DE102014110435B4

DE102014110435B4 - Tantaloxidwerkstoff, dessen Herstellverfahren und Verwendung

Info

Publication number: DE102014110435B4
Application number: DE102014110435.8A
Authority: DE
Inventors: Peter Sindlhauser
Original assignee: Sindlhauser Mat GmbH; SINDLHAUSER MATERIALS GmbH
Current assignee: Sindlhauser Mat GmbH; SINDLHAUSER MATERIALS GmbH
Priority date: 2014-07-24
Filing date: 2014-07-24
Publication date: 2018-04-05
Anticipated expiration: 2034-07-25
Also published as: DE102014110435A1

Abstract

Tantaloxidwerkstoff, dessen Ausgangsgemisch Tantal(V)oxid, einen oder mehrere sauerstoffaffine Stoffe und einen oder mehrere Korngrößenmodulatoren in einem derartigen Mischungsverhältnis aufweist, dass nach er nach Herstellung eine Dichte von ≥ 96% der theoretischen Dichte, einen elektrischen Widerstand kleiner 700 Ohm und ein feinkörniges Gefüge aufweist, wobei die sauerstoffaffinen Stoffe und Korngrößenmodulatoren ausschließlich aus solchen Substanzen gewählt sind, die die optischen Eigenschaften des Tantal(V)oxids bei der Verwendung des fertigen Tantaloxidwerkstoffes nicht beeinflussend sind.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Tantaloxidwerkstoff, dessen Herstellverfahren und seine Verwendung, insbesondere als Sputtertarget.
Zur industriellen Herstellung optischer Schichten müssen Beschichtungsmaterialien von Targets auf das Substrat übertragen werden, wozu oftmals Sputterprozesse eingesetzt werden. Von diesen ist der DC-Sputtermodus wirtschaftlich besonders vorteilhaft. Beim Sputtern werden Atome, Ionen oder größere Cluster durch Beschuss mit energiereichen Ionen, insbesondere Argon-Ionen aus einem planaren oder zylinderförmigen, drehenden Festkörper, dem Sputtertarget, herausgelöst und in die Gasphase überführt. Dort werden diese Teilchen entweder ballistisch oder geführt durch elektrische Felder auf das zu beschichtende Substrat gelenkt, wo sie eine Schicht mit hoher Konformität und Schichtdickenhomogenität bilden. Beim Sputtern ist es gewünscht, die Sputtertargets möglichst schnell zum Abdampfen zu bringen, um möglichst schnell und damit kostengünstig Substrate zu beschichten, also die Sputtertargets mit einer hohen Leistungsdichte zu fahren. Für das DC-Sputtern werden elektrisch leitfähige Targets benötigt.
Die geometrische Form des zu verwendenden Targets einschließlich der möglichen Leistungsdichte mit der es betrieben werden kann, hängen dabei ganz entscheidend von den Materialeigenschaften des zu übertragenden Materials ab. Sputtertargets aus elektrisch leitfähigen Metalloxiden neigen bei hohen Leistungsdichten aufgrund der thermischen Beanspruchung dazu, Risse oder Abplatzungen zu zeigen. Dies gilt auch für Tantal(V)oxid (Ta₂O₅), welches mit einem Schmelzpunkt von 1.872°C ein sehr hochschmelzendes Oxid, mit seiner Dichte von rund 8.2 g/cm³ und seinen Beschaffungskosten von rund 380 EUR/kg ein wirtschaftlich und technisch schwierig zu handhabendes Material ist. Gleichzeitig ist Tantal(V)oxid jedoch aufgrund seiner optischen Durchlässigkeit im großen Bereich von etwa 350 nm bis ungefähr 8.000 nm und seinem hohen Brechungsindex in Dünnschicht zwischen 2,1 und 2,2 von großem wirtschaftlichen und technischen Interesse, insbesondere für die optische Industrie. Gerade in der Lasertechnologie werden Spiegel mit hochpräzisen optischen Schichten benötigt, wobei letztere mit planaren Targets kaum in der erforderlichen Präzision erzeugt werden können.
