DE102013113123A1 - Solarzellenherstellungsverfahren und Solarzellenbehandlungsverfahren - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Solarzellenherstellungsverfahren und ein Solarzellenbehandlungsverfahren. Das Solarzellenherstellungsverfahren weist einen Temperschritt auf, bei dem ein Substrat (1) einem Temper-Temperaturverlauf (51, 52) ausgesetzt wird, wobei der Temper-Temperaturverlauf (51, 52) während einer Temperzeit von mindestens 3 Sekunden in einem Temperbereich zwischen einer Bereichsuntergrenze von etwa 400 Grad Celsius (°C) und einer Bereichsobergrenze von etwa 700°C liegt.
Description
- Die Erfindung betrifft ein Solarzellenherstellungsverfahren und ein Solarzellenbehandlungsverfahren.
- Bei gegenwärtigen Solarzellenstrukturen kann eine Degradation auftreten, die sich durch einen plötzlichen Leistungs- beziehungsweise Effizienzabfall der Solarzelle bemerkbar macht. Diese Degradation findet in der Regel während des Betriebs der Solarzelle statt, wobei Betriebsparameter wie beispielsweise die Beleuchtungsstärke des einfallenden Lichts und die Betriebstemperatur für die Auslösung der Degradation eine wichtige Rolle spielen können. Die Degradation wird also im Betrieb der Solarzelle ausgelöst.
- Als eine mögliche Ursache für Solarzellen-Degradation wurden unlängst rekombinationsaktive Defekte ermittelt, die sich aufgrund der Lichteinstrahlung im Inneren des Siliziums bilden. Dieser Effekt wird deshalb auch als lichtinduzierte Degradation (LID – light induced degradation) bezeichnet und tritt auf, weil sich insbesondere im kristallinen Siliziumvolumen Bor-Sauerstoff-Komplexe bilden. Dem kann bekannterweise vorgebeugt werden, indem für die Solarzellenherstellung Siliziumwafer mit geringen Anteilen an Bor und Sauerstoff verwendet werden.
- Aber selbst bei Solarzellen aus derart in ihrem Bor- und Sauerstoffgehalt reduzierten Siliziumwafern treten weiterhin Degradationseffekte auf, beziehungsweise traten und treten weiterhin derartige Degradationseffekte bei Solarzellendesigns und in Ausmaßen auf, die sich nicht anhand des genannten Bor-Sauerstoff-Effektes erklären lassen. Dass es neben dem mittlerweile bekannten Bor-Sauerstoff-Degradationseffekt (BO-Degradation oder LID) einen weiteren Degradationseffekt gibt, kann beispielsweise aus der Veröffentlichung „Light Induced Degradation of Rear Passicated mc-Si Solar Cells", K. Ramspeck et al., in Proc. 27th EUPVSEC 2012, hergeleitet werden. Darin wird erläutert, dass auch multikristalline Siliziumsolarzellen (mc-Si Solarzellen) mit einem oberflächenpassivierten PERC-Design (PERC – passivated emitter and rear cell) eine lichtinduzierte Degradation erfahren, welche nicht mit dem bisherigen Bohr-Sauerstoff-Modell zu erklären ist. Durch den reduzierten Sauerstoffgehalt ist bei mc-Si Solarzellen der Effekt der BO-Degradation vergleichsweise gering. Es zeigen sich jedoch Degradationseffekte, die quantitativ die der bekannten BO-Degradation deutlich übersteigen können. In der besagten Veröffentlichung werden Degradationen des Wirkungsgrades von relativ 5–6 % bei einer Licht-Einstrahlung von 400 Watt pro Quadratmeter (W/m2) und einer Zelltemperatur von 75°C offenbart.
- Es ist Aufgabe der Erfindung, ein Solarzellenherstellungsverfahren bereitzustellen, mit der auf zuverlässige Weise Solarzellen herstellbar sind, welche eine geringere oder gar keine Anfälligkeit für eine spätere Degradation aufweisen. Zudem soll ein Solarzellenbehandlungsverfahren vorgeschlagen werden, mit der Solarzellen behandelt werden können, um ihre Anfälligkeit für eine spätere Degradation nachträglich zu mindern oder zu heilen, nachdem diese Anfälligkeit in einem Prozessschritt während der Solarzellenherstellung erhöht wurde.
