DE102014202945A1 - Method for producing an organic electronic component and organic electronic component - Google Patents

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Abstract

Ein Verfahren zum Herstellen eines organischen elektronischen Bauelementes umfasst in einem ersten Schritt ein Bereitstellen einer Substratschicht mit einem elektrisch leitfähigen Material. In einem zweiten Schritt umfasst das Verfahren ein Anordnen einer Passivierungsschicht in Passivierungsbereichen mittels Flexodruck. In einem dritten Schritt des Verfahrens wird ein organisches Halbleitermaterial angeordnet. In einem vierten Schritt wird eine Elektrodenschicht so angeordnet, dass die Passivierungsschicht und das organische Halbleitermaterial zwischen der Substratschicht und der Elektrodenschicht angeordnet sind.A method for producing an organic electronic component comprises, in a first step, providing a substrate layer with an electrically conductive material. In a second step, the method comprises arranging a passivation layer in passivation regions by means of flexographic printing. In a third step of the method, an organic semiconductor material is arranged. In a fourth step, an electrode layer is arranged such that the passivation layer and the organic semiconductor material are arranged between the substrate layer and the electrode layer.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen eines organischen elektronischen Bauelementes und auf ein mittels des Verfahrens hergestelltes organisches elektronisches Bauelement.The invention relates to a method for producing an organic electronic component and to an organic electronic component produced by the method.

Bei Herstellungsverfahren flächiger elektronischer Bauelemente, insbesondere organische elektronische Bauelemente, wie etwa organische Solarzellen, organische Leuchtdioden (engl. organic light emitting diode, OLED) oder organische Feldeffekttransistoren (OFET), besteht ein Bedarf an einer Strukturierung oder Passivierung bestimmter Oberflächenbereiche der Schichten des jeweiligen Bauelementes.In manufacturing methods of planar electronic components, in particular organic electronic components, such as organic solar cells, organic light emitting diodes (OLED) or organic field effect transistors (OFET), there is a need for structuring or passivation of certain surface areas of the layers of the respective component ,

In [1] ist beispielsweise ein Verfahren zur Erzeugung von Netz(engl. Grid)-Strukturen mit elektrisch leitfähigen Metallpasten mittels des Flexodruckverfahrens [2] beschrieben. In [3] ist ein Verfahren zur Herstellung von Antennen mit elektrisch leitfähigen Metallpasten mithilfe des Flexodruckes benannt.In [1], for example, a method for the production of grid structures with electrically conductive metal pastes by means of the flexographic printing process [2] is described. In [3] a method for the production of antennas with electrically conductive metal pastes by means of flexo printing is named.

In [4] ist eine Vorbenetzung einer Bauteiloberfläche mit N-Octanol zur Verbesserung der Benetzung der Oberfläche mit Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Poly(Styrenesulfonate) – abgekürzt als PEDOT:PSS – zur Herstellung von Solarzellen beschrieben. Die Vorbenetzung erfolgt mittels eines Flexodruck-Verfahrens.In [4] a pre-wetting of a component surface with N-octanol to improve the wetting of the surface with poly (3,4-ethylenedioxythiophene) poly (styrene sulfonates) - abbreviated as PEDOT: PSS - for the production of solar cells is described. The pre-wetting takes place by means of a flexographic printing process.

In [5] wird das Flexodruckverfahren zur Erzeugung von organischen Feldeffekttransistoren (OFET) mittels Druck eines stark hydrophoben Materials zur Selbstausrichtung von PEDOT:PSS unter Nutzung gezielter Entnetzung beschrieben.In [5] the flexographic printing process for the generation of organic field effect transistors (OFET) by means of pressure of a strongly hydrophobic material for self-alignment of PEDOT: PSS using targeted dewetting is described.

In [6] ist ein Verfahren zur Herstellung von hydrophoben Barrierestrukturen für Sensorelemente mittels Flexodruck beschrieben.In [6] a process for the preparation of hydrophobic barrier structures for sensor elements by means of flexographic printing is described.

Flächige organische Leuchtdioden können derzeit an einem Polymer- bzw. Kunststoff-Substrat angeordnet sein. Das Kunststoffsubstrat weist neben Barriereschichten eine Anodenschicht auf. Die Anodenschicht kann eine transparente leitfähige Schicht wie beispielsweise ein transparentes und leitfähiges Oxid (engl. transparent and conductive oxide – TCO) sein. Eine Strukturierung von Barrierefolien mit einer transparenten leitfähigen Schicht kann mittels additiver oder subtraktiver Verfahren erfolgen.Flat organic light-emitting diodes can currently be arranged on a polymer or plastic substrate. The plastic substrate has an anode layer in addition to barrier layers. The anode layer may be a transparent conductive layer such as a transparent and conductive oxide (TCO). Structuring of barrier films with a transparent conductive layer can take place by means of additive or subtractive methods.

Eine Strukturierung oder Passivierung bestimmter Oberflächenbereiche der Schichten eines organischen elektronischen Bauelementes kann mittels additiver oder subtraktiver Verfahren erfolgen.Structuring or passivation of certain surface areas of the layers of an organic electronic component can be carried out by means of additive or subtractive methods.

In additiven Verfahren können bei einer Passivierung beispielsweise isolierende Materialien auf die Anode aufgebracht werden, um einen Stromfluss von der Anode zu einer Kathode in den passivierten Bereichen zu verhindern. In subtraktiven Verfahren kann z. B. die Anode in den zu passivierenden bzw. zu strukturierenden Bereichen entfernt werden, um den Stromfluss zu verhindern.For example, in additive processes, passivation may apply insulating materials to the anode to prevent current flow from the anode to a cathode in the passivated regions. In subtractive methods, for. B. the anode in the passivated or to be structured areas are removed to prevent the flow of current.

In [7] ist ein subtraktives Verfahren beschrieben, bei dem die Anode mittels Laser partiell abgetragen und somit die Leuchtflächen von organischen Leuchtdioden voneinander getrennt werden. Der Prozess verursacht jedoch Partikel, die die verbleibenden aktiven Elemente oder Bereiche verunreinigen können. Der Prozess ist ferner für Kunststoff-Barrierefolien schwer Rolle-zu-Rolle kompatibel, da lediglich die TCO-Beschichtung abgetragen werden darf, ohne die Barriereschicht zu beschädigen. Dies führt zu höchsten Anforderungen an alle Prozessparameter, wie etwa eine Bahnführung des Substrates, eine Dickentoleranz des Substrates, eine Dickentoleranz der Barriereschicht und der TCO-Beschichtung oder einer Fokustiefe des Lasers.In [7] a subtractive method is described in which the anode is partially removed by laser and thus the light surfaces of organic light-emitting diodes are separated from each other. However, the process causes particles that can contaminate the remaining active elements or areas. The process is also difficult to roll-to-roll for plastic barrier films because only the TCO coating can be removed without damaging the barrier layer. This leads to the highest demands on all process parameters, such as a web guide of the substrate, a thickness tolerance of the substrate, a thickness tolerance of the barrier layer and the TCO coating or a depth of focus of the laser.

In additiven Verfahren kann eine partielle Passivierung der Anode durch Aufbringung eines strukturierten Dielektrikums erfolgen. In [8] ist ein photolithographischer Prozess zur Aufbringung des strukturierten Dielektrikums beschrieben. Photolithographische Prozesse sind jedoch aufwendig, teuer und nicht oder nur ungenügend mit Rolle-zu-Rolle(RzR)-Prozessen kompatibel.In additive processes, a partial passivation of the anode can take place by application of a structured dielectric. In [8] a photolithographic process for the deposition of the structured dielectric is described. However, photolithographic processes are complex, expensive and not or only insufficiently compatible with role-to-role (RzR) processes.