Aus der DE 10 2010 054 148 A1 ist ein flächiges Sputtertarget bekannt, bei dem ein Matrixmaterial aus einem ersten Oxid hohen Brechungsindexes wie Tantaloxid in einer beliebigen Oxidmodifikation und ein metallischer Bestandteil vorgesehen sind. Dieses Material kann ein zweites Oxid aus der Lanthanidreihe in einer beliebigen Oxidmodifikation aufweisen, ebenso wie im Material verteilte Poren. Das zweite Oxid kann in Anteilen von 0,1 bis 50 Gew.-% vorhanden sein, der metallische Anteil ist in solchen von 2 bis 20 Gew.-% vorhanden. Hergestellt wird dieses flächige Sputtertarget durch Mischen eines Metalloxidpulvers mit einem Metallpulver in einer Aufschlämmung, anschließendem Sprühtrocknen, Formen durch Heißpressen oder isostatischem Heißpressen und Sintern in inerter Atmosphäre -oder im Vakuum. Ein anderes Herstellverfahren umfasst die Schritte des Mischens eines Metalloxidpulvers mit Kohlenstoff/Graphit, anschließender thermischer Behandlung bis zur Bildung einer Metallphase sowie anschließendem Formen des Gemisches und Sintern. Hierdurch können Dichten von maximal 95% der theoretisch möglichen Dichte erreicht werden.
Nachteilig an diesem Stand der Technik ist, dass er die Formung von zylindrischen Rohrtargets nur äußerst eingeschränkt und nur unter großem Aufwand erlaubt. Darüber hinaus absorbiert Kohlenstoff in diesem Wellenlängenbereich und ist daher für die Herstellung von optischen Präzisionsspiegeln und -filtern nicht geeignet. Rohrtargets, bei denen der auf das Substrat aufzubringende Werkstoff zu einem Rohr ausgebildet und gegebenenfalls auf einem Trägerrohr aus Edelstahl fixiert ist, sind besonders vorteilhaft, weil sie durch ihre Rotation im Betrieb besonders gleichmäßig abgetragen werden, was für die Qualität der optischen Schichten entscheidend ist. Darüber hinaus können Rohrtargets mit Ausbeuten von bis zu 85% des eingesetzten Sputtermaterials genutzt werden, wohingegen planare Targets lediglich Materialausbeuten von etwa 35% erlauben.
Die vorliegende Erfindung stellt sich daher die Aufgabe, einen elektrisch leitfähigen Tantaloxidwerkstoff hoher Dichte, mit den geforderten optischen Eigenschaften sowie dessen Herstellverfahren anzugeben, der zur wirtschaftlichen Herstellung planarer und zylindrischer Targets verwendbar ist.
Die stoffliche Aufgabe wird durch einen Tantaloxidwerkstoff gelöst, dessen Ausgangsgemisch Tantal(V)oxid, einen oder mehrere stark sauerstoffaffine Stoffe und einen oder mehrere Korngrößenmodulatoren in einem derartigen Mischungsverhältnis aufweist, dass er nach Herstellung eine Dichte von ≥ 96% der theoretischen Dichte, einen elektrischen Widerstand kleiner 700 Ohm und ein feinkörniges Gefüge aufweist, wobei die deutlich sauerstoffaffinen Stoffe und Korngrößenmodulatoren ausschließlich aus solchen Substanzen gewählt sind, die die optischen Eigenschaften des Tantal(V)oxids bei der Verwendung des fertigen Tantaloxidwerkstoffes nicht beeinflussend sind. Die Auswahl beschränkt sich weiter auf solche Stoffe, die den hohen Sintertemperaturen bei der Werkstoffherstellung ohne Zersetzung widerstehen können. Für die elektrische Leitfähigkeit des einsatzbereiten erfindungsgemäßen Tantaloxidwerkstoffes ist die Zugabe eines Stoffes oder Stoffgemisches mit hoher Affinität zu Sauerstoff vorteilhaft, so dass dem Tantal(V)oxid während der Herstellung des erfindungsgemäßen Tantaloxidwerkstoffes durch chemische Reaktion Sauerstoff entzogen wird. Der erfindungsgemäße einsatzbereite Werkstoff hat daher ein unterstöchiometrisches Verhältnis von Ta zu O, verglichen zum Edukt Ta₂O₅. Die Anmelderin nimmt an, dass dieses vermutlich Ta₂O_4-4,8 beträgt. Die erfindungsgemäß zwingend erforderliche Zugabe eines oder mehrerer Korngrößenmodulatoren in die erfindungsgemäße Mischung führt zu einer hohen Dichte des einsatzbereiten Tantaloxidwerkstoffes, indem sie die Bildung großer Kristalle unterdrückt oder deutlich herabsetzt. Die genannten Zuschlagstoffe sind erfindungsgemäß dabei so gewählt, dass sie die optischen Eigenschaften des einsatzbereiten erfindungsgemäßen Werkstoffes nicht beeinträchtigten. Es sind also nicht alle Stoffe und nicht in jeglicher Kombination und nicht in jeglichem Mischungsverhältnis einsetzbar.
