann die Substratschicht ein transparentes elektrisch leitfähiges Substrat sein. Die transparente elektrisch leitfähigen Schicht kann eine TCO-Schicht, Nanodrähte (emgl. Nanowires) und/oder Kohlenstoffnanoröhren (engl. Carbon Nano-Tubes – CNT) umfassen. Die transparente elektrisch leitfähige Schicht oder die Metallschicht können als Grundelektrode genutzt werden. Beispielsweise kann die Grundelektrode Silber aufweisen. Das Silber kann bspw. mittels Bedampfung oder Sputtern (Kathodenzerstäubung) an der Substratschicht angeordnet werden. Die Substratschicht kann sowohl Träger der Grundelektrode (z. B. Kunststofffolie mit TCO) als auch die Grundelektrode selbst (z. B. Metallfolie) sein. Die Begriffe Grundelektrode und Substratschicht werden nachfolgend als Synonym verwendet und sollen als gegenseitig austauschbar verstanden werden.Hereinafter, the term substrate layer is to be understood as meaning a layer which has a base electrode. The substrate layer may be, for example, a metallic foil made of aluminum, steel, silver, copper or another metal. The substrate layer can be the base electrode, for example if it is designed as a metal foil. Alternatively, the substrate layer may also be a (possibly transparent) polymer barrier film with a transparent electrically conductive layer or a flexible glass with a transparent electrically conductive layer such as a TCO layer or a metal layer. If the substrate layer is a polymer barrier film or a flexible glass having a transparent electrically conductive layer, the substrate layer may be a transparent electrically conductive substrate. The transparent electrically conductive layer may comprise a TCO layer, nanowires (or nanowires) and / or carbon nanotubes (CNTs). The transparent electrically conductive layer or the metal layer can be used as a base electrode. For example, the base electrode may have silver. The silver can be arranged, for example, by vapor deposition or sputtering (cathode sputtering) on the substrate layer. The substrate layer may be both the substrate of the base electrode (eg plastic film with TCO) and the base electrode itself (eg metal foil). The terms base electrode and substrate layer are used below as a synonym and are to be understood as interchangeable.
Das Verfahren
Das Verfahren
Das Verfahren
Das organisches Halbleitermaterial kann in den aktiven Bereichen einen Stromfluss zwischen einer Anode und einer Kathode ermöglichen. Ein mittels des Verfahrens
Basierend auf einer Polarität zwischen der Grundelektrode und der Elektrodenschicht kann die Grundelektrode oder die Elektrodenschicht als Anode und die jeweils gegenüberliegend angeordnete Elektrodenschicht oder Grundelektrode als Kathode nutzbar sein. Das bedeutet, dass das elektrisch leitfähige Material der Substratschicht sowohl eine Anode als auch eine Kathode bilden kann. Die Passivierungsschicht kann an der Anode oder der Kathode angeordnet sein. In anderen Worten kann die Passivierungsschicht an der Substratschicht oder an der Elektrodenschicht angeordnet werden, so dass der dritte Schritt
Bei der Passivierungsschicht kann es sich beispielsweise um ein Harz oder um eine Passivierungspaste handeln. Die Passivierungsschicht kann eine Schichtdicke von beispielsweise mehr als 1 μm, mehr als 15 μm oder mehr als 20 μm aufweisen.The passivation layer may be, for example, a resin or a passivation paste. The passivation layer can have a layer thickness of, for example, more than 1 micron, more than 15 microns or more than 20 microns.
Eine hohe Viskosität von Passivierungspasten ermöglicht, dass Selbige nach einem Aufbringen, d. h. Anordnen an der Substratschicht oder dem organischen elektronischen Material, „verlaufen” können und so (engl. pin holes) schließen und/oder als auch eine gleichmäßig dicke und/oder glatte, d. h. eine geringe Oberflächenrauhigkeit aufweisend, Schicht bilden können. Eine mittlere Oberflächenrauheit kann in einem Bereich von 5–1000 nm, 50–800 nm oder 200–500 nm liegen.A high viscosity of passivation pastes allows the same after application, i. H. Arranging on the substrate layer or the organic electronic material, can "run" and so close (pin holes) and / or as well as a uniformly thick and / or smooth, d. H. having a low surface roughness, can form a layer. An average surface roughness may be in a range of 5-1000 nm, 50-800 nm or 200-500 nm.