Sogenannte Tintenstrahl-(engl. Inkjet-)Druckprozesse sind ebenfalls schwer RzR-kompatibel und insbesondere für große zu passivierende Flächen unwirtschaftlich. Während des Verfahrens fehladdressierte Tropfen können ferner auf die aktiven Elemente bzw. Bereiche des Bauelementes gelangen und diese bzw. deren Funktion beeinträchtigen. Ferner sind in Inkjet-Verfahren nur niedrigviskose Flüssigkeiten verdruckbar.So-called inkjet printing processes are also difficult to RZR-compatible and, in particular, uneconomical for large surfaces to be passivated. Drops that have been mismatched during the process can also reach the active elements or areas of the component and impair their function. Furthermore, only low-viscosity liquids are printable in inkjet processes.

In Siebdruckverfahren, kommt eine Druckform in Kontakt sowohl mit den zu passivierenden als auch den nicht zu passivierenden Bereichen und mithin auch den aktiven Elementen und kann diese zerkratzen oder mit Partikeln belasten, wie beispielsweise in beschrieben ist. Ferner sind Siebdruckverfahren mit Ausnahme des Rotationssiebdruckverfahrens nur schwer RzR-kompatibel.In screen-printing processes, a printing plate comes into contact with both the passivating and non-passivating regions, and thus also the active elements, and can scratch or load them with particles, as described, for example, in US 5,256,467. Further, screen printing methods other than rotary screen printing are difficult to be RzR compatible.

Tiefdruckverfahren sind zwar RzR-kompatibel, jedoch kommt eine verwendete Druckform in Kontakt mit den aktiven Elementen und kann diese zerkratzen oder mit Partikeln belasten und so die Funktion der Bauelemente beeinträchtigen. Ferner können von einem Druckzylinder nicht abgerakelte Passivierungsreste die aktiven Elemente verunreinigen. Meist werden beim Tiefdruckverfahren dünnflüssige Druckstoffe und saugfähige Substrate verwendet. Für eine Passivierungsschicht, die ggf. zähflüssig ist, und nicht saugfähige Substrate wie Kunststoff- oder Metallfolien, ist ein derartiges Verfahren ungeeignet.Although intaglio printing is RzR-compatible, a used printing plate comes into contact with the active elements and can scratch or load them with particles and thus impair the function of the components. Furthermore, passivation residues not scraped off by a printing cylinder can remove the active elements contaminate. Most low-pressure printing processes use low-viscosity printing materials and absorbent substrates. For a passivation layer, which is possibly viscous, and non-absorbent substrates such as plastic or metal foils, such a method is unsuitable.

5 zeigt eine Photographie einer OLED 1005, die ein mittels Tiefdruckverfahren strukturiertes Substrat aufweist, wobei die Passivierungsbereiche durch die Schriftzüge ”COMEDD” und ”R2flex”, sowie die (dunklen) Bereiche zwischen Leuchtbereichen 1006a–c erkennbar sind. Die OLED 1005 weist fleckige OLED-Leuchtflächen (aktive Bereiche) 1006a–c auf, die durch Verunreinigungen der aktiven Elemente durch Passivierungsreste verursacht sind. 5 shows a photograph of an OLED 1005 comprising a substrate structured by gravure printing, the passivation areas being indicated by the words "COMEDD" and "R2flex", as well as the (dark) areas between luminous areas 1006a -C are recognizable. The OLED 1005 has spotty OLED lighting areas (active areas) 1006a -C, which are caused by contamination of the active elements by Passivierungsreste.

Wünschenswert wäre demnach ein Verfahren zur Passivierung von Bereichen in organischen elektronischen Bauelementen, das einen hohen Durchsatz, eine zuverlässige Passivierung und eine hohe Qualität der aktiven Bereiche des Bauelementes ermöglicht.Accordingly, it would be desirable to have a process for passivating regions in organic electronic devices that enables high throughput, reliable passivation, and high quality of the active regions of the device.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Verfahren zur Herstellung organischer elektronischer Bauelemente und insbesondere organischer Leuchtdioden bereitzustellen, so dass aktive Bereiche einen geringen Beschädigungs- und/oder Verunreinigungsgrad aufweisen und mit hohen Durchsatzraten hergestellt werden können.The object of the present invention is to provide a method for producing organic electronic components and in particular organic light-emitting diodes, so that active regions have a low degree of damage and / or contamination and can be produced at high throughput rates.

Diese Aufgabe wird durch das Verfahren gemäß Anspruch 1 und ein organisches elektronisches Bauelement gemäß Anspruch 8 gelöst.This object is achieved by the method according to claim 1 and an organic electronic component according to claim 8.

Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung schaffen ein Verfahren zum Herstellen eines organischen elektronischen Bauelementes, bei dem mittels Flexodruck eine Passivierungsschicht in Passivierungsbereichen zwischen einer flächigen Anode und einer Kathode angeordnet wird. Das Verfahren umfasst ferner ein Anordnen eines organischen Halbleitermaterials und ein Anordnen einer Elektrodenschicht, so dass die Passivierungsschicht und das organische Halbleitermaterial zwischen der Substratschicht und der Elektrodenschicht angeordnet sind.Exemplary embodiments of the present invention provide a method for producing an organic electronic component, in which a passivation layer is arranged in passivation regions between a flat anode and a cathode by means of flexographic printing. The method further comprises arranging an organic semiconductor material and arranging an electrode layer, such that the passivation layer and the organic semiconductor material are arranged between the substrate layer and the electrode layer.

Vorteilhaft an diesem Ausführungsbeispiel ist, dass mittels Flexodruck(-verfahren) eine Verunreinigung von aktiven Bereichen minimiert oder verhindert werden kann und, dass durch eine Beabstandung einer Druckform von dem Substrat in Abstandsbereichen außerhalb der Passivierungsbereiche ein Kontakt zwischen dem Substrat und der Druckform in diesen Abstandsbereichen verhindert ist und so Beschädigungen der aktiven Flächen oder Bereiche minimierbar oder verhinderbar sind. Das Verfahren ist als RzR-Verfahren implementierbar, so dass ein Produktionsdurchsatz mittels des Verfahrens hoch sein kann. Ferner kann das Verfahren als kontinuierliches Verfahren implementiert werden.An advantage of this embodiment is that by means of flexographic printing (method) contamination of active areas can be minimized or prevented, and that by spacing a printing form from the substrate in spacing areas outside the passivation areas, contact between the substrate and the printing plate in these spacing areas is prevented and so damage to the active surfaces or areas can be minimized or prevented. The method can be implemented as an RzR method, so that a production throughput by means of the method can be high. Furthermore, the method can be implemented as a continuous process.

Alternative Ausführungsbeispiele schaffen Verfahren zum Herstellen von organischen Leuchtdioden mittels Flexodruckverfahren.Alternative embodiments provide methods of making organic light emitting diodes by flexographic printing.

Vorteilhaft an diesen Ausführungsbeispielen ist, dass Leuchtbereiche der organischen Leuchtdioden eine homogene Leuchtfläche aufweisen können.An advantage of these exemplary embodiments is that luminous regions of the organic light emitting diodes can have a homogeneous luminous surface.