Mit großem Vorteil ist ein diese Substanzen aufweisender, insbesondere aus diesen Substanzen bestehender, Tantalwerkstoff zur Herstellung von Rohrtargets geeignet, insbesondere deswegen, weil die beiden weiteren Inhaltsstoffe zu einer elektrischen Leitfähigkeit des Werkstoffes beitragen, ohne die hervorragenden optischen Eigenschaften des auf das Substrat übertragenen Tantal(V)oxids zu beeinträchtigen.
In Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die sauerstoffaffinen Stoffe gewählt sind aus der Gruppe gebildet durch B, Ti, den Metallen und Halbmetallen der Hauptgruppen 3 bis 5 und den Metallen der 4. und 5. Periode der Nebengruppen. Hierbei kann erfindungsgemäß sowohl ein einziger dieser Stoffe als auch eine Kombination aus zwei oder mehreren dieser Stoffe zur Herstellung des Tantaloxidwerkstoffes eingesetzt werden.
Ebenfalls ist erfindungsgemäß vorgesehen, dass die Korngrößenmodulatoren gewählt sind aus der Gruppe gebildet durch Oxide des Al, Y, Ce, Mn, W, die Elemente Nb, Al, B, insbesondere gewählt ist aus der Gruppe gebildet durch Al₂O₃, Y₂O₃, CeO₂, Mn₂O₃. Diese Korngrößenmodulatoren müssen einzeln oder in Kombination von zwei oder mehreren zwingend vorhanden sein, um die gewünschte hohe Dichte zu erreichen. Auch diese können nicht unter allen denkbaren Korngrößenmodulatoren gewählt sein sondern müssen vielmehr weder die chemische Reaktion zwischen Ta₂O₅ und dem sauerstoffaffinen Stoff stören, noch dürfen sie sich bei den hohen Herstelltemperaturen zersetzen oder anderweitig die optischen Eigenschaften des einsatzbereiten Werkstoffes verschlechtern.
Insbesondere ist vorgesehen, dass der Anteil von Tantal(V)oxid zwischen 96 und 99 Gew.-% des Ausgangsgemisches, insbesondere zwischen 97 und 99 Gew.-%, bevorzugt zwischen 98 und 99 Gew.-% beträgt, wobei der jeweils zu 100% fehlende Gewichtsanteil durch die zuvor genannten Gruppenmitglieder gebildet ist. Ein derart hoher Mischungsanteil des Tantal(V)oxids ist besonders vorteilhaft, da er einen möglichst homogenen Werkstoff ermöglicht und zu höchsten Materialausbeuten im späteren Einsatz führt und die optischen Anforderungen voll erfüllt.
In Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, dass die genannten weiteren Bestandteile der Ausgangsmischung des erfindungsgemäßen Werkstoffes einen Gewichtsanteil von ≤ 1,9% an dem Ausgangsgemisch, insbesondere zwischen 0,4 und 1,9 Gew.-%, bevorzugt zwischen von 0,6 und 1,8 Gew.-%, ganz besonders bevorzugt zwischen 0,9 und 1,8 Gew.-% ausmachen. Dieser überraschend geringe Mischungsanteil ist ausreichend, um die gewünschten Eigenschaften von Dichte, Leitfähigkeit und Feinheit des Gefüges zu gewährleisten. Ein höherer Mischungsanteil führt zu einer sich steigernden Verschlechterung der Eigenschaften des erfindungsgemäßen Werkstoffes bis hin zu dessen Unbrauchbarkeit.