- Die Aufgabe wird gemäß der Erfindung durch ein Solarzellenherstellungsverfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1 und durch ein Solarzellenbehandlungsverfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 12 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen aufgeführt.
- Um den hier relevanten Degenerationseffekt von dem mit LID bezeichneten Degradationsmechanismus abzugrenzen, wird nachfolgend von einem sogenannten eLID die Rede sein. Diese Bezeichnung soll für einen erweiterten lichtinduzierten Degradationseffekt stehen (eLID – enhanced light induced degradation). Wenngleich eLID auch bei Standartsolarzellen auftreten kann, tritt sie insbesondere auch bei auf multikristallinen Halbleitern basierenden Solarzellen auf, die bekannterweise einen geringeren Sauerstoffgehalt aufweisen und somit eine geringere LID-Anfälligkeit zeigen. Hohe eLID-Anfälligkeit weisen insbesondere neuere Solarzellenkonzepte auf, wie beispielsweise PERC-Solarzellen oder andere Solarzellenkonzepte mit Oberflächenpassivierungen, insbesondere auch solche Solarzellen, bei denen die Kontaktierung durch die Passivierschicht mittels Laser-gefeuerten Kontakten (LFC – laser fired contacts) erfolgt.
- Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis, dass die Anfälligkeit einer Solarzelle für die hier beschriebene Degradation, also ihre eLID-Anfälligkeit, zu einem sehr wesentlichen Grad von Herstellungsparametern bei der Solarzellenherstellung abhängt. Durch die Erfinder wurde also zunächst herausgefunden, dass die Degradation auf einen weiteren Degradationsmechanismus beruht, der von der bekannten Bor-Sauerstoff-Degradation abzugrenzen ist. Darüber hinaus ist den Erfindern gelungen, ein Verfahren zur wesentlichen Verringerung oder sogar Vermeidung dieser eLID-Anfälligkeit vorzuschlagen.
- Ähnlich wie eine LID-Anfälligkeit führt eine eLID-Anfälligkeit dazu, dass die Solarzelle nach einer Bestrahlung oder Bestromung mit hoher Wahrscheinlichkeit eine Degradation erfährt. Während in den Begriffen LID bzw. eLID der Ausdruck „lichtinduziert“ steckt, kann die Degradation auch aufgrund einer Bestromung erfolgen, also indem an der Solarzelle eine Spannung angelegt und somit ein Strom in Durchlassrichtung induziert wird. Welche Beleuchtungsstärke oder welche Stromdichte notwendig ist, damit eine Degradation erfolgt, hängt hierbei unter anderem von der Betriebstemperatur, der Dauer der Bestrahlung oder Bestromung und von anderen Betriebs- und Herstellungsparametern der Solarzelle ab.
- Die eLID selbst zeigt sich in einem Abfall des Wirkungsgrades der Solarzelle um mehrere Prozent, teilweise um mindestens 3%, 5%, 7%, 9% oder mehr. Dieser Wirkungsgradverfall geht üblicherweise mit einer Verminderung der Ladungsträgerlebensdauer um mindestens die Hälfte oder sogar um eine Größenordnung einher. Beispielsweise kann sich die Ladungsträgerlebensdauer von einigen hundert µs auf einige zehn µs verkürzen. Die Messung der Ladungsträgerlebensdauer an einem Substrat erfolgt vor einer Kontaktierung beziehungsweise einer Metallisierung des Substrates.
- Ein wesentlicher Erfindungsaspekt liegt in der Erkenntnis, dass einzelne Prozessschritt während der Solarzellenherstellung dazu in der Lage sind, eine eLID-Anfälligkeit in der fertigen Solarzelle zu induzieren, das heißt, ihre eLID-Anfälligkeit zu steigern. Insbesondere der Feuerprozess oder Feuerschritt ist üblicherweise ein solcher kritischer Prozessschritt. Um eine Pastenmetallisierung durchzuführen, wird eine Metallisierungspaste auf einer Oberfläche eines Substrates aufgebracht und aus der Metallisierungspaste eine Metallisierungsschicht erzeugt, indem das Substrat einem Feuerschritt ausgesetzt wird. Dieser Feuerschritt ist es, der sehr häufig die spätere Solarzelle anfälliger für eLID macht. Es ist zum gegenwärtigen Zeitpunkt noch nicht klar, welcher Effekt für eLID verantwortlich ist. Während der Degradationsmechanismus bei LID auf die Ausbildung eines BO-Komplexes beruht, sind beim eLID möglicherweise mehrere unterschiedliche Mechanismen gleichzeitig am Werk.