Weitere Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung schaffen ein Verfahren zum Herstellen eines organischen elektronischen Bauelementes, bei dem das Substrat bzw. die Grundelektrode eine metallische Folie ist.Further embodiments of the present invention provide a method for producing an organic electronic component, wherein the substrate or the base electrode is a metallic foil.

Vorteilhaft an diesem Ausführungsbeispiel ist, dass eine elektrische Leitfähigkeit einer metallischen Folie, eine Wärmeleitfähigkeit, eine mechanische Belastbarkeit und/oder eine Barriereeigenschaft gegenüber TCO-Substraten vergrößert sein können.An advantage of this embodiment is that an electrical conductivity of a metallic foil, a thermal conductivity, a mechanical strength and / or a barrier property compared to TCO substrates can be increased.

Weitere vorteilhafte Ausführungsformen sind der Gegenstand der abhängigen Patentansprüche.Further advantageous embodiments are the subject of the dependent claims.

Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend Bezug nehmend auf die beiliegenden Zeichnungen erläutert. Es zeigenPreferred embodiments of the present invention will be explained below with reference to the accompanying drawings. Show it

1 ein schematisches Flussdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen eines organischen Bauelementes gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; 1 a schematic flow diagram of a method for producing an organic device according to an embodiment of the present invention;

2 eine schematische Seitenschnittansicht einer organischen Leuchtdiode mit einer Grundelektrode, einer Passivierungsschicht, die in Passivierungsbereichen ein organisches Halbleitermaterial von dem Substrat beabstandet, gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; 2 a schematic side sectional view of an organic light emitting diode having a base electrode, a passivation layer, which in passivation regions an organic semiconductor material from the substrate, according to an embodiment of the present invention;

3 eine Aufsicht einer strukturierten organischen Leuchtdiode, die mittels eines erfindungsgemäßen Verfahrens herstellbar ist; 3 a top view of a structured organic light-emitting diode, which can be produced by a method according to the invention;

4 ein schematisches Diagramm eines Flexodruck-Verfahrens gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; und 4 a schematic diagram of a flexographic printing method according to an embodiment of the present invention; and

5 eine Photographie einer strukturierten organischen Leuchtdiode, die ein mittels Tiefdruckverfahren strukturiertes Substrat aufweisen und von Passivierungsresten verunreinigte Leuchtflächen aufweisen gemäß dem Stand der Technik. 5 a photograph of a structured organic light-emitting diode, which have a substrate structured by means of gravure printing process and having passivation of contaminated lighting surfaces according to the prior art.

Bevor nachfolgend Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung im Detail anhand der Zeichnungen näher erläutert werden, wird darauf hingewiesen, dass identische, funktionsgleiche oder gleichwirkende Elemente, Objekte und/oder Strukturen in den unterschiedlichen Figuren mit den gleichen Bezugszeichen versehen sind, so dass die in unterschiedlichen Ausführungsbeispielen dargestellte Beschreibung dieser Elemente untereinander austauschbar ist bzw. aufeinander angewendet werden kann.Before below embodiments of the present invention in detail with reference to the Drawings are explained in more detail, it is pointed out that identical, functionally identical or equivalent elements, objects and / or structures are provided in the different figures with the same reference numerals, so that the description of these elements shown in different embodiments is interchangeable or applied to each other can be.

Nachfolgend soll unter dem Begriff Substratschicht eine Schicht verstanden werden, die eine Grundelektrode aufweist. Die Substratschicht kann beispielsweise eine metallische Folie aus Aluminium, Stahl, Silber, Kupfer oder einem sonstigen Metall sein. Die Substratschicht kann, etwa wenn sie als Metallfolie ausgeführt ist, die Grundelektrode sein. Alternativ kann die Substratschicht auch eine (ggf. transparente) Polymer-Barrierefolie mit einer transparenten elektrisch leitfähigen Schicht oder ein flexibles Glas mit einer transparenten elektrisch leitfähigen Schicht wie einer TCO-Schicht oder einer Metallschicht sein. Ist die Substratschicht eine Polymer-Barrierefolie oder ein flexibles Glas mit einer transparenten elektrisch leitfähigen Schicht, kann die Substratschicht ein transparentes elektrisch leitfähiges Substrat sein. Die transparente elektrisch leitfähigen Schicht kann eine TCO-Schicht, Nanodrähte (emgl. Nanowires) und/oder Kohlenstoffnanoröhren (engl. Carbon Nano-Tubes – CNT) umfassen. Die transparente elektrisch leitfähige Schicht oder die Metallschicht können als Grundelektrode genutzt werden. Beispielsweise kann die Grundelektrode Silber aufweisen. Das Silber kann bspw. mittels Bedampfung oder Sputtern (Kathodenzerstäubung) an der Substratschicht angeordnet werden. Die Substratschicht kann sowohl Träger der Grundelektrode (z. B. Kunststofffolie mit TCO) als auch die Grundelektrode selbst (z. B. Metallfolie) sein. Die Begriffe Grundelektrode und Substratschicht werden nachfolgend als Synonym verwendet und sollen als gegenseitig austauschbar verstanden werden.Hereinafter, the term substrate layer is to be understood as meaning a layer which has a base electrode. The substrate layer may be, for example, a metallic foil made of aluminum, steel, silver, copper or another metal. The substrate layer can be the base electrode, for example if it is designed as a metal foil. Alternatively, the substrate layer may also be a (possibly transparent) polymer barrier film with a transparent electrically conductive layer or a flexible glass with a transparent electrically conductive layer such as a TCO layer or a metal layer. If the substrate layer is a polymer barrier film or a flexible glass having a transparent electrically conductive layer, the substrate layer may be a transparent electrically conductive substrate. The transparent electrically conductive layer may comprise a TCO layer, nanowires (or nanowires) and / or carbon nanotubes (CNTs). The transparent electrically conductive layer or the metal layer can be used as a base electrode. For example, the base electrode may have silver. The silver can be arranged, for example, by vapor deposition or sputtering (cathode sputtering) on the substrate layer. The substrate layer may be both the substrate of the base electrode (eg plastic film with TCO) and the base electrode itself (eg metal foil). The terms base electrode and substrate layer are used below as a synonym and are to be understood as interchangeable.

1 zeigt ein schematisches Flussdiagramm eines Verfahrens 100 zum Herstellen eines organischen Bauelementes. Das Verfahren 100 weist einen ersten Schritt 110 auf, in dem eine Substratschicht mit einem elektrisch leitfähigen Material bereitgestellt wird. 1 shows a schematic flow diagram of a method 100 for producing an organic component. The procedure 100 indicates a first step 110 in which a substrate layer is provided with an electrically conductive material.

Das Verfahren 100 umfasst einen zweiten Schritt, in dem eine Passivierungsschicht in Passivierungsbereichen mittels Flexodruck, d. h. mittels eines Flexodruckverfahrens, angeordnet wird. Die Passivierungsbereiche können Oberflächenbereiche der Substratschicht sein, so dass die Substratschicht in den Passivierungsbereichen mit der Passivierungsschicht bedeckt ist. Alternativ oder zusätzlich ist ebenfalls vorstellbar, dass an dem Substrat Materialschichten, wie etwa organische oder anorganische leitende oder halbleitende Funktionsmaterialien angeordnet sind, so dass Passivierungsbereiche Oberflächenbereiche der Funktionsmaterialien bedecken können.The procedure 100 comprises a second step, in which a passivation layer is arranged in passivation regions by means of flexographic printing, ie by means of a flexographic printing process. The passivation regions may be surface regions of the substrate layer, such that the substrate layer in the passivation regions is covered with the passivation layer. Alternatively or additionally, it is also conceivable that material layers, such as organic or inorganic conductive or semiconducting functional materials are arranged on the substrate, so that passivation regions can cover surface regions of the functional materials.