Die Anmelderin hat mit einem Werkstoff aufweisend 97,6 bis 99 Gew.-% Tantal(V)oxid, 0,3 bis 0,9 Gew.-% Al₂O₃, 0,1 bis 0,3 Gew.-% B und 0,6 bis 1,3 Gew.-% Ti besonders gute Erfahrungen gemacht, insbesondere mit einem, der 98,2 Gew.-% Tantal(V)oxid, 0,7 Gew.-% Al₂O₃, 0,15 Gew.-% B und 0,95 Gew.-% Ti aufweist. Bor trägt mit seiner Eigenschaft als Halbmetall und Elektronenmangelverbindung an den Korngrenzen zur Ausbildung der erfindungsgemäßen Tantalsuboxide und damit zur Leitfähigkeit genauso bei, wie zur Vernetzung der Werkstoffbestandteile untereinander. Es wirkt als Kornfeinungsmittel, was die homogene Verdichtung während des Sinterprozesses unterstützt und ein feinkörniges Gefüge gewährleistet. Mit anderen Worten wird das Kornwachstum während des Sinterprozesses gezielt blockiert. Ti ist als Mikrolegierungsbestandteil aufgrund seiner hohen Sauerstoffaffinität verantwortlich für die Bildung von suboxidischen Strukturen des Tantals. Damit ergibt sich ein Tantal(V)oxid mit einem unterstöchiometrischen Sauerstoffgehalt, welches als Ta₂O_x angesprochen werden kann und welches eine elektrische Leitfähigkeit aufweist, die seine Anwendung im DC-Sputterverfahren ermöglicht. Aluminiumoxid ist schließlich überraschend dazu geeignet, das Dichtsintern der Keramik zu unterstützten, so dass eine sehr hohe Enddichte des erfindungsgemäßen Werkstoffes möglich ist.
Dieser erfindungsgemäße Werkstoff ist unter anderem hervorragend dazu geeignet, rohrförmige Sputtertargets zu bilden. Jedoch ist der erfindungsgemäße Werkstoff auch in anderer Formgebung sehr gut zur Beschichtung optischer Werkstücke geeignet, beispielsweise als Scheibe, Pulver oder dergleichen mehr.
Die Verfahrensaufgabe wird durch ein Verfahren zur Herstellung eines Tantaloxidwerkstoffes wie beschrieben gelöst, aufweisend die Schritte:

a) Herstellen der Ausgangsmischung gemäß einem der vorherigen Ansprüche,
b) Pressen des Gemisches und
c) Sintern bei 1.100°C bis 1.600°C

Schritt c) kann erfindungsgemäß in einem Sinterofen, per Heißpressen oder durch Hipen durchgeführt werden. Die Sintertemperatur beträgt vorzugsweise zwischen 1.200°C und 1.500°C, insbesondere zwischen 1.350°C und 1.400°C, vorzugsweise 1.400°C.
In Weiterbildung dieses Verfahrens ist vorgesehen, das nach Schritt a) ein Schritt a1) des Homogenisierens erfolgt, insbesondere des Homogenisierens für 24h. Ein derartig gründliches Homogenisieren führt zu der gewünschten homogenen Verteilung der Zuschlagstoffe an den Oberflächen der Tantal(V)oxidkörnern, so dass sich ein besonders hochwertiges Sinterprodukt ergeben kann.
Vorteilhaft ist auch, dass in dem Verfahren Schritt b) als ein isostatisches Pressen ausgeführt wird.
Schließlich ist erfindungsgemäß noch vorgesehen, in den Schritten a) und/oder a1) ein chemisches Reagieren der Substanzen miteinander vorzusehen, insbesondere unter Kontrolle der Reaktionswärme.
Der so hergestellte erfindungsgemäße Tantaloxidwerkstoff kann erfindungsgemäß verwendet werden zur Herstellung eines rohrförmigen Sputtertargets oder eines flächigen Sputtertargets oder eines fein- oder grobkörnigen Pulvers oder einer Zylinderscheibe.
Beispiel 1:
Zur Herstellung eines erfindungsgemäßen Tantaloxidwerkstoffes werden 98,2 Gew.-% Ta₂O₅, 0,7 Gew.-% Al₂O₃, 0,15 Gew.-% B und 0,95 Gew.-% Ti bei Raumtemperatur in ein Mischbehältnis gegeben und miteinander 24h vermischt. Nach dieser Zeit erfolgt ein Pressen des Materials und das Formen eines zylinderförmigen Targets. Abschließend wird dieser Grünling bei 1.400°C für 2h im Inertgas gesintert. Das so erhaltene Material weist ein sehr feinkörniges Gefüge, eine Dichte von mehr als 97% der theoretischen Dichte und einen guten elektrischen Leitwert von 0,3 S/cm auf. Es wird dazu verwendet, ein Sputtertarget in planarer oder Rohrform zu formen.