Die Passivierungspaste kann bspw. ein Polyurethanharz oder Exoxidharz sein, und/oder eine Viskosität in einem Bereich zwischen 500 und 5.000, 600 und 2.500 oder 1.000 und 3.000 m/Pas bei 20°C aufweisen und mit einer Anpresskraft in einem Bereich von bspw. 1–100 N/mm, 5–50 N/mm oder 7–20 N/mm, vorzugsweise mit 10 N/mm ± 10% während des Flexodruckverfahrens an dem Substrat angeordnet werden.The passivation paste may be, for example, a polyurethane resin or an epoxy resin, and / or have a viscosity in a range between 500 and 5,000, 600 and 2,500 or 1,000 and 3,000 m / Pas at 20 ° C and with a contact pressure in a range of, for example -100 N / mm, 5-50 N / mm or 7-20 N / mm, preferably 10 N / mm ± 10% during the flexographic printing process on the substrate.
Alternativ oder zusätzlich kann die Passivierungspaste beispielsweise ein unter ultraviolettem (UV)-Licht aushärtendes Harz sein. Alternativ kann das Harz beispielsweise auch bei Erreichen einer Ausheil-Temperatur aushärten. Eine Ausheil-Temperatur kann beispielsweise bei mehr als 50°, 120° oder 400°C Celsius liegen. Das Harz kann beispielsweise in einem Ausgangszustand, bevor es ausgehärtet ist, ein Lösungsmittel aufweisen, welches beispielsweise während einer Aushärtezeit aus dem Harz austritt, so dass Selbiges aushärtet.Alternatively or additionally, the passivating paste may be, for example, an ultraviolet (UV) light-curing resin. Alternatively, the resin may cure, for example, upon reaching an annealing temperature. An annealing temperature may, for example, be more than 50 °, 120 ° or 400 ° Celsius. For example, in an initial state, before curing, the resin may have a solvent that exits the resin during a curing time, for example, so that it cures.
Bislang hätte ein Fachmann zum Anordnen einer Passivierungsschicht ein von einem Flexodruck-Verfahren verschiedenes Verfahren, wie sie im Stand der Technik bekannt sind, verwendet, da die Rasterstruktur einer Farbauftragswalze (Aniloxwalze) einer Vorrichtung zur Durchführung eines Flexodruckverfahrens auch im Druckergebnis sichtbar sein kann und somit eine geschlossene vollständig geschlossene Schicht verhindert werden kann.Heretofore, a person skilled in the art would have used a process other than a flexographic printing process as known in the art because the pattern of an inking roll (anilox roll) of an apparatus for performing a flexographic printing process may also be visible in the print result, and thus a closed completely closed layer can be prevented.
Ein Passivierungsmaterial der Passivierungsschicht kann basierend auf den oben beschriebenen Eigenschaften „Verlaufen”, und so eine gleichmäßige Schichtdicke ermöglichen.Passivation material of the passivation layer may "bleed" based on the properties described above, thus allowing a uniform layer thickness.
Im Gegensatz zu einem Bedrucken mit elektrisch leitfähigen Materialien, wie es beispielsweise mit Inkjet-Verfahren bei Antennenstrukturen angewendet wird, können Fehlstellen in Passivierungsbereichen ggf. zu Kurzschlüssen zwischen Kathode und Anode führen, wohingegen lokale Fehlstellen in leitenden Materialien ggf. erhöhte Leitungswiderstände mit sich führen. Während erhöhte Leitungswiderstände beispielsweise eine Bauteileffizienz reduzieren können, kann ein Kurzschluss zu einem Komplettausfall des Bauteils führen, so dass eine Anforderung an eine Passivierungsschicht bezüglich einer geschlossenen Oberfläche höher sein kann, als an eine leitende Schicht.In contrast to printing with electrically conductive materials, as it is used, for example, with inkjet methods in antenna structures, defects in Passivierungsbereiche may possibly lead to short circuits between the cathode and anode, whereas local defects in conductive materials possibly lead to increased line resistance. For example, while increased line resistances may reduce device efficiency, shorting may result in complete failure of the device such that a requirement for a passivation layer may be higher with respect to a closed surface than with a conductive layer.
In anderen Worten kann ein Drucken einer Passivierungsschicht im Flexodruck-Verfahren, wie es beispielsweise das Verfahren
Vorteilhaft an diesem Verfahren ist, dass es ein additives Verfahren ist und eine Grundelektrode der Substratschicht, beispielsweise die Anode (etwa die TCO-Schicht auf einer Polymer-Barrierefolie oder eine Metallfolie) gegenüber subtraktiven Verfahren unbeschädigt bleibt.An advantage of this method is that it is an additive method and a base electrode of the substrate layer, for example the anode (such as the TCO layer on a polymer barrier film or a metal foil) remains undamaged compared to subtractive methods.