Das Verfahren 100 umfasst einen dritten Schritt, in welchem ein organisches Halbleitermaterial angeordnet wird. Das organische Halbleitermaterial kann beispielsweise ganz oder teilweise über eine Fläche der Substratschicht angeordnet werden, so dass das organische elektronische Material in aktiven Bereichen der Substratschicht mit Selbiger bzw. der Grundelektrode kontaktiert ist und in den Passivierungsbereichen mittels der Passivierungsschicht von der Substratschicht beabstandet ist.The procedure 100 comprises a third step in which an organic semiconductor material is arranged. For example, the organic semiconductor material can be arranged wholly or partially over a surface of the substrate layer, so that the organic electronic material is in contact with the base layer in active regions of the substrate layer and is spaced from the substrate layer in the passivation regions by means of the passivation layer.

Das Verfahren 100 weist einen vierten Schritt 140 auf, in welchem eine Elektrodenschicht angeordnet wird, so dass in den Passivierungsbereichen die Passivierungsschicht und das organische Halbleitermaterial zwischen der Substratschicht und der Elektrodenschicht angeordnet sind. Die Elektrodenschicht kann eine oder mehrere Gegenelektroden aufweisen, d. h., dass an die Elektrodenschicht flächig, oder in unterschiedlichen Bereichen (der Gegenelektroden) ein elektrisches Potential anlegbar ist. In anderen Worten kann die Elektrodenschicht einstückig oder mehrstückig ausgeführt sein. Ist die Elektrodenschicht mehrstückig ausgeführt, so kann ein elektrisches Potential an ein oder mehrere Teilbereiche der Elektrodenschicht anlegbar sein, das bedeutet, die mehrere Gegenelektroden können gemeinsam oder getrennt von einander angesteuert werden.The procedure 100 indicates a fourth step 140 in which an electrode layer is arranged, so that in the passivation regions, the passivation layer and the organic semiconductor material are arranged between the substrate layer and the electrode layer. The electrode layer may have one or more counterelectrodes, that is to say that an electric potential can be applied flatly to the electrode layer or in different regions (of the counterelectrodes). In other words, the electrode layer may be made in one piece or in several pieces. If the electrode layer is embodied in several parts, then an electrical potential can be applied to one or more subareas of the electrode layer, that is, the plurality of counterelectrodes can be driven jointly or separately from one another.

Das organisches Halbleitermaterial kann in den aktiven Bereichen einen Stromfluss zwischen einer Anode und einer Kathode ermöglichen. Ein mittels des Verfahrens 100 hergestelltes Bauteil kann etwa eine OLED, eine organische Solarzelle oder ein OFET sein.The organic semiconductor material may enable current flow between an anode and a cathode in the active regions. One by the method 100 manufactured component may be about an OLED, an organic solar cell or an OFET.

Basierend auf einer Polarität zwischen der Grundelektrode und der Elektrodenschicht kann die Grundelektrode oder die Elektrodenschicht als Anode und die jeweils gegenüberliegend angeordnete Elektrodenschicht oder Grundelektrode als Kathode nutzbar sein. Das bedeutet, dass das elektrisch leitfähige Material der Substratschicht sowohl eine Anode als auch eine Kathode bilden kann. Die Passivierungsschicht kann an der Anode oder der Kathode angeordnet sein. In anderen Worten kann die Passivierungsschicht an der Substratschicht oder an der Elektrodenschicht angeordnet werden, so dass der dritte Schritt 130 auf den zweiten Schritt 120 folgen kann oder, so dass der zweite Schritt 120 auf den dritten Schritt 130 folgen kann.Based on a polarity between the base electrode and the electrode layer, the base electrode or the electrode layer can be used as the anode and the respectively oppositely disposed electrode layer or base electrode as the cathode. This means that the electrically conductive material of the substrate layer can form both an anode and a cathode. The passivation layer may be disposed at the anode or the cathode. In other words, the passivation layer can be arranged on the substrate layer or on the electrode layer, so that the third step 130 on the second step 120 can follow or, so the second step 120 on the third step 130 can follow.

Bei der Passivierungsschicht kann es sich beispielsweise um ein Harz oder um eine Passivierungspaste handeln. Die Passivierungsschicht kann eine Schichtdicke von beispielsweise mehr als 1 μm, mehr als 15 μm oder mehr als 20 μm aufweisen.The passivation layer may be, for example, a resin or a passivation paste. The passivation layer can have a layer thickness of, for example, more than 1 micron, more than 15 microns or more than 20 microns.

Eine hohe Viskosität von Passivierungspasten ermöglicht, dass Selbige nach einem Aufbringen, d. h. Anordnen an der Substratschicht oder dem organischen elektronischen Material, „verlaufen” können und so (engl. pin holes) schließen und/oder als auch eine gleichmäßig dicke und/oder glatte, d. h. eine geringe Oberflächenrauhigkeit aufweisend, Schicht bilden können. Eine mittlere Oberflächenrauheit kann in einem Bereich von 5–1000 nm, 50–800 nm oder 200–500 nm liegen.A high viscosity of passivation pastes allows the same after application, i. H. Arranging on the substrate layer or the organic electronic material, can "run" and so close (pin holes) and / or as well as a uniformly thick and / or smooth, d. H. having a low surface roughness, can form a layer. An average surface roughness may be in a range of 5-1000 nm, 50-800 nm or 200-500 nm.

Die Passivierungspaste kann bspw. ein Polyurethanharz oder Exoxidharz sein, und/oder eine Viskosität in einem Bereich zwischen 500 und 5.000, 600 und 2.500 oder 1.000 und 3.000 m/Pas bei 20°C aufweisen und mit einer Anpresskraft in einem Bereich von bspw. 1–100 N/mm, 5–50 N/mm oder 7–20 N/mm, vorzugsweise mit 10 N/mm ± 10% während des Flexodruckverfahrens an dem Substrat angeordnet werden.The passivation paste may be, for example, a polyurethane resin or an epoxy resin, and / or have a viscosity in a range between 500 and 5,000, 600 and 2,500 or 1,000 and 3,000 m / Pas at 20 ° C and with a contact pressure in a range of, for example -100 N / mm, 5-50 N / mm or 7-20 N / mm, preferably 10 N / mm ± 10% during the flexographic printing process on the substrate.

Alternativ oder zusätzlich kann die Passivierungspaste beispielsweise ein unter ultraviolettem (UV)-Licht aushärtendes Harz sein. Alternativ kann das Harz beispielsweise auch bei Erreichen einer Ausheil-Temperatur aushärten. Eine Ausheil-Temperatur kann beispielsweise bei mehr als 50°, 120° oder 400°C Celsius liegen. Das Harz kann beispielsweise in einem Ausgangszustand, bevor es ausgehärtet ist, ein Lösungsmittel aufweisen, welches beispielsweise während einer Aushärtezeit aus dem Harz austritt, so dass Selbiges aushärtet.Alternatively or additionally, the passivating paste may be, for example, an ultraviolet (UV) light-curing resin. Alternatively, the resin may cure, for example, upon reaching an annealing temperature. An annealing temperature may, for example, be more than 50 °, 120 ° or 400 ° Celsius. For example, in an initial state, before curing, the resin may have a solvent that exits the resin during a curing time, for example, so that it cures.