- Vorliegend wurde jedoch erkannt, dass es möglich ist, die aufgrund eines Prozessschrittes induzierte eLID-Anfälligkeit mittels eines geeigneten Temperschrittes wieder rückgängig zu machen. Mit anderen Worten, wird, nachdem das Substrat einem eLID-anfällig machenden Prozess ausgesetzt wurde, ein Temperschritt durchlaufen, um die eLID-Anfälligkeit quasi zu kurieren. Hierzu wird das Substrat während des Temperschrittes einem Temper-Temperaturverlauf ausgesetzt wird. Der Temper-Temperaturverlauf muss so gewählt sein, dass er während einer Temperzeit von mindestens 3 Sekunden in einem Temperbereich zwischen einer Bereichsuntergrenze von etwa 400 Grad Celsius (°C) und einer Bereichsobergrenze von etwa 700°C liegt. In gleicher weise kann eine fertige Solarzelle während des Solarzellenbehandlungsverfahrens einem solchen Temper-Temperaturverlauf ausgesetzt werden. Alles, was im Folgenden in Bezug auf einen Temper-Temperaturverlauf während des Solarzellenherstellungsverfahrens erläutert wird, kann entsprechend auch für das Solarzellenbehandlungsverfahren gelten, und umgekehrt.
- Die Heilung der eLID-Anfälligkeit erfolgt also dadurch, dass das Substrat oder die fertige Solarzelle während einer Temperzeit bei einer Temperatur innerhalb des Temperbereichs gehalten wird. In bevorzugten Ausführungsformen liegt die Temperzeit bei mindestens 3, 4, 5, 7 oder 9 Sekunden. Die Bereichsuntergrenze beträgt hierbei vorzugsweise 400°C, 420°C, 450°C oder 480°C. Die Bereichsobergrenze liegt bevorzugterweise bei 550°C, 600°C, 650°C oder 700°C.
- Bei einer bevorzugten Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Temperschritt eine Aufheizphase und/oder eine Abkühlphase aufweist, wobei der Temper-Temperaturverlauf des Substrates während des Temperschrittes in der Aufheizphase und/oder in der Abkühlphase eine maximale Steigung von 100 Kelvin pro Sekunde (K/s), von 70 K/s, von 50 K/s, von 40 K/s oder von 30 K/s aufweist. Es kann in bestimmten Ausführungsformen von Vorteil sein, wenn die Aufheizphase eine maximale Steigung von 100 K/s, von 70 K/s, von 50 K/s, von 40 K/s oder von 30 K/s aufweist, während die Abkühlphase eine andere maximale Steigung von 100 K/s, von 70 K/s, von 50 K/s, von 40 K/s oder von 30 K/s aufweist. Es handelt sich hierbei um den Absolutwert der maximalen Steigung, insbesondere in der Abkühlphase, wo ansonsten die Steigung als negativ angesehen würde.
- Dadurch, dass die zeitliche Temperaturänderung am Substrat oder an der Solarzelle unterhalb eines bestimmten Wertes bleibt, wird die eLID-Anfälligkeit der Solarzelle wesentlich verringert oder gänzlich verhindert. Der zeitliche Temper-Temperaturverlauf kann hierbei mit einem räumlichen Temperaturverlauf einhergehen, wenn beispielsweise das Substrat / die Solarzelle in einem Raum mit variierender Temperatur bewegt wird.
- Insbesondere kann der gesamte Temperprozess ausgeführt werden, indem das Substrat / die Solarzelle einen Durchlaufofen durchläuft.
- Es kann vorgesehen sein, dass das Substrat oder die Solarzelle während des Temperschrittes bis auf eine Maximaltemperatur erwärmt wird, welche größer ist, als 400°C, 430°C, 450°C, 470°C, 500°C oder 550°C.