Beispiel 2:
Der Tantaloxidwerkstoff gemäß dieses Vergleichsbeispiels enthält 98 Gew.-% Ta₂O₅, und 2 Gew.-% Al₂O₃. Er wird wie zuvor geschildert hergestellt. Es zeigt sich, dass der resultierende Werkstoff keinerlei elektrische Leitfähigkeit aufweist. Ein Korngrößenmodifikator alleine führt nicht zu den von der Erfindung erreichten Eigenschaften.
Beispiel 3:
Der Tantaloxidwerkstoff gemäß dieses Vergleichsbeispiels enthält 98,5 Gew.-% Ta₂O₅ und 2 Gew.-% Ti. Er wird wie zuvor geschildert hergestellt. Es zeigt sich, dass der resultierende Werkstoff eine geringe elektrische Leitfähigkeit, eine geringe Dichte und ein grobkörniges Gefüge aufweist. Auch ein sauerstoffaffiner Stoff führt alleine nicht zu den von der Erfindung erreichten Eigenschaften.
Beispiel 4:
Der Tantaloxidwerkstoff gemäß dieses Vergleichsbeispiels enthält 95 Gew.-% Ta₂O₅ und 5 Gew.-% Ta. Er wird wie zuvor geschildert hergestellt. Es zeigt sich, dass der resultierende Werkstoff zwar einen geringen elektrischen Widerstand hat, jedoch sehr grobkörnig ist und mit 87,7% die notwendige Dichte von mehr als 96% der theoretischen Dichte nicht erreicht. Die Zugabe von Tantal alleine führt also nicht zu dem gewünschten Werkstoff.
Beispiel 5:
Der Tantaloxidwerkstoff gemäß dieses Vergleichsbeispiels enthält 96 Gew.-% Ta₂O₅ und 4 Gew.-% Al₂O₃. Er wird wie zuvor geschildert hergestellt. Es zeigt sich, dass der resultierende Werkstoff zwar 98,4% der theoretischen Dichte erreicht, feinkörnig ist und die optischen Eigenschaften nicht beeinträchtigt, jedoch beträgt dessen elektrischer Widerstand 32kOhm. Die Zugabe eines Korngrößenmodifikators alleine führt also nicht zu dem gewünschten Werkstoff.
Beispiel 6:
Zur Herstellung eines weiteren erfindungsgemäßen Tantaloxidwerkstoffes werden 98,2 Gew.-% Ta₂O₅, 0,65 Gew.-% Al₂O₃, 0,18 Gew.-% B und 0,97 Gew.-% Y bei Raumtemperatur in ein Mischbehältnis gegeben und miteinander 22h vermischt. Nach dieser Zeit erfolgt ein Pressen des Materials und das Formen eines zylinderförmigen Targets. Abschließend wird dieser Grünling bei 1.375°C für 1,8h unter Inertgas gesintert. Das so erhaltene Material weist ein sehr feinkörniges Gefüge, eine Dichte von mehr als 96% der theoretischen Dichte und einen guten elektrischen Leitwert von 0,1 S/cm auf.
1 zeigt einen fertig gesinterten erfindungsgemäßen Werkstoff im Gefüge. Gut zu erkennen ist die Abwesenheit von einzelnen Körnern, vielmehr ist der erfindungsgemäße Werkstoff sehr homogen aufgebaut. An der mit Pfeil markierten Stelle findet sich eine der wenigen verbliebenen Korngrenzen, die jedoch nicht besonders stark ausgeprägt ist. Durch diese Homogenität und die fehlende Körnigkeit wird eine sehr hohe Dichte erreicht, die wiederum einen qualitativ hochwertigen Sputterprozess, bzw. Materialübertragungsprozess ermöglicht, ohne Gefahr von Staub- oder Bruchbildung während des Einsatzes an den Korngrenzen.
Die deutlich zu erkennenden Mikroporen weisen Durchmesser von in der Regel weniger als 1 µm auf, sie rühren aus den im Material während der Herstellung abgelaufenen chemischen Reaktionen her, insbesondere der Sauerstoffübertragung von Tantal auf einen oder mehrere der erfindungsgemäß beigefügten Additive. Diese Mikroporen tragen vorteilhaft zu einer Reduzierung der Sprödigkeit des Werkstoffes bei, indem sie an ihren Grenzen die im Gefüge während des Einsatzes aufgrund des inneren Temperaturgradienten des Targets von mehreren 100°C auftretenden Spannungen abbauen.