Bislang hätte ein Fachmann zum Anordnen einer Passivierungsschicht ein von einem Flexodruck-Verfahren verschiedenes Verfahren, wie sie im Stand der Technik bekannt sind, verwendet, da die Rasterstruktur einer Farbauftragswalze (Aniloxwalze) einer Vorrichtung zur Durchführung eines Flexodruckverfahrens auch im Druckergebnis sichtbar sein kann und somit eine geschlossene vollständig geschlossene Schicht verhindert werden kann.Heretofore, a person skilled in the art would have used a process other than a flexographic printing process as known in the art because the pattern of an inking roll (anilox roll) of an apparatus for performing a flexographic printing process may also be visible in the print result, and thus a closed completely closed layer can be prevented.

Ein Passivierungsmaterial der Passivierungsschicht kann basierend auf den oben beschriebenen Eigenschaften „Verlaufen”, und so eine gleichmäßige Schichtdicke ermöglichen.Passivation material of the passivation layer may "bleed" based on the properties described above, thus allowing a uniform layer thickness.

Im Gegensatz zu einem Bedrucken mit elektrisch leitfähigen Materialien, wie es beispielsweise mit Inkjet-Verfahren bei Antennenstrukturen angewendet wird, können Fehlstellen in Passivierungsbereichen ggf. zu Kurzschlüssen zwischen Kathode und Anode führen, wohingegen lokale Fehlstellen in leitenden Materialien ggf. erhöhte Leitungswiderstände mit sich führen. Während erhöhte Leitungswiderstände beispielsweise eine Bauteileffizienz reduzieren können, kann ein Kurzschluss zu einem Komplettausfall des Bauteils führen, so dass eine Anforderung an eine Passivierungsschicht bezüglich einer geschlossenen Oberfläche höher sein kann, als an eine leitende Schicht.In contrast to printing with electrically conductive materials, as it is used, for example, with inkjet methods in antenna structures, defects in Passivierungsbereiche may possibly lead to short circuits between the cathode and anode, whereas local defects in conductive materials possibly lead to increased line resistance. For example, while increased line resistances may reduce device efficiency, shorting may result in complete failure of the device such that a requirement for a passivation layer may be higher with respect to a closed surface than with a conductive layer.

In anderen Worten kann ein Drucken einer Passivierungsschicht im Flexodruck-Verfahren, wie es beispielsweise das Verfahren 100 ermöglicht, eine Rolle-zu-Rolle-Strukturierung von flächigen, flexiblen, organischen elektronischen Bauelementen mit nicht leitendem Passivierungsmaterial (Isolierschicht) mittels Drucken einer Passivierungsschicht im Flexodruck-Verfahren ermöglichen.In other words, printing a passivation layer in the flexographic printing process, such as the process 100 enables a roll-to-roll patterning of sheet-like, flexible, organic electronic components with non-conductive passivation material (insulating layer) by printing a passivation layer in the flexographic printing process.

Vorteilhaft an diesem Verfahren ist, dass es ein additives Verfahren ist und eine Grundelektrode der Substratschicht, beispielsweise die Anode (etwa die TCO-Schicht auf einer Polymer-Barrierefolie oder eine Metallfolie) gegenüber subtraktiven Verfahren unbeschädigt bleibt.An advantage of this method is that it is an additive method and a base electrode of the substrate layer, for example the anode (such as the TCO layer on a polymer barrier film or a metal foil) remains undamaged compared to subtractive methods.

Das Verfahren 100 weist insbesondere gegenüber einem subtraktiven Verfahren, bei denen die Anode beispielsweise mittels Laser partiell abgetragen wird, den Vorteil auf, dass das Verfahren 100 auch angewendet werden kann, wenn die Substratschicht eine Metallfolie ist.The procedure 100 In particular, in contrast to a subtractive method, in which the anode is partially removed, for example by means of laser, has the advantage that the method 100 can also be applied when the substrate layer is a metal foil.

Insbesondere kann das Verfahren 100 dazu eingesetzt werden, große Flächen des elektronischen Bauelementes zu passivieren. Eine Auflösung, d. h. eine Genauigkeit der Anordnung der passivierten Flächen, kann beispielsweise 50 μm, 200 μm oder 1000 μm betragen. Das Verfahren kann einsetzbar sein, um flächige, flexible, organische elektronische Bauelemente in einem Rolle-zu-Rolle(RzR)-Prozess zu fertigen, indem eine Passivierungsschicht im Flexodruck-Verfahren gedruckt wird.In particular, the method can 100 be used to passivate large areas of the electronic component. A resolution, ie an accuracy of the arrangement of the passivated surfaces, can be, for example, 50 μm, 200 μm or 1000 μm. The method can be used to fabricate flat, flexible, organic electronic components in a roll-to-roll (RzR) process by printing a passivation layer in flexographic printing.

2 zeigt eine schematische Seitenschnittansicht einer organischen Leuchtdiode 10 mit einer Grundelektrode 12 und einer Passivierungsschicht 14, die in Passivierungsbereichen 16 ein organisches Halbleitermaterial 18 von der Grundelektrode 12 beabstandet. Die Passivierungsschicht 14 kann bspw. mittels des Schrittes 120 angeordnet werden. An dem organischen Halbleitermaterial 18 ist eine Gegenelektrodenschicht 22 angeordnet. Die Grundelektrode 12, das Passivierungsmaterial 14, das organische Halbleitermaterial 18 und die Gegenelektrodenschicht 22 sind von einer Verkapselungsschicht 24 bedeckt. Die Verkapselungsschicht 24 ist ausgebildet, um eine mechanische Beeinträchtigung etwa durch einen mechanischen Kontakt oder eine Berührung der Gegenelektrodenschicht 22, des Halbleitermaterials 18 und/oder der Passivierungsschicht 14 mit äußeren Objekten zu verhindern und/oder vor einem Eindringen von Wasser und Sauerstoff zu schützen. 2 shows a schematic side sectional view of an organic light emitting diode 10 with a base electrode 12 and a passivation layer 14 in passivation areas 16 an organic semiconductor material 18 from the bottom electrode 12 spaced. The passivation layer 14 can, for example, by means of the step 120 to be ordered. On the organic semiconductor material 18 is a counter electrode layer 22 arranged. The bottom electrode 12 , the passivation material 14 , the organic semiconductor material 18 and the counter electrode layer 22 are from an encapsulation layer 24 covered. The encapsulation layer 24 is designed to be mechanically impaired by, for example, mechanical contact or contact with the counterelectrode layer 22 , the semiconductor material 18 and / or the passivation layer 14 with external objects to prevent and / or to prevent ingress of water and oxygen.

Die Grundelektrode 12 des organischen elektronischen Bauelementes 10 ist mit einem ersten elektrischen Kontakt 26a verbunden. Gegenelektroden 22a und 22b der Gegenelektrodenschicht 22 des organischen elektronischen Bauelementes 10 sind mit elektrischen Kontakten 26b und 26c verbunden, die mit der Gegenelektrodenschicht 22 gekoppelt sind, so dass zwischen Abschnitten (Gegenelektrode) 22a der Gegenelektrodenschicht 22, die mit dem elektrischen Kontakt 26b gekoppelt sind und der Elektrode 26a bzw. der Grundelektrode 12, ein erstes elektrisches Potenzial anlegbar ist. In Bereichen (Gegenelektrode) 22b der Elektrodenschicht 22, die mit dem elektrischen Kontakt 26c gekoppelt sind, und der Grundelektrode 12 ist ein zweites elektrisches Potenzial anlegbar. The bottom electrode 12 of the organic electronic component 10 is with a first electrical contact 26a connected. counter electrodes 22a and 22b the counter electrode layer 22 of the organic electronic component 10 are with electrical contacts 26b and 26c connected to the counter electrode layer 22 are coupled so that between sections (counter electrode) 22a the counter electrode layer 22 that with the electrical contact 26b are coupled and the electrode 26a or the base electrode 12 , a first electrical potential can be applied. In areas (counter electrode) 22b the electrode layer 22 that with the electrical contact 26c coupled, and the bottom electrode 12 a second electrical potential can be applied.