- In einer vorteilhaften Weiterbildung ist vorgesehen, dass während des Solarzellenherstellungsverfahrens das Substrat einen Feuerschritt, eine Feuerschritt-Aufheizphase eines Feuerschrittes oder eine Feuerschritt-Abkühlphase eines Feuerschrittes durchläuft, mittels dessen aus einer auf einer Oberfläche des Substrates aufgebrachten Metallisierungspaste eine Metallisierungsschicht erzeugt wird. Bei einem Feuerschritt kann es sich, abhängig von den Prozessparametern, um einen eLID-anfällig machenden Prozess handeln. Das bedeutet, dass die hergestellte Solarzelle aufgrund dieses Feuerschrittes, oder speziell aufgrund des Durchlaufens der Aufheiz- oder Abkühlphase des Feuerschrittes eine höhere eLID-Anfälligkeit an den Tag legt. In diesem Fall kann es von Vorteil sein, wenn der Temperschritt nach dem Feuerschritt erfolgt, um die eLID-Anfälligkeit zu kurieren.
- Wenn das Solarzellenherstellungsverfahren eine Feuerschritt-Aufheizphase umfasst, kann vorzugsweise vorgesehen sein, dass der Temperschritt in einer Feuerschritt-Abkühlphase des Feuerschrittes integriert wird. Beispielsweise kann der Temperschritt hier ein Plateau in dem Temperaturverlauf des Feuerschrittes ausbilden, der nach dem maximalen Temperaturwert des Feuerschrittes vorliegt.
- Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass das Substrat oder die Solarzelle während des Temperschrittes beleuchtet und/oder bestromt wird. Das Beleuchten oder Bestromen des Substrates oder der Solarzelle kann den Heilungsprozess der eLID-Anfälligkeit unterstützen, oder es kann dazu dienen, das Substrat oder die Solarzelle während der Temper-Behandlung zu beobachten.
- Bei einer bevorzugten Ausführungsform ist vorgesehen, dass das Substrat aus einem mono-, poly- oder multikristallinem Halbleiter gebildet ist. Das Substrat kann insbesondere aus Silizium gebildet sein.
- Bei einer zweckmäßigen Ausführungsform ist vorgesehen, dass das Substrat einseitig oder beidseitig mit einer oberflächenpassivierenden Passivierschicht bedeckt ist. Die Passivierschicht kann insbesondere auf der Substratoberfläche angeordnet sein, auf der die Metallpaste aufgebracht wird, um die Pastenmetallisierung zu erzeugen. In diesem Fall kann vor oder nach dem Feuerschritt zusätzlich eine Laserkontaktierung erfolgen (LFC). Als Passivierschichten kommen insbesondere Schichten aus Aluminiumoxid, Aluminiumoxynitrid, Siliziumoxid und/oder Siliziumnitrid in Frage. Es können auch mehrere Passivierschichten übereinander vorgesehen sein, beispielsweise eine chemisch passivierende und eine feldeffektpassivierende Passivierschicht.
- Derartige Passivierschichten eignen sich als Rückseitenpassivierung und/oder als Vorderseitenpassivierung, wobei als Rückseitenpassivierung insbesondere Schichten aus Aluminiumoxid, Aluminiumoxynitrid und/oder Schichtstapel aus Aluminiumoxid, Aluminiumoxynitrid, Siliziumoxynitrid und/oder Siliziumnitrid in Frage kommen, während sich als Vorderseitenpassivierung und/oder als Antireflexionsbeschichtung Schichten aus Siliziumoxynitrid oder Siliziumnitrid eignen.