Der annähernd vollständig abgelaufene Sinterprozeß führt zur Abwesenheit von Körnern, somit zu einer großen Homogenität und Dichte, die ihrerseits wiederum einen qualitativ hochwertigen Materialübertragungsprozeß ermöglicht. Gleichzeitig weist der erfindungsgemäße Werkstoff eine Leitfähigkeit auf, die für die Materialübertragungsprozesse, insbesondere das DC-Sputtern benötigt wird.

Claims

Tantaloxidwerkstoff, dessen Ausgangsgemisch Tantal(V)oxid, einen oder mehrere sauerstoffaffine Stoffe und einen oder mehrere Korngrößenmodulatoren in einem derartigen Mischungsverhältnis aufweist, dass nach er nach Herstellung eine Dichte von ≥ 96% der theoretischen Dichte, einen elektrischen Widerstand kleiner 700 Ohm und ein feinkörniges Gefüge aufweist, wobei die sauerstoffaffinen Stoffe und Korngrößenmodulatoren ausschließlich aus solchen Substanzen gewählt sind, die die optischen Eigenschaften des Tantal(V)oxids bei der Verwendung des fertigen Tantaloxidwerkstoffes nicht beeinflussend sind.
Tantaloxidwerkstoff gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die sauerstoffaffinen Stoffe gewählt sind aus der Gruppe gebildet durch B, Ti, den Metallen und Halbmetallen der Hauptgruppen 3 bis 5 und den Metallen der 4. und 5. Periode der Nebengruppen.
Tantaloxidwerkstoff gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Korngrößenmodulatoren gewählt sind aus der Gruppe gebildet durch Oxide des Al, Y, Ce, Mn, W, die Elemente Nb, Al, B, insbesondere gewählt sind aus der Gruppe Al₂O₃, Y₂O₃, CeO₂, Mn₂O₃.
Tantaloxidwerkstoff gemäß einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in dessen Ausgangsgemisch der Anteil von Tantal(V)oxid zwischen 96 und 99 Gew.-% des Ausgangsgemisches, insbesondere zwischen 97 und 99 Gew.-%, bevorzugt zwischen 98 und 99 Gew.-% beträgt, wobei der jeweils zu 100% fehlende Gewichtsanteil durch die in Anspruch 1 genannten Gruppenmitglieder gebildet ist.
Tantaloxidwerkstoff gemäß einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die in Anspruch 2 genannten Stoffe einen Gewichtsanteil von ≤ 1,9% an dem Ausgangsgemisch, insbesondere zwischen 0,4 und 1,9 Gew.-%, bevorzugt zwischen von 0,6 und 1,8 Gew.-%, ganz besonders bevorzugt zwischen 0,9 und 1,8 Gew.-% ausmachen.
Tantaloxidwerkstoff nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass er 97,6 bis 99 Gew.-% Tantal(V)oxid, 0,3 bis 0,9 Gew.-% Al₂O₃, 0,1 bis 0,3 Gew.-% B und 0,6 bis 1,3 Gew.-% Ti aufweist.
Tantaloxidwerkstoff nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass er 98,2 Gew.-% Tantal(V)oxid, 0,7 Gew.-% Al₂O₃, 0,15 Gew.-% B und 0,95 Gew.-% Ti aufweist.
Verfahren zur Herstellung eines Tantaloxidwerkstoffes nach einem der vorhergehenden Ansprüche, aufweisend die Schritte: a) Herstellen der Ausgangsmischung gemäß einem der vorherigen Ansprüche, b) Pressen des Gemisches und c) Sintern bei 1.100°C bis 1.600°C
Verfahren gemäß Anspruch 9, wobei nach Schritt a) ein Schritt a1) des Homogenisierens erfolgt, insbesondere des Homogenisierens für 24h.
Verfahren gemäß Anspruch 9, bei dem Schritt b) als ein isostatisches Pressen ausgeführt wird.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 8 bis 10, bei dem in den Schritten a) und/oder a1) ein chemisches Reagieren der Substanzen miteinander vorgesehen ist, insbesondere unter Kontrolle der Reaktionswärme.
Verwendung eines Tantaloxidwerkstoffes hergestellt nach einem der Ansprüche 8 bis 11 zur Herstellung eines rohrförmigen Sputtertargets oder eines flächigen Sputtertargets oder eines fein- oder grobkörnigen Pulvers oder einer Zylinderscheibe.