Das bedeutet, dass die organische Leuchtdiode 10 in einem Bereich 28a und in einem Bereich 28b mittels des elektrischen Kontaktes 26b und 26c unabhängig voneinander ansteuerbar ist, wobei eine Spannung, die an dem elektrischen Kontakt 26a anlegbar ist, ein gemeinsames (Referenz-)Potenzial für die Bereiche 28a und 28b bildet. Basierend auf einem Vorzeichen einer Potenzialdifferenz kann beispielsweise das elektrisch leitfähige Material der Grundelektrode 12 die Anode und die Elektrodenschicht 22 die Kathode des organischen Bauelementes 10 sein oder umgekehrt.This means that the organic light emitting diode 10 in one area 28a and in one area 28b by means of electrical contact 26b and 26c can be controlled independently of each other, wherein a voltage which is connected to the electrical contact 26a can be applied, a common (reference) potential for the areas 28a and 28b forms. Based on a sign of a potential difference, for example, the electrically conductive material of the base electrode 12 the anode and the electrode layer 22 the cathode of the organic device 10 be or vice versa.

Metallfolien oder Polymer-Barrierefolien mit einer transparenten elektrisch leitfähigen Schicht oder ein flexibles Glas mit einer transparenten elektrisch leitfähigen Schicht können einen elektrischen Grundkontakt für organische elektronische Bauelemente bilden. Das Substrat bzw. die Substratschicht mit der Grundelektrode 12 kann flexibel sein, um eine Kompatibilität mit einem Rolle-zu-Rolle-Verfahren zu ermöglichen. Die Funktionalität einer bspw. darüber abgeschiedenen organischen elektronischen (Halbleiter-)Schicht wird durch einen Heteroübergang zwischen einem elektronenleitenden und einem löcherleitenden organischen Material ermöglicht. Zur Abgrenzung der aktiven Flächen wird der elektrische Grundkontakt stellenweise gezielt durch eine isolierende Schicht (Passivierung) vom organischen elektronischen Gegenkontakt getrennt. An die isolierende Schicht, d. h. die Passivierungsschicht, werden die Anforderungen gestellt, dass sie eine Geschlossenheit, das bedeutet keine Pinholes aufweist, um eine wirksame Trennung (Isolation) von Grund- und Gegenkontakt zu gewährleisten. Ferner kann es erforderlich sein, dass die Passivierungsschicht eine geringe Rauheit und eine geringe Dicke aufweist, um die nachfolgenden Beschichtungs- und Verkapselungsprozesse möglichst wenig oder nicht zu beeinträchtigen. Alternativ kann eine hohe Dicke wünschenswert sein, etwa um eine vorbestimmte Bauhöhe des organischen elektronischen Bauelementes zu erhalten.Metal foils or polymer barrier films with a transparent electrically conductive layer or a flexible glass with a transparent electrically conductive layer can form a basic electrical contact for organic electronic components. The substrate or the substrate layer with the base electrode 12 can be flexible to allow for compatibility with a roll-to-roll process. The functionality of, for example, an overlying organic electronic (semiconductor) layer is made possible by a heterojunction between an electron-conducting and a hole-conducting organic material. To delineate the active surfaces, the electrical ground contact is selectively separated in places by an insulating layer (passivation) of the organic electronic mating contact. The insulating layer, ie the passivation layer, is subject to the requirements that it has a closure, that is to say no pinholes, in order to ensure an effective separation (isolation) of the ground and mating contact. Furthermore, it may be necessary for the passivation layer to have a low roughness and a small thickness in order to minimize or not impair the subsequent coating and encapsulation processes. Alternatively, a high thickness may be desirable, such as to obtain a predetermined height of the organic electronic device.

Vorteilhafterweise werden die nicht passivierten Bereiche, wie etwa die aktiven Bereiche oder Elemente, dabei möglicherweise nicht mechanisch beschädigt, mit Partikeln belastet oder mit Passivierungsmaterial verunreinigt, um eine uneingeschränkte Funktionalität zu gewährleisten.Advantageously, the non-passivated regions, such as the active regions or elements, may not be mechanically damaged, loaded with particles, or contaminated with passivation material to provide unrestricted functionality.

3 zeigt eine Aufsicht einer strukturierten organischen Leuchtdiode 30, die mittels eines erfindungsgemäßen Verfahrens, etwa dem Verfahren 100, herstellbar ist. Gegenüber der organischen Leuchtdiode 1005 der 5 weist die organischen Leuchtdiode 30 homogene Leuchtflächen 32a–c und einen minimierten Umfang von Defekten und Strukturierungsresten auf den Leuchtflächen auf. 3 shows a plan view of a structured organic light emitting diode 30 , by means of a method according to the invention, such as the method 100 , can be produced. Opposite the organic light emitting diode 1005 of the 5 has the organic light emitting diode 30 homogeneous illuminated areas 32a -C and a minimized extent of defects and structuring residues on the luminous surfaces.

In anderen Worten zeigt 3 eine organische Leuchtdiode 30 mit einem mittels Flexodruck-Verfahrens strukturierten Substrat. Mit bloßem Auge sind weder Defekte noch Strukturierungsreste in den aktiven OLED-Leuchtflächen erkennbar.In other words shows 3 an organic light emitting diode 30 with a structured by means of flexographic printing substrate. With the naked eye, neither defects nor structuring residues are visible in the active OLED lighting areas.

4 zeigt ein schematisches Diagramm eines Flexodruck-Verfahrens. Ein Passivierungsmaterial 52 ist in einer Rakelwanne 54 angeordnet und wird mit Selbiger auf eine Aniloxwalze 56 dosiert. Mittels der Aniloxwalze 56 wird das Passivierungsmaterial 52 auf erhöhte Bereiche eines Druckformzylinders 58 bzw. auf erhöhte Bereiche einer flexiblen Druckform 59, die an dem Druckformzylinder 58 angeordnet ist, aufgetragen bzw. angeordnet. 4 shows a schematic diagram of a flexographic printing process. A passivation material 52 is in a squeegee bucket 54 arranged and is selfsame on an anilox roller 56 dosed. By means of the anilox roller 56 becomes the passivation material 52 on raised areas of a plate cylinder 58 or on elevated areas of a flexible printing plate 59 attached to the printing plate cylinder 58 is arranged, applied or arranged.