Das Verfahren
Insbesondere kann das Verfahren
Die Grundelektrode
Das bedeutet, dass die organische Leuchtdiode
Metallfolien oder Polymer-Barrierefolien mit einer transparenten elektrisch leitfähigen Schicht oder ein flexibles Glas mit einer transparenten elektrisch leitfähigen Schicht können einen elektrischen Grundkontakt für organische elektronische Bauelemente bilden. Das Substrat bzw. die Substratschicht mit der Grundelektrode
Vorteilhafterweise werden die nicht passivierten Bereiche, wie etwa die aktiven Bereiche oder Elemente, dabei möglicherweise nicht mechanisch beschädigt, mit Partikeln belastet oder mit Passivierungsmaterial verunreinigt, um eine uneingeschränkte Funktionalität zu gewährleisten.Advantageously, the non-passivated regions, such as the active regions or elements, may not be mechanically damaged, loaded with particles, or contaminated with passivation material to provide unrestricted functionality.
In anderen Worten zeigt
Benachbart zu dem Druckformzylinder
Das dargestellte Flexodruck-Verfahren kann als Rolle-zu-Rolle-Verfahren implementiert werden und derart ausführbar sein, dass das Substrat
In anderen Worten zeigt
Vorteilhaft daran ist, dass das Substrat
Weitere Vorteile des vorgestellten (Flexodruck-)Verfahrens sind beispielsweise, dass geschlossene Schichten an das Substrat
Ferner kann das Flexodruck-Verfahren als ein hocheffizientes Rolle-zu-Rolle-Verfahren implementiert werden. Das bedeutet, dass eine Herstellung von organischen elektronischen Bauelementen sowohl mit einem hohen Durchsatz, d. h. schnell, als auch kostengünstig erfolgen kann. Insbesondere können beispielsweise basierend auf kostengünstigen und schnell zu wechselnden Druckformen in Form von Platten oder Hülsen (engl. Sleeves) in eingesetzten Produktionsanlagen mit einem geringen Zeit- und/oder Kostenaufwand umgerüstet werden.Further, the flexographic printing process can be implemented as a high-efficiency roll-to-roll process. This means that a production of organic electronic components with both a high throughput, d. H. can be done quickly, as well as inexpensively. In particular, based on low-cost and rapidly changing printing plates in the form of plates or sleeves (English: Sleeves) can be converted in used production equipment with a small time and / or cost, for example.
Obwohl manche Aspekte im Zusammenhang mit einer Vorrichtung beschrieben wurden, versteht es sich, dass diese Aspekte auch eine Beschreibung des entsprechenden Verfahrens darstellen, sodass ein Block oder ein Bauelement einer Vorrichtung auch als ein entsprechender Verfahrensschritt oder als ein Merkmal eines Verfahrensschrittes zu verstehen ist. Analog dazu stellen Aspekte, die im Zusammenhang mit einem oder als ein Verfahrensschritt beschrieben wurden, auch eine Beschreibung eines entsprechenden Blocks oder Details oder Merkmals einer entsprechenden Vorrichtung dar.Although some aspects have been described in the context of a device, it will be understood that these aspects also constitute a description of the corresponding method, so that a block or a component of a device is also to be understood as a corresponding method step or as a feature of a method step. Similarly, aspects described in connection with or as a method step also represent a description of a corresponding block or detail or feature of a corresponding device.
Die oben beschriebenen Ausführungsbeispiele stellen lediglich eine Veranschaulichung der Prinzipien der vorliegenden Erfindung dar. Es versteht sich, dass Modifikationen und Variationen der hierin beschriebenen Anordnungen und Einzelheiten anderen Fachleuten einleuchten werden. Deshalb ist beabsichtigt, dass die Erfindung lediglich durch den Schutzumfang der nachstehenden Patentansprüche und nicht durch die spezifischen Einzelheiten, die anhand der Beschreibung und der Erläuterung der Ausführungsbeispiele hierin präsentiert wurden, beschränkt sei.The embodiments described above are merely illustrative of the principles of the present invention. It will be understood that modifications and variations of the arrangements and details described herein will be apparent to others of ordinary skill in the art. Therefore, it is intended that the invention be limited only by the scope of the appended claims and not by the specific details presented in the description and explanation of the embodiments herein.
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