- Die Erfindung wird im Folgenden anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Figuren erläutert. Hierbei zeigen:
-
1a) bis e) schematische Zeichnungen, welche Schritte eines Herstellungsverfahrens einer Solarzelle veranschaulichen; -
2 ein Diagramm in dem ein Temper-Temperaturverlauf dargestellt ist; und -
3 ein Diagramm, in dem ein Temperaturverlauf während eines Feuerschrittes mit integriertem Temperschritt dargestellt ist. - Die
1a) bis1e) zeigen unterschiedliche Schritte in einem Solarzellen-Herstellungsprozess. Insbesondere wird mittels dieser schematischen Abbildungen ein Temperschritt nach einem Prozessschritt zu Erzeugung einer Funktionsschicht veranschaulicht. Zunächst wird, wie in1a) dargestellt, ein Substrat1 bereitgestellt. Wie in der1b) gezeigt, wird auf dem Substrat eine Funktionsschicht2 erzeugt. Bei der Funktionsschicht kann es sich beispielsweise um eine Metallisierungsschicht, eine Passivierschicht, eine Dotierschicht oder dergleichen handeln, wobei auch mehrerer solcher Funktionsschichten vorhanden sein können. Das Substrat1 mit der hier einseitig aufgebrachten Funktionsschicht2 durchläuft anschließend einen Durchlaufofen3 , wo der Temperschritt durchgeführt wird. - Der hier dargestellte Durchlaufofen
3 weist vereinfacht gesehen drei Temperaturbereiche31 ,32 ,33 auf. Das Substrat1 tritt an einem Eingangsbereich30 in den Durchlaufofen3 ein, und verlässt ihn durch einen Ausgangsbereich34 , nachdem er alle drei Temperaturbereiche31 ,32 ,33 durchlaufen hat. In einem ersten Temperaturbereich31 wird das Substrat1 erwärmt. Es durchläuft also eine Aufheizphase eines Temper-Temperaturverlaufs. In einem zweiten Temperaturbereich32 erreicht das Substrat1 eine Höchst- oder Maximaltemperatur. Schließlich erfährt das Substrat1 eine Abkühlphase des Temper-Temperaturverlaufs, wenn es im Durchlaufofen3 einen dritten Temperaturbereich33 durchläuft. - Die
1c) veranschaulicht das Eindringen des Substrates1 in den Durchlaufofen3 und das Durchlaufen des ersten Temperaturbereichs31 . Danach befindet sich das Substrat1 in dem zweiten Temperaturbereich32 , wie in der1d) dargestellt. Hier erreicht das Substrat die Maximaltemperatur im Temperaturverlauf. Anschließend durchläuft das Substrat1 , wie in der1e) veranschaulicht, den dritten Temperaturbereich, und kühlt dabei ab, um den Durchlaufofen3 durch den Ausgangsbereich34 zu verlassen. - Aufgrund des Durchlaufens des Durchlaufofens
3 erfährt das Substrat1 eine Temperaturvariation, wie sie schematisch in der2 dargestellt ist. Dort wird ein Diagramm gezeigt, bei dem entlang der x-Achse die Zeit und entlang der y-Achse die Temperatur aufgetragen ist. Dargestellt ist ein Temper-Temperaturverlauf51 mit einer Aufheizphase51a und einer Abkühlphase51b . Aufgrund des Temper-Temperaturverlaufs51 wird eine möglicherweise vorliegende eLID-Anfälligkeit der Solarzelle vermindert oder vollständig entfernt. Hierzu sollte die maximale Steigung der Aufheizphase51a und/oder der Abkühlphase51b einen Wett von etwa 100 K/s nicht überschreiten. - In der
3 wird ein weiteres Diagramm dargestellt, bei dem es sich um einen Temperaturverlauf4 während eines Feuerschrittes handelt. Der Temperaturverlauf4 weist eine Feuerschritt-Aufheizphase4a und eine Feuerschritt-Abkühlphase4b auf. Die Feuerschritt-Aufheizphase4a und die Feuerschritt-Abkühlphase4b können hierbei übliche Steigungen aufweisen. In diesem Fall ist die Wahrscheinlichkeit sehr hoch, dass aufgrund des Temperaturverlaufs4 des Feuerschrittes die eLID-Anfälligkeit der hergestellten Solarzelle erhöht wird. Um dem entgegen zu wirken, wird wiederum ein Temperschritt eingeführt, der vorliegend jedoch in der Feuerschritt-Abkühlphase4b des Feuerschrittes integriert ist. Mit anderen Worten, geht die Feuerschritt-Abkühlphase4b in den Temperschritt über, während dessen das Substrat1 während einer Temperzeit in einem Temperbereich zwischen einer Bereichsuntergrenze und einer Bereichsobergrenze gehalten wird. In dem in3 dargestellten Fall, bildet ein weiterer Temper-Temperaturverlauf52 des Temperschrittes mit seiner weiteren Abkühlphase52b ein Plateau in der Abkühlphase4b des Feuerschrittes. - Bezugszeichenliste