Benachbart zu dem Druckformzylinder 58 ist ein Gegendruckzylinder 62 angeordnet. Zwischen dem Druckformzylinder 58 und dem Gegendruckzylinder 62 wird ein Substrat 64, das beispielsweise die Substratschicht oder Grundelektrode 12 aus 2 sein oder diese aufweisen kann, hindurchbewegt. Basierend auf einem mechanischen Kontakt zwischen der flexiblen Druckform 59 und dem Substrat 64 wird das Passivierungsmaterial 52 in den Passivierungsbereichen an dem Substrat 64 angeordnet. Die Passivierungsbereiche können durch die Flächen, die erhöht an dem Druckformzylinder 58 bzw. der flexiblen Druckform 59 angeordnet sind, zumindest teilweise bestimmt sein. Die flexible Druckform 59 kann das an den erhöhten Bereichen angeordnete Passivierungsmaterial 52 ganz oder teilweise an das Substrat 64 übertragen. Das bedeutet, dass nach einem erfolgten Kontakt zwischen der flexiblen Druckform 59 und dem Substrat 64 Reste des Passivierungsmaterials 52 an der flexiblen Druckform 59 verbleiben können.Adjacent to the printing form cylinder 58 is an impression cylinder 62 arranged. Between the printing plate cylinder 58 and the impression cylinder 62 becomes a substrate 64 , for example, the substrate layer or base electrode 12 out 2 be or may have, moved through. Based on mechanical contact between the flexible printing plate 59 and the substrate 64 becomes the passivation material 52 in the passivation regions on the substrate 64 arranged. The passivation areas can be enhanced by the areas that increase on the plate cylinder 58 or the flexible printing plate 59 are arranged, at least partially determined. The flexible printing form 59 can passivation material arranged at the elevated areas 52 wholly or partially to the substrate 64 transfer. This means that after a successful contact between the flexible printing plate 59 and the substrate 64 Remains of the passivation material 52 on the flexible printing plate 59 can remain.

Das dargestellte Flexodruck-Verfahren kann als Rolle-zu-Rolle-Verfahren implementiert werden und derart ausführbar sein, dass das Substrat 64 bspw. von einer ersten Rolle 66 bereitgestellt (abgerollt) wird, bevor es in Kontakt mit den erhöhten Bereichen der flexiblen Druckform 59 gebracht wird. Nach der Anordnung des Passivierungsmaterials 52 an dem Substrat 64 und nach einer eventuellen Trocknungszeit oder Bestrahlung des Passivierungsmaterials mit UV-Licht kann das Substrat von einer zweiten Rolle 68 empfangen, d. h. aufgenommen bzw. an dieser aufgerollt werden. Alternativ kann das Flexodruck-Verfahren auch derart ausführbar sein, dass einzelne flächige Bahnen des Substrates 64 in den Bereich zwischen dem Druckformzylinder 58 und dem Gegendruckzylinder 62 geführt werden und die Bahnen bspw. in einzelnen Lagen, gestapelt oder nebeneinander für weitere Verarbeitungsschritte bereitgestellt werden.The illustrated flexographic printing process may be implemented as a roll-to-roll process and be practicable such that the substrate 64 for example, from a first role 66 deployed (unrolled) before it is in contact with the raised areas of the flexible printing plate 59 is brought. After the arrangement of the passivation 52 on the substrate 64 and after a possible drying time or irradiation of the passivation material with UV light, the substrate may be of a second roll 68 received, ie recorded or rolled up at this. Alternatively, the flexographic printing process can also be carried out in such a way that individual flat webs of the substrate 64 in the area between the plate cylinder 58 and the impression cylinder 62 be guided and the webs, for example. In individual layers, stacked or side by side for further processing steps are provided.

In anderen Worten zeigt 4 ein Flexodruck-Verfahren zur strukturierten Übertragung von Isolierschichten für flexible organische elektronische Bauelemente, bei dem der Druckstoff (das Passivierungsmaterial 52) mittels einer Kammerrakel auf einer vollflächig gerasterten Walze (Aniloxwalze 56) dosiert wird und bei dem die strukturierte Passivierungsschicht auf das Substrat 64, etwa ein transparent-leitfähigen Oxidsubstrat, mit dem elektrischen Grundkontakt an den Stellen übertragen wird, an denen der Druckformzylinder 58 bzw. die flexible Druckform 59 mit dem Substrat 64 in Kontakt kommt.In other words shows 4 a flexographic printing process for the structured transfer of insulating layers for flexible organic electronic components, in which the printing material (the passivation material 52 ) by means of a chamber doctor blade on a full-surface screened roller (anilox roller 56 ) is metered and wherein the structured passivation layer on the substrate 64 such as a transparent conductive oxide substrate, is transferred to the electrical ground contact at the points where the printing form cylinder 58 or the flexible printing form 59 with the substrate 64 comes into contact.

Vorteilhaft daran ist, dass das Substrat 64 bzw. daran angeordnete Elektroden unverändert bleiben.The advantage of this is that the substrate 64 or electrodes arranged thereon remain unchanged.

Weitere Vorteile des vorgestellten (Flexodruck-)Verfahrens sind beispielsweise, dass geschlossene Schichten an das Substrat 64 übertragen werden können. Die geschlossenen Schichten können sowohl eine geringe Dicke als auch eine große Dicke aufweisen. Die Dicke und eine Rauheit kann von einer Rasterung der Aniloxwalze 56, physikalischen Eigenschaften, wie einer Viskosität des Passivierungsmaterials 52 und Trocknungsparametern beeinflusst sein. In Bereichen, die bspw. aktiv verbleiben sollen, (nicht zu bedruckende Bereiche) ist ein Kontakt zwischen dem Druckformzylinder 58 bzw. der flexiblen Druckform 59 und dem Substrat 64 verhindert. Das bedeutet, dass eine Beschädigung der aktiven Elemente oder eine Verunreinigung oder Belastung der aktiven Elemente mit Partikeln oder mit Passivierungsmaterial 52 verringert bzw. verhindert ist. Die flexible bzw. elastische Druckform 59 ermöglicht eine verringerte Belastung des Substrats 64, während der Druckformzylinder 58 bzw. die flexible Druckform 59 mit Selbigem in Kontakt ist.Further advantages of the presented (flexographic printing) method are, for example, that closed layers to the substrate 64 can be transmitted. The closed layers may have both a small thickness and a large thickness. The thickness and roughness may be from a grid of the anilox roll 56 , physical properties, such as a viscosity of the passivation material 52 and drying parameters. In areas which, for example, should remain active (areas not to be printed), there is contact between the printing form cylinder 58 or the flexible printing plate 59 and the substrate 64 prevented. This means that damage to the active elements or contamination or contamination of the active elements with particles or with passivation material 52 is reduced or prevented. The flexible or elastic printing form 59 allows a reduced load on the substrate 64 while the printing form cylinder 58 or the flexible printing form 59 is in contact with the same.

Ferner kann das Flexodruck-Verfahren als ein hocheffizientes Rolle-zu-Rolle-Verfahren implementiert werden. Das bedeutet, dass eine Herstellung von organischen elektronischen Bauelementen sowohl mit einem hohen Durchsatz, d. h. schnell, als auch kostengünstig erfolgen kann. Insbesondere können beispielsweise basierend auf kostengünstigen und schnell zu wechselnden Druckformen in Form von Platten oder Hülsen (engl. Sleeves) in eingesetzten Produktionsanlagen mit einem geringen Zeit- und/oder Kostenaufwand umgerüstet werden.Further, the flexographic printing process can be implemented as a high-efficiency roll-to-roll process. This means that a production of organic electronic components with both a high throughput, d. H. can be done quickly, as well as inexpensively. In particular, based on low-cost and rapidly changing printing plates in the form of plates or sleeves (English: Sleeves) can be converted in used production equipment with a small time and / or cost, for example.

Obwohl manche Aspekte im Zusammenhang mit einer Vorrichtung beschrieben wurden, versteht es sich, dass diese Aspekte auch eine Beschreibung des entsprechenden Verfahrens darstellen, sodass ein Block oder ein Bauelement einer Vorrichtung auch als ein entsprechender Verfahrensschritt oder als ein Merkmal eines Verfahrensschrittes zu verstehen ist. Analog dazu stellen Aspekte, die im Zusammenhang mit einem oder als ein Verfahrensschritt beschrieben wurden, auch eine Beschreibung eines entsprechenden Blocks oder Details oder Merkmals einer entsprechenden Vorrichtung dar.Although some aspects have been described in the context of a device, it will be understood that these aspects also constitute a description of the corresponding method, so that a block or a component of a device is also to be understood as a corresponding method step or as a feature of a method step. Similarly, aspects described in connection with or as a method step also represent a description of a corresponding block or detail or feature of a corresponding device.

Die oben beschriebenen Ausführungsbeispiele stellen lediglich eine Veranschaulichung der Prinzipien der vorliegenden Erfindung dar. Es versteht sich, dass Modifikationen und Variationen der hierin beschriebenen Anordnungen und Einzelheiten anderen Fachleuten einleuchten werden. Deshalb ist beabsichtigt, dass die Erfindung lediglich durch den Schutzumfang der nachstehenden Patentansprüche und nicht durch die spezifischen Einzelheiten, die anhand der Beschreibung und der Erläuterung der Ausführungsbeispiele hierin präsentiert wurden, beschränkt sei.The embodiments described above are merely illustrative of the principles of the present invention. It will be understood that modifications and variations of the arrangements and details described herein will be apparent to others of ordinary skill in the art. Therefore, it is intended that the invention be limited only by the scope of the appended claims and not by the specific details presented in the description and explanation of the embodiments herein.

Literaturliterature

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  • [8] Philipp, A., Hasselgruber, M., Hild, O. R., May, C.: Substratstrukturierung für organische Leuchtdioden mittels Siebdruck: Technologietag-Siebdruck, Landshut 2010 [8th] Philipp, A., Hasselgruber, M., Hild, OR, May, C .: Substrate structuring for organic light-emitting diodes by means of screen printing: Technology Day screen printing, Landshut 2010

Claims (8)

Verfahren (100) zum Herstellen eines organischen elektronischen Bauelementes (10) mit folgenden Schritten: Bereitstellen (110) einer Substratschicht (12; 64) mit einem elektrisch leitfähigen Material; Anordnen (120) einer Passivierungsschicht (14; 52) in Passivierungsbereichen (16) mittels Flexodruck; Anordnen (130) eines organischen Halbleitermaterials (18); und Anordnen (140) einer Elektrodenschicht (22), so dass die Passivierungsschicht (14; 52) und das organische Halbleitermaterial (18) zwischen der Substratschicht (12; 64) und der Elektrodenschicht (22) angeordnet sind.Procedure ( 100 ) for producing an organic electronic component ( 10 ) with the following steps: providing ( 110 ) a substrate layer ( 12 ; 64 ) with an electrically conductive material; Arrange ( 120 ) of a passivation layer ( 14 ; 52 ) in passivation areas ( 16 ) by flexographic printing; Arrange ( 130 ) an organic semiconductor material ( 18 ); and arranging ( 140 ) of an electrode layer ( 22 ), so that the passivation layer ( 14 ; 52 ) and the organic semiconductor material ( 18 ) between the substrate layer ( 12 ; 64 ) and the electrode layer ( 22 ) are arranged. Verfahren gemäß Anspruch 1, bei dem das organische elektronische Bauelement (10) eine organische Leuchtdiode ist.Method according to Claim 1, in which the organic electronic component ( 10 ) is an organic light emitting diode. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, bei dem der Schritt des Anordnens (120) der Passivierungsschicht (14; 52) so ausgeführt wird, dass die Passivierungsschicht (14; 52) eine Ausdehnung in einer Richtung von der Substratschicht (12; 64) zu der Elektrodenschicht (22) aufweist, die zumindest 1–20 μm beträgt.Method according to claim 1 or 2, wherein the step of arranging ( 120 ) of the passivation layer ( 14 ; 52 ) is carried out so that the passivation layer ( 14 ; 52 ) an extension in one direction from the substrate layer ( 12 ; 64 ) to the electrode layer ( 22 ) which is at least 1-20 μm. Verfahren gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, bei dem das Anordnen (120) der Passivierungsschicht (14; 52) folgende Schritte umfasst: Bereitstellen eines Passivierungsmaterials (52); Anordnen des Passivierungsmaterials (52) auf erhöhten Bereichen einer flexiblen Druckform (59), die an einem Druckformzylinder (58) angeordnet ist; und Kontaktieren der flexiblen Druckform (59) mit der Substratschicht (12; 64) oder einer daran angeordneten Schicht.Method according to one of the preceding claims, in which the arranging ( 120 ) of the passivation layer ( 14 ; 52 ) comprises the steps of: providing a passivation material ( 52 ); Arranging the passivation material ( 52 ) on elevated areas of a flexible printing plate ( 59 ), which are attached to a printing plate cylinder ( 58 ) is arranged; and contacting the flexible printing form ( 59 ) with the substrate layer ( 12 ; 64 ) or a layer disposed thereon. Verfahren gemäß Anspruch 4, bei dem das Passivierungsmaterial (52) ein Harz ist, und das ferner folgenden Schritt aufweist: Aushärten des Harzes mittels UV-Strahlung; oder Aushärten des Harzes mittels Erwärmen des Harzes auf zumindest eine Aushärtetemperatur.Method according to claim 4, wherein the passivation material ( 52 ) is a resin, and further comprising the step of: curing the resin by means of UV radiation; or curing the resin by heating the resin to at least one curing temperature. Verfahren gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, bei dem das Verfahren ein Rolle-zu-Rolle Verfahren ist und ferner folgende Schritte aufweist: Bereitstellen der Substratschicht (12; 64) von einer ersten Rolle (66) zu einem Zeitpunkt bevor die Passivierungsschicht (14; 52) an das Substrat (12; 64) angeordnet wird; und Empfangen der Substratschicht (12; 64) mit einer zweiten Rolle (68) zu einem Zeitpunkt, nachdem die Passivierungsschicht (14; 52) an die Substratschicht (12; 64) angeordnet wurde.Method according to one of the preceding claims, wherein the method is a roll-to-roll method and further comprises the steps of: providing the substrate layer ( 12 ; 64 ) from a first roll ( 66 ) at a time before the passivation layer ( 14 ; 52 ) to the substrate ( 12 ; 64 ) is arranged; and receiving the substrate layer ( 12 ; 64 ) with a second roll ( 68 ) at a time after the passivation layer ( 14 ; 52 ) to the substrate layer ( 12 ; 64 ) was arranged. Verfahren gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, bei dem der Schritt des Bereitstellens (110) der Substratschicht (12; 64) entweder ein Bereitstellen einer metallischen Folie oder ein Bereitstellen eines transparenten elektrisch leitfähigen Substrates umfasst.Method according to one of the preceding claims, wherein the step of providing ( 110 ) of the substrate layer ( 12 ; 64 ) comprises either providing a metallic foil or providing a transparent electrically conductive substrate. Organisches Bauelement (10) mit einer Passivierungsschicht (14; 52), die mittels eines Flexodruck-Verfahrens zwischen einer Substratschicht (12; 64) und einer Elektrodenschicht (22) angeordnet ist.Organic component ( 10 ) with a passivation layer ( 14 ; 52 ) by means of a flexographic printing process between a substrate layer ( 12 ; 64 ) and an electrode layer ( 22 ) is arranged.
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