-
- 1
- Substrat
- 2
- Funktionsschicht
- 3
- Durchlaufofen
- 30
- Eingangsbereich
- 31
- erster Temperaturbereich
- 32
- zweiter Temperaturbereich
- 33
- dritter Temperaturbereich
- 34
- Ausgangsbereich
- 4
- Temperaturverlauf eines Feuerschritts
- 4a
- Aufheizphase des Feuerschritts
- 4b
- Abkühlphase des Feuerschritts
- 51
- Temper-Temperaturverlauf
- 51a
- Aufheizphase
- 51b
- Abkühlphase
- 52
- weiterer Temper-Temperaturverlauf
- 52b
- weitere Abkühlphase
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Nicht-Patentliteratur
-
- „Light Induced Degradation of Rear Passicated mc-Si Solar Cells“, K. Ramspeck et al., in Proc. 27th EUPVSEC 2012 [0004]
Claims (12)
- Solarzellenherstellungsverfahren mit einem Temperschritt, bei dem ein Substrat (
1 ) einem Temper-Temperaturverlauf (51 ,52 ) ausgesetzt wird, wobei der Temper-Temperaturverlauf (51 ,52 ) während einer Temperzeit von mindestens 3 Sekunden in einem Temperbereich zwischen einer Bereichsuntergrenze von etwa 400 Grad Celsius (°C) und einer Bereichsobergrenze von etwa 700°C liegt. - Solarzellenherstellungsverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Bereichsuntergrenze 400°C, 420°C, 450°C oder 480°C und/oder die Bereichsobergrenze 550°C, 600°C, 650°C oder 700°C beträgt.
- Solarzellenherstellungsverfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Temperschritt eine Aufheizphase (
51a ) und/oder eine Abkühlphase (51b ,52b ) aufweist, wobei der Temper-Temperaturverlauf (51 ,52 ) des Substrates während des Temperschrittes in der Aufheizphase (51a ) und/oder in der Abkühlphase (51b ,52b ) eine maximale Steigung von 100 Kelvin pro Sekunde (K/s), von 70 K/s, von 50 K/s oder von 30 K/s aufweist. - Solarzellenherstellungsverfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch einen Feuerschritt, eine Feuerschritt-Aufheizphase eines Feuerschrittes oder eine Feuerschritt-Abkühlphase eines Feuerschrittes umfasst, mittels dessen aus einer auf einer Oberfläche des Substrates aufgebrachten Metallisierungspaste eine Metallisierungsschicht erzeugt wird.
- Solarzellenherstellungsverfahren nach Anspruch 4 in der Ausführung mit einer Feuerschritt-Aufheizphase, dadurch gekennzeichnet, dass der Temperschritt in einer Feuerschritt-Abkühlphase des Feuerschrittes integriert wird.
- Solarzellenherstellungsverfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat während des Temperschrittes beleuchtet oder bestromt wird.
- Solarzellenherstellungsverfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat aus einem mono- oder multikristallinem Halbleiter gebildet ist.
- Solarzellenherstellungsverfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat einseitig oder beidseitig mit einer oberflächenpassivierenden Passivierschicht bedeckt wird.
- Solarzellenherstellungsverfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass eine Rückseitenpassivierung aus Aluminiumoxid, Aluminiumoxynitrid und/oder als Schichtstappel aus Aluminiumoxid, Aluminiumoxynitrid, Siliziumoxynitrid und/oder Siliziumnitrid erzeugt wird.
- Solarzellenherstellungsverfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, dass eine Vorderseitenpassivierung aus Siliziumoxynitrid oder Siliziumnitrid erzeugt wird.
- Solarzellenherstellungsverfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Antireflexionsbeschichtung aus Siliziumoxynitrid oder Siliziumnitrid erzeugt wird.
- Solarzellenbehandlungsverfahren bei dem eine Solarzelle einem Temper-Temperaturverlauf (
51 ,52 ) ausgesetzt wird, wobei der Temper-Temperaturverlauf (51 ,52 ) während einer Temperzeit von mindestens 3 Sekunden in einem Temperbereich zwischen einer Bereichsuntergrenze von etwa 400 Grad Celsius (°C) und einer Bereichsobergrenze von etwa 700°C liegt.
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